JPH02306972A - 有機材料用の安定剤として使用するためのピペリジン―トリアジン化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規のピペリジン−トリアジン化合物、それ
らの有機材料、特に合成ポリマーのための光安定剤、熱
安定剤および酸化安定剤としての使用、および斯くして
安定化された有機材料に関する。

〔従来の技術〕

酸素の存在下、日光または他の紫外線源に曝された時、
合成ポリマーは光酸化分解を受けることは公知である。

従って、実際に合成ポリマーを使用する時には、成る種
のベンゾフェノンもしくはベンゾトリアゾール誘導体、
ニッケル錯塩類、置換安息香酸エステル類、アルキリデ
ンマロネート類、シアノアクリレート類、芳香族オキサ
ミド順または立体的ヒンダードアミン類のような適当な
光安定剤を合成ポリマーに添加することが必要である。

２、　２．　６．　６−チトラメチルビベリジン基を包
含する成る種のトリアジン化合物、およびそれらの合成
ポリマーのための光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤
としての使用は、米国特許４，１０８，８２９号、４，
４３３，１４５号、４，５３３，８３８号および４，７
４０゜５４４号に、欧州特許出願１７６．１０６号およ
び２９９，９２５号に、および日本特許公開公報；特開
昭６１−１７６．６６２号に報告されている。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基、σ、ＯＨ，Ｎｏ、ＣＨ２ＣＮ、炭素原子数１な
いし１８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし１２の環
状アルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基
、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基
によりフェニル基上が単一、２−または３−置換されて
いる炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素
原子数１ないし８のアシル基または２−２３−もしくは
４−位がＯＨにより置換されている炭素原子数２ないし
４のアルキル基を表し； Ｒ２は式　−ＯＲ４，−ＳＲ４または Ｎ’Ｒｓ ｓ 〔式中、Ｒ４は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、
未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基に
より単一、２−または３−置換されている炭素原子数５
ないし１２の環状アルキル基、未置換のもしくは炭素原
子数１ないし４のアルキル基により単一、２−または３
−置換されているフェニル基、未置換のもしくは炭素原
子数１ないし４のアルキル基によりフェニル基上が単一
、２−または３−置換されている炭素原子数７ないし９
のフェニルアルキル基、１．２または３個の酸素原子に
より中断されている炭素原子数３ないし１８のアルキル
基、２−１３−または４−位がジー（炭素原子数１ない
し４のアルキル）−アミノ基により置換されている炭素
原子数２ないし４のアルキル基、または式（ＩＩ） （式中、Ｒ７はＲ１と同じに定義される。）により表さ
れる基を表し、そして Ｒ６とＲ３は同一または異なっていることができて、水
素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換
のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により単
一、２−または３−置換されている炭素原子数５ないし
１２の環状アルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１
ないし４のアルキル基によりフェニル基上が単一、２−
または３−置換されている炭素原子数７ないし９のフェ
ニルアルキル基、２−．３−もしくは４位が炭素原子数
１ないし８のアルコキシ基もしくはジー（炭素原子数１
ないし４のアルキル）−アミノ基により置換されている
炭素原子数２ないし４のアルキル基、または式（ＩＩ）
により表される基を表すか；または式　　　−Ｎ　　Ｒ
ｅ により表される基が５−７員の複素環を表す〕により表
される基を表し： ｍは２ないし６の整数を表し；そして もしもｍが２を表すならば； Ｒ３は式（Ｉ［ａ）　−（ＩＩＩｅ） −Ｎ−（Ｉ［ａ）、 Ｒ。

−０−Ｒ，−０−（Ｉ［ｒｂ）、 （式中、Ｒ１、ＲＩＤ、Ｒ１２およびＲ１４は同一また
は異なっていることができて、水素原子、炭素原子数１
ないし１８のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数
１ないし４のアルキル基により単一、２−または３−置
換されている炭素原子数５ないし１２の環状アルキル基
、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基
によりフェニル基上が単一、２−または３−置換されて
いる炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、また
は式（Ｉ［）により表される基を表し： Ｒ９は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、シクロ
ヘキシレン基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレ
ンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデンジシクロヘ
キシレン基、フェニレン基またはキシリレン基を表し； Ｒ１１はＲ，と同じに定義されるかまたは１゜２もしく
は３個の酸素原子により中断されている炭素原子数４な
いし１２のアルキレン基を表し； ＲＩ！は水素原子またはメチル基を表し：ｎは零または
１を表し；そして ｐは２ないし６の整数を表す。）により表される基の一
つを表し；そして もしもｍが３．４．５または６の整数を表すならば； Ｒ８は式（ＩＶ） （式中、ＬｓとＲ１１は同一または異なっていることが
できて、Ｒ８と同じに定義され、そしてＲ１６、Ｒ１７
およびＲ１１は互いに同一または異なることができて、
炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し； ｑは零、１．２または３を表す。）により表される基を
表し；そして もしもｍが３を表すならば； Ｒ１は式（Ｖａ）または（Ｖｂ） 覗 （式中、Ｒ２゜は炭素原子数２ないし６のアルキレン基
を表し； Ｒｚ＋、Ｒｚｚ、Ｒ２１およびＲ２４は同一または異な
っていることができて、Ｒ１と同じに定義され；そして ｒおよびＳは同一または異なっていることができて、２
ないし６の整数を表す。）により表される基をも表す。

）により表される新規の化合物に関する。

炭素原子数１ないし８のアルキル基であるＲ１およびＲ
７の代表例は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基およびオクチル基である。炭素原子数１ないし４の
アルキル基、特にメチル基が好ましい。

炭素原子数１ないし１８のアルキル基の例は、メチル基
、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、
２−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル
基、２−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、２−エチルヘキシル基、第三オクチル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ヘキサデシル基およびオクタデシ
ル基である。炭素原子数１ないし８のアルキル基が好ま
しい。

ＯＨにより置換されている炭素原子数２ないし４のアル
キル基であるＲ１およびＲ７の代表例は、２−ヒドロキ
シエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキ
シプロピル基、２−ヒドロキシブチル基および４−ヒド
ロキシブチル基である。２−ヒドロキシエチル基が好ま
しい。

炭素原子数１ないし８のアルコキシ基により置換されて
いる炭素原子数２ないし４のアルキル基であるＲ、およ
びＲ６の好ましい例は、２−メトキシエチル基、２−エ
トキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキ
シプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３−オクトキ
シプロピル基および４−メトキシブチル基であり；３−
メトキシプロピル基および３−エトキシプロピルは特に
好ましい。

ジー（炭素原子数１ないし４のアルキル）−アミノ基、
好ましくはジメチルアミノ基もしくはジエチルアミノ基
により置換されている炭素原子数２ないし４のアルキル
基の例は、２−ジメチルアミノエチル基、２−ジエチル
アミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル基、３−
ジエチルアミノブロビル基、３−ジブチルアミノプロビ
ル基および４−ジエチルアミノブチル基である。

１．２または３個の酸素原子により中断されている炭素
原子数３ないし１８のアルキル基であるＲ４の代表例は
、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−
ブトキシエチル基、２−オクトキシエチル基、２−ドデ
シルオキシエチル基、３，６−シクロオクチル基、３゜
６−シオキサデシル基、３．　６．　９−１−リオキサ
ウンデシル基および３，６．９−トリオキサトリデシル
基であり；３，６−シオキサデシル基が好ましい。

炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基であるＲ２およ
びＲ７の代表例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基
、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘ
プトキシ基、オクトキシ基、デシルオキシ基、ドデシル
オキシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ
基およびオクタデシルオキシ基である。

炭素原子数６ないし１２のアルコキシ基、特にヘプトキ
シ基およびオクトキシ基が好ましい。

炭素原子数５ないし１２の環状アルコキシ基であるＲＩ
およびＲ７の代表例は、シクロペントキシ基、シクロヘ
キソキシ基、シクロへブトキシ基、シクロオクトキシ基
、シクロデシロキシ基およびシクロドブシロキシ基であ
る。シクロペントキシ基およびシクロヘキソキシ基が好
ましい。

置換されているまたは未置換の炭素原子数５ないし１２
の環状アルキル基の例は、シクロペンチル基、メチルシ
クロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘ
キシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシ
クロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロデシル基お
よびシクロドデシル基である。シクロヘキシル基は好ま
しい。

炭素原子数３ないし６のアルケニル基であるＲＩおよび
Ｒ１の代表例は、アリル基、２−メチルアリル基、ブテ
ニル基、ペンテニル基、およびヘキセニル基である。１
−位における炭素原子が飽和されているアルケニル基は
好ましく；アリル基が特に好ましい。

置換フェニル基の例は、メチルフェニル基、ジメチルフ
ェニル基、トリメチルフェニル基、第三ブチルフェニル
基およびジー第三ブチルフェニル基である。

フェニル基上が未置換のまたは置換されているフェニル
アルキル基の例は、ベンジル基、メチルベンジル基、ジ
メチルベンジル基、第三ブチルベンジル基および２−フ
ェニルエチル基である。ベンジル基は好ましい。

８個迄の炭素原子を含むアシル基であるＲ４およびＲ７
は、飽和または不飽和の脂肪族または芳香族基であり得
る。代表例は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オ
クタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基およびク
ロトニル基である。アセチル基は好ましい。

もしも式　−Ｎ　　Ｒｅにより表される基が５覗 貝ないしγ貝の複素環基であるならば、該基は好ましく
は飽和であって、所望により更に異原子、例えば窒素原
子または酸素原子を含むことができる。

代表例は、１−ピロリジル基、１−ピペリジル基、４−
モルホリニル基、４−メチル−１−ピペラジニル基、１
−へキサヒドロアゼピニル基、５．　５．　７−ドリメ
チルー１−ホモピペラジニル基および４．　５．　５．
　７−テトラメチル−１−ホモピペラジニル基であり；
４−モルホリニル基が好ましい。

１２個迄の炭素原子を含むアルキレン基の例は、エチレ
ン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン
基、ペンタメチレン基、２゜２−ジメチルトリメチレン
基、ヘキサメチレン基、トリメチルへキサメチレン基、
デカメチレン基およびドデカメチレン基である。

■、２または３個の酸素原子により中断されている炭素
原子数４ないし１２のアルキレン基であるＲ１１の代表
例は、３−才キサペンタン−１，５−ジイル基、４−オ
キサペンタン−１゜７−ジイル基、４，７−シオキサデ
カンー１゜１０−ジイル基、４，９−ジオキサドデカン
−１，１２−ジイル基、３，６−シオキサオクタンー１
，８−ジイル基および３，６．９−４リオキサウンデカ
ンーｌ、１１−ジイル基である。

Ｒ１は好ましくは水素原子、炭素原子数１ないし４のア
ルキル基、ＯＨ１炭素原子数６ないし１２のアルコキシ
基、炭素原子数５ないし８の環状アルコキシ基、アリル
基、ベンジル基、アセチル基または２−ヒドロキシエチ
ル基、特に水素原子またはメチル基であり； Ｒ２は好ましくは２，２，６．６−テトラメチル−４−
ピペリジルオキシ基または１，２゜２．６．６−ベンタ
メチルー４−ピペリジルオキシ基である。

