JPH0230641A - セラミック基板材料 - Google Patents
セラミック基板材料Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
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- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
- C03C14/004—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of particles or flakes
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は例えば高速LSIを実装するための低誘電率
の低温焼成セラミック多層基板用材料に関するものであ
る。
の低温焼成セラミック多層基板用材料に関するものであ
る。
従来、この種の材料として、アルミナ粉末あるいは石英
ガラス粉末または石英粉末とガラスで構成されたものが
あった。すなわち、アルミナ基板が誘電率約10である
ので、これに代わって、アルミナ粉末にガラスを多量に
入れて誘電率5.6とした基板材料(特開昭59−99
5号)、石英ガラスと石英粉末とこれを焼結させるガラ
ス粉末とからなる基板(実開昭61−134081号)
、あるいはアルミナと石英ガラス粉末とこれを焼結する
ガラス粉末とからなるもの(特開昭60−254697
号)、またアルミナとフォルステライトとガラスからな
るもの(特開昭60−103075号)、この他に組成
を工夫したもの(特公昭60−8229号)等があった
。
ガラス粉末または石英粉末とガラスで構成されたものが
あった。すなわち、アルミナ基板が誘電率約10である
ので、これに代わって、アルミナ粉末にガラスを多量に
入れて誘電率5.6とした基板材料(特開昭59−99
5号)、石英ガラスと石英粉末とこれを焼結させるガラ
ス粉末とからなる基板(実開昭61−134081号)
、あるいはアルミナと石英ガラス粉末とこれを焼結する
ガラス粉末とからなるもの(特開昭60−254697
号)、またアルミナとフォルステライトとガラスからな
るもの(特開昭60−103075号)、この他に組成
を工夫したもの(特公昭60−8229号)等があった
。
次にこの種の基板材料の一般的製造方法の例を示すと、
まずガラス粉末を作成する。ガラス粉末の組成としては
Sin、、Al、O,、B2O3、MgO1CaO1Z
nO,Bad、 PbO,Li2O,Na、Q、に、0
等からなるが、例えば特開昭60−254697号では
Al2O,34,2重量%、SLn、 59.3重量%
、B、0,4.9重量%、 Na、01.3重量%、K
、OO,2重量%、 CaOO,1重量%からなり、特
開昭60−103075号ではSL0□40〜70重量
%、A12034〜15重量%、B20.15〜35重
量%、BaOO,5〜15重量%からなり、またホウ珪
酸鉛系結晶化ガラスとしたもの(昭和58年窯業協会年
会講演会予稿集)等がある。これらのガラス粉末とアル
ミナ粉末等のセラミック粉末とを混合し、有機結合剤、
分散剤、可塑剤を添加し、有機溶剤または水を用いてス
ラリーとし、ドクターブレード法により、ポリエチレン
テレフタレートのフィルム上に鋳込み。
まずガラス粉末を作成する。ガラス粉末の組成としては
Sin、、Al、O,、B2O3、MgO1CaO1Z
nO,Bad、 PbO,Li2O,Na、Q、に、0
等からなるが、例えば特開昭60−254697号では
Al2O,34,2重量%、SLn、 59.3重量%
、B、0,4.9重量%、 Na、01.3重量%、K
、OO,2重量%、 CaOO,1重量%からなり、特
開昭60−103075号ではSL0□40〜70重量
%、A12034〜15重量%、B20.15〜35重
量%、BaOO,5〜15重量%からなり、またホウ珪
酸鉛系結晶化ガラスとしたもの(昭和58年窯業協会年
会講演会予稿集)等がある。これらのガラス粉末とアル
ミナ粉末等のセラミック粉末とを混合し、有機結合剤、
分散剤、可塑剤を添加し、有機溶剤または水を用いてス
ラリーとし、ドクターブレード法により、ポリエチレン
テレフタレートのフィルム上に鋳込み。
