JPH1022252A - 洗浄槽 - Google Patents
洗浄槽Info
- Publication number
- JPH1022252A JPH1022252A JP18995396A JP18995396A JPH1022252A JP H1022252 A JPH1022252 A JP H1022252A JP 18995396 A JP18995396 A JP 18995396A JP 18995396 A JP18995396 A JP 18995396A JP H1022252 A JPH1022252 A JP H1022252A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- overflow channel
- channel
- water supply
- supply port
- tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 越流路の流路のブロックを有効に防止して被
洗浄物を効果的に洗浄できる洗浄槽を提供する。 【解決手段】 リンス槽６に複数のシリコンウェーハ１
４を浸して洗浄する洗浄槽であって、外槽１の内部にリ
ンス槽６を設置して当該リンス槽６の他側壁上部には箱
形の給水口８を設ける。また、給水口８の内部上方には
越流路９と水平流路１０とを形成する区画板１１を取り
付けるとともに、この区画板１１には複数のエア抜き孔
１３を開けて越流路９の屈曲上部の流通を遮断するエア
を除去するようにする。さらに、給水口８の下部には越
流路９と水平流路１０に純水をそれぞれ供給する純水供
給管１２を接続する。
洗浄物を効果的に洗浄できる洗浄槽を提供する。 【解決手段】 リンス槽６に複数のシリコンウェーハ１
４を浸して洗浄する洗浄槽であって、外槽１の内部にリ
ンス槽６を設置して当該リンス槽６の他側壁上部には箱
形の給水口８を設ける。また、給水口８の内部上方には
越流路９と水平流路１０とを形成する区画板１１を取り
付けるとともに、この区画板１１には複数のエア抜き孔
１３を開けて越流路９の屈曲上部の流通を遮断するエア
を除去するようにする。さらに、給水口８の下部には越
流路９と水平流路１０に純水をそれぞれ供給する純水供
給管１２を接続する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カセットに収納さ
れた半導体ウェーハなどをリンス槽にセットして洗浄す
る洗浄槽に関するものである。
れた半導体ウェーハなどをリンス槽にセットして洗浄す
る洗浄槽に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の洗浄槽は、図４に示すように、外
槽１の内部にリンス槽６を設置し、このリンス槽６には
給水口８を取り付けている。外槽１は、その下部に排水
ボックス２が設置され、この排水ボックス２の開口上部
にはパンチング板３が敷設されている。排水ボックス２
の一側部には排水管４と排水ポンプ５とがそれぞれ接続
されている。また、リンス槽６は、その上部が開口形成
され、排水ボックス２上に設置されている。リンス槽６
の一側壁上部には水流板７が、リンス槽６の他側壁上部
には給水口８がそれぞれ取り付けられている。
槽１の内部にリンス槽６を設置し、このリンス槽６には
給水口８を取り付けている。外槽１は、その下部に排水
ボックス２が設置され、この排水ボックス２の開口上部
にはパンチング板３が敷設されている。排水ボックス２
の一側部には排水管４と排水ポンプ５とがそれぞれ接続
されている。また、リンス槽６は、その上部が開口形成
され、排水ボックス２上に設置されている。リンス槽６
の一側壁上部には水流板７が、リンス槽６の他側壁上部
には給水口８がそれぞれ取り付けられている。
【０００３】さらに、給水口８は、その一側壁上部が開
口形成され、内部上方には越流路９と水平流路１０とを
形成する区画板１１が取り付けられており、下部には純
水供給管１２が接続されている。
口形成され、内部上方には越流路９と水平流路１０とを
形成する区画板１１が取り付けられており、下部には純
水供給管１２が接続されている。
【０００４】したがって、シリコンウェーハ１４を洗浄
するには、リンス槽６にシリコンウェーハ１４を収納し
たカセット（図示せず）をセットし、給水口８に純水を
供給する。すると、純水（矢印参照）は、給水口８の下
部に流入し、水位の上昇に伴い越流路９と水平流路１０
とに分かれて流動する。越流路９に流入した純水は、リ
ンス槽６の開口上部を介してリンス槽６の下部方向に供
給される。また、水平流路１０に流入した純水は、リン
ス槽６の開口上部からリンス槽６の対向側壁方向に供給
され、その一部が水流板７をオーバーフローして外槽１
内に流れ落ちるとともに、残部が水流板７にガイドされ
てリンス槽６の下部に向かって流れる。こうして、純水
