JPH1022253A - 洗浄槽 - Google Patents
洗浄槽Info
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- JPH1022253A JPH1022253A JP18995496A JP18995496A JPH1022253A JP H1022253 A JPH1022253 A JP H1022253A JP 18995496 A JP18995496 A JP 18995496A JP 18995496 A JP18995496 A JP 18995496A JP H1022253 A JPH1022253 A JP H1022253A
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- Japan
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- pure water
- cleaning
- plate
- punching plate
- drain
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄液や異物の排出を容易化し、ウェーハ方
向に洗浄液を流して効果的に洗浄できる洗浄槽を提供す
る。 【解決手段】 排水ボックス２の上部に開口部を覆うパ
ンチング板５を設置するとともに、リンス槽７を設置
し、パンチング板５の複数の排水孔６の上部６ａをそれ
ぞれさら孔形に形成する。また、リンス槽７の内部下方
には傾斜ガイド板１０をそれぞれ取り付ける。こうすれ
ば、汚染した純水や異物は、パンチング板５の排水孔６
に詰まることがなく、少ない抵抗で排水孔６を流通す
る。また、傾斜ガイド板１０のガイド作用で純水が複数
のシリコンウェーハ１６に沿って流れるので、純水を効
果的に利用でき、リンス時間の短縮が期待できる。
向に洗浄液を流して効果的に洗浄できる洗浄槽を提供す
る。 【解決手段】 排水ボックス２の上部に開口部を覆うパ
ンチング板５を設置するとともに、リンス槽７を設置
し、パンチング板５の複数の排水孔６の上部６ａをそれ
ぞれさら孔形に形成する。また、リンス槽７の内部下方
には傾斜ガイド板１０をそれぞれ取り付ける。こうすれ
ば、汚染した純水や異物は、パンチング板５の排水孔６
に詰まることがなく、少ない抵抗で排水孔６を流通す
る。また、傾斜ガイド板１０のガイド作用で純水が複数
のシリコンウェーハ１６に沿って流れるので、純水を効
果的に利用でき、リンス時間の短縮が期待できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、リンス槽に純水な
どの洗浄液を供給して半導体ウェーハなどを洗浄する洗
浄槽に関するものである。
どの洗浄液を供給して半導体ウェーハなどを洗浄する洗
浄槽に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の洗浄槽は、図３に示すように、外
槽１の内部に排水ボックス２を設置してこの排水ボック
ス２上にリンス槽７を設置するとともに、排水ボックス
２の開口上部に複数の排水孔６付きのパンチング板５を
設置し、リンス槽７の一側壁の上部に給水部８を、リン
ス槽７の他側壁の上部には水流板９をそれぞれ取り付け
ている。
槽１の内部に排水ボックス２を設置してこの排水ボック
ス２上にリンス槽７を設置するとともに、排水ボックス
２の開口上部に複数の排水孔６付きのパンチング板５を
設置し、リンス槽７の一側壁の上部に給水部８を、リン
ス槽７の他側壁の上部には水流板９をそれぞれ取り付け
ている。
【０００３】排水ボックス２には排水管３が接続され、
この排水管３には排水ポンプ４が接続されている。ま
た、給水部８は、純水（矢印参照）をリンス槽７の他側
壁方向に給水する上部外側流路１１と、純水をリンス槽
７の下方向に給水する下部内側流路１２とを備え、これ
ら上部外側流路１１と下部内側流路１２とを区画する区
画板１３が内蔵されている。また、上部外側流路１１と
下部内側流路１２の下部には給水管１５がそれぞれ接続
されている。
この排水管３には排水ポンプ４が接続されている。ま
た、給水部８は、純水（矢印参照）をリンス槽７の他側
壁方向に給水する上部外側流路１１と、純水をリンス槽
７の下方向に給水する下部内側流路１２とを備え、これ
