JPH09321017A - ウェーハ湿式処理装置 - Google Patents
ウェーハ湿式処理装置Info
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- JPH09321017A JPH09321017A JP9039574A JP3957497A JPH09321017A JP H09321017 A JPH09321017 A JP H09321017A JP 9039574 A JP9039574 A JP 9039574A JP 3957497 A JP3957497 A JP 3957497A JP H09321017 A JPH09321017 A JP H09321017A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B11/00—Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不必要な槽内の隙間とこれにより発生する処
理液の不必要な流れとを除去し、装置が小型化されウェ
ーハの処理効果が向上できるウェーハ湿式処理装置を提
供する。 【解決手段】 内槽３１−１の底面より処理液を注入
し、この処理液が内槽３１−１から溢れ外槽３１−２に
流出する二槽構造の処理槽３１を備え、この処理槽３１
に挿入する底面と上面とが開口し外周壁が内槽３１−１
の内側周壁と全体または少なくとも下端部が接し処理液
の全水流を内部に通過させるウェーハ運搬桶３２を設
け、処理槽３１内の不必要な隙間および水流を除去する
とともに、処理槽の周壁を一部または全部を傾斜させ処
理槽とウェーハ運搬桶との摩擦を軽減させ、さらにウェ
ーハ運搬桶と処理槽とに凹凸形状のガイドを設け作業効
率を向上させたウェーハ湿式処理装置を設ける。
理液の不必要な流れとを除去し、装置が小型化されウェ
ーハの処理効果が向上できるウェーハ湿式処理装置を提
供する。 【解決手段】 内槽３１−１の底面より処理液を注入
し、この処理液が内槽３１−１から溢れ外槽３１−２に
流出する二槽構造の処理槽３１を備え、この処理槽３１
に挿入する底面と上面とが開口し外周壁が内槽３１−１
の内側周壁と全体または少なくとも下端部が接し処理液
の全水流を内部に通過させるウェーハ運搬桶３２を設
け、処理槽３１内の不必要な隙間および水流を除去する
とともに、処理槽の周壁を一部または全部を傾斜させ処
理槽とウェーハ運搬桶との摩擦を軽減させ、さらにウェ
ーハ運搬桶と処理槽とに凹凸形状のガイドを設け作業効
率を向上させたウェーハ湿式処理装置を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハ湿式処理
装置に係り、より詳しくは半導体デバイスの生産工程に
おいてウェーハの洗浄及び化学反応等のために用いられ
るウェーハ湿式処理装置に関する。
装置に係り、より詳しくは半導体デバイスの生産工程に
おいてウェーハの洗浄及び化学反応等のために用いられ
るウェーハ湿式処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のウェーハ湿式処理装置は、内槽と
これを包囲する外槽とからなる二重槽を備えており、内
槽に注入口を設けこの注入口から処理液を流入し貯留さ
せてある。この処理液は、継続して流入され内槽に貯留
するとともに溢れ出し外槽に流出する。この際、処理液
が流出する内槽に、複数のウェーハを収納したキャリア
を浸漬させ内槽から外槽に流れる水流によりウェーハを
洗浄する方式がよく知られている。このような基本的構
造を有する装置としては、例えば米国特許Ｎｏ．５０７
１７７６にオーバーフローイング方式（Ｏｖｅｒ Ｆｌ
ｏｗｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍ）の記載がある。またウェー
ハを収納するキャリアは、例えば米国特許Ｎｏ．３９２
３１５６などに記載されており側面の断面形状が略Ｕ字
形のものと、その後開発された側面の形状が略Ｈ字形を
有するものがある。
これを包囲する外槽とからなる二重槽を備えており、内
槽に注入口を設けこの注入口から処理液を流入し貯留さ
せてある。この処理液は、継続して流入され内槽に貯留
するとともに溢れ出し外槽に流出する。この際、処理液
が流出する内槽に、複数のウェーハを収納したキャリア
を浸漬させ内槽から外槽に流れる水流によりウェーハを
洗浄する方式がよく知られている。このような基本的構
造を有する装置としては、例えば米国特許Ｎｏ．５０７
１７７６にオーバーフローイング方式（Ｏｖｅｒ Ｆｌ
ｏｗｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍ）の記載がある。またウェー
ハを収納するキャリアは、例えば米国特許Ｎｏ．３９２
３１５６などに記載されており側面の断面形状が略Ｕ字
形のものと、その後開発された側面の形状が略Ｈ字形を
有するものがある。
【０００３】図６は、従来のウェーハ湿式処理装置の主
要部を示す断面図であり、図６（ａ）は従来の装置を正
面から見た断面図を、図６（ｂ）は従来の装置を側面か
ら見た断面図を各々示している。図６（ａ）および図６