式（Ｉ）により表される化合物で好ましいものは、 Ｒ２は式　−ＯＲ，、−５Ｒ４または １２のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ない
し４のアルキル基により単一、２−または３−置換され
ている炭素原子数５ないし８の環状アルキル基、フェニ
ル基、ベンジル基、１または２個の酸素原子により中断
されている炭素原子数３ないし１２のアルキル基、２−
または３−位がジー（炭素原子数１ないし４のアルキル
）−アミノ基により置換されている炭素原子数２ないし
３のアルキル基、または式（Ｉｔ）により表される基を
表し；そして ＲｓとＲ１は同一または異なっていることができて、水
素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、未置換
のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により単
一、２−または３−置換されている炭素原子数５ないし
８の環状アルキル基、ベンジル基、２−または３−位が
炭素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくはジー（炭
素原子数１ないし４のアルキル）−アミノ基により置換
されている炭素原子数２ないし３のアルキル基、または
式（ＩＩ）により表される基を表すか；または 式　　　−Ｎ−Ｒ。

Ｒ３ により表される基が１−ピロリジニル基、ピペリジル基
、４−モルホリニル基、４−メチル−１−ピペラジニル
基または１−へキサヒドロアゼピニル基を表す。）によ
り表される基を表し；ｍは２ないし６の整数を表し：そ
して もしもｍが２を表すならば； Ｒｓは式（Ｉｌｌａ）　−（Ｉ［ｅ）　　（式中、Ｒ３
、Ｒ１゜、Ｒ１□およびＲＩ４は同一または異なってい
ることかできて、水素原子、炭素原子数１ないし１２の
アルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４の
アルキル基により単一、２−または３−置換されている
炭素原子数５ないし８の環状アルキル基、ベンジル基ま
たは式（ＩＩ）により表される基を表し： Ｒ９は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、シクロ
ヘキシレン基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレ
ンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデンジシクロヘ
キシレン基またはキシリレン基を表し； Ｒ１１はＲ１と同じに定義されるかまたは１または２個
の酸素原子により中断されている炭素原子数４ないし１
０のアルキレン基を表し；ＲＩＢは水素原子またはメチ
ル基を表し；ｎは零または１を表し；そして ｐは２ないし６の整数を表す。）により表される基の一
つを表し；そして もしもｍが３．４．５または６の整数を表すならば； Ｒ３は式（ＩＶ） （式中、ＤＩａとＲＩＩは同一または異なっていること
ができて、Ｒ１と同じに定義され、　そしてＤＩａ、Ｒ
ＩＴおよびＲ１，は互いに同一または異なることができ
て、炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し；そし
て ｑは零、１．２または３を表す。）により表される基を
表し；そして もしもｍが３を表すならば； Ｒ３は式（Ｖａ）または（Ｖｂ） （式中、Ｒ２゜は炭素原子数２ないし６のアルキレン基
を表し； Ｒ２１、Ｒ２□、Ｒ２３およびＲ２４は同一または異な
っていることができて、Ｒ，と同じに定義され；そして ｒおよびＳは同一または異なっていることができて、２
ないし６の整数を表す。）により表される基をも表すこ
とができる化合物である。

式（Ｉ）により表される化合物で特に好ましいものは、 Ｒ２は式　−ＯＲ，または １０のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ない
し４のアルキル基により単一、２−または３−置換され
たシクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基または式
（ＩＩ）により表される基を表し；そして Ｒ６とＲ６は同一または異なっていることができて、水
素原子、炭素原子数１ないしｌＯのアルキル基、未置換
のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により単
一、２−または３−置換されているシクロヘキシル基、
ベンジル基、２−または３−位がメト午シ基により、エ
トキシ基により、ジメチルアミノ基によりまたはジエチ
ルアミノ基により置換されている炭素原子数２ないし３
のアルキル基、または式（Ｉ［）により表される基を表
すか；または 式　　　−Ｎ−Ｒ。

Ｒ６ により表される基が４−モルホリニル基を表す。）によ
り表される基を表し； ｍは２ないし６の整数を表し；そして もしもｍが２を表すならば； Ｒ８は式（ＤＩａ）　−（ＩＩ［ｅ）　　（式中、Ｒ８
、Ｒ，、、Ｒ，２およびＲ１４は同一または異なってい
ることができて、水素原子、炭素原子数１ないし１０の
アルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４の
アルキル基により単一、２−または３−置換されている
シクロヘキシル基、ベンジル基または式（ｎ）により表
される基を表し； Ｒ書は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、シクロヘ
キシレンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基
またはキシリレン基を表し；Ｒ１，はＲ８と同じに定義
されるかまたは１または２個の酸素原子により中断され
ている炭素原子数４ないし１０のアルキレン基を表し；
Ｒ１３は水素原子またはメチル基を表し；ｎは零または
１を表し；そして ｐは２または３を表す。）により表される基の一つを表
し；そして もしもｍが３．４．５または６の整数を表すならば； Ｒ８は式（■） （式中、Ｒ１，とＲ１，は同一または異なっていること
ができて、Ｒ６と同じに定義され、　そしてＲ１゜、Ｒ
１１およびＲ１□は互いに同一または異なることができ
て、炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し；そし
て ｑは零、１．２または３を表す。）により表される基を
表し；そして もしもｍが３を表すならば； Ｒ８は式（Ｖａ）または（Ｖｂ） （式中、Ｒ２゜は炭素原子数２ないし３のアルキレン基
を表し； Ｒ２３、Ｒ２□、Ｒ２！およびＲ２４は同一または異な
っていることができて、Ｒ，と同じに定義され；そして ｒおよびＳは同一または異なっていることができて、３
ないし５の整数を表す。）により表される基をも表すこ
とができる化合物である。

式（Ｉ）により表される化合物で、特に興味のあるもの
は、 Ｒ２は式　−ＯＲ４または ８のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベン
ジル基または式（Ｉｆ）により表される基を表し；そし
て Ｒ５とＲｏは同一または異なっていることができて、炭
素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基、２−または３−位がメトキシ基により、エ
トキシ基により、ジメチルアミノ基によりまたはジエチ
ルアミノ基により置換されている炭素原子数２ないし３
のアルキル基、または式（ＩＩ）により表される基を表
すか；または 式　　　−Ｎ　　Ｒｅ Ｒ。

により表される基が４−モルホリニル基を表す。）によ
り表される基を表し； ｍは２．３または４を表し；そして もしもｍが２を表すならば； Ｒ８は式（ＩＩＩｂ）　−（ＩＩＩｅ）　　（式中、Ｒ
ｒ　ｎおよびＲ１□は同一または異なっていることがで
きて、水素原子、炭素原子数工ないし４のアルキル基、
シクロヘキシル基または式（Ｉ［）により表される基を
表し； Ｒ９は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し； Ｒ１１は炭素原子数２ないし６のアルキレン基、シクロ
へキシレンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン
基、キシリレン基または１もしくは２個の酸素原子によ
り中断されている炭素原子数４ないし１０のアルキレン
基を表し；Ｒ１８は水素原子を表し； ｎは零を表し； Ｒ１４は水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基
またはシクロヘキシル基を表し；そしてｐは２または３
を表す。）により表される基の一つを表し；そして もしもｍが３または４を表すならば； Ｒ１は式（ＩＶ） （式中、ＲＩＳとＲ１９は同一または異なっていること
ができて、ＲＩＧと同じに定義され；そしてＲ４、Ｒ１
７およびＲ１６は互いに同一または異なっていることが
できて、炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し； ｑは零または１を表す。）により表される基を表す化合
物である。

式（Ｉ）により表される化合物で特に興味のあるものは
、 Ｒ２は水素原子またはメチル基を表し：Ｒ２は式　−Ｏ
Ｒ４または ４のアルキル基、２．　２．　６．　６−テトラメチル
−４−ピペリジル基または１．　２．　２．　６゜６−
ベンタメチルー４−ピペリジル基を表し；そしてＲ８と
Ｒ６は同一または異なっていることができて、炭素原子
数１ないし８のアルキル基、２．　２．　６．　６−テ
トラメチル−４−ピペリジル基または１．　２．　２．
　６．　６−ペンタメチル−４−ピペリジル基を表すか
； またはＲ５は水素原子を表すか；または式　　　−Ｎ−
Ｒ。

により表される基が４−モルホリニル基を表す。）によ
り表される基を表し； ｍは２．３または４を表し；そして もしもｍが２を表すならば； Ｒ３は式（ＩＩ［ｃ）、（ＩＩ［ｄ）または（Ｉ［ｅ）
（式中、Ｒ１゜およびＲＩ２は同一または異なっている
ことができて、水素原子、メチル基、イソプロピル基、
シクロヘキシル基、２．　２．　６゜６−テトラメチル
−４−ピペリジル基または１．２．２，６．６−ベンタ
メチルー４−ピペリジル基を表し； Ｒ１１は炭素原子数２ないし６のアルキレン基または１
もしくは２個の酸素原子により中断されている炭素原子
数６ないし１０のアルキレン基を表し； ’Ｒａｔは水素原子を表し； ｎは零を表し； ＲＩ４は水素原子、メチル基またはシクロヘキシル基を
表し：そして そしてｐは２を表す。）により表される基の一つを表し
；そして もしもｍが３または４を表すならば； Ｒ１は式（ＩＶ） （式中、ＬｓとＲＩＢは同一または異なっていることが
できて、Ｒ３゜と同じに定義され；そしてＲ１６、Ｒ１
□およびＲＩ８は互いに同一または異なっていることが
できて、炭素原子数２ないし３のアルキレン基を表し；
そしてｑは零または１を表す。）により表される基を表
す化合物である。

式（Ｉ）により表される化合物で特に興味のあるものは
、 Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し；Ｒ７は２．　２
．　６．　６−テトラメチル−４−ビベリジルオキシ基
または１．　２．　２．　６．　６−ベンタメチルー４
−ピペリジルオキシ基を表し； ｍは２．３または４を表し；そして もしもｍが２を表すならば； Ｒ３は式（Ｉ［［ｃ）または（Ｉ［ｅ）（式中、Ｒ１゜
およびＲ１□は同一または異なっていることができて、
水素原子、シクロヘキシル基、２．　２．　６．　６−
テトラメチル−４−ピペリジル基または１，２．２，６
．６−ベンタメチルー４−ピペリジル基を表し； Ｒ１工は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し； Ｒ１４は水素原子またはメチル基を表し；そしてｐは２
を表す。）により表される基を表し；そして もしもｍが３または４を表すならば： Ｒ３は式（ＩＶ） （式中、ＲｌｓとＲＩｓは同一または異なっていること
ができて、水素原子、２．　２．　６．　６−テトラメ
チル−４−ピペリジル基または１，２゜２、　６．　６
−ベンタメチルー４−ピペリジル基を表し； Ｒ１６、Ｒ１７およびＲ１１は互いに同一または異なっ
ていることができて、炭素原子数２ないし３のアルキレ
ン基を表し；そして ｑは零または１を表す。）により表される基を表す化合
物である。

式（Ｉ）により表される化合物は、それ自体知られてい
る方法、例えば米国特許３，９２５．３７６号および４
，１０８，８２９号に記述されているように、適当なモ
ル比、特に化学量論的な比で使用して、塩化シアヌルを
式％式％（） Ｒ１（Ｈ）ｍ　　　（ＶＴｃ） より表される化合物と、どのような順序でも反応させる
ことにより製造される。

反応は、成る温度、例えば−３０°Ｃないし２００°Ｃ
１好ましくは一２０°Ｃないし１５０°Ｃで操作しなが
ら、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、デカリ
ン、塩化メチレン、二塩化エタンまたは三塩化エチレン
のような溶媒中行うが好ましい。