ら上部外側流路１１と下部内側流路１２とを区画する区
画板１３が内蔵されている。また、上部外側流路１１と
下部内側流路１２の下部には給水管１５がそれぞれ接続
されている。
【０００４】したがって、複数のシリコンウェーハ１６
を収納したカセット（図示せず）をリンス槽７にセット
し、給水管１５から上部外側流路１１と下部内側流路１
２に純水をそれぞれ給水すれば、純水は、上部外側流路
１１からリンス槽７の他側壁方向に給水されて水流板９
にガイドされつつ下方向に流れるとともに、下部内側流
路１２からリンス槽７の下方向に給水されて下方向に流
れ、複数のシリコンウェーハ１６を洗浄する。こうし
て、シリコンウェーハ１６を洗浄して汚染した純水は、
除去した異物（図示せず）とともに、パンチング板５の
複数の排水孔６から排水ボックス２に流入し、その後、
排水管３及び排水ポンプ４を順次経由して排水される。
を収納したカセット（図示せず）をリンス槽７にセット
し、給水管１５から上部外側流路１１と下部内側流路１
２に純水をそれぞれ給水すれば、純水は、上部外側流路
１１からリンス槽７の他側壁方向に給水されて水流板９
にガイドされつつ下方向に流れるとともに、下部内側流
路１２からリンス槽７の下方向に給水されて下方向に流
れ、複数のシリコンウェーハ１６を洗浄する。こうし
て、シリコンウェーハ１６を洗浄して汚染した純水は、
除去した異物（図示せず）とともに、パンチング板５の
複数の排水孔６から排水ボックス２に流入し、その後、
排水管３及び排水ポンプ４を順次経由して排水される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の洗浄槽は、以上
のようにパンチング板５に円筒形（図４参照）の排水孔
６が単に複数開けられているだけなので、除去された異
物がパンチング板５の排水孔６から排水ボックス２にス
ムーズに流れ込まなかったり、あるいは、異物がパンチ
ング板５の排水孔６に詰まることがあり、結果的に大量
の純水を使用して洗浄せざるを得ないという問題があっ
た。また、従来は、リンス槽７の下方向に純水を単に給
水するだけなので、リンス槽７の両側壁に沿って純水が
流動しやすく（図３の矢印参照）、純水の流れが複数の
シリコンウェーハ１６に接触しないことがあった。した
がって、複数のシリコンウェーハ１６の間に純水を浸入
させて効果的に洗浄することができないという問題があ
った。
のようにパンチング板５に円筒形（図４参照）の排水孔
６が単に複数開けられているだけなので、除去された異
物がパンチング板５の排水孔６から排水ボックス２にス
ムーズに流れ込まなかったり、あるいは、異物がパンチ
ング板５の排水孔６に詰まることがあり、結果的に大量
の純水を使用して洗浄せざるを得ないという問題があっ
た。また、従来は、リンス槽７の下方向に純水を単に給
水するだけなので、リンス槽７の両側壁に沿って純水が
流動しやすく（図３の矢印参照）、純水の流れが複数の
シリコンウェーハ１６に接触しないことがあった。した
がって、複数のシリコンウェーハ１６の間に純水を浸入
させて効果的に洗浄することができないという問題があ
った。
【０００６】本発明は、上記問題に鑑みてなされたもの
で、洗浄液や異物の排出を容易化し、しかも、ウェーハ
方向に洗浄液を流して効果的に洗浄することのできる洗
浄槽を提供することを目的としている。
で、洗浄液や異物の排出を容易化し、しかも、ウェーハ
方向に洗浄液を流して効果的に洗浄することのできる洗
浄槽を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の発明においては、排水ボックスの開
口上部にパンチング板を設置し、このパンチング板を囲
繞してリンス槽を設置したものにおいて、上記パンチン
グ板の排液孔の形状を上部が傾斜した面取り構造とし、
リンス槽の下方部にパンチング板の外周縁方向に傾斜し
たガイド板を設けるようにしている。
め、請求項１記載の発明においては、排水ボックスの開
口上部にパンチング板を設置し、このパンチング板を囲
繞してリンス槽を設置したものにおいて、上記パンチン
グ板の排液孔の形状を上部が傾斜した面取り構造とし、
リンス槽の下方部にパンチング板の外周縁方向に傾斜し
たガイド板を設けるようにしている。
【０００８】請求項１記載の発明によれば、排液孔の上
部がさら孔形に形成されているので、汚れた洗浄液や異