乾燥してグリーンシートとする。グリーンシートは適当
な大きさに切断してスルーホールを形成し、導体ペース
トをうめ込み、さらに導体ペーストで回路を形成した後
多層に積層し、導体とグリーンシートを同時焼成するこ
とによって多層基板が形成される。
な大きさに切断してスルーホールを形成し、導体ペース
トをうめ込み、さらに導体ペーストで回路を形成した後
多層に積層し、導体とグリーンシートを同時焼成するこ
とによって多層基板が形成される。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来のセラミック粉末とガラス粉末を焼結して作成する
低温焼結基板材料は以上のように構成されているので、
Li、 0、Na、O,K、O等のアルカリを含むガラ
スを使用するものは連続的に電圧を印加している場合、
アルカリのマイグレーションのため、半導体素子を劣化
させる可能性があるという欠点があった。また、例えば
BaO1PbOおよびZrO。
低温焼結基板材料は以上のように構成されているので、
Li、 0、Na、O,K、O等のアルカリを含むガラ
スを使用するものは連続的に電圧を印加している場合、
アルカリのマイグレーションのため、半導体素子を劣化
させる可能性があるという欠点があった。また、例えば
BaO1PbOおよびZrO。
を含むガラスは、α線放射率が高く、LSIを搭載する
パッケージおよび多層基板として使用する場合にはソフ
トエラーの原因となるという欠点があった。
パッケージおよび多層基板として使用する場合にはソフ
トエラーの原因となるという欠点があった。
この発明は、上記のような従来のものの欠点を除去する
ためになされたもので、アルカリやα線放射率の高い材
料を使用することなく、低温で焼結でき、このためAg
、 Ag−Pb、Au、Cu等の低抵抗導体をグリーン
シートに印刷して積層し、導体と基板とを同時焼成する
ことができるセラミック基板材料を提供することを目的
としている。
ためになされたもので、アルカリやα線放射率の高い材
料を使用することなく、低温で焼結でき、このためAg
、 Ag−Pb、Au、Cu等の低抵抗導体をグリーン
シートに印刷して積層し、導体と基板とを同時焼成する
ことができるセラミック基板材料を提供することを目的
としている。
この発明のセラミック基板材料は、ムライト粉末1召英
ガラス粉末、石英粉末、コージェライト粉末のうち、い
ずれか少なくとも1種類以上のセラミック粉末と、少な
くともSiO□、B201、A1□0.。
ガラス粉末、石英粉末、コージェライト粉末のうち、い
ずれか少なくとも1種類以上のセラミック粉末と、少な
くともSiO□、B201、A1□0.。
SrOを含む組成からなるガラス粉末との混合物で、セ
ラミック粉末が20〜60重量%、ガラス粉末が40〜
80重量%からなるものを焼結したものである。
ラミック粉末が20〜60重量%、ガラス粉末が40〜
80重量%からなるものを焼結したものである。
この発明の基板材料に用いるセラミック粉末としては、
ムライト粉末、石英ガラス粉末、石英粉末、コージェラ
イト粉末等の低誘電率かつ低α線のセラミック粉末のう
ちいずれか少なくとも1種類の粉末を用いる。
ムライト粉末、石英ガラス粉末、石英粉末、コージェラ
イト粉末等の低誘電率かつ低α線のセラミック粉末のう
ちいずれか少なくとも1種類の粉末を用いる。
またガラス粉末としては、少なくともSiO□、B2O
3、Al2O3、SrOを含む組成からなるものを用い
る。好ましいガラス粉末の組成範囲は、 5un2が4
5〜60重量%、A1□03が10〜20重量%、 B
、0.が8〜17重量%、MgOが0〜5重量%、 C
aOが0〜5重量%、SrOが10〜25重量%、Zn
Oが0〜10重量%、 CaF2が0〜2重量%である
。SiO□およびA1.03はそれぞれ上記範囲より多
いとガラス製造時に溶解しにくく、少ないと耐酸性が悪
い。B2O3は上記範囲より多いと耐酸性が悪く、少な
いと溶解しにくい。またMg02CaO1ZnOは上記
範囲より多いと結晶化しやすく、石英ガラスやコージェ
ライト粉末との基板は(ガラス粉末粒子が細い場合はと
くに)焼結性が悪くなりやすい。SrOは少ない場合は
ZnOが多いほど入ると耐酸性が高くなるが、多いとZ
nOが少なくても高い耐酸性ガラスが得られる。CaF