（ｂ）に図示するように、従来のウェーハ湿式処理装置
１０は、断面の形状が略凹状の内槽１１−１と、この内
槽１１−１を包囲する外槽１１−２とからなる二重構造
の処理槽１１を備えている。内槽１１−１の底面には、
複数のホールを有する流れ調節板１１−３（Ｂａｆｆｌ
ｅ ｐｌａｔｅ）が設けてある。また流れ調節板１１−
３の底面には、処理液を槽内に注入するための注入口１
１−５が設けてある。このように注入口１１−５から注
入された処理液は流れ調節板１１−３を介して内槽１１
−１内に貯留される。この内槽１１−１内に貯留された
処理液は、内槽１１−１から溢れ出し外槽１１−２に流
出するように設けてある。
要部を示す断面図であり、図６（ａ）は従来の装置を正
面から見た断面図を、図６（ｂ）は従来の装置を側面か
ら見た断面図を各々示している。図６（ａ）および図６
（ｂ）に図示するように、従来のウェーハ湿式処理装置
１０は、断面の形状が略凹状の内槽１１−１と、この内
槽１１−１を包囲する外槽１１−２とからなる二重構造
の処理槽１１を備えている。内槽１１−１の底面には、
複数のホールを有する流れ調節板１１−３（Ｂａｆｆｌ
ｅ ｐｌａｔｅ）が設けてある。また流れ調節板１１−
３の底面には、処理液を槽内に注入するための注入口１
１−５が設けてある。このように注入口１１−５から注
入された処理液は流れ調節板１１−３を介して内槽１１
−１内に貯留される。この内槽１１−１内に貯留された
処理液は、内槽１１−１から溢れ出し外槽１１−２に流
出するように設けてある。
【０００４】外槽１１−２の底面には、排出口１１−４
が設けてあり、内槽１１−１から溢れて流出した処理液
を排出または循環できるように設けてある。内槽１１−
１内に貯留した処理液中には、ウェーハを複数収納した
キャリアであるウェーハ運搬桶（Ｗａｆｅｒ ｃａｒｒ
ｉｅｒ）１２が浸漬され湿式処理が実行される。このウ
ェーハ運搬桶１２は、図６（ｂ）に示すように側面が略
Ｈ形状のウェーハ運搬桶１２を使用しており、上面と底
面が開口され、内部に複数のウェーハ１３を直立に整列
させ収納できるように設けられている。ウェーハ運搬桶
１２は、内槽１１−１より小さく形成されており、取り
出しが容易に行えるように内槽１１−１とウェーハ運搬
桶１２との間に隙間を充分に確保してある。
が設けてあり、内槽１１−１から溢れて流出した処理液
を排出または循環できるように設けてある。内槽１１−
１内に貯留した処理液中には、ウェーハを複数収納した
キャリアであるウェーハ運搬桶（Ｗａｆｅｒ ｃａｒｒ
ｉｅｒ）１２が浸漬され湿式処理が実行される。このウ
ェーハ運搬桶１２は、図６（ｂ）に示すように側面が略
Ｈ形状のウェーハ運搬桶１２を使用しており、上面と底
面が開口され、内部に複数のウェーハ１３を直立に整列
させ収納できるように設けられている。ウェーハ運搬桶
１２は、内槽１１−１より小さく形成されており、取り
出しが容易に行えるように内槽１１−１とウェーハ運搬
桶１２との間に隙間を充分に確保してある。
【０００５】このような従来のウェーハ湿式処理装置１
０を使用する場合、ウェーハ運搬桶１２にウェーハ１３
を複数収納し内槽１１−１に挿入する。槽内にウェーハ
運搬桶１２が挿入されると、洗浄液などの処理液を内槽
１１−１の底面に設けた注入口１１−５から注入する。
この処理液は流れ調節板１１−３を介して槽内に流入さ
れる。また処理液は、槽内で底部から上部へ流れウェー
ハ運搬桶１２内のウェーハ１３を湿式処理する。槽内に
流出を続ける処理液は、内槽１１−１の上端まで貯留し
溢れ外槽１１−２に流出する。外槽１１−２に溢れ流出
した処理液は、排出口１１−４を通じて排出され廃棄さ
れるか、または再循環（Ｒｅｃｉｒｃｕｌａｔｉｏｎ）
されて再び処理液として流入される。
０を使用する場合、ウェーハ運搬桶１２にウェーハ１３
を複数収納し内槽１１−１に挿入する。槽内にウェーハ
運搬桶１２が挿入されると、洗浄液などの処理液を内槽
１１−１の底面に設けた注入口１１−５から注入する。
この処理液は流れ調節板１１−３を介して槽内に流入さ
れる。また処理液は、槽内で底部から上部へ流れウェー
ハ運搬桶１２内のウェーハ１３を湿式処理する。槽内に
流出を続ける処理液は、内槽１１−１の上端まで貯留し
溢れ外槽１１−２に流出する。外槽１１−２に溢れ流出
した処理液は、排出口１１−４を通じて排出され廃棄さ
れるか、または再循環（Ｒｅｃｉｒｃｕｌａｔｉｏｎ）
されて再び処理液として流入される。
【０００６】しかし、図６（ａ）に示すように従来の装
置は、ウェーハ運搬桶１２を内槽１１−１内に遊挿でき
るように設けているため、内槽１１−１とウェーハ運搬
桶１２との間に隙間を充分に確保している。このため内
槽１１−１底部から流れ調節板１１−３の開口部を介し
て流出する水流は、内槽１１−１とウェーハ運搬桶１２
との隙間およびウェーハ運搬桶１２内とに分かれ流入す
る。すなわち図６（ｂ）に示す矢印Ａのように内槽１１
−１とウェーハ運搬桶１２と間の隙間に流出する処理液
は、流れが主流れ（Ｍａｉｎ Ｆｌｏｗ）となって流出
する。この際、ウェーハ運搬桶１２の上部からウェーハ
運搬桶１２内に逆流を発生させてウェーハ間に流れる水