物などは、リンス槽の下部付近に停滞せずに流れ、少な
い抵抗で排液孔を通過する。また、純水や薬液などの洗
浄液は、リンス槽の上方向からガイド板に案内されてウ
ェーハの方向に流れるので、ウェーハの洗浄に洗浄液を
フルに活用することができる。
部がさら孔形に形成されているので、汚れた洗浄液や異
物などは、リンス槽の下部付近に停滞せずに流れ、少な
い抵抗で排液孔を通過する。また、純水や薬液などの洗
浄液は、リンス槽の上方向からガイド板に案内されてウ
ェーハの方向に流れるので、ウェーハの洗浄に洗浄液を
フルに活用することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。この実施の形態における洗浄槽
は、図１に示すように、外槽１の内部に設置されたリン
ス槽７のパンチング板５に断面ほぼ漏斗形の排水孔６を
開け、リンス槽７の内部下方には傾斜したガイド板１０
をそれぞれ設けるようにしている。
を参照して説明する。この実施の形態における洗浄槽
は、図１に示すように、外槽１の内部に設置されたリン
ス槽７のパンチング板５に断面ほぼ漏斗形の排水孔６を
開け、リンス槽７の内部下方には傾斜したガイド板１０
をそれぞれ設けるようにしている。
【００１０】外槽１は、図１に示すように、その上部が
開口形成され、下部には排水ボックス２が設置されてお
り、この排水ボックス２の側部には排水管３が接続され
るとともに、この排水管３には排水ポンプ４が接続され
ている。排水ボックス２は、その上部中央が開口形成さ
れ、この上部中央にはパンチング板５が設置されてお
り、このパンチング板５には排水孔６が複数開けられて
いる。この排水孔６は、図２に示すように、基本的には
円筒形に形成され、その上部６ａがさら孔形に形成され
ている。
開口形成され、下部には排水ボックス２が設置されてお
り、この排水ボックス２の側部には排水管３が接続され
るとともに、この排水管３には排水ポンプ４が接続され
ている。排水ボックス２は、その上部中央が開口形成さ
れ、この上部中央にはパンチング板５が設置されてお
り、このパンチング板５には排水孔６が複数開けられて
いる。この排水孔６は、図２に示すように、基本的には
円筒形に形成され、その上部６ａがさら孔形に形成され
ている。
【００１１】また、リンス槽７は、図１に示すように、
その上部が開口形成され、排水ボックス２上に設置され
ており、一側壁の上部に箱形の給水部８が、他側壁の上
部には断面ほぼＹ字形の水流板９がそれぞれ取り付けら
れている。リンス槽７の内部下方の両側壁には図１に示
すように、傾斜ガイド板１０がそれぞれ傾斜して取り付
けられ、この一対の傾斜ガイド板１０の下部がパンチン
グ板５の側部にそれぞれ近接配置されている。
その上部が開口形成され、排水ボックス２上に設置され
ており、一側壁の上部に箱形の給水部８が、他側壁の上
部には断面ほぼＹ字形の水流板９がそれぞれ取り付けら
れている。リンス槽７の内部下方の両側壁には図１に示
すように、傾斜ガイド板１０がそれぞれ傾斜して取り付
けられ、この一対の傾斜ガイド板１０の下部がパンチン
グ板５の側部にそれぞれ近接配置されている。
【００１２】また、給水部８は、純水（矢印参照）をリ
ンス槽７の他側壁方向に給水する上部外側流路１１と、
純水をリンス槽７の他側壁方向に給水する下部内側流路
１２とを備え、これら上部外側流路１１と下部内側流路
１２とを区画する断面ほぼ逆Ｌ字形の区画板１３が内蔵
して立設され、この区画板１３の上部中央には単数又は
複数のエア抜き孔１４が開けられており、このエア抜き
孔１４が水位上昇時に下部内側流路１２を遮断するエア
を除去するよう機能する。さらに、給水部８の下部には
上部外側流路１１と下部内側流路１２に純水を給水する
給水管１５がそれぞれ接続されている。
ンス槽７の他側壁方向に給水する上部外側流路１１と、
純水をリンス槽７の他側壁方向に給水する下部内側流路
１２とを備え、これら上部外側流路１１と下部内側流路
１２とを区画する断面ほぼ逆Ｌ字形の区画板１３が内蔵
して立設され、この区画板１３の上部中央には単数又は
複数のエア抜き孔１４が開けられており、このエア抜き
孔１４が水位上昇時に下部内側流路１２を遮断するエア
を除去するよう機能する。さらに、給水部８の下部には
上部外側流路１１と下部内側流路１２に純水を給水する
給水管１５がそれぞれ接続されている。
【００１３】したがって、複数のシリコンウェーハ１６
