JPH056836U - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPH056836U JPH056836U JP6171491U JP6171491U JPH056836U JP H056836 U JPH056836 U JP H056836U JP 6171491 U JP6171491 U JP 6171491U JP 6171491 U JP6171491 U JP 6171491U JP H056836 U JPH056836 U JP H056836U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体ウエハ18に塵埃36等の汚れが再付
着するのを防止する。 【構成】 半導体ウエハ10が入れられると共に下部側
面に通液口26が形成された洗浄槽12と、洗浄槽12
の外側に設けられて前記通液口26で洗浄槽12に連通
された中間槽14と、中間槽14の外側に設けられると
共に洗浄槽12の上面開口12a及び中間槽14の上面
開口14aからオーバーフローした洗浄液22を排出す
る外槽16と、を備え、オーバーフロー流で洗浄槽12
の上面開口12aから外槽16に排出されない残りの洗
浄液22を洗浄槽12の槽壁面に沿って形成される下降
流に乗せて前記通液口26を介して中間槽14に排出す
るようにし、洗浄槽12内で塵埃36等の汚れが循環し
ないようにする
着するのを防止する。 【構成】 半導体ウエハ10が入れられると共に下部側
面に通液口26が形成された洗浄槽12と、洗浄槽12
の外側に設けられて前記通液口26で洗浄槽12に連通
された中間槽14と、中間槽14の外側に設けられると
共に洗浄槽12の上面開口12a及び中間槽14の上面
開口14aからオーバーフローした洗浄液22を排出す
る外槽16と、を備え、オーバーフロー流で洗浄槽12
の上面開口12aから外槽16に排出されない残りの洗
浄液22を洗浄槽12の槽壁面に沿って形成される下降
流に乗せて前記通液口26を介して中間槽14に排出す
るようにし、洗浄槽12内で塵埃36等の汚れが循環し
ないようにする
Description
【0001】
本考案は洗浄装置に係り、特に半導体ウエハの表面に付着した塵埃等を除去す る為に半導体ウエハを洗浄する洗浄装置に関する。
【0002】
従来から、半導体ウエハや発塵を嫌う装置の部品に付着した塵埃等を除去する 為に洗浄装置が使用されている。この種の洗浄装置は、洗浄力の維持と塵埃の再 付着防止を目的に洗浄装置の槽外から連続的に新洗浄液を供給し、洗浄液の液面 上に浮遊している除去された塵埃を排除する為に、その洗浄液を槽の上面開口か らオーバーフローさせて排出している。
【0003】 図2には従来の洗浄装置1が示され、流入口2から洗浄槽3に供給された洗浄 液は半導体ウエハ4に付着した塵埃5を剥離・溶解した後、汚れとともに洗浄槽 3の液表面付近まで上昇する。上昇した(塵埃5等の汚れを含む)洗浄液は、液 面の極めて薄い表層に形成される水平方向のオーバーフロー流に誘引されて洗浄 槽3の上面開口6から排液槽7に排出される。排液槽7に排出された前記洗浄液 は、循環ポンプ8に吸引されてフイルタ9を通過することにより、洗浄液中の塵 埃5等が除去されて、前記流入口2から洗浄槽3に循環供給される。
【0004】
しかしながら、従来の洗浄装置では、洗浄槽3からのオーバーフロー流は極め て薄い表層で形成されるので、多量の塵埃5がオーバーフロー流に乗れずに洗浄 槽3の槽内旋回流に乗って槽壁面に沿って下降するという現象が生じる。下降中 の洗浄液は、流入口2から供給される新洗浄液で形成された上昇流に乗って洗浄 槽3内を旋回し、半導体ウエハ4の引き上げ時に再付着するという欠点がある。
【0005】 本考案はこのような事情に鑑みてなされたもので、被洗浄物に汚れが再付着す るのを防止することができる洗浄装置を提供することを目的とする。
【0006】
本考案は、前記目的を達成する為に、上面が開口されてその内部に被洗浄物が 入れられると共に、底部に洗浄液の流入口と下部側面に通液口とが形成された第 1の槽と、第1の槽の外側に設けられて前記通液口で第1の槽に連通されると共 に、その上面開口が第1の槽の上面開口よりも低い位置に形成された第2の槽と 、第2の槽の外側に設けられると共に、第1の槽の上面開口及び第2の槽の上面 開口からオーバーフローした洗浄液を排出する排液口が形成された第3の槽と、 から成ることを特徴とする。
【0007】
本考案によれば、第1の槽の下部側面に通液口を形成し、第1の槽の上面開口 からのオーバーフロー流で第3の槽に排出されない洗浄液を、第1の槽の槽壁面 に沿って形成される下降流に乗せて前記通液口を介して第2の槽に排出する。第 2の槽に排出された汚れを含む洗浄液は、第2の槽の上面開口からのオーバーフ ロー流で前記第3の槽に排出する。このように、被洗浄物から剥離・除去した塵 埃等の汚れを第1の槽から確実に除去し、第1の槽内で循環しないようにしたの で、被洗浄物に塵埃等の汚れが再付着するのを防止することができる。
【0008】
以下添付図面に従って本考案に係る洗浄装置の好ましい実施例について詳説す る。 図1は本考案に係る洗浄装置10の実施例が示され、この洗浄装置10は洗浄 槽12、中間槽14及び外槽16によって構成される。前記洗浄槽12は上面が 開口されて、その周縁には鍔17が固着される。この鍔17は、洗浄槽12の上 面開口12aからオーバーフローされた洗浄液が前記外槽16に流れ込むように 傾斜して取付けられる。洗浄槽12の内部には、洗浄する半導体ウエハ18がホ ルダ20によって固定される。また、半導体ウエハ18の下方に位置する洗浄槽 12の底面には、洗浄液22を半導体ウエハ18に向けて供給する為の流入口2 4が形成される。更に、洗浄槽12の下部側面には複数の通液口26、26…が 形成されている。