いろいろな反応で放出されるハロゲン化水素は、放出さ
れる酸に対して少なくとも当量の量で、無機塩基、例え
ば水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウム、炭酸ナト
リウムもしくはカリウムで中和するのが好ましい。

式（ＶＩａ）の化合物は例えば、ナトリウムまたはカリ
ウムアルコラードの形でも使用できる。

式（Ｉ）の化合物の製造のために使用される式（Ｖｌａ
）−（ＶＩｃ）の化合物は市販品であるかまたは既知の
方法により容易に製造できる製品である。

冒頭で述べたように、式（Ｉ）により表される化合物は
、有機材料、特に合成ポリマーおよびコポリマーの光安
定性、熱安定性および酸化安定性を改善するのに非常に
効果的である。

安定化され得るようなポリマーの例を下記する： １、　モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、
例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン
−１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたは
ポリブタジェン、並びにシクロオレフィン例えばシクロ
ペンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により
架橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチ
レン（ＨＤＰＥ）　、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）
および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）。

２．１６に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレン
とポリエチレンとの混合物（例えばｐｐ／ＨＤｐＥ、Ｐ
Ｐ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの異なるタイプの混
合物（例えば（ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。

３、　モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビ
ニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピ
レンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ
）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合
物、プロピレン／ブテン−１、エチレン／ヘキセン、エ
チレン／エチルペンテン、エチレン／ヘプテン、エチレ
ン／オクテン、プロピレン／イソブチレン、エチレン／
ブテン−１、プロピレン／ブタジェン、イソブチレン／
イソプレン、エチレン／アルキルアクリレート、エチレ
ン／アルキルメタクリレート、エチレン／ビニルアセテ
ートまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれ
らの塩類（アイオノマー）、およびエチレンとプロピレ
ンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジェン
またはエチリデン−ノルボルネンのようなものとのター
ポリマー；並びに前記コポリマーおよびそれらの混合物
と１．に記載したポリマーとの混合物、例えばポリプロ
ピレン／エチレン−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ
／ＥＶＡ、、ＬＤＰＥ／ＥＡＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡお
よびＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ。

３ａ、−酸化炭素によるα−オレフィンのランダム共重
合体または交互共重合体。

３ｂ、炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）お
よびそれらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）。

４、　ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、
ポリ−（α−メチルスチレン）。

５、　スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまた
はアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ア
クリロニトリル、スチレン／アルギルメタクリレート、
スチレン／無水マレイン酸、スチレン／ブタジェン／エ
チルアクリレート、スチレン／アクリロニトリル／メチ
ルアクリレートのようなもの；スチレンコポリマーと別
のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー
またはエチレン／プロピレン／ジェンターポリマーのよ
うなものからの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブ
ロックコポリマー例えばスチレン／ブタジェン／スチレ
ン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチ
レン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／
プロピレン／スチレンのようなの。

６、　スチレンまたはαメチルスチレンのグラフトコポ
リマー、例えばポリブタジェンにスチレン、ポリブタジ
ェン−スチレンまたはポリブタジェン−アクリロニトリ
ルにスチレンのようなもの；ポリブタジェンにスチレン
およびアクリロニトリル（またはメタアクリロニトリル
）；ポリブタジェンにスチレンおよび無水マレイン酸ま
たはマレインイミド；ポリブタジェンにスチレン、アク
リロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレインイミ
ド；ポリブタジェンにスチレン、アクリロニトリルおよ
びメチルメタアクリレート、ポリブタジェンにスチレン
およびアルキルアクリレートまたはメタアクリレート、
エチレン／プロピレン／ジェンターポリマーにスチレン
およびアクリロニトリル、ポリアクリレートまたはポリ
メタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、ア
クリレート／ブタジェンコポリマーにスチレンおよびア
クリロニトリル、並びにこれらと５．に列挙したコポリ
マーとの混合物、例えばＡＢＳ−１ＭＢＳ−１ＡＳＡ−
またはＡＥＳ−ポリマーとして知られているコポリマー
混合物。

７、ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン
、エビクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフ
ッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化
ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまた
は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。

８、　α、β−不飽和酸およびその誘導体から誘導され
たポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタア
クリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニ
トリル。

９、前項８．に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブ
タジェン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート、
アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートま
たはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーま
たはアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブ
タジェンターポリマー。

１０、不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、
ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリア
リルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びにそれ
らと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマー。

１１、環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。

１２、ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよ
びエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシ
メチレン：熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリアセ
タール、アクリレートまたはＭＢＳ。

１３、ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びに
ポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリアミ
ドとの混合物。

１４、一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステルまたはポリブタジェンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから
誘導されたポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソ
シアネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

１５、ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミ
ノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポ
リアミドおよびコポリアミド。

例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６
、ポリアミド６／１０．６／９．６／１２および４／６
、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジア
ミンおよびアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポ
リアミド；ヘキナメチレンジアミンおよびイソフタル酸
または／およびテレフタル酸および所望により変性剤と
してのエラストマーから製造されるポリアミド、例えは
ポリ−２，４，４−１リメチルへキサメチレンテレフタ
ルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド
。さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィ
ンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合または
グラフトしたエラストマーとの別のコポリマー；または
これらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール
、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレン
グリコールとのコポリマー。ＥＰＤＭまたはＡＢＳで変
性させたポリアミドまたはコポリアミド。加工の間に縮
合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。

１６、ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミドイミド。

１７、ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒド
ロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンチしフタレート、ポリ−１，４−ジメチロ
ールーシクロヘキサンレフタレート、ポリ−［２，２−
（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン］テレフタレー
トおよびポリヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ
末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロック
コポリエーテルエステル１８、ポリカーボネートおよび
ポリエステル−カーボネート。

１９、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。

２０、一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分と
してフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架
橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂
、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルム
アルデヒド樹脂。

２１、乾性および不乾性アルキド樹脂。

２２、飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。

２３、置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステル−
アクリレートのようなものから誘導された熱硬化性アク
リル樹脂。

２４、架橋剤としてのメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイ
ソシアネートまたはエポキシ樹脂と混合しであるアルキ
ド樹脂、ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。

２５、ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

２６、天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチ
ンおよびこれらの重合同族体方法で化学的に変性させた
誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
スおよび酪酸セルロースのようなもの、またはセルロー
スエーテル、例えばメチルセルロースのようなもの；ロ
ジンおよびそれらの誘導体。

２７、前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例
えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢ
Ｓ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳＳＰＶＣ／ＭＢＳ
ＳＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶ
Ｃ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ，ＰＣ／熱
可塑性ＰＵＲ，ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ
ＳＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＥ／ＰＡ６．６およびコポリ
マー、ＰＡ／ＨＤＰＥＳＰＡ／ＰＰ５ＰＡ／ＰＰＥ０ ２８、純単量体化合物またはその化合物からなる天然お
よび合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂肪、
オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタ
レート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテー
ト）をベースとした上記オイル、脂肪およびワックス、
並びに合成エステルの適当な重量比で混合された鉱油と
の混合物で、その材料はポリマーのための繊維紡績部と
して並びにこのような材料の水性エマルジョンとして使
用され得る。

２９、天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば
天然ラテックスまたはカルボキシル化スチレン／ブタジ
ェンコポリマーのラテックス。

式（Ｉ）により表される化合物は、ポリオレフィン、特
にポリエチレンおよびポリプロピレンの光安定性、熱安
定性および酸化安定性を改良するために特に適している
。

式（Ｉ）により表される化合物は、安定化される材料の
性質、最終使用および他の添加剤の存在によっているい
ろいな比率で有機材料と混合して使用できる。

一般に、安定化される材料の重量に対して、式（Ｉ）に
より表される化合物を、例えば約０゜０１ないし約５重
量％、好ましくは０．０５ないし１％の重量で使用する
のが適当である。

式（Ｉ）により表される化合物は、ポリマー材料中に、
いろいろな工程により、例えば乾燥粉末の形態で乾燥混
合のような工程により、溶液またはけん濁液の形態で、
またはマスターバッチの形態でも湿式混合のような工程
により包含させることができる；このような工程におい
て、ポリマーは粉末、顆粒、溶液、けん濁液の形態で、
またはラテックスの形態で使用できる。

一般に式（Ｉ）により表される化合物は、重合材料に、
該材料の重合または架橋の前または後に添加できる。

式（Ｉ）により表される製品で安定化された材料は、成
形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、表面塗料
等々の製造のために使用できる。

所望ならば、他の常用の合成ポリマー用の添加剤、例え
ば抗酸化剤、紫外線吸収剤、ニッケル安定剤、色素、充
填剤、可塑剤、帯電防止剤、防炎剤、潤滑剤、防食剤お
よび金属不活性化剤のようなものを、有機材料との式（
Ｉ）により表される化合物の混合物に添加できる。

式（Ｉ）により表される化合物との混合物に添加できる
添加剤の個々の例を下記する：２．６−ジー第三ブチル
−４−メチルフェノール、２−第三プチル−４，６−シ
メチルフエノール、２．６−ジー第三ブチル−４−エチ
ルフェノール、２．６−ジー第三ブチル−４−ｎ−ブチ
ルフェノール、 ２．６−ジー第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 ２．６−シシクロベンチルー４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−シメチル
フエノール、 ２．６−シオクタデシルー４−メチルフェノール、２．
４．６−ドリシクロヘキシルフエノール、２．６−ジー
第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、 ２．６−フッニル−４−メチルフェノール、１．２　　
アルキル化ハイドロキノン、例えば２，６−ジー第三ブ
チル−４−メトキシフェノール、 ２．５−ジー第三ブチルハイドロキノン、２．５−ジー
第三アミルハイドロキノン、２．６−ジフェニル−４−
オクタデシルオキシフェノール。

１．３　　ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例え
ば、 ２．２゛−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、 ２．２゛−チオビス（４−オクチルフェノール）、４．
４”−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノー
ル）、 ４．４“−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェ
ノール）。

１．４　　アルキリデンビスフェノール、例えば２．２
°−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、 ２．２″−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチル
フェノール）、 ２．２°−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチ
ルシクロヘキシル）フェノール］、２．２゛−メチレン
ビス（４−メチル−６−シクロヘキジルフエノール）、 ２．２°−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェ
ノール）、 ２．２゛−メチレンビス（４，６−ジー第三ブチルフェ
ノール）、 ２．２゛−エチリデンビス（４，６−ジー第三ブチルフ
ェノール）、 ２．２゛−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソ
ブチルフェノール）、 ２．２゛−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）
−４−ノニルフェノール〕、 ２．２゛−メチレンビス〔６−（α、α−ジメチルベン
ジル）−４−ノニルフェノール〕、４．４°−メチレン
ビス（２，６−ジー第三ブチルフェノール）、 ４．４゛−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチル
フェノール）、 １．１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）ブタン、 ２．６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒド
ロキシベンジル）−４−メチルフェノール、 １．１．３−）リス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル）ブタン、 １．１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン
、 エチレングリコールビス〔３，３−ビス（３゛−第三ブ
チル−４″−ヒドロキンフェニル）ブチレート〕　、 ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）ジシクロペンタジェン、ビス［２−（３’−第
三ブチル−２°−ヒドロキシ−５゛−メチルベンジル）
−６−第三ブチル−４−メチルフェニルコテレフタレー
ト。