流を妨害することにより、ウェーハの洗浄および効果的
な化学作用を充分に実行することができないという不具
合があった。
置は、ウェーハ運搬桶１２を内槽１１−１内に遊挿でき
るように設けているため、内槽１１−１とウェーハ運搬
桶１２との間に隙間を充分に確保している。このため内
槽１１−１底部から流れ調節板１１−３の開口部を介し
て流出する水流は、内槽１１−１とウェーハ運搬桶１２
との隙間およびウェーハ運搬桶１２内とに分かれ流入す
る。すなわち図６（ｂ）に示す矢印Ａのように内槽１１
−１とウェーハ運搬桶１２と間の隙間に流出する処理液
は、流れが主流れ（Ｍａｉｎ Ｆｌｏｗ）となって流出
する。この際、ウェーハ運搬桶１２の上部からウェーハ
運搬桶１２内に逆流を発生させてウェーハ間に流れる水
流を妨害することにより、ウェーハの洗浄および効果的
な化学作用を充分に実行することができないという不具
合があった。
【０００７】このような問題点を解決するため、ウェー
ハ湿式処理装置のウェーハ運搬桶と内槽との間に確保し
た隙間（図６（ｂ）の矢印Ａ参照）に処理液が流入しな
いようにした装置がある。例えば‘ＵＬＳＩ ＵＬＴＲ
Ａ ＣＬＥＡＮ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ２４ｔｈ Ｓ
ＹＭＰＯＳＩＵＭ’の９４頁に紹介された‘Ｓｐｅｃｉ
ａｌ Ｂａｆｆｌｅ ｐｌａｔｅ’の記載があり、ま
た、特開昭６４−５７７２１号公報などにも記載があ
る。
ハ湿式処理装置のウェーハ運搬桶と内槽との間に確保し
た隙間（図６（ｂ）の矢印Ａ参照）に処理液が流入しな
いようにした装置がある。例えば‘ＵＬＳＩ ＵＬＴＲ
Ａ ＣＬＥＡＮ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ２４ｔｈ Ｓ
ＹＭＰＯＳＩＵＭ’の９４頁に紹介された‘Ｓｐｅｃｉ
ａｌ Ｂａｆｆｌｅ ｐｌａｔｅ’の記載があり、ま
た、特開昭６４−５７７２１号公報などにも記載があ
る。
【０００８】図７は、図２に示す装置に処理液逆流を防
止する閉鎖部を設けた状態を示す断面図であり、図７
（ａ）は装置を正面から見た断面図を、図７（ｂ）は装
置を側面から見た断面図を各々示している。図７は、図
６において、ウェーハ運搬桶と内槽との間に形成される
隙間（図６（ｂ）の矢印Ａ参照）部以外は同一の構成要
素であり重複する説明は省略する。図７（ａ）および図
７（ｂ）に示すように、従来のウェーハ湿式処理装置２
０は、処理槽１１内にウェーハ運搬桶１２を挿入した
際、ウェーハ運搬桶１２と内槽１１−１との間に形成さ
れる隙間に処理液が流入し逆流を発生させることを防止
するため、図７（ａ）に示す矢印Ｂ部を閉鎖し処理液が
流入されないように設けている。このように矢印Ｂ部に
流出する不必要な処理液の流れ（Ｆｌｏｗｉｎｇ）を減
らすことで処理液は確実にウェーハ運搬桶１２を介し上
部へと流入する。これにより、ウェーハ１３の多少の洗
浄効果および化学反応の上昇効果を増大させることがで
きる。
止する閉鎖部を設けた状態を示す断面図であり、図７
（ａ）は装置を正面から見た断面図を、図７（ｂ）は装
置を側面から見た断面図を各々示している。図７は、図
６において、ウェーハ運搬桶と内槽との間に形成される
隙間（図６（ｂ）の矢印Ａ参照）部以外は同一の構成要
素であり重複する説明は省略する。図７（ａ）および図
７（ｂ）に示すように、従来のウェーハ湿式処理装置２
０は、処理槽１１内にウェーハ運搬桶１２を挿入した
際、ウェーハ運搬桶１２と内槽１１−１との間に形成さ
れる隙間に処理液が流入し逆流を発生させることを防止
するため、図７（ａ）に示す矢印Ｂ部を閉鎖し処理液が
流入されないように設けている。このように矢印Ｂ部に
流出する不必要な処理液の流れ（Ｆｌｏｗｉｎｇ）を減
らすことで処理液は確実にウェーハ運搬桶１２を介し上
部へと流入する。これにより、ウェーハ１３の多少の洗
浄効果および化学反応の上昇効果を増大させることがで
きる。
【０００９】このように従来のウェーハの湿式処理装置
は、流入する処理液の流れにおいて、不必要な流れ（Ｆ
ｌｏｗｉｎｇ）を減らすことで、洗浄効果および化学反
応の効果を向上させウェーハの湿式処理を実行してい
た。
は、流入する処理液の流れにおいて、不必要な流れ（Ｆ
ｌｏｗｉｎｇ）を減らすことで、洗浄効果および化学反
応の効果を向上させウェーハの湿式処理を実行してい
た。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のウ
ェーハ湿式処理装置では、流れ調節板を調節し不必要な
水流を軽減することで多少の処理効果が得られるが、側
面の断面が略Ｕ形状または側面が略Ｈ形状のウェーハ運
搬桶では、周壁に開口部が存在するため、その開口部を
通過して処理液がウェーハ運搬桶の外に流出してしまい
結果的に洗浄効果が非効率的になってしまう不具合があ
った。また、内槽とウェーハ運搬桶との間に形成される
隙間は、ウェーハ湿式処理装置を不必要に大型化してし
まう不具合があった。本発明は、このような従来技術の
問題点を解決し、不必要な槽内の隙間とこれにより発生
する処理液の不必要な流れとを除去し、装置が小型化さ
れウェーハの処理効果が向上できるウェーハ湿式処理装