、はこれを入れるとSiO□およびAl2O,が多くて
もガラスになりやすい6 ガラス粉末として留意した点は次の4点である。
3、Al2O3、SrOを含む組成からなるものを用い
る。好ましいガラス粉末の組成範囲は、 5un2が4
5〜60重量%、A1□03が10〜20重量%、 B
、0.が8〜17重量%、MgOが0〜5重量%、 C
aOが0〜5重量%、SrOが10〜25重量%、Zn
Oが0〜10重量%、 CaF2が0〜2重量%である
。SiO□およびA1.03はそれぞれ上記範囲より多
いとガラス製造時に溶解しにくく、少ないと耐酸性が悪
い。B2O3は上記範囲より多いと耐酸性が悪く、少な
いと溶解しにくい。またMg02CaO1ZnOは上記
範囲より多いと結晶化しやすく、石英ガラスやコージェ
ライト粉末との基板は(ガラス粉末粒子が細い場合はと
くに)焼結性が悪くなりやすい。SrOは少ない場合は
ZnOが多いほど入ると耐酸性が高くなるが、多いとZ
nOが少なくても高い耐酸性ガラスが得られる。CaF
、はこれを入れるとSiO□およびAl2O,が多くて
もガラスになりやすい6 ガラス粉末として留意した点は次の4点である。
すなわち(1)]、SIを搭載することを目的とするの
で、マイグレーションによってLSI素子に悪影響を与
えるアルカリイオンを含まないガラスとすること、(2
)原料として使用する粉末は、ソフトエラーの原因とな
る高α線原料を使用しないこと、(3)基板材料として
構成したものが1000℃以下で焼結する組成であるこ
と、(4)基板上に導体をメツキしたり、あるいはエツ
チングする可能性を考慮して、酸およびアルカリ等の水
溶液に対する耐久性が高いことである。酸およびアルカ
リ性に耐久性が高いことは耐水性が高いことをも意味す
る。
で、マイグレーションによってLSI素子に悪影響を与
えるアルカリイオンを含まないガラスとすること、(2
)原料として使用する粉末は、ソフトエラーの原因とな
る高α線原料を使用しないこと、(3)基板材料として
構成したものが1000℃以下で焼結する組成であるこ
と、(4)基板上に導体をメツキしたり、あるいはエツ
チングする可能性を考慮して、酸およびアルカリ等の水
溶液に対する耐久性が高いことである。酸およびアルカ
リ性に耐久性が高いことは耐水性が高いことをも意味す
る。
種々の原料のα線を測定してみると、PbO1BaCO
,は99.99%のものを用いてもα線量を5coun
t/aJ−hr以下にすることはできなかった。それに
比べて、5in2. H,BO,、A1.03、MgO
1CaO−SrO,ZnOは、いずれも98%以上の試
薬級原料を用いれば0.1count/cJ−hr以下
となることが確認できた。
,は99.99%のものを用いてもα線量を5coun
t/aJ−hr以下にすることはできなかった。それに
比べて、5in2. H,BO,、A1.03、MgO
1CaO−SrO,ZnOは、いずれも98%以上の試
薬級原料を用いれば0.1count/cJ−hr以下
となることが確認できた。
そこで、これらの原料を用いて種々の組成のガラスを作
成し、それを粉末とした後、低誘電率低α線セラミック
粉末と混合して基板とし、吸水率、耐酸性、耐アルカリ
性および誘電率を測定した結果、上記組成のガラスが有
効であることがわかった。すなわち上記のガラス組成の
用いることにより、ムライト粉末、石英ガラス粉末、石
英粉末、コージェライト粉末を少なくとも1種類以上用
いてその量を60〜20重景%と重量ガラス粉末の量を
40〜80重量%とすることにより、その混合物は10
00℃以下で基板が焼結できる。基板材料の製造方法は
従来と同様であり、多層基板とする場合、Ag、 Ag
−Pb、 Au、Cu等の低抵抗導体をグリーンシート
に印刷して積層し、導体と基板とを同時焼成することが
できる。
成し、それを粉末とした後、低誘電率低α線セラミック
粉末と混合して基板とし、吸水率、耐酸性、耐アルカリ
性および誘電率を測定した結果、上記組成のガラスが有
効であることがわかった。すなわち上記のガラス組成の
用いることにより、ムライト粉末、石英ガラス粉末、石
英粉末、コージェライト粉末を少なくとも1種類以上用
いてその量を60〜20重景%と重量ガラス粉末の量を
40〜80重量%とすることにより、その混合物は10
00℃以下で基板が焼結できる。基板材料の製造方法は
