JPH1022253A - 洗浄槽 - Google Patents

洗浄槽

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Publication number
JPH1022253A
JPH1022253A JP18995496A JP18995496A JPH1022253A JP H1022253 A JPH1022253 A JP H1022253A JP 18995496 A JP18995496 A JP 18995496A JP 18995496 A JP18995496 A JP 18995496A JP H1022253 A JPH1022253 A JP H1022253A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pure water
cleaning
plate
punching plate
drain
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18995496A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Iwata
真一 岩田
Toshiaki Yamamoto
俊明 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaijo Corp
Original Assignee
Kaijo Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kaijo Corp filed Critical Kaijo Corp
Priority to JP18995496A priority Critical patent/JPH1022253A/ja
Publication of JPH1022253A publication Critical patent/JPH1022253A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄液や異物の排出を容易化し、ウェーハ方
向に洗浄液を流して効果的に洗浄できる洗浄槽を提供す
る。 【解決手段】 排水ボックス2の上部に開口部を覆うパ
ンチング板5を設置するとともに、リンス槽7を設置
し、パンチング板5の複数の排水孔6の上部6aをそれ
ぞれさら孔形に形成する。また、リンス槽7の内部下方
には傾斜ガイド板10をそれぞれ取り付ける。こうすれ
ば、汚染した純水や異物は、パンチング板5の排水孔6
に詰まることがなく、少ない抵抗で排水孔6を流通す
る。また、傾斜ガイド板10のガイド作用で純水が複数
のシリコンウェーハ16に沿って流れるので、純水を効
果的に利用でき、リンス時間の短縮が期待できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リンス槽に純水な
どの洗浄液を供給して半導体ウェーハなどを洗浄する洗
浄槽に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の洗浄槽は、図3に示すように、外
槽1の内部に排水ボックス2を設置してこの排水ボック
ス2上にリンス槽7を設置するとともに、排水ボックス
2の開口上部に複数の排水孔6付きのパンチング板5を
設置し、リンス槽7の一側壁の上部に給水部8を、リン
ス槽7の他側壁の上部には水流板9をそれぞれ取り付け
ている。
【0003】排水ボックス2には排水管3が接続され、
この排水管3には排水ポンプ4が接続されている。ま
た、給水部8は、純水(矢印参照)をリンス槽7の他側
壁方向に給水する上部外側流路11と、純水をリンス槽
7の下方向に給水する下部内側流路12とを備え、これ
ら上部外側流路11と下部内側流路12とを区画する区
画板13が内蔵されている。また、上部外側流路11と
下部内側流路12の下部には給水管15がそれぞれ接続
されている。
【0004】したがって、複数のシリコンウェーハ16
を収納したカセット(図示せず)をリンス槽7にセット
し、給水管15から上部外側流路11と下部内側流路1
2に純水をそれぞれ給水すれば、純水は、上部外側流路
11からリンス槽7の他側壁方向に給水されて水流板9
にガイドされつつ下方向に流れるとともに、下部内側流
路12からリンス槽7の下方向に給水されて下方向に流
れ、複数のシリコンウェーハ16を洗浄する。こうし
て、シリコンウェーハ16を洗浄して汚染した純水は、
除去した異物(図示せず)とともに、パンチング板5の
複数の排水孔6から排水ボックス2に流入し、その後、
排水管3及び排水ポンプ4を順次経由して排水される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の洗浄槽は、以上
のようにパンチング板5に円筒形(図4参照)の排水孔
6が単に複数開けられているだけなので、除去された異