置を提供することを目的とする。
ェーハ湿式処理装置では、流れ調節板を調節し不必要な
水流を軽減することで多少の処理効果が得られるが、側
面の断面が略Ｕ形状または側面が略Ｈ形状のウェーハ運
搬桶では、周壁に開口部が存在するため、その開口部を
通過して処理液がウェーハ運搬桶の外に流出してしまい
結果的に洗浄効果が非効率的になってしまう不具合があ
った。また、内槽とウェーハ運搬桶との間に形成される
隙間は、ウェーハ湿式処理装置を不必要に大型化してし
まう不具合があった。本発明は、このような従来技術の
問題点を解決し、不必要な槽内の隙間とこれにより発生
する処理液の不必要な流れとを除去し、装置が小型化さ
れウェーハの処理効果が向上できるウェーハ湿式処理装
置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は上述の課題を解
決するために、内槽とこれを包囲する外槽とからなる二
重槽を設け内槽の底面から処理液を供給し、内槽の上端
から処理液がオーバーフローさせ外槽に溢れ流れる水流
によりウェーハの湿式処理を行う処理槽と、この処理槽
の内槽内に挿入され周壁を有し底面と上面とが開口し処
理液が内部を通過するよう設けこの周壁が内槽内側の全
周壁または少なくとも下端部が接し挿入されるキャリア
とを設ける。また、処理槽の周壁を一部または全部がキ
ャリアと所定角をなし底部から上部に向かい広がる傾斜
面を設け、この傾斜面とキャリアとが対向する間の隙間
を封止するためキャリア上端近傍の周壁を外側に屈折さ
せ内槽上端に接しさらに外槽底部方向に屈折させ内槽上
端部をくるむように流れ案内部を設け、処理槽の外側壁
とキャリアの外側周壁とが対向する隙間に処理液が流入
することを遮断するとともに、内槽の内側周壁とキャリ
アの外側周壁とが接触する壁面は、相互に凹凸を設けた
波形（ｃｏｒｒｕｇａｔｅｄ）面に設け、キャリア外側
の底面に突出部を設け、この突出部が嵌合し挿入する溝
部を内槽の底部に設ける。
決するために、内槽とこれを包囲する外槽とからなる二
重槽を設け内槽の底面から処理液を供給し、内槽の上端
から処理液がオーバーフローさせ外槽に溢れ流れる水流
によりウェーハの湿式処理を行う処理槽と、この処理槽
の内槽内に挿入され周壁を有し底面と上面とが開口し処
理液が内部を通過するよう設けこの周壁が内槽内側の全
周壁または少なくとも下端部が接し挿入されるキャリア
とを設ける。また、処理槽の周壁を一部または全部がキ
ャリアと所定角をなし底部から上部に向かい広がる傾斜
面を設け、この傾斜面とキャリアとが対向する間の隙間
を封止するためキャリア上端近傍の周壁を外側に屈折さ
せ内槽上端に接しさらに外槽底部方向に屈折させ内槽上
端部をくるむように流れ案内部を設け、処理槽の外側壁
とキャリアの外側周壁とが対向する隙間に処理液が流入
することを遮断するとともに、内槽の内側周壁とキャリ
アの外側周壁とが接触する壁面は、相互に凹凸を設けた
波形（ｃｏｒｒｕｇａｔｅｄ）面に設け、キャリア外側
の底面に突出部を設け、この突出部が嵌合し挿入する溝
部を内槽の底部に設ける。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に図１および図２を参照して本
発明によるウェーハ湿式処理装置の第１の実施形態を詳
細に説明する。図１は、本発明によるウェーハ湿式処理
装置の第１の実施形態を示す断面図であり、図１（ａ）
は装置の平面図を、図１（ｂ）は装置を正面から見た断
面図を各々示している。また、図２は図１に示す装置に
挿入するウェーハ運搬桶の斜視図を示している。図１
（ａ）および図１（ｂ）に示すように、本発明によるウ
ェーハ湿式処理装置３０は、断面の形状が略凹状の内槽
３１−１と、この内槽３１−１を包囲する外槽３１−２
とからなる二槽構造の処理槽３１を設けている。処理槽
３１の内槽３１−１底面には、均一に配列する複数のホ
ールを設けた流れ調節板３１−３が設けられている。ま
た、流れ調節板３１−３の底面には処理液を流れ調節板
３１−３を介し内槽３１−１内に注入する注入口３１−
５が装着されている。さらに外槽３１−２の底面には、
内槽３１−１の上端から溢れ流出する処理液を排出また
は循環するための排出口３１−４が設けられている。
発明によるウェーハ湿式処理装置の第１の実施形態を詳
細に説明する。図１は、本発明によるウェーハ湿式処理
装置の第１の実施形態を示す断面図であり、図１（ａ）
は装置の平面図を、図１（ｂ）は装置を正面から見た断
面図を各々示している。また、図２は図１に示す装置に
挿入するウェーハ運搬桶の斜視図を示している。図１
（ａ）および図１（ｂ）に示すように、本発明によるウ
ェーハ湿式処理装置３０は、断面の形状が略凹状の内槽
３１−１と、この内槽３１−１を包囲する外槽３１−２
とからなる二槽構造の処理槽３１を設けている。処理槽
３１の内槽３１−１底面には、均一に配列する複数のホ
ールを設けた流れ調節板３１−３が設けられている。ま
た、流れ調節板３１−３の底面には処理液を流れ調節板
３１−３を介し内槽３１−１内に注入する注入口３１−
５が装着されている。さらに外槽３１−２の底面には、
内槽３１−１の上端から溢れ流出する処理液を排出また