従来と同様であり、多層基板とする場合、Ag、 Ag
−Pb、 Au、Cu等の低抵抗導体をグリーンシート
に印刷して積層し、導体と基板とを同時焼成することが
できる。
以下、この発明の詳細な説明する。
実施例l
5in、 50重量%、Al□0315重量%、B、0
.15重量%、CaO4重量%、Sr010重量%、Z
nO6重量%の組成からなるガラスを作成し、粉砕して
粉末とした。次にこのガラス粉末50重量%とムライト
粉末50重量%の比で混合したものにトルエンを加え。
.15重量%、CaO4重量%、Sr010重量%、Z
nO6重量%の組成からなるガラスを作成し、粉砕して
粉末とした。次にこのガラス粉末50重量%とムライト
粉末50重量%の比で混合したものにトルエンを加え。
さらに結合剤としてポリメタクリル酸メチル、可塑剤と
してフタル酸ブチル、分散剤としてトリオレインを添加
してスラリーを作成した。これをドクターブレード法に
よってポリエチレンテレフタレートフィルムの上に流し
出し、乾燥してグリーンシートを作成した。グリーンシ
ートを50mm角に切断し、大気中900℃で4時間焼
成し、セラミック基板とした。この基板の吸水率を測定
するため、まず基板重量を測定し、100℃の水中でし
ゃ沸した後、ぬれた布で表面の水分を軽くふき取り、し
や沸前の重量との差により吸水率を測定したところ、測
定誤差の範囲内で0%であった。また、耐酸性を測定す
るため、重量を測定した基板を60℃。
してフタル酸ブチル、分散剤としてトリオレインを添加
してスラリーを作成した。これをドクターブレード法に
よってポリエチレンテレフタレートフィルムの上に流し
出し、乾燥してグリーンシートを作成した。グリーンシ
ートを50mm角に切断し、大気中900℃で4時間焼
成し、セラミック基板とした。この基板の吸水率を測定
するため、まず基板重量を測定し、100℃の水中でし
ゃ沸した後、ぬれた布で表面の水分を軽くふき取り、し
や沸前の重量との差により吸水率を測定したところ、測
定誤差の範囲内で0%であった。また、耐酸性を測定す
るため、重量を測定した基板を60℃。
PH1の塩酸水溶液中に60分間浸漬した後、水洗し、
乾燥して再び重量を測定し、浸漬前の重量との差を測定
したところ、減量は0.1mg/alf以下であった。
乾燥して再び重量を測定し、浸漬前の重量との差を測定
したところ、減量は0.1mg/alf以下であった。
耐アルカリ性は重量を測定した基板を60℃、PH4の
苛性ソーダ水溶液中に60分間浸漬した後水洗し、乾燥
して重量を測定し、浸漬前の重量と比較し、減量を測定
したところ、0,1mg/ad以下であった。
苛性ソーダ水溶液中に60分間浸漬した後水洗し、乾燥
して重量を測定し、浸漬前の重量と比較し、減量を測定
したところ、0,1mg/ad以下であった。
さらにこの基板表面に電極を塗布して誘電率を測定した
ところ、I MHzで約5.9であった。
ところ、I MHzで約5.9であった。
実施例2
SL0□50重量%、A1.0.15重量%、 B、0
.15重量%、5rO15重量%、ZnO5重量%の組
成からなるガラスを作成し、粉砕してガラス粉末とした
。次にこのガラス粉末70重量%と石英ガラス粉末30
重量%の比で混合したものを、実施例1と同様の方法で
スラリーを作成し、グリーンシートを作成した後、焼成
して基板とした。この基板の吸水率を実施例1と同様の
方法で測定したところ、0%であった。また耐酸性減量
および耐アルカリ性減量を実施例1と同様の方法で測定
したところ、いずれもO,1mg/aJ以下であった。
.15重量%、5rO15重量%、ZnO5重量%の組
成からなるガラスを作成し、粉砕してガラス粉末とした
。次にこのガラス粉末70重量%と石英ガラス粉末30
重量%の比で混合したものを、実施例1と同様の方法で
スラリーを作成し、グリーンシートを作成した後、焼成
して基板とした。この基板の吸水率を実施例1と同様の
方法で測定したところ、0%であった。また耐酸性減量
および耐アルカリ性減量を実施例1と同様の方法で測定
したところ、いずれもO,1mg/aJ以下であった。
さらにこの基板に電極を塗布して誘電率を測定したとこ
ろ、IMHzで約4.6であった。
ろ、IMHzで約4.6であった。
実施例3
Si0254重量%、A1□0,13重量%、B20.