【0009】 前記中間槽14は洗浄槽12の外側に設置されると共に、前記通液口26、2 6…を介して洗浄槽12に連通される。また、中間槽14の上面開口14aの位 置は、前記洗浄槽12の上面開口12aの位置よりも低い位置に形成されている 。 前記外槽16は中間槽14の外側に設置される。また、外槽16の底面開口部 28には送水管30を介して循環ポンプ32が連結され、この循環ポンプ32に は送水管34を介して洗浄液中の塵埃36等の汚れ除去するフイルタ38が連結 される。このフイルタ38は循環パイプ40を介して前述した流入口24に接続 されている。
【0010】 次に、前記の如く構成された洗浄装置10の作用について説明する。 先ず、循環ポンプ32を作動して洗浄液22を流入口24から洗浄槽12内に 供給する。洗浄液22は洗浄槽12内に供給されると同時に洗浄槽12の中央部 で上向流を形成し、半導体ウエハ18に接触する。そして、洗浄液22は半導体 ウエハ18と接触しつつ、半導体ウエハ18の表面に付着した塵埃36等の粒子 を剥離・除去して、これらの塵埃36等を伴い洗浄槽12の上面開口12aの近 くに達し、その一部が洗浄液22の液面の表層に形成された水平流で上面開口1 2aからオーバーフローし、鍔17から外層16に流出する。
【0011】 一方、オーバーフローしなかった前記洗浄液22の残りは、洗浄槽12の内壁 に沿って下降し、この下降流の流れに乗って通液口26、26から中間槽14に 流出する。これにより、塵埃36等を含む洗浄液22は、その殆どが洗浄槽12 内に形成される旋回流に乗ることなく外槽16及び中間槽14に排出されるので 、半導体ウエハ18の取り出し時に塵埃36等が半導体ウエハ18に再付着する のを防止することができる。
【0012】 尚、前記中間槽14に流入した洗浄液22は、中間槽14の上面開口14aか らオーバーフローして外槽16に流れ込む。そして、外槽16内の洗浄液22は 、循環ポンプ32に吸引されてフイルタ38を通過することにより塵埃36等の 汚れが除去された後、流入口24から洗浄槽12内に循環供給される。
【0013】
以上説明したように、本考案に係る洗浄装置によれば、第1の槽の下部側面に 通液口を形成し、第1の槽の上面開口からオーバーフロー流で第3の槽に排出さ れない残りの洗浄液を第1の槽の槽壁面に沿って形成される下降流に乗せて前記 通液口を介して第2の槽に排出するようにし、第1の槽内で塵埃等の汚れが循環 しないようにしたので、被洗浄物に塵埃等の汚れが再付着するのを防止すること ができる。
【図1】本考案に係る洗浄装置の実施例を示す断面図
【図2】従来の洗浄装置の実施例を示す断面図
10…洗浄装置 12…洗浄槽 14…中間槽 16…外槽 18…半導体ウエハ 24…流入口 26…通液口 32…循環ポンプ 36…塵埃 38…フイルタ
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項1】 上面が開口されてその内部に被洗浄物が
入れられると共に、底部に洗浄液の流入口と下部側面に
通液口とが形成された第1の槽と、 第1の槽の外側に設けられて前記通液口で第1の槽に連
通されると共に、その上面開口が第1の槽の上面開口よ
りも低い位置に形成された第2の槽と、 第2の槽の外側に設けられると共に、第1の槽の上面開
口及び第2の槽の上面開口からオーバーフローした洗浄
液を排出する排液口が形成された第3の槽と、から成る
ことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6171491U JP2549535Y2 (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6171491U JP2549535Y2 (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | 洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH056836U true JPH056836U (ja) | 1993-01-29 |
JP2549535Y2 JP2549535Y2 (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=13179175
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6171491U Expired - Lifetime JP2549535Y2 (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2549535Y2 (ja) |
-
1991
- 1991-07-10 JP JP6171491U patent/JP2549535Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2549535Y2 (ja) | 1997-09-30 |
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