ｉ、３．５−）リス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）　−２，４，６−トリメチルベンゼ
ン、 ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、 イソオクチル　３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルメルカプトアセテート、ビス（４−第三ブチ
ル−３−ヒドロ午シー２，６−シメチルベンジル）ジチ
オテレフタレート、１．３．５−トリス（３，５−ジー
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルイソシアヌレート
、１、３．５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキ
シ−２，６−シメチルベンジル）イソシアヌレート、 ジオクタデシル　３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルホスホネート、 モノエチル３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネートのカルシウム塩、１．３．５−）リ
ス（３，５−ジシクロへキシル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート。

１、６　　アシルアミノフェノール、例えばラウリン酸
４−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、２．４−ビス（
オクチルメルカプト）−６−（３゜５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシアニリノ）−６−）リアジン、 オクチルＮ−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−力ルバメート。

アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ、Ｎ’−ビス（
ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

１．８　　β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３
−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多
価アルコールとのエステル、アルコールの例：メタノー
ル、ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエ
チレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ペンタ
エリトリトール、ネオペンチルグリコール、トリス（ヒ
ドロキシエチル）イソシアヌレート、チオジエチレング
リコール、Ｎ、Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ
酸ジアミド。

アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ、　Ｎ’−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

ばＮ、　Ｎ’−ビス（３，５−ジヘ第三ブチルー４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）へキサメチレンジアミ
ン、 Ｎ、　Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、 Ｎ、　Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４〜ヒド
ロキシフエニルプロピオニル）ヒドラジン。

トリアゾール、例えば、 ５°メチル、３°、５′−ジー第三ブチル−１５°−第
三ブチル−１５’　−（１，１，３，３−テトラメチル
ブチル）−１５−クロロ−３’　、　５’　　−ジー第
三ブチル−１５−クロロ−３′−第三ブチル−５゛−メ
チル−１３゛−第二ブチル−５°−第三ブチル、４゛−
オクトキシ−１３“、５゛　　−ジー第三アミルおよび
３“。

５′−ビス（α、α−ジメチルベンジル）誘導体。

Ｚ２　２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例え４−ヒド
ロキシ−１４−メトキシ−１４−オクトキシ−１４−デ
シルオキシ−１４−ドデシルオキシ−１４−ベンジルオ
キシ−１４，２’、４’−トリヒドロキシ−および２′
−ヒドロキシ−４，４゜−ジメトキシ誘導体。

２．３　　置換されたおよび非置換安息香酸のエステル
、例えば ４−第三ブチル　フェニルサリチレート、フェニル　サ
リチレート、 オクチルフェニル　サリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 ２．４−ジー第三ブチルフェニル３，５−ジー第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート、およびヘキサデシル
　３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト。

α−シアノ−β、β−ジフェニルーアクリル酸エチルエ
ステル、 α−シアノ−β、β−ジフェニルーアクリル酸イソオク
チルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シア
ノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル
、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸ブチル
エステル、 α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ル、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−
メチルインドリン。

２．５　　ニッケル化合物、例えば ２．２゛−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−フェノール〕のニッケル錯体、例えば
１：１または１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘ
キシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴
うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジー第三ブチルベンジルホスホン酸
モノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエス
テルのニッケル塩、２−ヒドロキシ−４＝メチル−フェ
ニルウンデシルケトキシムのようなケトキシムのニッケ
ル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキ
シピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の
配位子を伴うもの。

２．６　　立体障害性アミン、例えば セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルビベリ
ジル）、 セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピ
ペリジル）、 ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
ｎ−ブチル−３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルマロネート、 １−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮
合生成物、 Ｎ、　Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）へキサメチレンジアミンと４−第三オク
チルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジ
ンとの縮合生成物、 トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ニトリロトリアセテート、 テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル’）　−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキ
シレート、 １．１“−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，
５゜５−テトラメチルピペラジノン）。

２．７　　シュウ酸ジアミド、例えば ４．４゛−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、２．２
゛−ジ−オクチルオキシ−５，５゛−ジー第三ブチルオ
キサニリド、 ２．２゛−ジ−ドデシルオキシ−５，５°−ジー第三ブ
チルオキサニリド、 ２−エトキシ−２゛−エチルオキサニリド、Ｎ、　Ｎ’
−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサニリド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２゛−エチルオキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２゛−エチル−５
，４′−ジー第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびバラ−メトキシｍ：置換オキサニリドの
混合物、および ０−およびｐ−エトキシー二置換オギサニリドの混合物
。

２．８　２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３゜５
−トリアジン、例えば ２、４．６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオ
キシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−
ヒドロキシ−４−オクチルオキジフェニル）−４，６−
ビス（２，４−ジメチルフェニル）　−１，３，５−ト
リアジン、 ２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、 ２．４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフ
ェニル）−６−（２，４−ジメチルフエニル）　−１，
３，５−）リアジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）
−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−
）リアジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）　−１，
３，５−）リアジン。

３、金属不活性化剤、例えば Ｎ、Ｎ“−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラ
ルーＮ゛−サリチロイルヒドラジン、Ｎ、　Ｎ’−ビス
（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ、Ｎ−ビス（３，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル
）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−
トリアゾール、 ビス（ベンジリデン）オキサロジヒドラジン［ｂｉｓ（
ｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅ）ｏｘａｌｏｄｉｈｙｄｒａｚ
ｉｄｅｌ。

４、　ホスフィツトおよびホスホナイト、例えばトリフ
ェニル　ホスフィツト、 ジフェニル　アルキル　ホスフィツト、フェニル　ジア
ルキル　ホスフィツト、トリス（ノニルフェニル）　ホ
スフィツト、トリラウリル　ホスフィツト、 トリオクタデシル　ホスフィツト、 ジステアリル　ペンタエリトリトール　ジホスフィット
、 トリス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）　ホスフィ
ツト、 ジイソデシル　ペンタエリトリトール　ジホスフィット
、 ビス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）　ペンタエリ
トリトール　ジホスフィット、 トリステアリル　ソルビトール　トリホスフィツト、テ
トラキス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）４゜４゛
−ビフェニレンジホスホナイト、 ３．９−ビス（２，４−ジー第三ブチルフェノキシ’）
　−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホス
フアスビロ（５，５）ウンデカン。

５、過酸化物スカベンジャー、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、 メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプト
ベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミ
ン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカ
プト）プロピオネート。

６、　ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。

７、塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩
、例えばＣａステアレート、Ｚｎステアレート、Ｍｇス
テアレート、Ｎ　ａリシルレートおよびにパルミテート
、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。

８、核剤、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸
。

９、充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

１１、その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳゛化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静
電防止剤および発泡剤。

本発明の化合物は、安定剤として、特に写真複写技術で
知られている殆ど全ての材料のための光安定剤としても
使用できる。

その−例を挙げれば、発色現像剤（電子受容体）による
発色剤（電子供与体）の光−１熱−または圧−誘導反応
に基礎を置く系においてその用途を見出す多数の材料が
注目される。

このような発色剤の例としては、３，３−ビス（ｐ−ジ
メチルアミノフェニル）−５−ジメチルアミノフタリド
類［ＣＶＬ］、３．３−ビス（ｐ−ジメチルアミノ）フ
タリド類、３−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）　−３
−（１゜３−ジメチルインドール−３−イル）フタリド
類および３−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−３−（
２−メチルインドール−３−イル）フタリド類のような
トリアリールアミン：ローダミン−Ｂ−アニリノラクタ
ム、ローダミン〜Ｂ−（ｐ−ニトロアニリノ）ラクタム
、ローダミン−Ｂ−（ｐ−クロロアニリノ）ラクタム、
２−ジベンジルアミノ−６−ジエチルアミノフルオラン
、２−アニリノ−６−ジエチルアミノフルオラン、２＝
アニリノ−３−メチル−６−ジエチルアミノフルオラン
、２−アニリノ−３−メチル−６−（Ｎ−シクロへキシ
ル−Ｎ−メチル）アミノフルオラン、２−ｏ−クロロア
ニリノ−６−ジエチルアミノフルオラン、２−０−クロ
ロアニリノ−６−シブチルアミノフルオラン、２−ｐ−
クロロアニリノ−６−ジエチルアミノフルオラン、２−
才クチルアミノ−６−ジエチルアミノフルオラン、２−
ｐ−アセチルアニリノ−６−ジエチルアミノフルオラン
、２−エトキシエチルアミノ−３−クロロ−６−ジエチ
ルアミノフルオラン、２−アニリノ−３−クロロ−６−
ジエチルアミノフルオラン、２−ジフェニルアミノ−６
−ジエチルアミノフルオラン、２−アニリノ−３−メチ
ル−６−（Ｎ−エチル−Ｎ−イソアミル）アミノフルオ
ラン、２−アニリノ−３−メチル−６−シフエニルアミ
ノフルオラン、２−アニリノ−６＝（Ｎ−エチル−Ｎ−
トリル）アミノフルオラン、２−アニリノ−３−メトキ
シ−６−シブチルアミノフルオラン、２−アニリノ−３
−メチル−６−ジーｎ−ブチルアミノフルオラン、２−
アニリノ−３−メチル−６−（Ｎ−エチル−Ｎ−テトラ
ヒドロフルフリル）アミノフルオラン並びに２−アニリ
ノ−３−メチル−６−（Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−テトラヒ
ドロフルフリル）アミノフルオランのようなキサンチン
類； ベンゾイルロイコメチレンブルーおよびｐ−ニトロベン
ジルロイコメチレンブルーのようなチアジン類； ３．７−ビス（ジエチルアミノ）−１０−ベンゾイルフ
ェノキサジンおよび３，７−ビス（ジエチルアミノ）−
１０−アセチルフェノキサジンのようなオキサジン類； および３−メチルスピロ−ジナフトピラン、３−ベンジ
ル−スピロ−ジナフトピランおよび３−プロピル−スピ
ロ−ジベンゾピランのようなスピロ化合物が挙げられる
。

発色現像剤の説明例としては、下記のものが挙げられる
。

サリチル酸およびサリチル酸誘導体並びにサリチル酸亜
鉛塩のような該当する亜鉛塩、亜鉛も含んでいてもよい
フェノール性樹脂１、酸−活性化埴土、４，４′−イソ
プロピリデンジフェノール類、２，２′　−メチレンビ
スフェノール類、ビスフェノール八とその誘導体、４−
ヒドロキシシフタレート類、モノフタレート類、ビス（
ヒドロキシフェニル）スルフィド項、４−ヒドロキシフ
ェニルアリール−スルホン類および−スルホネート類、
１，３−ビス［２−（ヒドロキシフェニル）−２−プロ
ピル］ベンゼン類、ベンジル−４−ヒドロキシフェニル
アセテート、４−ヒドロキシベンゾイルオキジベンゾエ
ート類、ビスフェノールスルホン項、４−ヒドロキシフ
ェニルアセテート、ブチルフェノール、４−フェニルフ
ェノール、α−およびβ−ナフトール、チモール、カテ
キン、ピロガロール、ハイドロキノン、レゾルシノール
、アルキル−ｐ−ヒドロキシベンゾエート安息香酸、シ
ュウ酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、ステアリン
酸、ホウ酸およびチオ尿素の誘導体。