13重量%、Sr020重量%の組成からなるガラスを
作成し、粉砕してガラス粉末とした。次にこのガラス粉
末70重量%とコージェライトを主成分とする粉末30
重量%を混合し、実施例1と同様の方法でスラリーを作
成し、グリーンシートを作成した後、焼成して基板とし
た。その後、この基板の吸水率を実施例1と同様の方法
で測定したところ、0%であった。また実施例1と同様
の方法で、耐酸性および耐アルカリ性を測定したところ
、いずれも減量0.1mg/cn以下であった。またこ
の基板に電極を塗布し、誘電率を測定したところ、IM
t(zで約5.3であった。
13重量%、Sr020重量%の組成からなるガラスを
作成し、粉砕してガラス粉末とした。次にこのガラス粉
末70重量%とコージェライトを主成分とする粉末30
重量%を混合し、実施例1と同様の方法でスラリーを作
成し、グリーンシートを作成した後、焼成して基板とし
た。その後、この基板の吸水率を実施例1と同様の方法
で測定したところ、0%であった。また実施例1と同様
の方法で、耐酸性および耐アルカリ性を測定したところ
、いずれも減量0.1mg/cn以下であった。またこ
の基板に電極を塗布し、誘電率を測定したところ、IM
t(zで約5.3であった。
実施例4
Si0255重量%、A120317重量%、 B、0
.10重量%、 Ca02重量%、SrO10重量%、
ZnO6重量%で、CaOの一部をCaF2で置換した
組成からなるガラスを作成し、粉砕してガラス粉末とし
た。次にこのガラス粉末60重量%にムライト粉末20
重量%および石英ガラス粉末20重量%を混合し、実施
例1と同様の方法でスラリーを作成し、グリーンシート
を作成した後、焼成して基板とした。その後この基板の
吸水率を実施例1と同様の方法で測定したところ、0%
であった。また実施例1と同様の方法で、耐酸性および
耐アルカリ性を測定したところ、いずれも減量は0.1
mg/aZ以下であった。またこの基板に電極を塗布し
、誘電率を測定したところ、 IMHzで約5.2で
あった。
.10重量%、 Ca02重量%、SrO10重量%、
ZnO6重量%で、CaOの一部をCaF2で置換した
組成からなるガラスを作成し、粉砕してガラス粉末とし
た。次にこのガラス粉末60重量%にムライト粉末20
重量%および石英ガラス粉末20重量%を混合し、実施
例1と同様の方法でスラリーを作成し、グリーンシート
を作成した後、焼成して基板とした。その後この基板の
吸水率を実施例1と同様の方法で測定したところ、0%
であった。また実施例1と同様の方法で、耐酸性および
耐アルカリ性を測定したところ、いずれも減量は0.1
mg/aZ以下であった。またこの基板に電極を塗布し
、誘電率を測定したところ、 IMHzで約5.2で
あった。
なお、上記実施例では、ムライト粉末、石英ガラス粉末
、コージェライト粉末とガラス粉末の組み合せを示した
が、石英粉末が石英ガラスの代りに使われてもよい。ま
た、上記実施例のガラスは5i02 、 AlzOz
、B、O,、MgO,Cab、 CaF、、 SrO,
ZnOの組成からなるものを示したが、これに限定され
ない。
、コージェライト粉末とガラス粉末の組み合せを示した
が、石英粉末が石英ガラスの代りに使われてもよい。ま
た、上記実施例のガラスは5i02 、 AlzOz
、B、O,、MgO,Cab、 CaF、、 SrO,
ZnOの組成からなるものを示したが、これに限定され
ない。
上記実施例では一枚の基板の大気中焼成の例のみを示し
たが、多層基板が本来の目的であり、スルーホールをあ
けたグリーンシートに導体を印刷し、積層して導体と共
に同時焼成しても何ら問題は起らなかった。
たが、多層基板が本来の目的であり、スルーホールをあ
けたグリーンシートに導体を印刷し、積層して導体と共
に同時焼成しても何ら問題は起らなかった。
以上のように、この発明によれば、α線放射率の低い原
料を用いた組成によりガラスを作成し。
料を用いた組成によりガラスを作成し。
このガラス粉末とα線放射率の低い、低誘電率セラミッ
ク粉末とから基板を構成するようにしたので、アルカリ
およびα線放射率の高い材料を使用することなく、低誘
電率のセラミック基板を低温で焼成でき、これにより超
高速LSIの実装に適した多層基板を安価に得ることが
できる効果がある。
ク粉末とから基板を構成するようにしたので、アルカリ
およびα線放射率の高い材料を使用することなく、低誘
電率のセラミック基板を低温で焼成でき、これにより超
高速LSIの実装に適した多層基板を安価に得ることが
できる効果がある。
Claims (1)
- (1)ムライト粉末、石英ガラス粉末、石英粉末、コ
ージェライト粉末のうち、いずれか少なくとも1種類以
上のセラミック粉末と、少なくともSiO_2、B_2
O_3、Al_2O_3、SrOを含む組成からなるガ
ラス粉末との混合物で、セラミック粉末が20〜60重
量%、ガラス粉末が40〜80重量%からなるものを焼