は循環するための排出口３１−４が設けられている。
【００１３】内槽３１−１内には、ウェーハを複数収納
するキャリアであるウェーハ運搬桶３２が挿入されてお
り内槽３１−１の内側周壁とウェーハ運搬桶３２の外側
周壁とが接し隙間なく挿入できるように設けられてい
る。また図２に示すようにウェーハ運搬桶３２は、周壁
を有し上面と底面が開口され、この上面の開口部から複
数のウェーハ３３を一定した間隔に直立整列させ収納で
きるように設けてある。また、内槽３１−１とウェーハ
運搬桶３２との接触面、すなわち内槽３１−１の内側周
壁とウェーハ運搬桶３２の外側の周壁３２−１との一部
または全周壁には、相互に対応する凹凸部を設けお互い
に嵌合するように設けてある。内槽３１−１には、内側
周壁に一部または全周壁に凸部（図示せず）を設け、図
２に示すようにウェーハ運搬桶３２の外側の周壁３２−
１には、凹部である波形（ｃｏｒｒｕｇａｔｅｄ）３２
−２が形成され互いに嵌合するよう挿入される。
するキャリアであるウェーハ運搬桶３２が挿入されてお
り内槽３１−１の内側周壁とウェーハ運搬桶３２の外側
周壁とが接し隙間なく挿入できるように設けられてい
る。また図２に示すようにウェーハ運搬桶３２は、周壁
を有し上面と底面が開口され、この上面の開口部から複
数のウェーハ３３を一定した間隔に直立整列させ収納で
きるように設けてある。また、内槽３１−１とウェーハ
運搬桶３２との接触面、すなわち内槽３１−１の内側周
壁とウェーハ運搬桶３２の外側の周壁３２−１との一部
または全周壁には、相互に対応する凹凸部を設けお互い
に嵌合するように設けてある。内槽３１−１には、内側
周壁に一部または全周壁に凸部（図示せず）を設け、図
２に示すようにウェーハ運搬桶３２の外側の周壁３２−
１には、凹部である波形（ｃｏｒｒｕｇａｔｅｄ）３２
−２が形成され互いに嵌合するよう挿入される。
【００１４】このような構成からなるウェーハ湿式処理
装置を使用する場合、ウェーハ運搬桶３２にウェーハ３
３を複数収納し、このウェーハ運搬桶３２を内槽３１−
１内に挿入する。また、内槽３１−１内の注入口３１−
５から流れ調節板３１−３を介して洗浄液等の処理液を
流入させることにより、ウェーハ運搬桶３２内を処理液
が底部から上部に流出する。この流出する水流によりウ
ェーハ３３は、洗浄または化学作用を起こし湿式処理さ
れる。また、湿式処理を行い内槽３１−１内に貯留する
処理液は、外槽３１−２に溢れ流出し排出口３１−４を
通じて排出され廃棄されるか、または高性能のフィルタ
ーによって浄化されて再循環（Ｒｅｃｉｒｃｕｌａｔｉ
ｏｎ）される。
装置を使用する場合、ウェーハ運搬桶３２にウェーハ３
３を複数収納し、このウェーハ運搬桶３２を内槽３１−
１内に挿入する。また、内槽３１−１内の注入口３１−
５から流れ調節板３１−３を介して洗浄液等の処理液を
流入させることにより、ウェーハ運搬桶３２内を処理液
が底部から上部に流出する。この流出する水流によりウ
ェーハ３３は、洗浄または化学作用を起こし湿式処理さ
れる。また、湿式処理を行い内槽３１−１内に貯留する
処理液は、外槽３１−２に溢れ流出し排出口３１−４を
通じて排出され廃棄されるか、または高性能のフィルタ
ーによって浄化されて再循環（Ｒｅｃｉｒｃｕｌａｔｉ
ｏｎ）される。
【００１５】次に図３および図４を参照し、本発明によ
るウェーハ湿式処理装置の第２の実施形態を詳細に説明
する。図３は本発明によるウェーハ湿式処理装置の第２
の実施形態を示す断面図であり、図３（ａ）は装置の平
面図を、図３（ｂ）は装置を正面から見た断面図を各々
示している。また、図４は図３に示す装置に挿入するウ
ェーハ運搬桶の斜視図を示している。図３に示すよう
に、本発明の第２の実施形態によるウェーハ湿式処理装
置４０は、ウェーハ運搬桶４２が内槽４１−１に挿脱す
る際に、摩擦による異物質の発生を最少に抑える形状に
処理槽４１を形成している。図３（ａ）および図３
（ｂ）に示すように、略凹状の断面形状を有する内槽４
１−１は、側壁が底部から上部に向かい広がるように傾
斜させ設けてある。また内槽４１−１には、側壁の傾斜
と平行し外側を包囲する外槽４１−２が設けてある。こ
のように処理槽４１は、内槽４１−１の側壁を上部に向
かい広がるように傾斜させることで、ウェーハ運搬桶４
２との間に閉鎖部４５が形成され、この閉鎖部４５によ
り摩擦による異物質の発生が防止されている。
るウェーハ湿式処理装置の第２の実施形態を詳細に説明
する。図３は本発明によるウェーハ湿式処理装置の第２
の実施形態を示す断面図であり、図３（ａ）は装置の平
面図を、図３（ｂ）は装置を正面から見た断面図を各々
示している。また、図４は図３に示す装置に挿入するウ
ェーハ運搬桶の斜視図を示している。図３に示すよう
に、本発明の第２の実施形態によるウェーハ湿式処理装
置４０は、ウェーハ運搬桶４２が内槽４１−１に挿脱す
る際に、摩擦による異物質の発生を最少に抑える形状に
処理槽４１を形成している。図３（ａ）および図３
（ｂ）に示すように、略凹状の断面形状を有する内槽４
１−１は、側壁が底部から上部に向かい広がるように傾
斜させ設けてある。また内槽４１−１には、側壁の傾斜
と平行し外側を包囲する外槽４１−２が設けてある。こ
