JPH056836U - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体ウエハ１８に塵埃３６等の汚れが再付
着するのを防止する。 【構成】 半導体ウエハ１０が入れられると共に下部側
面に通液口２６が形成された洗浄槽１２と、洗浄槽１２
の外側に設けられて前記通液口２６で洗浄槽１２に連通
された中間槽１４と、中間槽１４の外側に設けられると
共に洗浄槽１２の上面開口１２ａ及び中間槽１４の上面
開口１４ａからオーバーフローした洗浄液２２を排出す
る外槽１６と、を備え、オーバーフロー流で洗浄槽１２
の上面開口１２ａから外槽１６に排出されない残りの洗
浄液２２を洗浄槽１２の槽壁面に沿って形成される下降
流に乗せて前記通液口２６を介して中間槽１４に排出す
るようにし、洗浄槽１２内で塵埃３６等の汚れが循環し
ないようにする

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は洗浄装置に係り、特に半導体ウエハの表面に付着した塵埃等を除去す る為に半導体ウエハを洗浄する洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来から、半導体ウエハや発塵を嫌う装置の部品に付着した塵埃等を除去する 為に洗浄装置が使用されている。この種の洗浄装置は、洗浄力の維持と塵埃の再 付着防止を目的に洗浄装置の槽外から連続的に新洗浄液を供給し、洗浄液の液面 上に浮遊している除去された塵埃を排除する為に、その洗浄液を槽の上面開口か らオーバーフローさせて排出している。

【０００３】 図２には従来の洗浄装置１が示され、流入口２から洗浄槽３に供給された洗浄 液は半導体ウエハ４に付着した塵埃５を剥離・溶解した後、汚れとともに洗浄槽 ３の液表面付近まで上昇する。上昇した（塵埃５等の汚れを含む）洗浄液は、液 面の極めて薄い表層に形成される水平方向のオーバーフロー流に誘引されて洗浄 槽３の上面開口６から排液槽７に排出される。排液槽７に排出された前記洗浄液 は、循環ポンプ８に吸引されてフイルタ９を通過することにより、洗浄液中の塵 埃５等が除去されて、前記流入口２から洗浄槽３に循環供給される。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、従来の洗浄装置では、洗浄槽３からのオーバーフロー流は極め て薄い表層で形成されるので、多量の塵埃５がオーバーフロー流に乗れずに洗浄 槽３の槽内旋回流に乗って槽壁面に沿って下降するという現象が生じる。下降中 の洗浄液は、流入口２から供給される新洗浄液で形成された上昇流に乗って洗浄 槽３内を旋回し、半導体ウエハ４の引き上げ時に再付着するという欠点がある。

【０００５】 本考案はこのような事情に鑑みてなされたもので、被洗浄物に汚れが再付着す るのを防止することができる洗浄装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決する為の手段】

本考案は、前記目的を達成する為に、上面が開口されてその内部に被洗浄物が 入れられると共に、底部に洗浄液の流入口と下部側面に通液口とが形成された第 １の槽と、第１の槽の外側に設けられて前記通液口で第１の槽に連通されると共 に、その上面開口が第１の槽の上面開口よりも低い位置に形成された第２の槽と 、第２の槽の外側に設けられると共に、第１の槽の上面開口及び第２の槽の上面 開口からオーバーフローした洗浄液を排出する排液口が形成された第３の槽と、 から成ることを特徴とする。

【０００７】

【作用】

本考案によれば、第１の槽の下部側面に通液口を形成し、第１の槽の上面開口 からのオーバーフロー流で第３の槽に排出されない洗浄液を、第１の槽の槽壁面 に沿って形成される下降流に乗せて前記通液口を介して第２の槽に排出する。第 ２の槽に排出された汚れを含む洗浄液は、第２の槽の上面開口からのオーバーフ ロー流で前記第３の槽に排出する。このように、被洗浄物から剥離・除去した塵 埃等の汚れを第１の槽から確実に除去し、第１の槽内で循環しないようにしたの で、被洗浄物に塵埃等の汚れが再付着するのを防止することができる。