もしも記録紙が感熱紙であるならば、本発明の化合物は
、発色現像剤と発色剤の分散液と一緒に分散液として、
基板または分離した保護層に適用されるのが典型的であ
る。

もしも記録材料が感圧紙であるならば、本発明の化合物
は供与体層並びに受容体シートまたはその両方に存在し
得る。

シクロール（Ｃｙｃｌｏｒ）■工程のための材料も、本
発明の化合物によって保護され得る。

この工程において、受容体シートにある本発明の化合物
は、染料を安定化し、かつ発色現像剤が曝光しても貧化
するのを防止する。

本発明の化合物は、熱拡散性移染加工のためのおよび熱
ワックス移行加工のための材料に成功的に使用できる。

本発明の化合物は、更に、スポット加熱により単色また
は複色パターンが作成され得る熱写真工程において有用
である。

このような工程において、反応は、例えば記録紙を使用
する時は、頻繁にある場合であるが直接加熱により生じ
るか、または、字の形をもつこともある電極との接触の
結果生じる電流により電導層で生じる。

更に熱写真工程は、二つの層を利用し、この場合は熱を
適用している間、二つの層は互いに接触するかまたは少
なくとも非常に近傍に来る。

この方法では、低融点の媒体中の染料もしくは染料前駆
体、または染料もしくは顔料の分散系は、拡散、昇華ま
たは毛管作用により、供与層から受容層に移行する。

ここで特に重要なのは染料拡散工程であり、分散染料は
、例えばポリビニルブチラールまたはセルロース誘導体
の層からポリエステルまたはポリカーボネートの層に移
行する。供与シートは通常、高融点、熱安定性のポリマ
ー、例えばポリスルホンの層、およびその中に染料が好
ましくは溶解しなければならない軟質の結合剤の染料−
含有層がある下塗り層の上に塗布される。

静電荷の減少をするために普通は物理的処理がなされる
。受容層は、好ましくは白色の支持体（紙またはプラス
チック材料）から成り、この支持体にポリエステルまた
はポリカーボネート、またはＰＶＣ，ＰＶＡまたはポリ
マー混合物の層が施される。この層は、好ましい範囲の
軟化点５０ないし１５０°Ｃを得ることができる程度に
可塑剤を含有する。

界面活性剤および／または固体粒子が、移染工程後の供
与シートと受容シートの分離を容易にする目的のために
役立つ。

赤外線またはレーザー光線のような熱素子または電磁波
照射は、これは加熱すべき領域に向けられていなければ
ならないであるが、熱源として作用する。制御の方法と
熱源の性質は、品質特に像の解像度と階調を非常に広い
範囲にわたって変化させる。

更に、本発明の化合物は、像の形成がトーナーにより実
施される場合の工程のための保護材料のためにも適当で
ある。

それらは材料であって、その材料中、換言すれば一つの
層中で、成る種の粘着性が静電、電気泳動または磁気グ
ラフ工程により、並びに光重合または光可塑化工程によ
り、生み出されまたは除去される。

この場合、本発明の化合物は液状または粉状で、他の常
用の成分例えばポリマー、染料、および粘度決定物質と
共に、トナー中に存在してよい。

材料、即ちその材料中で染料の光酸化により像が作成さ
れるものにも注目してよい。これらの材料も本発明の化
合物により保護される。

本発明の化合物は、凸版、平版、グラビアおよびスクリ
ーン印刷に使用される印刷インク中にも成功的に使用で
きる。

この化合物は、インク、例えば万年筆、ボールベン、フ
ェルトベン、インクパッドおよびタイプライタ−用リボ
ンに用いる筆記用インクに使用すると特に適当である。

特に重要なのは、インクジェット印刷工程用のインクに
、およびそれらに適している記録用材料にも使用するこ
とである。

インクジェット印刷工程のためのインクは、通常三群に
分類される：水性インク、および有機溶媒を基材にした
インク、および蝋を基材にしたインク。

第２群の有機溶媒は、ニトロセルロース、酢酸−フタル
酸−セルロース、酢酸−酪酸−セルロース、またはアク
リレート、ポリアミド、アルキッド、エポキシ、ポリウ
レタン、メラミンおよびポリエステル樹脂のようなフィ
ルム形成剤と一緒でないまたは配合したエタノールのよ
うなアルコール類、またはメチルエチルケトンのような
ケトン類である。

これらのインクのだめの適当な染料は例えば、［ソルベ
ント　ダイス（Ｓｏｌｖｅｎｔ　Ｄｙｅｓ）　Ｊ　、ま
たは「ジスパース　ダイス（Ｄｉｓｐｅｒｓｅ　Ｄｙｅ
ｓ）　Ｊ中のカラー・インデックスに掲載しである化合
物である。

これらの染料は蝋を基材にしたインクにも良好な染料で
ある。これらは室温では固体であって、約６０℃では溶
解しなければならない蝋に溶解しである。このような蝋
を説明するとカルナバ蝋および脂肪族エステルとアミド
から誘導された蝋である。

水性インクは、グリセリン、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、Ｎ−メチ
ルピロリドンおよびＮ−メチルイミダゾリトンのような
有機溶媒、並びに［ダイレクト　ダイス（Ｄｉｒｅｃｔ
　Ｄｙｅｓ）Ｊ　、または「アシッド　ダイス（Ａｃｉ
ｄ　Ｄｙｅｓ）　Ｊ中のカラー・インデックスに掲載し
であるような染料、そして殺生物剤および防食剤並びに
導電率を増加するための塩類をも含有してもよい。これ
は、静電偏向を伴うインクジェット工程では重要である
。

インクジェット工程のための記録用材料は、普通の紙ま
たは層状の材料から成っており、その層では紙の支持体
へ、または透明なプラスチック材料、例えばポリエステ
ルまたはトリアセチルセルロースから製造された支持体
へインクの受容層が施用されている。

紙の支持体のためには、このような受容層は、普通はシ
リカのような充填剤そして、所望によりポリマーのよう
な媒染剤またはアンモニウム基を持つ界面活性剤を含有
する。

これらの受容層用の適当な結合剤の説明例としては、ゼ
ラチン、ポリビニルアルコールおよびデンプンの誘導体
、そしてピロリドン、（メタ）アクリル酸およびアクリ
ルアミドのホモ−またはコポリマー、そしてこれら化合
物の混合物も挙げられる。

もしも透明なプラスチック材料から製造された支持体が
使用されると、受容層中の充填剤は普通は使用されない
。

本発明の化合物は、ハロゲン化銀写真材料中の安定剤と
して特に用途がある。

これらは、基本的には、このような材料の全ての可能な
層に使用し得る。

３００から４００ｎｍの間に強い吸収をもつ安定剤は、
上述の感光層に、そして中間層、反転層およびシアン層
にも包含されると好ましい。

ハロゲン化銀材料は、カラー材料であり得て、例えば移
行工程用の、銀漂白工程用および、特に色原体現像（ｃ
ｂｒｏｍｏｇｅｎｉｃ　ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ）用の
それらである。

３００から４００ｎｍの間に強い吸収を示さない本発明
の化合物は、色原体材料の１．２もしくは３の感色層に
添加されるのが好ましい。

感光ハロゲン化銀および各々の染料カプラーはこれらの
層に存在する。更に、これらの層は、写真材料に常用さ
れる他の安定剤および／または他の改質剤を含有しても
よい。

黄色カプラーは、下記の式Ａにより表される化合物であ
ると好ましい。

（式中、Ｒ＋’はアルキル基またはアリール基を表し； Ｒ２′はアリール基を表し；そして Ｑは水素原子または酸化（ｏｘｉｄｉｚｅｄ）現像剤と
の反応により除かれる基を表す。） 他の黄色カプラーは下記の式Ｂにより表されるそれらを
包含する。

Ｒ１２゛ （式中、Ｒ８゜′は水素原子、ハロゲン原子またはアル
コキシ基を表し； Ｒ＋１’　、Ｒ１２’およびＲ１１’は水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基
、カルバモイル基、スルホン基、スルファモイル基、ス
ルホナミド基、アシルアミノ基、ウレイド基またはアミ
ノ基を表し； そしてＲ１’およびＱは上述のように定義される。） 好ましい弐Ｂにより表される化合物は、Ｒ、Ｉが第三ブ
チルを表し；Ｒ１゜′が塩素原子を表し：　ＲＩ　Ｉ′
およびＲ１３′が水素原子を表しそしてＲ１２’がアル
コキシカルボニル基を表す化合物である。

常用される黄色カプラーの典型例は下記の式により表さ
れる化合物である。

Ｃ００Ｃ１２Ｈ２５ 黄色カプラーの他の例は米国特許明細書２４０７２１０
号、２７７８６５８号、２８７５０５７号、２９０８５
１３号、２９０８５７３号、３２２７１５５号、８２２
７５５０号、２２５３９２４号、３２６５５０６号、３
２７７１５５号、３４０８１９４号、３３４１３３１号
、３３６９８９５号、３３８４６５７号、３４１５６５
２号、３４４７９２８号、３５５１１５５号、３５８２
３２２号、３７２５０７２号、３８９１４４５号、３９
３３５０１号、４１１５１２１号、４４０１７５２号、
４０２２６２０号に；西独特許公開公報ＤＥ−Ａ−１５
４７８６８号、２０５７９４１号、２１６２８９９号、
２１６３８１３号、２２１３４６１号、２２１９９１７
号、２２６１３６１号、２２６１３６２号、２２６３８
７５号、２３２９５８７号、２４１４００６号、２４２
２８１２号に；および英国特許明細書１４２５０２０号
および１０７７８７４号に見出されるだろう。

マゼンタカプラーは典型的には、単純な１−アリール−
５−ピラゾロン類または５員環の複素環と縮合している
例えばイミダゾピラゾール、ピラゾロトリアゾールまた
はピラゾロテトラゾールであるピラゾール誘導体である
。

マゼンタカプラーの群は下記の式Ｃにより表される５−
ピラゾロン類を包含し、 これらは英国特許明細書２００３４７３号に公開されて
いる。

上記の弐〇において、Ｒ１□′は水素原子、アルキル基
、アリール基、アルケニル基または複素環基を表し； Ｒ１′は水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基
、エステル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、カルボ
キシル基、アリールアミノ基、アシルアミノ基１．、（
チオ）尿素基、（チオ）カルバモイル基、グアニジノ基
またはスルホナミド基を表し： Ｑ′は脱離基を表す。

マゼンタカプラーのこの型の典型的な例は、下記の式Ｃ
１により表される化合物である。

Ｉ （式中、Ｒ１゜′は水素原子、アルキル基、アシルアミ
ノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホナミ
ド基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基または
ウレタン基を表す。）このような４−当量のマゼンタカ
プラーのｇＨの例は米国特許明細書　２９８３６０８号
、３０６１４３２号、３０６２６５３号、３１２７２６
９号、３１５２８９６号、３３１１４７６号、３４１９
３９１号、３５１９４２９号、３５５８３１９号、３５
８２３２２号、３６１５５０６号、３６８４５１４号、
３８３４９０８号、３８８８６８０号、３８９１４４５
号、３９０７５７１号、３９２８０４４号、３９３０８
６１号、３９３０８６６号、３９３３５００号に見出さ
れるだろう。

もしも式Ｃ中のＱ′が水素原子を表さず、酸化（ｏｘｉ
ｄｉｚｅｄ）現像剤との反応により脱離される基を表し
；従ってマゼンタカプラーは２−当量マゼンタカプラー
であるが、これらは例えば米国特許明細書　３００６５
７９号、３４１９３９１号、３３１１４７６号、３４３
２５２１号３２１４４３７号、４０３２３４６号、３７
０１７８３号、４３５１８９７号、３２２７５５４号；
欧州特許公開公報ＥＰ−Ａ−１３３５０３号；西独特許
公開公報ＤＥ−Ａ−２９４４６０１号；日本特許公開公
報ＪＰ−Ａ−７８／３４０４４号、７４１５３４３５号
、７４１５３４３６号、７５１５３３７２号および７５
／１２２９３５号に開示されている。