物がパンチング板5の排水孔6から排水ボックス2にス
ムーズに流れ込まなかったり、あるいは、異物がパンチ
ング板5の排水孔6に詰まることがあり、結果的に大量
の純水を使用して洗浄せざるを得ないという問題があっ
た。また、従来は、リンス槽7の下方向に純水を単に給
水するだけなので、リンス槽7の両側壁に沿って純水が
流動しやすく(図3の矢印参照)、純水の流れが複数の
シリコンウェーハ16に接触しないことがあった。した
がって、複数のシリコンウェーハ16の間に純水を浸入
させて効果的に洗浄することができないという問題があ
った。
【0006】本発明は、上記問題に鑑みてなされたもの
で、洗浄液や異物の排出を容易化し、しかも、ウェーハ
方向に洗浄液を流して効果的に洗浄することのできる洗
浄槽を提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1記載の発明においては、排水ボックスの開
口上部にパンチング板を設置し、このパンチング板を囲
繞してリンス槽を設置したものにおいて、上記パンチン
グ板の排液孔の形状を上部が傾斜した面取り構造とし、
リンス槽の下方部にパンチング板の外周縁方向に傾斜し
たガイド板を設けるようにしている。
【0008】請求項1記載の発明によれば、排液孔の上
部がさら孔形に形成されているので、汚れた洗浄液や異
物などは、リンス槽の下部付近に停滞せずに流れ、少な
い抵抗で排液孔を通過する。また、純水や薬液などの洗
浄液は、リンス槽の上方向からガイド板に案内されてウ
ェーハの方向に流れるので、ウェーハの洗浄に洗浄液を
フルに活用することができる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。この実施の形態における洗浄槽
は、図1に示すように、外槽1の内部に設置されたリン
ス槽7のパンチング板5に断面ほぼ漏斗形の排水孔6を
開け、リンス槽7の内部下方には傾斜したガイド板10
をそれぞれ設けるようにしている。
【0010】外槽1は、図1に示すように、その上部が
開口形成され、下部には排水ボックス2が設置されてお
り、この排水ボックス2の側部には排水管3が接続され
るとともに、この排水管3には排水ポンプ4が接続され
ている。排水ボックス2は、その上部中央が開口形成さ
れ、この上部中央にはパンチング板5が設置されてお
り、このパンチング板5には排水孔6が複数開けられて
いる。この排水孔6は、図2に示すように、基本的には
円筒形に形成され、その上部6aがさら孔形に形成され
ている。
【0011】また、リンス槽7は、図1に示すように、
その上部が開口形成され、排水ボックス2上に設置され
ており、一側壁の上部に箱形の給水部8が、他側壁の上
部には断面ほぼY字形の水流板9がそれぞれ取り付けら
れている。リンス槽7の内部下方の両側壁には図1に示
すように、傾斜ガイド板10がそれぞれ傾斜して取り付
けられ、この一対の傾斜ガイド板10の下部がパンチン
グ板5の側部にそれぞれ近接配置されている。
【0012】また、給水部8は、純水(矢印参照)をリ
ンス槽7の他側壁方向に給水する上部外側流路11と、
純水をリンス槽7の他側壁方向に給水する下部内側流路
12とを備え、これら上部外側流路11と下部内側流路
12とを区画する断面ほぼ逆L字形の区画板13が内蔵
して立設され、この区画板13の上部中央には単数又は
複数のエア抜き孔14が開けられており、このエア抜き
孔14が水位上昇時に下部内側流路12を遮断するエア
を除去するよう機能する。さらに、給水部8の下部には
上部外側流路11と下部内側流路12に純水を給水する
給水管15がそれぞれ接続されている。
【0013】したがって、複数のシリコンウェーハ16
を洗浄するには、先ず、カセットに複数のシリコンウェ
ーハ16を整列収納し、このカセットをリンス槽7の内
部下方にセットした後、給水管15から上部外側流路1
1と下部内側流路12に純水をそれぞれ給水すればよ
い。なお、カセットは、図示しないが、その上下面がそ
れぞれ開口成形され、両側には複数の整列リブがそれぞ
れ突出して成形されている。
【0014】次いで、給水管15から純水が給水される
と、純水は、上部外側流路11からリンス槽7の他側壁
方向に給水されてその一部が水流板9をオーバーフロー
して外槽1内に排水されるとともに、残部が水流板9に
ガイドされつつ下方向に流れる。また、下部内側流路1
2からリンス槽7の下方向に給水(ダウンフロー)され
て下方向に流れ、複数のシリコンウェーハ16の間に浸
入して精密洗浄する。この際、リンス槽7の内部下方の
側壁とパンチング板5の側部の間に傾斜ガイド板10が
架設されているので、純水は、リンス槽7の側壁に沿っ
てそのまま下方向に流れることがなく、傾斜ガイド板1
0にガイドされつつ複数のシリコンウェーハ16の間に
スムーズに浸入(図1の矢印参照)してシリコンウェー
ハ16の両面を精密洗浄する。
【0015】こうして、シリコンウェーハ16を精密に