のように処理槽４１は、内槽４１−１の側壁を上部に向
かい広がるように傾斜させることで、ウェーハ運搬桶４
２との間に閉鎖部４５が形成され、この閉鎖部４５によ
り摩擦による異物質の発生が防止されている。
【００１６】またウェーハを複数収納するキャリアであ
るウェーハ運搬桶４２は、ウェーハ４３の高さまで垂直
に設けられた周壁４２−１と、この周壁４２−１の上端
近傍を外側に屈折させ内槽４１−１の上端部と接した流
れ案内部４２−３とにより設けられている。ウェーハ運
搬桶４２が内槽４１−１内に挿入された際、ウェーハ運
搬桶４２の周壁４２−１に対し、内槽４１−１の傾斜す
る側壁がなす角度は、好ましくは、はぼ１°〜１５°の
角度に傾斜面を設けることが望ましい。また内槽４１−
１の底面には、複数のホールを有する流れ調整板４１−
３が設けてある。この流れ調整板４１−３の底面には、
洗浄液等の処理液を注入する注入口４１−５が設けてあ
る。
るウェーハ運搬桶４２は、ウェーハ４３の高さまで垂直
に設けられた周壁４２−１と、この周壁４２−１の上端
近傍を外側に屈折させ内槽４１−１の上端部と接した流
れ案内部４２−３とにより設けられている。ウェーハ運
搬桶４２が内槽４１−１内に挿入された際、ウェーハ運
搬桶４２の周壁４２−１に対し、内槽４１−１の傾斜す
る側壁がなす角度は、好ましくは、はぼ１°〜１５°の
角度に傾斜面を設けることが望ましい。また内槽４１−
１の底面には、複数のホールを有する流れ調整板４１−
３が設けてある。この流れ調整板４１−３の底面には、
洗浄液等の処理液を注入する注入口４１−５が設けてあ
る。
【００１７】外槽４１−２の底面には、注入口４１−５
から注入し内槽４１−１から溢れ流出する処理液を排出
または循環させる排出口４１−４が設けてある。図３ま
たは図４に示すように、ウェーハ運搬桶４２の周壁は内
槽４１−１の周壁に接し挿入されている。このため注入
口４１−５から供給された処理液は、閉鎖部４５内には
流入することがない。また槽内に供給された処理液は、
内槽４１−１内に貯留され流れ案内部４２−３を介し全
量が外槽４１−２に流出され、排出口４１−４に流入し
排出されるか、または循環される。
から注入し内槽４１−１から溢れ流出する処理液を排出
または循環させる排出口４１−４が設けてある。図３ま
たは図４に示すように、ウェーハ運搬桶４２の周壁は内
槽４１−１の周壁に接し挿入されている。このため注入
口４１−５から供給された処理液は、閉鎖部４５内には
流入することがない。また槽内に供給された処理液は、
内槽４１−１内に貯留され流れ案内部４２−３を介し全
量が外槽４１−２に流出され、排出口４１−４に流入し
排出されるか、または循環される。
【００１８】このような構成によるウェーハ湿式処理装
置を使用する場合、ウェーハ運搬桶４２にウェーハ４３
を複数収納し、このウェーハ運搬桶４２を内槽４１−１
内に挿入する。また、内槽４１−１内に注入口４１−５
を介して洗浄液等の処理液を流入させる。これにより内
槽４１−１内に流入した処理液は、流れ調節板４１−３
を介しウェーハ運搬桶４２内を底部から上部に流出す
る。ウェーハ４３は、この流出する水流により洗浄また
は化学作用を起こし湿式処理される。また、湿式処理を
行い内槽４１−１内に貯留する処理液は、外槽４１−２
に溢れ流出する。この外槽４１−２に流出した処理液
は、排出口３１−４を通じて排出され廃棄されるか、ま
たは高性能のフィルターによって浄化されて再循環（Ｒ
ｅｃｉｒｃｕｌａｔｉｏｎ）される。
置を使用する場合、ウェーハ運搬桶４２にウェーハ４３
を複数収納し、このウェーハ運搬桶４２を内槽４１−１
内に挿入する。また、内槽４１−１内に注入口４１−５
を介して洗浄液等の処理液を流入させる。これにより内
槽４１−１内に流入した処理液は、流れ調節板４１−３
を介しウェーハ運搬桶４２内を底部から上部に流出す
る。ウェーハ４３は、この流出する水流により洗浄また
は化学作用を起こし湿式処理される。また、湿式処理を
行い内槽４１−１内に貯留する処理液は、外槽４１−２
に溢れ流出する。この外槽４１−２に流出した処理液
は、排出口３１−４を通じて排出され廃棄されるか、ま
たは高性能のフィルターによって浄化されて再循環（Ｒ
ｅｃｉｒｃｕｌａｔｉｏｎ）される。
【００１９】このように本発明によるウェーハ湿式処理
装置の第２の実施形態によると、内槽４１−１内に供給
された処理液は、流れ調節板４１−３を通じて流入さ
れ、処理液の全の水流がウェーハ運搬桶４２の内部を通
過するようになる。またウェーハ運搬桶４２の上端に屈
曲した流れ案内部４２−３を設けることにより、処理液
のオーバーフローイングを容易する。また、内槽４１−
１に傾斜する側壁を設けたことにより、ウェーハの湿式
処理を終了した後、すなわちウェーハ運搬桶４２を処理
槽４１から取出した後、この傾斜する側壁により、槽内
に貯留した処理液のオーバーフローイング（Ｏｖｅｒｆ
ｌｏｗｉｎｇ）効果が向上され、さらに処理槽内に残存
するレジデュー（Ｒｅｓｉｄｕｅ）の除去効果を向上す
ることができる。
装置の第２の実施形態によると、内槽４１−１内に供給
された処理液は、流れ調節板４１−３を通じて流入さ