は、シリコンウェーハ１４を洗浄してその表面の不純物
を除去する。
するには、リンス槽６にシリコンウェーハ１４を収納し
たカセット（図示せず）をセットし、給水口８に純水を
供給する。すると、純水（矢印参照）は、給水口８の下
部に流入し、水位の上昇に伴い越流路９と水平流路１０
とに分かれて流動する。越流路９に流入した純水は、リ
ンス槽６の開口上部を介してリンス槽６の下部方向に供
給される。また、水平流路１０に流入した純水は、リン
ス槽６の開口上部からリンス槽６の対向側壁方向に供給
され、その一部が水流板７をオーバーフローして外槽１
内に流れ落ちるとともに、残部が水流板７にガイドされ
てリンス槽６の下部に向かって流れる。こうして、純水
は、シリコンウェーハ１４を洗浄してその表面の不純物
を除去する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の洗浄槽は、以上
のように純水を越流路９と水平流路１０に分けて供給す
るようにしているが、給水口８内の純水の水位がリンス
槽６の側壁上部付近に達すると、越流路９の上方が空気
室となってエア（図３の斜線部参照）１６がたまり、越
流路９における純水の流通が遮断されることとなる。し
たがって、純水の水位がリンス槽６の側壁上部付近に達
した後は、水平流路１０しか利用することができず、こ
の結果、シリコンウェーハ１４を効果的に洗浄すること
ができないという問題があった。
のように純水を越流路９と水平流路１０に分けて供給す
るようにしているが、給水口８内の純水の水位がリンス
槽６の側壁上部付近に達すると、越流路９の上方が空気
室となってエア（図３の斜線部参照）１６がたまり、越
流路９における純水の流通が遮断されることとなる。し
たがって、純水の水位がリンス槽６の側壁上部付近に達
した後は、水平流路１０しか利用することができず、こ
の結果、シリコンウェーハ１４を効果的に洗浄すること
ができないという問題があった。
【０００６】本発明は、上記問題に鑑みてなされたもの
で、越流路の流路のブロックを有効に防止して被洗浄物
を効果的に洗浄することのできる洗浄槽を提供すること
を目的としている。
で、越流路の流路のブロックを有効に防止して被洗浄物
を効果的に洗浄することのできる洗浄槽を提供すること
を目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の発明においては、リンス槽の上部開
口縁の一側に、開口縁の越流路とこの越流路の上方に設
けられた水平流路とを備えた給水口を設け、この給水口
には洗浄液供給源を連結したものにおいて、越流路の屈
曲上部にエア抜き孔を設けたものである。なお、給水口
の越流路と水平流路とをそれぞれ独立に形成し、洗浄液
供給源も独立して越流路及び水平流路にそれぞれ接続す
るとよい。
め、請求項１記載の発明においては、リンス槽の上部開
口縁の一側に、開口縁の越流路とこの越流路の上方に設
けられた水平流路とを備えた給水口を設け、この給水口
には洗浄液供給源を連結したものにおいて、越流路の屈
曲上部にエア抜き孔を設けたものである。なお、給水口
の越流路と水平流路とをそれぞれ独立に形成し、洗浄液
供給源も独立して越流路及び水平流路にそれぞれ接続す
るとよい。
【０００８】請求項１記載の発明によれば、洗浄液の液
位が上昇して越流路を越える際、越流路のエアは、エア
抜き孔から抜けて越流路をブロックすることがない。ま
た、請求項２記載の発明によれば、越流路又は水平流路
の洗浄液の流量を独自に適宜調整することができる。
位が上昇して越流路を越える際、越流路のエアは、エア
抜き孔から抜けて越流路をブロックすることがない。ま
た、請求項２記載の発明によれば、越流路又は水平流路
の洗浄液の流量を独自に適宜調整することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。本実施の形態における洗浄槽は、
図１や図２に示すように、外槽１の内部にリンス槽６を
設置して当該リンス槽６の開口上部の一部に給水口８を
設け、この給水口８には純水供給管１２を連結し、しか
も、給水口８の越流路９の屈曲上部に複数のエア抜き孔
１３を設けるようにしている。
を参照して説明する。本実施の形態における洗浄槽は、
図１や図２に示すように、外槽１の内部にリンス槽６を
設置して当該リンス槽６の開口上部の一部に給水口８を
設け、この給水口８には純水供給管１２を連結し、しか
も、給水口８の越流路９の屈曲上部に複数のエア抜き孔
１３を設けるようにしている。
【００１０】外槽１は、その上部が開口形成され、下部
に断面ほぼチャネル形の排水ボックス２が設置されてお
り、この排水ボックス２の上部両側間には複数の孔を備
えたパンチング板３が架設されて開口部を被覆してい
る。排水ボックス２の一側部には排水管４が接続され、
この排水管４には排水ポンプ５が接続されている。ま
た、リンス槽６は、透明石英ガラスやＰＴＦＥなどを材