【０００８】

【実施例】

以下添付図面に従って本考案に係る洗浄装置の好ましい実施例について詳説す る。 図１は本考案に係る洗浄装置１０の実施例が示され、この洗浄装置１０は洗浄 槽１２、中間槽１４及び外槽１６によって構成される。前記洗浄槽１２は上面が 開口されて、その周縁には鍔１７が固着される。この鍔１７は、洗浄槽１２の上 面開口１２ａからオーバーフローされた洗浄液が前記外槽１６に流れ込むように 傾斜して取付けられる。洗浄槽１２の内部には、洗浄する半導体ウエハ１８がホ ルダ２０によって固定される。また、半導体ウエハ１８の下方に位置する洗浄槽 １２の底面には、洗浄液２２を半導体ウエハ１８に向けて供給する為の流入口２ ４が形成される。更に、洗浄槽１２の下部側面には複数の通液口２６、２６…が 形成されている。

【０００９】 前記中間槽１４は洗浄槽１２の外側に設置されると共に、前記通液口２６、２ ６…を介して洗浄槽１２に連通される。また、中間槽１４の上面開口１４ａの位 置は、前記洗浄槽１２の上面開口１２ａの位置よりも低い位置に形成されている 。 前記外槽１６は中間槽１４の外側に設置される。また、外槽１６の底面開口部 ２８には送水管３０を介して循環ポンプ３２が連結され、この循環ポンプ３２に は送水管３４を介して洗浄液中の塵埃３６等の汚れ除去するフイルタ３８が連結 される。このフイルタ３８は循環パイプ４０を介して前述した流入口２４に接続 されている。

【００１０】 次に、前記の如く構成された洗浄装置１０の作用について説明する。 先ず、循環ポンプ３２を作動して洗浄液２２を流入口２４から洗浄槽１２内に 供給する。洗浄液２２は洗浄槽１２内に供給されると同時に洗浄槽１２の中央部 で上向流を形成し、半導体ウエハ１８に接触する。そして、洗浄液２２は半導体 ウエハ１８と接触しつつ、半導体ウエハ１８の表面に付着した塵埃３６等の粒子 を剥離・除去して、これらの塵埃３６等を伴い洗浄槽１２の上面開口１２ａの近 くに達し、その一部が洗浄液２２の液面の表層に形成された水平流で上面開口１ ２ａからオーバーフローし、鍔１７から外層１６に流出する。

【００１１】 一方、オーバーフローしなかった前記洗浄液２２の残りは、洗浄槽１２の内壁 に沿って下降し、この下降流の流れに乗って通液口２６、２６から中間槽１４に 流出する。これにより、塵埃３６等を含む洗浄液２２は、その殆どが洗浄槽１２ 内に形成される旋回流に乗ることなく外槽１６及び中間槽１４に排出されるので 、半導体ウエハ１８の取り出し時に塵埃３６等が半導体ウエハ１８に再付着する のを防止することができる。

【００１２】 尚、前記中間槽１４に流入した洗浄液２２は、中間槽１４の上面開口１４ａか らオーバーフローして外槽１６に流れ込む。そして、外槽１６内の洗浄液２２は 、循環ポンプ３２に吸引されてフイルタ３８を通過することにより塵埃３６等の 汚れが除去された後、流入口２４から洗浄槽１２内に循環供給される。

【００１３】

【考案の効果】

以上説明したように、本考案に係る洗浄装置によれば、第１の槽の下部側面に 通液口を形成し、第１の槽の上面開口からオーバーフロー流で第３の槽に排出さ れない残りの洗浄液を第１の槽の槽壁面に沿って形成される下降流に乗せて前記 通液口を介して第２の槽に排出するようにし、第１の槽内で塵埃等の汚れが循環 しないようにしたので、被洗浄物に塵埃等の汚れが再付着するのを防止すること ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案に係る洗浄装置の実施例を示す断面図

【図２】従来の洗浄装置の実施例を示す断面図

【符号の説明】

１０…洗浄装置 １２…洗浄槽 １４…中間槽 １６…外槽 １８…半導体ウエハ ２４…流入口 ２６…通液口 ３２…循環ポンプ ３６…塵埃 ３８…フイルタ

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項１】 上面が開口されてその内部に被洗浄物が
   入れられると共に、底部に洗浄液の流入口と下部側面に
   通液口とが形成された第１の槽と、 第１の槽の外側に設けられて前記通液口で第１の槽に連
   通されると共に、その上面開口が第１の槽の上面開口よ
   りも低い位置に形成された第２の槽と、 第２の槽の外側に設けられると共に、第１の槽の上面開
   口及び第２の槽の上面開口からオーバーフローした洗浄
   液を排出する排液口が形成された第３の槽と、から成る
   ことを特徴とする洗浄装置。