れ、処理液の全の水流がウェーハ運搬桶４２の内部を通
過するようになる。またウェーハ運搬桶４２の上端に屈
曲した流れ案内部４２−３を設けることにより、処理液
のオーバーフローイングを容易する。また、内槽４１−
１に傾斜する側壁を設けたことにより、ウェーハの湿式
処理を終了した後、すなわちウェーハ運搬桶４２を処理
槽４１から取出した後、この傾斜する側壁により、槽内
に貯留した処理液のオーバーフローイング（Ｏｖｅｒｆ
ｌｏｗｉｎｇ）効果が向上され、さらに処理槽内に残存
するレジデュー（Ｒｅｓｉｄｕｅ）の除去効果を向上す
ることができる。
【００２０】次に、図５を参照し本発明によるウェーハ
湿式処理装置の第３の実施形態を詳細に説明する。図５
は、本発明によるウェーハ湿式処理装置の第３の実施形
態を示す断面図である。図５は図３において、ウェーハ
運搬桶および流れ調整板部以外は同一の構成要素であり
重複する説明は省略する。図５に示すように、本発明の
第３の実施形態によるウェーハ湿式処理装置５０は、内
槽５１−１の底部に設けた流れ調節板５１−３の縁部近
傍に凹部５１−６を設けてある。またウェーハ運搬桶５
２外側の底面には、凹部５１−６に嵌合し挿入する凸部
５２−４が設けてある。このように処理槽５１の内槽５
１−１内にウェーハ運搬桶５２が固定できるように設け
てある。また、ウェーハ運搬桶５２上端の流れ案内部５
２−３は、内槽５１−１の上端に屈曲し、さらに外槽５
１−２の底部方向に屈曲させ内槽４１−１の上端を覆う
ように設けてある。
湿式処理装置の第３の実施形態を詳細に説明する。図５
は、本発明によるウェーハ湿式処理装置の第３の実施形
態を示す断面図である。図５は図３において、ウェーハ
運搬桶および流れ調整板部以外は同一の構成要素であり
重複する説明は省略する。図５に示すように、本発明の
第３の実施形態によるウェーハ湿式処理装置５０は、内
槽５１−１の底部に設けた流れ調節板５１−３の縁部近
傍に凹部５１−６を設けてある。またウェーハ運搬桶５
２外側の底面には、凹部５１−６に嵌合し挿入する凸部
５２−４が設けてある。このように処理槽５１の内槽５
１−１内にウェーハ運搬桶５２が固定できるように設け
てある。また、ウェーハ運搬桶５２上端の流れ案内部５
２−３は、内槽５１−１の上端に屈曲し、さらに外槽５
１−２の底部方向に屈曲させ内槽４１−１の上端を覆う
ように設けてある。
【００２１】このように、流れ案内部５２−３を内槽４
１−１の上端に覆うように設けることにより、内槽４１
−１にウェーハ運搬桶５２を挿入する際、正位置に挿入
することを容易にするとともに、ウェーハ運搬桶５２の
内部を通過した処理液が外槽４１−１へ流出することを
容易にする。また、ウェーハ運搬桶５２の下端には凸部
５２−４が設けられ、この凸部５２−４と嵌合される凹
部５１−６を内槽４１−１の流れ調節板５１−１に設け
ることにより、ウェーハ運搬桶５２が正位置に挿入され
るとともに、工程の進行時に正位置にウェーハ運搬桶５
２を保持することができる。この際、凸部５２−４と凹
部５１−６との接触部の材質は、耐磨耗性、密着性、耐
食性がよい材質から形成することが好ましい。
１−１の上端に覆うように設けることにより、内槽４１
−１にウェーハ運搬桶５２を挿入する際、正位置に挿入
することを容易にするとともに、ウェーハ運搬桶５２の
内部を通過した処理液が外槽４１−１へ流出することを
容易にする。また、ウェーハ運搬桶５２の下端には凸部
５２−４が設けられ、この凸部５２−４と嵌合される凹
部５１−６を内槽４１−１の流れ調節板５１−１に設け
ることにより、ウェーハ運搬桶５２が正位置に挿入され
るとともに、工程の進行時に正位置にウェーハ運搬桶５
２を保持することができる。この際、凸部５２−４と凹
部５１−６との接触部の材質は、耐磨耗性、密着性、耐
食性がよい材質から形成することが好ましい。
【００２２】
【発明の効果】このような本発明によるウェーハ湿式処
理装置によれば、処理液の流れを最適に流出するように
改善することによって、洗浄及び化学反応等のウェーハ
湿式処理の効果を向上することができる。また処理槽内
の不必要な隙間を除去することにより装置全体が縮小化
され小型化され設備の設置が容易に行える効果がある。
理装置によれば、処理液の流れを最適に流出するように
改善することによって、洗浄及び化学反応等のウェーハ
湿式処理の効果を向上することができる。また処理槽内
の不必要な隙間を除去することにより装置全体が縮小化
され小型化され設備の設置が容易に行える効果がある。
【図１】本発明によるウェーハ湿式処理装置の第１の実
施形態を示す断面図。
施形態を示す断面図。
【図２】図１に示す装置に挿入するウェーハ運搬桶の斜
視図。
視図。
【図３】本発明によるウェーハ湿式処理装置の第２の実
施形態を示す断面図。
施形態を示す断面図。
【図４】図３に示す装置に挿入するウェーハ運搬桶の斜
視図。
視図。
【図５】本発明によるウェーハ湿式処理装置の第３の実
施形態を示す断面図。
施形態を示す断面図。
【図６】従来のウェーハ湿式処理装置の主要部を示す断
面図。
面図。
【図７】図６に示す装置に処理液逆流を防止する閉鎖部
を設けた状態を示す断面図。
を設けた状態を示す断面図。
