JPH0254528A - 半導体装置の製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置の製造装置、特に半導体ウェーへの
洗浄やエツチングを行う装置に関する。

〔従来の技術〕

半導体装置の製造には半導体ウェーハのエツチングと洗
浄が何回も行われ、このための専用装置が作られている
。

第２図は従来の半導体ウェーハ洗浄装置の一例の断面図
である。

洗浄装置は、外槽１の内側に内槽２が設けられ、内槽２
に給水管３が、外槽１に排水管４がそれぞれ設けられて
いる。半導体ウェーハ５はウェーハ立て６に載置され、
ウェーハ立て６と共に内槽２内に載置される。給水管３
から内槽２に純水を供給して半導体ウェーハ５を洗浄し
、内槽２より溢れた純水は内槽２と外槽１との間に流れ
出し、排水管４から排出される。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した洗浄装置においては、半導体ウェーハから離脱
したごみのうち、相対的に軽くて浮上り易いごみは流水
と共に排出されるが、相対的に重く、上部へ浮上りにく
いごみは内槽内の中間あるいは底部近傍に停留して内槽
外へ排出されにくいという問題がある。また、流水に生
ずる渦流、乱流によって軽いごみも再び水中に巻きこま
れることもあり、半導体ウェーハを槽外へ出す際にウェ
ーハ表面にごみが再び付着し、歩留りを低下させる。原
因となるという問題があった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、外槽内に内槽が設けられ、前記内槽底部に給
液管が設けられ、前記外槽と内槽との間の底部に排液管
が設けられ、前記内槽内に載置された半導体ウェーハを
エツチングあるいは洗浄する半導体装置の製造装置にお
いて、前記内槽側壁に複数の孔を設けたものである。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。

第１図は本発明の一実施例の断面図である。

この実施例においては、内槽２の側壁に側壁孔７を複数
個あける。これ以外は第２図に示した従来例と同じであ
る。

給水管３より供給される洗浄液は内槽２の上部より溢れ
出るが、側壁孔７よりも流出する。このため、洗浄液の
中間または底部近傍に停留していなごみは主として側壁
孔７から排出されることになる。相対的に軽くて浮上る
ごみは従来と同様に内槽２の上部から流れ出る。

上記実施例では、純水洗浄の例で説明したが、エツチン
グなどでも同様であることはもちろんである。

〔発明の効果〕

以上説明した様に、本発明は、側面部に設けた開孔部よ
り内槽の中間部や底部近傍に停留しているごみの排出を
行なう事ができ、従って半導体ウェーハへのごみの付着
を低減させ、半導体装置製造における歩留りを向上させ
ることができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の断面図、第２図は従来の半
導体ウェーハ洗浄装置の一例の断面図である。 １・・・外槽、２・・・内槽、３・・・給水管、４・・
・排水管、５・・・半導体ウェーハ、６・・・ウェーハ
立て、７・・・側壁孔。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 外槽内に内槽が設けられ、前記内槽底部に給液管が設け
   られ、前記外槽と内槽との間の底部に排液管が設けられ
   、前記内槽内に載置された半導体ウェーハをエッチング
   あるいは洗浄する半導体装置の製造装置において、前記
   内槽側壁に複数の孔を設けたことを特徴とする半導体装
   置の製造装置。