２−ピラゾロン環は、２価の基Ｑ′を介して結合して、
この場合所謂ビス−カプラーになってもよい。このよう
なカプラーは、例えば米国特許明細書２６３２７０２号
および２６１８８６４号に；英国特許明細書９６８４６
１号および７８９８５９号に；日本特許公開公報ＪＰ−
八一へ　６／３７６４６号、５９／４０８６号、６９／
１６１１０号、６９／２６５８９号、７４／３７８５４
号および７４／２９６３８号に開示されている。Ｙが０
−アルコキシアリールチオ基であると好ましい。

別のマゼンタカプラーの型は、一般式り２、Ｄ２および
り、により表されるそれらである。

（式中、Ｚａ、ＺｂおよびＺｃは、２ないし４個の窒素
原子を含んでいてもよい５員環を完成する。従って、こ
の式により表される化合物はピラゾロイミダゾール類、
ピラゾロピラゾール類、ピラゾロトリアゾール類または
ピラゾロテトラゾール類であってもよい。Ｒ１７′およ
びＱ′は式Ｃで定義されたのと同様に定義される。

ピラゾロテトラゾールは日本特許公開公報ＪＰ−Ａ−８
５／３３５５２号に；ピラゾロピラゾール類は日本特許
公開公報ＪＰ−Ａ−８５／４３６　’９５号に：ピラゾ
ロイミダゾール類は日本特許公開公報ＪＰ−Ａ−８５／
３５７３２号、日本特許公開公報ＪＰ−Ａ−８６／１８
９４９号および米国特許明細書４５００６３０号に；ピ
ラゾロトリアゾール類は日本特許公開公報ＪＰ−Ａ−８
５／１８６５６７号、ＪＰ−Ａ−８６／４７９５７号、
ＪＰ−Ａ−８５／２１５６８７号、ＪＰ−Ａ−８５／１
９７６８８号、ＪＰ−Ａ−８５／１７２９８２号、欧州
特許公開公報ＥＰ−Ａ−１１９８６０号、ＥＰ−Ａ−１
７３２５６号、ＥＰ−Ａ−１７８７８９号、ＥＰ−Ａ−
１７８７８８号およびリサーチ公開公報（Ｒｅｓｅａｒ
ｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ）　８４　／　２４６２４
号に開示されている。

更に、ピラゾロアゾール系マゼンタカプラーは二日本特
許公開公報ＪＰ−へ一８６／２８９４７号、ＪＰ−Ａ−
８５／１４０２４１号、ＪＰ−Ａ−８５／２６２１６０
号、ＪＰ−Ａ−８５／２１３９３７号、欧州特許公開公
報ＥＰ−Ａ−１７７７６５号、ＥＰ−Ａ−１７６８０４
号、ＥＰ−Ａ−１７０１６４号、ＥＰ−Ａ−１６４１３
０号、ＢＰ−Ａ−１７８７９４号、西独特許公開公報Ｄ
Ｅ−Ａ−３５１６９９６号、ＤＢ−Ａ−３５０８７６６
号およびリサーチ公開公報（Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓ
ｃｌｏｓｕｒｅ）　８１　／　２０９１９号、８４／２
４５３１号および８５／２５７５８号に開示されている
。

シアンカプラーは、フェノールの、】−ナフトールのま
たはピラゾロキナゾロンの誘導体であってよい。好まし
いシアンカプラーは下記の式Ｅにより表されるそれらで
ある。

Ｈ Ｑ“ （式中、Ｒ２１’　、ＲＺ’ｌ’　、Ｒ２３′およびＲ
２４′は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、カルバ
モイル基、アミド基、スルホナミド基、ホスホルアミド
基またはウレイド基を表す。Ｒ２，′は好ましくはＨま
たはＣ／を表し：Ｒ２２’は好ましくはアルキル基また
はアミド基を表す。

Ｒ２，′は好ましくはアミド基またはウレイド基を表し
そしてＲ２４′は好ましくは水素原子を表す。Ｑ“は水
素原子または酸化（ｏｘｉｄｉｚｅｄ）現像剤との反応
により除かれる脱離基を表す。）シアンカプラーの詳細
なリストは米国特許明細書４４５６６８１号に見出され
る。

常用のシアンカプラーの説明例を下記する：’６”＋３ シアンカプラーの別の群は、式Ｆ （式中、Ｘは脱離基を表し；そしてＲは例えば欧州特許
公開公報ＢＰ−Ａ−２４９４５３号、ＥＰ−Ａ−３０４
８５６号およびＥＰ−Ａ−３２０７７８号および日本特
許公開公報ＪＰ−Ａ−１１５８４４２号に開示されてい
る置換基をを表す。）により表される型のそれら、弐Ｇ 〔式中、Ｘは脱離基を表し：ｎ１ｆＯないし４を表し；
そしてＲ（同一または異なる）は、例えば欧州特許公開
公報ＥＰ−Ａ−２８７２６５号、日本特許公開公報ＪＰ
−Ａ−１０２６８５３号およびＪＰ−Ａ−６３／２８１
１６１号に開示されている置換基を表す。〕により表さ
れる型のそれら、 式Ｈ 〔式中、又は脱離基を表し；そしてモしてＲ（同一また
は異なる）は、例えば欧州特許公開公報ＥＰ−Ａ−２６
９４６号および日本特許公開公報ＪＰ−Ａ−１０２８６
３８号に開示されている置換基を表す。〕により表され
る型のそれら、 そして式■ないしＭ −Ｎ−Ｎ および 〔式中、Ｘは脱離基を表し；そしてＲ（同一または異な
る）は、例えば欧州特許公開公報ＥＰ−人−２６９４３
６号およびＥＰ−Ａ−２８７２６５号に開示されている
置換基を表す。〕により表される型のそれらである。

シアンカプラーの他の例は、下記の米国特許明細書に見
出されるだろう。

２３６９９２９号、２４２３７３０号、２４３４２７２
号、２４７４２９３号、２５２１９０８号、２６９８７
９４号、２７０６６８４号、２７７２１６２号、２８０
１１７１号、２８９５８２６号、２９０８５７３号、３
０３４８９２号、３０４６１２９号、３２２７５５０号
、３２５３２９４号、３３１１４７６号、３３８６３０
１号、３４１９３９０号、３４５８３１５号、３４７６
５６０号、３４７６５６３号、３５１６８３１号、３５
６０２１２号、３５８２３２２号、３５８３９７１号、
３５９１３８３号、３６１９１９６号、３６３２３４７
号、３６５２２８６号、３７３７３２６号、３７５８３
０８号、３８３９０４４号、３８８０６６１号、４００
４９２９号、４１２４３９６号、４３３３９９９号、４
４６３０８６号、４４５６６８１号。

最後に、式ＮないしＱ 〔式中、Ｘは脱離基を表し；そしてＲ（同一または異な
る）は、例えば日本特許公開公報ＪＰ−Ａ−１００３６
５８に開示されている置換基を表す。〕、 および Ｈ 〔式中、Ｘは脱離基およびＲ（同一または異なる）は例
えば、欧州特許公開公報ＥＰ−Ａ−３により表される型
のカプラーも記述されてもよい。

本発明の安定剤は、染料が、これは例えば瞬間像（ｉｎ
ｓｔａｎｔ　ｉｍａｇｅｓ）の形成中に生起するような
、現像過程において一つの層から他の層−＼移動するハ
ロゲン化銀材料にも使用できる。

このような材料は、水性組成物による処理、または純粋
に熱的（この場合染料は、露出領域においてのみその前
駆体から生成し、受容層に移行し得るのである）な処理
のいずれかでも処理され、銀はベヘン酸銀またはセバシ
ン酸銀のような有機塩の形態でも存在し得る。

安定剤は受容層に包含されるのが好ましい。

本発明の安定剤は、高沸点の有機溶媒に予め溶解するこ
とにより、それ自身でまたは染料カプラーおよび他の所
望の成分と共に、カラー写真材料に包含せしめてよい。

沸点が１６０°Ｃ以上の溶媒を使用するのが好ましい。

このような溶媒の典型的な例は、フタル酸、リン酸、ク
エエポキシド類、アルキルアミド類およびフェノール類
である。

〔実施例〕

本発明を更に明瞭に説明するために、式（Ｉ）により表
される化合物の若干数の製造例を下に記述する（なお、
これらの実施例は説明だけのものであって、何らの限定
を意味するものではない）。実施例４．５．６．１０お
よび１２に開示されている化合物は、本発明の特別に好
ましい実施態様に該当するものである。

実施例１：式 により表される化合物の製造 キシレン２００ｍｔ’中の２．　２．　６．　６−テト
ラメチル−４−ピペリジツール３４．６４ｇ（０゜２２
モＪ））の溶液に、金属ナトリウム５．０６　ｇ（０，
２２モル）をゆっくりと添加し、この混合物を反応が完
了するまで１６時間還流下加熱する。

かくして得られた溶液を、−２０℃に保持してあり、か
つ塩化シアヌル２０．２８ｇ（０，１１ｇ）および無水
キシレン１８０ｍＪを含有する溶液に添加する。添加終
了後、攪拌を１時間、次いで更に常温で６時間継続する
。

１．６−ジアミツヘキサン５．８１ｇ（０，０５モル）
および水酸化ナトリウム８．ＯＯｇ（０，２０七）ν）
を添加し、かくして得られた混合物を、反応の水を分離
して除きながら、１２時間加熱する。

熱時に無機生成物をろ過して除いた後、ろ液の冷却によ
り沈澱が得られる。そしてこの沈澱を分別し、キシレン
、次いで暖イソプロパツールで洗浄する。

かくして得られた生成物は、２４７−２４９°Ｃの融点
を有する。

分析： 理論式：　Ｃ４ｓＣ４５Ｈ＋□０４ 計算値：　　Ｃ＝６４．４０％、Ｈ＝９．６８％、Ｎ＝
１８゜７７％。

実測値：　　Ｃ＝６４．１４％、Ｈ＝９．６２％、Ｎ＝
１８．６２％実施例２−９：適当な試薬を、適当なモル
比で使用する以外は、実施例１に記述された手順に従っ
て、式 により表される下記の生成物を取得する。

実施例　Ａｍ、ｐ、　（ｏ。、 ２　　２−Ｎ）（貿ＣＨ２）７帰一　　　　　　　　　
　　２”）、２−’＞２４−１ｉ：ｉ　　　　ρ ギ酸１３．８１ｇ（０，３０モル）、および２％水酸化
すｌ・リウム水溶液３０ｍ１にパラホルムアルデヒド９
．６４ｇ（０，３２モル）を溶解することにより得られ
る溶液を含む混合物を、キシレン１００−中に実施例５
からの生成物５２．７４ｇ（０，０４５モ／））を含有
する、１１５℃に加熱した溶液に、ゆっくりと２時間以
内に添加する。