洗浄して汚染した純水は、除去した異物とともに、パン
チング板5の複数の排水孔6から排水ボックス2に流入
し、その後、排水管3及び排水ポンプ4を順次経由して
排水される。この際、排水孔6の上部6aがさら孔形に
形成されているので、汚染した純水や異物(図示せず)
は、少ない抵抗値で排水孔6を通過する。
【0016】上記構成によれば、排水孔6の上部6aが
さら孔形に形成され、汚染した純水や異物がパンチング
板5の付近を円滑に流れるとともに、少ない抵抗で排水
孔6を流通するので、少ない量の純水でシリコンウェー
ハ16をきわめて効率的に精密洗浄することが可能にな
る。また、傾斜ガイド板10のガイド作用で分流した純
水が複数のシリコンウェーハ16に沿って流れるので、
複数のシリコンウェーハ16の間に純水が円滑、かつ確
実に浸入して精密に洗浄する。したがって、大部分の純
水を効果的に利用することができ、これを通じてリンス
時間の大幅な短縮が期待できる。また、区画板13のエ
ア抜き孔14が水位上昇時に下部内側流路12を閉そく
するエアを除去するので、水位の上昇にかかわらず、上
部外側流路11と下部内側流路12をきわめて有効に利
用することができる。
【0017】なお、上記実施形態では純水を使用したも
のを示したが、この純水の代わりに薬液などの他の洗浄
液を使用してもよいのはいうまでもない。また、シリコ
ンウェーハ16の代わりにGapウェーハなどの他の半
導体ウェーハを精密洗浄するようにしてもよい。さら
に、排水孔6は、スリットの上面を傾斜面取り構造に形
成することも可能である。
【0018】
【発明の効果】以上のように請求項1記載の発明によれ
ば、洗浄液や異物の排出を容易化し、しかも、ウェーハ
方向に洗浄液を流して効果的に洗浄することができると
いう効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る洗浄槽の実施の形態を示す断面正
面図である。
【図2】図1のパンチング板の要部断面説明図である。
【図3】従来の洗浄槽を示す断面正面図である。
【図4】図3のパンチング板の要部断面説明図である。
【符号の説明】
2…排水ボックス 5…パンチング板 6…排水孔(排液孔) 6a…排水孔の上部 7…リンス槽 10…傾斜ガイド板(ガイド板) 14…エア抜き孔 16…シリコンウェーハ(ウェーハ)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 排水ボックスの開口上部にパンチング板
    を設置し、このパンチング板を囲繞してリンス槽を設置
    した洗浄槽において、上記パンチング板の排液孔の形状
    を上部が傾斜した面取り構造とし、リンス槽の下方部に
    パンチング板の外周縁方向に傾斜したガイド板を設けた
    ことを特徴とする洗浄槽。
JP18995496A 1996-07-02 1996-07-02 洗浄槽 Pending JPH1022253A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18995496A JPH1022253A (ja) 1996-07-02 1996-07-02 洗浄槽

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18995496A JPH1022253A (ja) 1996-07-02 1996-07-02 洗浄槽

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1022253A true JPH1022253A (ja) 1998-01-23

Family

ID=16249983

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18995496A Pending JPH1022253A (ja) 1996-07-02 1996-07-02 洗浄槽

Country Status (1)

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JP (1) JPH1022253A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012142419A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Mitsubishi Electric Corp ウェットエッチング装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012142419A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Mitsubishi Electric Corp ウェットエッチング装置

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