結したことを特徴とするセラミック基板材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63178701A JPH0230641A (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | セラミック基板材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63178701A JPH0230641A (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | セラミック基板材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0230641A true JPH0230641A (ja) | 1990-02-01 |
Family
ID=16053044
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63178701A Pending JPH0230641A (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | セラミック基板材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0230641A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0383850A (ja) * | 1989-08-28 | 1991-04-09 | Nec Corp | 低温焼結性低誘電率無機組成物 |
JPH03141153A (ja) * | 1989-10-25 | 1991-06-17 | Nec Corp | 低温焼結性低誘電率無機組成物 |
JPH06112604A (ja) * | 1992-06-08 | 1994-04-22 | Nec Corp | 多層ガラスセラミック基板とその製造方法 |
JPH06199541A (ja) * | 1993-01-05 | 1994-07-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガラスセラミックス組成物 |
WO2009139427A1 (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-19 | 株式会社オハラ | ガラス |
US8084381B2 (en) | 2007-04-27 | 2011-12-27 | Ohara Inc. | Glass |
JP2012167008A (ja) * | 2012-04-06 | 2012-09-06 | Kyocera Corp | ガラスセラミック組成物、ガラスセラミック焼結体並びにそれを用いた配線基板とその実装構造 |
CN103739208A (zh) * | 2013-12-17 | 2014-04-23 | 佛山市粤峤陶瓷技术创新服务中心 | 一种具有导电玻璃层的微晶玻璃陶瓷复合板的制造方法 |
CN114380509A (zh) * | 2022-03-24 | 2022-04-22 | 西安宏星电子浆料科技股份有限公司 | 一种高耐腐蚀性介质浆料 |
WO2023095605A1 (ja) * | 2021-11-25 | 2023-06-01 | 株式会社村田製作所 | ガラスセラミックス及び電子部品 |
-
1988
- 1988-07-18 JP JP63178701A patent/JPH0230641A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN102015560A (zh) * | 2008-05-14 | 2011-04-13 | 株式会社小原 | 玻璃 |
JP2009274902A (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Ohara Inc | ガラス |
WO2009139427A1 (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-19 | 株式会社オハラ | ガラス |
JP2012167008A (ja) * | 2012-04-06 | 2012-09-06 | Kyocera Corp | ガラスセラミック組成物、ガラスセラミック焼結体並びにそれを用いた配線基板とその実装構造 |
CN103739208A (zh) * | 2013-12-17 | 2014-04-23 | 佛山市粤峤陶瓷技术创新服务中心 | 一种具有导电玻璃层的微晶玻璃陶瓷复合板的制造方法 |
CN103739208B (zh) * | 2013-12-17 | 2016-05-18 | 佛山市粤峤陶瓷技术创新服务中心 | 一种具有导电玻璃层的微晶玻璃陶瓷复合板的制造方法 |
WO2023095605A1 (ja) * | 2021-11-25 | 2023-06-01 | 株式会社村田製作所 | ガラスセラミックス及び電子部品 |
CN114380509A (zh) * | 2022-03-24 | 2022-04-22 | 西安宏星电子浆料科技股份有限公司 | 一种高耐腐蚀性介质浆料 |
CN114380509B (zh) * | 2022-03-24 | 2022-07-08 | 西安宏星电子浆料科技股份有限公司 | 一种高耐腐蚀性介质浆料 |
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