この添加の間に同時に、添加した水と反応の水を共沸に
より除く。

生成物を６０°Ｃに冷却し、水８０ｒｌＬｌ中の水酸化
ナトリウム１６ｇ（０，４０モル）の溶液を添加し、混
合物を６０°Ｃで１時間加熱する。

水層を分別した後、共沸により水を除（ことにより脱水
し、次いで蒸発し、融点２０２−２０３°Ｃの生成物を
得る。

分析： 理論式：　Ｃ７＊Ｈ＋５ｚＮｚＯ４ 計算値：　　Ｃ＝６８．７５％、Ｈ＝１０．５８％；Ｎ
＝１５．５９％実演■直：　　　　Ｃ＝６８．４Ｑ％、
Ｈ＝１０．４９％；Ｎ＝１５．４５％」　　Ｓ　　　−
？ Ａ）Ｎ、Ｎ’−ビス（４，６−ジクロロ−１゜３．５−
トリアジン−２−イル）　−Ｎ、Ｎ’　−ビス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−
ジアミツヘキサン１．２−ジクロロエタン１５０ｍＩ中
のＮ、Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）−１，６−ジアミツヘキサン１１８．２
Ｃ１ｇ（０，３０モル）の溶液を、Ｏ″Ｃに保持してあ
って、かつ１，２−ジクロロエタン８０〇−中に塩化シ
アヌル１１０．７０ｇ（０，６０モアｋ）を含有する溶
液に、２時間かけてゆっくりと添加する。次いで、水酸
化ナトリウム２５．２０　ｇ（０，６３モル）を含有す
る水溶液２５Ｏｒ！Ｌｌを３０分間かけて０℃で添加す
る。そして攪拌を０　’Ｃで２時間継続する。次いで、
水層を分別し、有機層を水で繰り返し洗浄し、無水硫酸
ナトリウムにより脱水する。そして、溶媒を留去すると
、融点１６１−１６３°Ｃの白色結晶が得られる。

Ｂ）Ｎ、Ｎ’−ビス（４，６−ジクロロ−１゜３．５−
トリアジン−２−イル）　−Ｎ、　Ｎ’　−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ジアミツヘキサン１０ｇ（０，０１４モル）、１．２
，２，６．６−ベンタメチルー４−ピペリジツール９．
９０ｇ（０，０５８モル）、水酸化ナトリウム粉末４−
６４−６Ｏ，１１モル）およびキシレン６０ｙｄの混合
物を、８時間、８０°Ｃで加熱する。

反応完了後、混合物を、常温で、水で繰り返し洗浄し、
水層を分別して除き、有機層を無水硫酸ナトリウムによ
り脱水する。溶媒を蒸発して固体を与え、この固体をエ
タノール／メタノール（１：　１）混合物から再結晶す
る。

融点２２７−２２９°Ｃの生成物をこの様にして得る。

分析： 理論式：Ｃ０゜Ｈ１２１Ｎ＋４０４ 計算値：　　Ｃ＝６８．３６％；Ｈ４０，４９％；Ｎ＝
１５．９４％実測値：　　Ｃ＝６７．８６％、Ｈ＝１０
．４１％、Ｎ＝１５．８３％実施例１３：　（ポリプロ
ピレンブラックに於ける抗酸化剤） 表１に掲示されている化合物の各々１ｇとステアリン酸
カルシウム１ｇを、メルトインデックス＝　２　ｇ／　
１０ｍ１ｎ（２３０℃、２．１６ｋｇで測定）のポリプ
ロピレン粉末１０００ｇと共に、低速ミキサー中混合す
る。

混合物を２００−２２０°Ｃで２回押し出してポリマー
粒状物にし、これを２３０℃で６分間圧縮成形して厚さ
１ｍｍのブラックに変形する。

次いで、ブラックをＤＩＮ　　５３４５１の金型を使用
して押し抜き、得られた試験片を、１３５°Ｃの温度に
保った強制循環空気炉中暴露する。

試験片を、通常の間隔で、破断に要する時間〔単位二時
間（ｈｏｕｒ））を決めるために１８０°Ｃで折り重ね
た。得られた結果を表１に示す。

表１： 無添加　　　　　　　　　２５Ｃ 実施例４の化合物　　　　　１１３０ 実施例５の化合物　　　　　１２００ 実施例６の化合物　　　　　１１４０ 実施例１０の化合物　　　　１３４０ 実施例１１の化合物　　　　１工３０ 実施例１４：　（ポリプロピレンチーブにおける光安定
化作用） 表２に掲示しである化合物の各々１ｇ、トリス（２，４
−ジー第三ブチルフェニル）亜リン酸０．５ｇ、ペンタ
エリスリトール　テトラキス−３−（３，５−ジー第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート０．
５ｇおよびステアリン酸カルシウム１ｇを、メルトイン
デックス＝　２　ｇ／　１０ｍ１ｎ（２３０℃、２．Ｌ
６ｋｇで測定）のポリプロピレン粉末１０００ｇと共に
、低速ミキサー中混合する。

混合物を２００−２２０°Ｃで押し出してポリマー粒状
物にし、これを下記の条件で操作するパイロット型装置
〔レオナルドースミラゴ（Ｌｅａｎａｒｄ−Ｓｕｍｉｒ
ａｇｏＸＶＡ）イタリー〕を使用して、５０ｍｍ厚、２
．５Ｍ幅の延伸テープに加工する。

押し出し温度＝２１０−２３０℃ 頭部温度　　＝２４０−２６０°Ｃ 延伸比　　　＝に６ か（して得られたテープを、温度６３°Ｃのブラックパ
ネルを設置したウェザーー〇−メーター６５ＷＲ（ＡＳ
ＴＭ　　Ｇ２６−７７）中の白カード上に載せて、暴露
試験に処する。

いろいろな暴光時間の後得られる試料の残留強力を定速
張力計により測定する；かくして初期強力を半減するの
に要する暴光時間〔Ｔ、。

（単位：ｈｒ））を計算する。上述したのと同じ方法で
作製したが、安定剤を添加していないテープを比較のた
めに暴露する。

得られた結果を表２に掲示する。

表２ 安定剤　　　　　　　　Ｔ、。（ｈｒ）無添加　　　　
　　　　　５００ 実施例４の化合物　　　　　２７３０ 実施例５の化合物　　　　　２５３０ 実施例７の化合物　　　　　２８４０ 実施例１１の化合物　　　　２５００ 実施例１２の化合物　　　　２７２、