を洗浄するには、先ず、カセットに複数のシリコンウェ
ーハ１６を整列収納し、このカセットをリンス槽７の内
部下方にセットした後、給水管１５から上部外側流路１
１と下部内側流路１２に純水をそれぞれ給水すればよ
い。なお、カセットは、図示しないが、その上下面がそ
れぞれ開口成形され、両側には複数の整列リブがそれぞ
れ突出して成形されている。
を洗浄するには、先ず、カセットに複数のシリコンウェ
ーハ１６を整列収納し、このカセットをリンス槽７の内
部下方にセットした後、給水管１５から上部外側流路１
１と下部内側流路１２に純水をそれぞれ給水すればよ
い。なお、カセットは、図示しないが、その上下面がそ
れぞれ開口成形され、両側には複数の整列リブがそれぞ
れ突出して成形されている。
【００１４】次いで、給水管１５から純水が給水される
と、純水は、上部外側流路１１からリンス槽７の他側壁
方向に給水されてその一部が水流板９をオーバーフロー
して外槽１内に排水されるとともに、残部が水流板９に
ガイドされつつ下方向に流れる。また、下部内側流路１
２からリンス槽７の下方向に給水（ダウンフロー）され
て下方向に流れ、複数のシリコンウェーハ１６の間に浸
入して精密洗浄する。この際、リンス槽７の内部下方の
側壁とパンチング板５の側部の間に傾斜ガイド板１０が
架設されているので、純水は、リンス槽７の側壁に沿っ
てそのまま下方向に流れることがなく、傾斜ガイド板１
０にガイドされつつ複数のシリコンウェーハ１６の間に
スムーズに浸入（図１の矢印参照）してシリコンウェー
ハ１６の両面を精密洗浄する。
と、純水は、上部外側流路１１からリンス槽７の他側壁
方向に給水されてその一部が水流板９をオーバーフロー
して外槽１内に排水されるとともに、残部が水流板９に
ガイドされつつ下方向に流れる。また、下部内側流路１
２からリンス槽７の下方向に給水（ダウンフロー）され
て下方向に流れ、複数のシリコンウェーハ１６の間に浸
入して精密洗浄する。この際、リンス槽７の内部下方の
側壁とパンチング板５の側部の間に傾斜ガイド板１０が
架設されているので、純水は、リンス槽７の側壁に沿っ
てそのまま下方向に流れることがなく、傾斜ガイド板１
０にガイドされつつ複数のシリコンウェーハ１６の間に
スムーズに浸入（図１の矢印参照）してシリコンウェー
ハ１６の両面を精密洗浄する。
【００１５】こうして、シリコンウェーハ１６を精密に
洗浄して汚染した純水は、除去した異物とともに、パン
チング板５の複数の排水孔６から排水ボックス２に流入
し、その後、排水管３及び排水ポンプ４を順次経由して
排水される。この際、排水孔６の上部６ａがさら孔形に
形成されているので、汚染した純水や異物（図示せず）
は、少ない抵抗値で排水孔６を通過する。
洗浄して汚染した純水は、除去した異物とともに、パン
チング板５の複数の排水孔６から排水ボックス２に流入
し、その後、排水管３及び排水ポンプ４を順次経由して
排水される。この際、排水孔６の上部６ａがさら孔形に
形成されているので、汚染した純水や異物（図示せず）
は、少ない抵抗値で排水孔６を通過する。
【００１６】上記構成によれば、排水孔６の上部６ａが
さら孔形に形成され、汚染した純水や異物がパンチング
板５の付近を円滑に流れるとともに、少ない抵抗で排水
孔６を流通するので、少ない量の純水でシリコンウェー
ハ１６をきわめて効率的に精密洗浄することが可能にな
る。また、傾斜ガイド板１０のガイド作用で分流した純
水が複数のシリコンウェーハ１６に沿って流れるので、
複数のシリコンウェーハ１６の間に純水が円滑、かつ確
実に浸入して精密に洗浄する。したがって、大部分の純
水を効果的に利用することができ、これを通じてリンス
時間の大幅な短縮が期待できる。また、区画板１３のエ
ア抜き孔１４が水位上昇時に下部内側流路１２を閉そく
するエアを除去するので、水位の上昇にかかわらず、上
部外側流路１１と下部内側流路１２をきわめて有効に利
用することができる。
さら孔形に形成され、汚染した純水や異物がパンチング
板５の付近を円滑に流れるとともに、少ない抵抗で排水
孔６を流通するので、少ない量の純水でシリコンウェー
ハ１６をきわめて効率的に精密洗浄することが可能にな
る。また、傾斜ガイド板１０のガイド作用で分流した純
水が複数のシリコンウェーハ１６に沿って流れるので、
複数のシリコンウェーハ１６の間に純水が円滑、かつ確
実に浸入して精密に洗浄する。したがって、大部分の純