料としてその上部が開口形成され、排水ボックス２上に
設置されており、対向側壁の開口上方部には断面Ｙ字形
の水流板７が取り付けられるとともに、一側壁の上方開
口部には給水口８が一体的に取り付けられている。
に断面ほぼチャネル形の排水ボックス２が設置されてお
り、この排水ボックス２の上部両側間には複数の孔を備
えたパンチング板３が架設されて開口部を被覆してい
る。排水ボックス２の一側部には排水管４が接続され、
この排水管４には排水ポンプ５が接続されている。ま
た、リンス槽６は、透明石英ガラスやＰＴＦＥなどを材
料としてその上部が開口形成され、排水ボックス２上に
設置されており、対向側壁の開口上方部には断面Ｙ字形
の水流板７が取り付けられるとともに、一側壁の上方開
口部には給水口８が一体的に取り付けられている。
【００１１】また、給水口８は、ほぼ箱形に形成され、
その一側壁上部が開口形成されるとともに、内部上方に
は越流路９と水平流路１０とを形成する区画板１１が取
り付けられており、下部には純水供給管１２が接続され
ている。さらに、区画板１１の平坦な上部中央には複数
のエア抜き孔１３が前後方向に向け等間隔で開けられて
いる。
その一側壁上部が開口形成されるとともに、内部上方に
は越流路９と水平流路１０とを形成する区画板１１が取
り付けられており、下部には純水供給管１２が接続され
ている。さらに、区画板１１の平坦な上部中央には複数
のエア抜き孔１３が前後方向に向け等間隔で開けられて
いる。
【００１２】したがって、シリコンウェーハ１４を洗浄
するには、図示しないカセットに整列状態で収納された
複数のシリコンウェーハ１４をリンス槽６にセットし、
給水口８に純水を供給する。すると、純水（図２の矢印
参照）は、給水口８の下部に流入し、水位の上昇に伴い
越流路９と水平流路１０に分かれて流動する。越流路９
に流入した純水は、リンス槽６の開口上部を介してリン
ス槽６の下部方向に向けて供給（ダウンフロー）され、
除去した異物とともにパンチング板３、排水ボックス
２、排水管４及び排水ポンプ５を順次経由して外部に排
水される。
するには、図示しないカセットに整列状態で収納された
複数のシリコンウェーハ１４をリンス槽６にセットし、
給水口８に純水を供給する。すると、純水（図２の矢印
参照）は、給水口８の下部に流入し、水位の上昇に伴い
越流路９と水平流路１０に分かれて流動する。越流路９
に流入した純水は、リンス槽６の開口上部を介してリン
ス槽６の下部方向に向けて供給（ダウンフロー）され、
除去した異物とともにパンチング板３、排水ボックス
２、排水管４及び排水ポンプ５を順次経由して外部に排
水される。
【００１３】また、水平流路１０に流入した純水は、リ
ンス槽６の開口上部からリンス槽６の対向側壁方向に向
けて供給され、その一部が水流板７をオーバーフローし
て外槽１内に排水されるとともに、残部が水流板７にガ
イドされつつリンス槽６の下部に向かって流れ、除去し
た異物とともにパンチング板３、排水ボックス２、排水
管４及び排水ポンプ５を順次経由して外部に排水され
る。こうして、純水は、リンス槽６の内部上方から下方
に絶え間なく流動してシリコンウェーハ１４を洗浄し、
シリコンウェーハ１４の表面の不純物を除去する。
ンス槽６の開口上部からリンス槽６の対向側壁方向に向
けて供給され、その一部が水流板７をオーバーフローし
て外槽１内に排水されるとともに、残部が水流板７にガ
イドされつつリンス槽６の下部に向かって流れ、除去し
た異物とともにパンチング板３、排水ボックス２、排水
管４及び排水ポンプ５を順次経由して外部に排水され
る。こうして、純水は、リンス槽６の内部上方から下方
に絶え間なく流動してシリコンウェーハ１４を洗浄し、
シリコンウェーハ１４の表面の不純物を除去する。
【００１４】また、上記洗浄作業の際、給水口８内の純
水の水位がリンス槽６の側壁上部付近に達すると、区画
板１１の内部上方のエア１６が複数のエア抜き孔１３か
ら上方に抜けて越流路９における純水の水位が上昇す
る。したがって、越流路９は、エア１６にブロックされ
ることがなく、これを通じてシリコンウェーハ１４をき
わめて効果的に精密洗浄することができる。
水の水位がリンス槽６の側壁上部付近に達すると、区画
板１１の内部上方のエア１６が複数のエア抜き孔１３か
ら上方に抜けて越流路９における純水の水位が上昇す
る。したがって、越流路９は、エア１６にブロックされ
ることがなく、これを通じてシリコンウェーハ１４をき
わめて効果的に精密洗浄することができる。
【００１５】次に、図３は本発明の他の実施形態を示す
もので、この場合には、区画板１１の他側部１５を垂直
下方に伸ばして給水口８の下部に接続し、越流路９と水
平流路１０とをそれぞれ完全独立に形成し、越流路９と
水平流路１０の下部に純水供給管１２をそれぞれ接続す
るようにしている。その他の部分については、上記実施
形態と同様であるので、省略する。