３０ ウェーハ湿式処理装置 ３１ 処理槽 ３１−１ 内槽 ３１−２ 外槽 ３１−３ 流れ調節板 ３１−４ 排出口 ３１−５ 注入口 ３２ ウェーハ運搬桶 ３３ ウェーハ
Claims (9)
- 【請求項１】 ウェーハを複数収納したキャリアを処理
液がオーバーフローする処理槽内に挿入し湿式処理を行
うウェーハ湿式処理装置において、 内槽とこれを包囲する外槽とからなる二重槽を設け前記
内槽の底面から処理液を供給し、前記内槽の上端から処
理液がオーバーフローし外槽に溢れ流れこの水流により
ウェーハの湿式処理を行う処理槽と、 前記処理槽の内槽内に挿入され周壁を有し底面と上面と
が開口し前記処理液が内部を通過するよう設けるととも
に前記周壁が前記内槽内側の全周壁または少なくとも下
端部が接し挿入されるキャリアとからなることを特徴と
するウェーハ湿式処理装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載のウェーハ湿式処理装置
において、 前記キャリアは、キャリア外側の全周壁と前記処理槽の
内槽全周壁とが接し内槽内に挿入されることを特徴とす
るウェーハ湿式処理装置。 - 【請求項３】 請求項１に記載のウェーハ湿式処理装置
において、 前記処理槽の周壁は、一部または全部が上部に向かい広
がる傾斜面を有し前記キャリアの外側周壁と所定角をな
すとともに下端部の周壁のみが接していることを特徴と
するウェーハ湿式処理装置。 - 【請求項４】 請求項３に記載のウェーハ湿式処理装置
において、 前記キャリアの周壁は、前記処理槽の上部に向かい広が
る内槽周壁と対向しこの間に形成される隙間を封止する
ように前記キャリア上端近傍の周壁を外側に屈折させ前
記内槽上端に接する流れ案内部を設けたことを特徴とす
るウェーハ湿式処理装置。 - 【請求項５】 請求項４に記載のウェーハ湿式処理装置
において、 前記キャリアの流れ案内部は、前記内槽上端まで屈折し
さらに外槽底部方向に屈折され、前記内槽上端部をくる
むように設けたことを特徴とするウェーハ湿式処理装
置。 - 【請求項６】 請求項４に記載のウェーハ湿式処理装置
において、 前記処理槽外側の傾斜面と対向するキャリアの外側周壁
は、前記流れ案内部により前記処理液が流入することを
遮断された閉鎖面であることを特徴とするウェーハ湿式
処理装置。 - 【請求項７】 請求項３に記載のウェーハ湿式処理装置
において、 前記キャリアの外側周壁と前記処理槽の傾斜した周壁と
が対向しなす角度は、ほぼ１°〜１５°であることを特
徴とするウェーハ湿式処理装置。 - 【請求項８】 請求項１に記載のウェーハ湿式処理装置
において、 前記内槽の内側周壁と前記キャリアの外側周壁とが接触
する壁面は、相互に凹凸を設けた波形（ｃｏｒｒｕｇａ
ｔｅｄ）面であることを特徴とするウェーハ湿式処理装
置。 - 【請求項９】 請求項１に記載のウェーハ湿式処理装置
において、 前記キャリア外側の底面に突出部を設け、この突出部が
嵌合し挿入する溝部を前記内槽の底部に設けたことを特
徴とするウェーハ湿式処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960006618A KR100211074B1 (ko) | 1996-03-13 | 1996-03-13 | 웨이퍼 습식 처리장치 |
| KR1996P-6618 | 1996-03-13 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09321017A true JPH09321017A (ja) | 1997-12-12 |
| JP3143865B2 JP3143865B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=19452950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09039574A Expired - Fee Related JP3143865B2 (ja) | 1996-03-13 | 1997-02-24 | ウェーハ湿式処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5845663A (ja) |
| JP (1) | JP3143865B2 (ja) |
| KR (1) | KR100211074B1 (ja) |
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| JP2011018780A (ja) * | 2009-07-09 | 2011-01-27 | Toppan Printing Co Ltd | ビルドアップ基板絶縁層の表面粗化装置 |
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| US6732749B2 (en) * | 2000-12-22 | 2004-05-11 | Akrion, Llc | Particle barrier drain |
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