水を効果的に利用することができ、これを通じてリンス
時間の大幅な短縮が期待できる。また、区画板１３のエ
ア抜き孔１４が水位上昇時に下部内側流路１２を閉そく
するエアを除去するので、水位の上昇にかかわらず、上
部外側流路１１と下部内側流路１２をきわめて有効に利
用することができる。
【００１７】なお、上記実施形態では純水を使用したも
のを示したが、この純水の代わりに薬液などの他の洗浄
液を使用してもよいのはいうまでもない。また、シリコ
ンウェーハ１６の代わりにＧａｐウェーハなどの他の半
導体ウェーハを精密洗浄するようにしてもよい。さら
に、排水孔６は、スリットの上面を傾斜面取り構造に形
成することも可能である。
のを示したが、この純水の代わりに薬液などの他の洗浄
液を使用してもよいのはいうまでもない。また、シリコ
ンウェーハ１６の代わりにＧａｐウェーハなどの他の半
導体ウェーハを精密洗浄するようにしてもよい。さら
に、排水孔６は、スリットの上面を傾斜面取り構造に形
成することも可能である。
【００１８】
【発明の効果】以上のように請求項１記載の発明によれ
ば、洗浄液や異物の排出を容易化し、しかも、ウェーハ
方向に洗浄液を流して効果的に洗浄することができると
いう効果がある。
ば、洗浄液や異物の排出を容易化し、しかも、ウェーハ
方向に洗浄液を流して効果的に洗浄することができると
いう効果がある。
【図１】本発明に係る洗浄槽の実施の形態を示す断面正
面図である。
面図である。
【図２】図１のパンチング板の要部断面説明図である。
【図３】従来の洗浄槽を示す断面正面図である。
【図４】図３のパンチング板の要部断面説明図である。
２…排水ボックス ５…パンチング板 ６…排水孔（排液孔） ６ａ…排水孔の上部 ７…リンス槽 １０…傾斜ガイド板（ガイド板） １４…エア抜き孔 １６…シリコンウェーハ（ウェーハ）
Claims (1)
- 【請求項１】 排水ボックスの開口上部にパンチング板
を設置し、このパンチング板を囲繞してリンス槽を設置
した洗浄槽において、上記パンチング板の排液孔の形状
を上部が傾斜した面取り構造とし、リンス槽の下方部に
パンチング板の外周縁方向に傾斜したガイド板を設けた
ことを特徴とする洗浄槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18995496A JPH1022253A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 洗浄槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18995496A JPH1022253A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 洗浄槽 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1022253A true JPH1022253A (ja) | 1998-01-23 |
Family
ID=16249983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18995496A Pending JPH1022253A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 洗浄槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1022253A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012142419A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | ウェットエッチング装置 |
-
1996
- 1996-07-02 JP JP18995496A patent/JPH1022253A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012142419A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | ウェットエッチング装置 |
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