もので、この場合には、区画板１１の他側部１５を垂直
下方に伸ばして給水口８の下部に接続し、越流路９と水
平流路１０とをそれぞれ完全独立に形成し、越流路９と
水平流路１０の下部に純水供給管１２をそれぞれ接続す
るようにしている。その他の部分については、上記実施
形態と同様であるので、省略する。
【００１６】本実施形態においても、上記実施形態と同
様の作用効果が期待でき、しかも、越流路９と水平流路
１０とが完全に分離しているので、水平流路１０におけ
る純水の流量と越流路９における純水の流量とをそれぞ
れ個別に制御することができ、シリコンウェーハ１４の
洗浄効果の著しい向上が期待できるものである。
様の作用効果が期待でき、しかも、越流路９と水平流路
１０とが完全に分離しているので、水平流路１０におけ
る純水の流量と越流路９における純水の流量とをそれぞ
れ個別に制御することができ、シリコンウェーハ１４の
洗浄効果の著しい向上が期待できるものである。
【００１７】なお、上記実施形態においては、シリコン
ウェーハ１４を示したが、必ずしもこれに限定されるも
のではなく、例えば、Ｇａｐウェーハ、電気部品、又は
電子部品などを洗浄してもよいのはいうまでもない。ま
た、純水の代わりに薬液など他の洗浄液を使用してもよ
い。さらに、エア抜き孔１３の大きさや数も適宜増減変
更することができる。
ウェーハ１４を示したが、必ずしもこれに限定されるも
のではなく、例えば、Ｇａｐウェーハ、電気部品、又は
電子部品などを洗浄してもよいのはいうまでもない。ま
た、純水の代わりに薬液など他の洗浄液を使用してもよ
い。さらに、エア抜き孔１３の大きさや数も適宜増減変
更することができる。
【００１８】
【発明の効果】以上のように請求項１記載の発明によれ
ば、越流路の流路のブロックを有効に防止して被洗浄物
を効果的に洗浄することができるという効果がある。ま
た、請求項２記載の発明によれば、越流路と水平流路の
独自制御を通じて被洗浄物の洗浄効果を向上させること
ができる。
ば、越流路の流路のブロックを有効に防止して被洗浄物
を効果的に洗浄することができるという効果がある。ま
た、請求項２記載の発明によれば、越流路と水平流路の
独自制御を通じて被洗浄物の洗浄効果を向上させること
ができる。
【図１】本発明に係る洗浄槽のリンス槽の形態を示す斜
視図である。
視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面面図である。
【図３】本発明に係る洗浄槽の他の実施の形態を示す断
面面図である。
面面図である。
【図４】従来の洗浄槽を示す断面面図である。
１…外槽 ６…リンス槽 ８…給水口 ９…越流路 １０…水平流路 １１…区画板 １２…純水供給管（洗浄液供給源） １３…エア抜き孔 １４…シリコンウェーハ １５…区画板の他側部 １６…エア
Claims (2)
- 【請求項１】 リンス槽の上部開口縁の一側に、開口縁
の越流路とこの越流路の上方に設けられた水平流路とを
備えた給水口を設け、この給水口には洗浄液供給源を連
結した洗浄槽において、越流路の屈曲上部にエア抜き孔
を設けたことを特徴とする洗浄槽。 - 【請求項２】 給水口の越流路と水平流路とをそれぞれ
独立に形成し、洗浄液供給源も独立して越流路及び水平
流路にそれぞれ接続した請求項１記載の洗浄槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18995396A JPH1022252A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 洗浄槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18995396A JPH1022252A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 洗浄槽 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1022252A true JPH1022252A (ja) | 1998-01-23 |
Family
ID=16249967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18995396A Pending JPH1022252A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 洗浄槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1022252A (ja) |
-
1996
- 1996-07-02 JP JP18995396A patent/JPH1022252A/ja active Pending
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