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は水素原子、炭素原子数１ないし８のア
   ルキル基、Ｏ、ＯＨ、ＮＯ、ＣＨ＿２ＣＮ、炭素原子数
   １ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし１２
   の環状アルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケニ
   ル基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキ
   ル基によりフェニル基上が単−、２−または３−置換さ
   れている炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、
   炭素原子数１ないし８のアシル基または２−、３−もし
   くは４−位がＯＨにより置換されている炭素原子数２な
   いし４のアルキル基を表し； Ｒ＿２は式−ＯＲ＿４、−ＳＲ＿４または ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿４は炭素原子数１ないし１８のアルキル基
   、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基
   により単−、２−または３−置換されている炭素原子数
   ５ないし１２の環状アルキル基、未置換のもしくは炭素
   原子数１ないし４のアルキル基により単−、２−または
   ３−置換されているフェニル基、未置換のもしくは炭素
   原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル基上が単
   −、２−または３−置換されている炭素原子数７ないし
   ９のフェニルアルキル基、１、２または３個の酸素原子
   により中断されている炭素原子数３ないし１８のアルキ
   ル基、２−、３−または４−位がジ−（炭素原子数１な
   いし４のアルキル）−アミノ基により置換されている炭
   素原子数２ないし４のアルキル基、または式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿７はＲ＿１と同じに定義される。）により
   表される基を表し、そして Ｒ＿５とＲ＿６は同一または異なっていることができて
   、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未
   置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基によ
   り単−、２−または３−置換されている炭素原子数５な
   いし１２の環状アルキル基、未置換のもしくは炭素原子
   数１ないし４のアルキル基によりフェニル基上が単−、
   ２−または３−置換されている炭素原子数７ないし９の
   フェニルアルキル基、２−、３−もしくは４位が炭素原
   子数１ないし８のアルコキシ基もしくはジ−（炭素原子
   数１ないし４のアルキル）−アミノ基により置換されて
   いる炭素原子数２ないし４のアルキル基、または式（I
   I）により表される基を表すか；または 式　▲数式、化学式、表等があります▼ により表される基が５−７員の複素環を表す〕により表
   される基を表し； ｍは２ないし６の整数を表し；そして もしもｍが２を表すならば； Ｒ＿３は式（IIIａ）−（IIIｅ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIIａ）、 −Ｏ−Ｒ＿９−Ｏ−（IIIｂ）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（IIIｃ）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（IIIｄ）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（IIIｅ） （式中、Ｒ＿８、Ｒ＿１＿０、Ｒ＿１＿２およびＲ＿１
   ＿４は同一または異なっていることができて、水素原子
   、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換のもし
   くは炭素原子数１ないし４のアルキル基により単−、２
   −または３−置換されている炭素原子数５ないし１２の
   環状アルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし
   ４のアルキル基によりフェニル基上が単−、２−または
   ３−置換されている炭素原子数７ないし９のフェニルア
   ルキル基、または式（II）により表される基を表し； Ｒ＿９は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、シク
   ロヘキシレン基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチ
   レンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデンジシクロ
   ヘキシレン基、フェニレン基またはキシリレン基を表し
   ； Ｒ＿１＿１はＲ＿９と同じに定義されるかまたは１、２
   もしくは３個の酸素原子により中断されている炭素原子
   数４ないし１２のアルキレン基を表し； Ｒ＿１＿３は水素原子またはメチル基を表し；ｎは零ま
   たは１を表し；そして ｐは２ないし６の整数を表す。）により表される基の一
   つを表し；そして もしもｍが３、４、５または６の整数を表すならば； Ｒ＿３は式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＿１＿５とＲ＿１＿９は同一または異なって
   いることができて、Ｒ＿８と同じに定義され、そしてＲ
   ＿１＿６、Ｒ＿１＿７およびＲ＿１＿８は互いに同一ま
   たは異なることができて、炭素原子数２ないし６のアル
   キレン基を表し；そして ｑは零、１、２または３を表す。）により表される基を
   表し；そして もしもｍが３を表すならば； Ｒ＿３は式（Ｖａ）または（Ｖｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖｂ） （式中、Ｒ＿２＿０は炭素原子数２ないし６のアルキレ
   ン基を表し； Ｒ＿２＿１、Ｒ＿２＿２、Ｒ＿２＿３およびＲ＿２＿４
   は同一または異なっていることができて、Ｒ＿３と同じ
   に定義され；そして ｒおよびｓは同一または異なっていることができて、２
   ないし６の整数を表す。）により表される基をも表す。 ｝により表される化合物。
2. （２）Ｒ＿１が水素原子、炭素原子数１ないし４のアル
   キル基、ＯＨ、炭素原子数６ないし１２のアルコキシ基
   、炭素原子数５ないし８の環状アルコキシ基、アリル基
   、ベンジル基、アセチル基または２−ヒドロキシエチル
   基を表す請求項（１）記載の化合物。
3. （３）Ｒ＿２は式−ＯＲ＿４、−ＳＲ＿４または▲数式
   、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿４は炭素原子数１ないし １２のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ない
   し４のアルキル基により単−、２−または３−置換され
   ている炭素原子数５ないし８の環状アルキル基、フェニ
   ル基、ベンジル基、１または２個の酸素原子により中断
   されている炭素原子数３ないし１２のアルキル基、２−
   または３−位がジ−（炭素原子数１ないし４のアルキル
   ）−アミノ基により置換されている炭素原子数２ないし
   ３のアルキル基、または式（II）により表される基を表
   し；そして Ｒ＿５とＲ＿６は同一または異なっていることができて
   、水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、未
   置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基によ
   り単−、２−または３−置換されている炭素原子数５な
   いし８の環状アルキル基、ベンジル基、２−または３−
   位が炭素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくはジ−
   （炭素原子数１ないし４のアルキル）−アミノ基により
   置換されている炭素原子数２ないし３のアルキル基、ま
   たは式（II）により表される基を表すか；または 式▲数式、化学式、表等があります▼ により表される基が１−ピロリジニル基、ピペリジル基
   、４−モルホリニル基、４−メチル−１−ピペラジニル
   基または１−ヘキサヒドロアゼビニル基を表す。）によ
   り表される基を表し；ｍは２ないし６の整数を表し；そ
   して もしもｍが２を表すならば； Ｒ＿３は式（IIIａ）−（IIIｅ）（式中、Ｒ＿３、Ｒ＿
   １＿０、Ｒ＿１＿２およびＲ＿１＿４は同一または異な
   っていることができて、水素原子、炭素原子数１ないし
   １２のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ない
   し４のアルキル基により単−、２−または３−置換され
   ている炭素原子数５ないし８の環状アルキル基、ベンジ
   ル基または式（II）により表される基を表し； Ｒ＿３は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、シク
   ロヘキシレン基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチ
   レンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデンジシクロ
   ヘキシレン基またはキシリレン基を表し； Ｒ＿１＿１、はＲ＿３と同じに定義されるかまたは１ま
   たは２個の酸素原子により中断されている炭素原子数４
   ないし１０のアルキレン基を表し；Ｒ＿１＿３は水素原
   子またはメチル基を表し；ｎは零または１を表し；そし
   て ｐは２ないし６の整数を表す。）により表される基の一
   つを表し；そして もしもｍが３、４、５または６の整数を表すならば； Ｒ＿３は式（IV） （式中、Ｒ＿１＿５とＲ＿１＿９は同一または異なって
   いることができて、Ｒ＿３と同じに定義され、そしてＲ
   ＿１＿６、Ｒ＿１＿７およびＲ＿１＿８は互いに同一ま
   たは異なることができて、炭素原子数２ないし６のアル
   キレン基を表し；そして ｑは零、１、２または３を表す。）により表される基を
   表し；そして もしもｍが３を表すならば； Ｒ＿３は式（Ｖａ）または（Ｖｂ） （式中、Ｒ＿２＿０は炭素原子数２ないし６のアルキレ
   ン基を表し； Ｒ＿２＿１、Ｒ＿２＿２、Ｒ＿２＿３およびＲ＿２＿４
   は同一または異なっていることができて、Ｒ＿３と同じ
   に定義され；そして ｒおよびｓは同一または異なっていることができて、２
   ないし６の整数を表す。）により表される基をも表すこ
   とができる請求項（１）記載の化合物。
4. （４）Ｒ＿２は式−ＯＲ＿４または ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿４は炭素原子数１ないし １０のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ない
   し４のアルキル基により単−、２−または３−置換され
   たシクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基または式
   （II）により表される基を表し；そして Ｒ＿５とＲ＿６は同一または異なっていることができて
   、水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、未
   置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基によ
   り単−、２−または３−置換されているシクロヘキシル
   基、ベンジル基、２−または３−位がメトキシ基により
   、エトキシ基により、ジメチルアミノ基によりまたはジ
   エチルアミノ基により置換されている炭素原子数２ない
   し３のアルキル基、または式（II）により表される基を
   表すか；または 式▲数式、化学式、表等があります▼ により表される基が４−モルホリニル基を表す。）によ
   り表される基を表し； ｍは２ないし６の整数を表し；そして もしもｍが２を表すならば； Ｒ＿３は式（IIIａ）−（IIIｅ）（式中、Ｒ＿３、Ｒ＿
   １＿０、Ｒ＿１＿２およびＲ＿１＿４は同一または異な
   っていることができて、水素原子、炭素原子数１ないし
   １０のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ない
   し４のアルキル基により単−、２−または３−置換され
   ているシクロヘキシル基、ベンジル基または式（II）に
   より表される基を表し； Ｒ＿３は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、シクロ
   ヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン
   基またはキシリレン基を表し；Ｒ＿１＿１はＲ＿３と同
   じに定義されるかまたは１または２個の酸素原子により
   中断されている炭素原子数４ないし１０のアルキレン基
   を表し；Ｒ＿１＿３は水素原子またはメチル基を表し；
   ｎは零または１を表し；そして ｐは２または３を表す。）により表される基の一つを表
   し；そして もしもｍが３、４、５または６の整数を表すならば； Ｒ＿３は式（IV） （式中、Ｒ＿１＿５とＲ＿１＿９は同一または異なって
   いることができて、Ｒ＿３と同じに定義され、そしてＲ
   ＿１＿６、Ｒ＿１＿７およびＲ＿１＿８は互いに同一ま
   たは異なることができて、炭素原子数２ないし６のアル
   キレン基を表し；そして ｑは零、１、２または３を表す。）により表される基を
   表し；そして もしもｍが３を表すならば； Ｒ＿３は式（Ｖａ）または（Ｖｂ） （式中、Ｒ＿２＿０は炭素原子数２ないし３のアルキレ
   ン基を表し； Ｒ＿２＿１、Ｒ＿２＿２、Ｒ＿２＿３およびＲ＿２＿４
   は同一または異なっていることができて、Ｒ＿３と同じ
   に定義され；そして ｒおよびｓは同一または異なっていることができて、３
   ないし５の整数を表す。）により表される基をも表すこ
   とができる請求項（１）記載の化合物。
5. （５）Ｒ＿２は式−ＯＲ＿４または ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿４は炭素原子数１ないし ８のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベン
   ジル基または式（II）により表される基を表し；そして Ｒ＿５とＲ＿６は同一または異なっていることができて
   、炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシル
   基、ベンジル基、２−または３−位がメトキシ基により
   、エトキシ基により、ジメチルアミノ基によりまたはジ
   エチルアミノ基により置換されている炭素原子数２ない
   し３のアルキル基、または式（II）により表される基を
   表すか；または 式▲数式、化学式、表等があります▼ により表される基が４−モルホリニル基を表す。）によ
   り表される基を表し； ｍは２、３または４を表し；そして もしもｍが２を表すならば； Ｒ＿３は式（IIIｂ）−（IIIｅ）（式中、Ｒ＿１＿０お
   よびＲ＿１＿２は同一または異なっていることができて
   、水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、シク
   ロヘキシル基または式（II）により表される基を表し； Ｒ＿９は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し； Ｒ＿１＿１は炭素原子数２ないし６のアルキレン基、シ
   クロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシ
   レン基、キシリレン基または１もしくは２個の酸素原子
   により中断されている炭素原子数４ないし１０のアルキ
   レン基を表し；Ｒ＿１＿３は水素原子を表し； ｎは零を表し； Ｒ＿１＿４は水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキ
   ル基またはシクロヘキシル基を表し； そしてｐは２または３を表す。）により表される基の一
   つを表し；そして もしもｍが３または４を表すならば； Ｒ＿３は式（IV） （式中、Ｒ＿１＿５とＲ＿１＿９は同一または異なって
   いることができて、Ｒ＿１＿０と同じに定義され；そし
   てＲ＿１＿６、Ｒ＿１＿７およびＲ＿１＿８は互いに同
   一または異なっていることができて、炭素原子数２ない
   し６のアルキレン基を表し；そして ｑは零または１を表す。）により表される基を表す請求
   項（１）記載の化合物。
6. （６）Ｒ＿１は水素原子またはメチル基を表し；Ｒ＿２
   は式−ＯＲ＿４または ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿４は炭素原子数１ないし ４のアルキル基、２，２，６，６−テトラメチル−４−
   ピペリジル基または１，２，２，６，６−ペンタメチル
   −４−ピペリジル基を表し；そしてＲ＿５とＲ＿６は同
   一または異なっていることができて、炭素原子数１ない
   し８のアルキル基、２，２，６，６−テトラメチル−４
   −ピペリジル基または１，２，２，６，６−ペンタメチ
   ル−４−ピペリジル基を表すか； またはＲ＿５は水素原子を表すか；または 式▲数式、化学式、表等があります▼ により表される基が４−モルホリニル基を表す。）によ
   り表される基を表し； ｍは２、３または４を表し；そして もしもｍが２を表すならば； Ｒ＿３は式（IIIｃ）、（IIIｄ）または（IIIｅ）（式
   中、Ｒ＿１＿０およびＲ＿１＿２は同一または異なって
   いることができて、水素原子、メチル基、イソプロピル
   基、シクロヘキシル基、２，２，６，６−テトラメチル
   −４−ピペリジル基または１，２，２，６，６−ペンタ
   メチル−４−ピペリジル基を表し； Ｒ＿１＿１は炭素原子数２ないし６のアルキレン基また
   は１もしくは２個の酸素原子により中断されている炭素
   原子数６ないし１０のアルキレン基を表し； Ｒ＿１＿３は水素原子を表し； ｎは零を表し； Ｒ＿１＿４は水素原子、メチル基またはシクロヘキシル
   基を表し；そして そしてｐは２を表す。）により表される基の一つを表し
   ；そして もしもｍが３または４を表すならば； Ｒ＿３は式（IV） （式中、Ｒ＿１＿５とＲ＿１＿９は同一または異なって
   いることができて、Ｒ＿１＿０と同じに定義され；そし
   てＲ＿１＿６、Ｒ＿１＿７およびＲ＿１＿８は互いに同
   一または異なっていることができて、炭素原子数２ない
   し３のアルキレン基を表し；そして ｑは零または１を表す。）により表される基を表す請求
   項（１）記載の化合物。
7. （７）Ｒ＿１は水素原子またはメチル基を表し；Ｒ＿２
   は２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキ
   シ基または１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
   ペリジルオキシ基を表し； ｍは２、３または４を表し；そして もしもｍが２を表すならば； Ｒ＿３は式（IIIｃ）または（IIIｅ） （式中、Ｒ＿１＿０およびＲ＿１＿２は同一または異な
   っていることができて、水素原子、シクロヘキシル基、
   ２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基また
   は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル
   基を表し； Ｒ＿１＿１は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表
   し； Ｒ＿１＿４は水素原子またはメチル基を表し；そしてｐ
   は２を表す。）により表される基を表し；そして もしもｍが３または４を表すならば； Ｒ＿３は式（IV） （式中、Ｒ＿１＿５とＲ＿１＿９は同一または異なって
   いることができて、水素原子、２，２，６，６−テトラ
   メチル−４−ピペリジル基または１，２，２，６，６−
   ペンタメチル−４−ピペリジル基を表し； Ｒ＿１＿６、Ｒ＿１＿７およびＲ＿１＿８は互いに同一
   または異なっていることができて、炭素原子数２ないし
   ３のアルキレン基を表し；そして ｑは零または１を表す。）により表される基を表す請求
   項（１）記載の化合物。
8. （８）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ａは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ により表される基を表す）により表される化合物および
   式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ａ＾＊は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ により表される基を表す）により表される請求項（１）
   記載の化合物。
9. （９）光、熱または酸化により誘導される分解に対して
   感受性のある有機材料と請求項（１）記載の式（ I ）
   により表される化合物を少なくとも一種含有する組成物
   。
10. （１０）有機材料が合成ポリマーである請求項（９）記
    載の組成物。
11. （１１）式（ I ）により表される化合物に追加して、
    合成ポリマー用の他の常用の添加剤をも含有する請求項
    （１０）記載の組成物。
12. （１２）有機材料がポリオレフィンである請求項（９）
    記載の組成物。
13. （１３）有機材料がポリエチレンまたはポリプロピレン
    である請求項（９）記載の組成物。