JPH02303178A - 狭帯域発振エキシマレーザ - Google Patents

狭帯域発振エキシマレーザ

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JPH02303178A
JPH02303178A JP1124898A JP12489889A JPH02303178A JP H02303178 A JPH02303178 A JP H02303178A JP 1124898 A JP1124898 A JP 1124898A JP 12489889 A JP12489889 A JP 12489889A JP H02303178 A JPH02303178 A JP H02303178A
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discharge
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理 若林
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雅彦 小若
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小林　諭樹夫
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    • H01S3/1055—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length one of the reflectors being constituted by a diffraction grating
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    • H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は狭帯域発振エキシマレーザに関し、特に縮小
投影露光装置の光源に採用して好適なものである。
〔従来の技術〕
半導体装置製造用の縮小投影露光装置（以下ステッパー
という）の光源としてエキシマレーザの利用が注目され
ている。これはエキシマレーザの波長が短い（ＫｒＦレ
ーザの波長は約２４８゜４　ｎｍ）ことがら光露光の限
界を０．５μｍ以下に延ばせる可能性があること、同じ
解像度なら従来用いていた水銀ランプのｇ線やｉ線に比
較して焦点深度が深いこと、レンズの開口数（ＮＡ）が
小さくてすみ、露光領域を大きくできること、太きなパ
ワーが得られること等の多くの優れた利点が期待できる
からである。
ところで、ステッパーの光源として利用されるエキシマ
レーザとしては線幅３ｐｍ以下の狭帯化が要求され、し
かも大きな出力パワーが要求される。
エキシマレーザの狭帯域化の技術としては従来インジエ
ンクションロック方式と呼ばれるものがある。このイン
ジエンクションロック方式は、オシレータ段のキャビテ
ィ内に波長選択素子（エタロン・回折格子・プリズム等
）を配置し、ピンホールによって空間モードを制限して
単一モード発振させ、このレーザ光を増幅段によって注
入同期する。この方式によると比較的大きな出力パワー
が得られるが、ミスショットがあったり、ロッキング効
率を１００％とすることが困難であったり、スペクトル
純度が悪くなるという欠点がある。また、この方式の場
合その出力光はコヒーレンス性が高く、これを縮小露光
装置の光源に用いた場合はスペックル・パターンが発生
する。一般にスペックル・パターンの発生はレーザ光に
含まれる空間横モードの数に依存すると考えられている
。すなわち、レーザ光に含まれる空間横モードの数が少
ないとスペックル・パターンが発生し易くなり、並に空
間モードの数が多くなるとスペックル・パターンは発生
しにくくなることが知られている。
上述したインジェクションロック方式は本質的には空間
（黄モードの数を著しく減らすことによって狭帯域化を
行う技術であり、スペックル・パターンの発生が大きな
問題となるため縮小投影露光装置には採用できない。
エキシマレーザの狭帯域化の技術として他に有望なもの
は波長選択素子であるエヤーギャップエタロンを用いた
ものがある。このエアーギャップエタロンを用いた従来
技術としてはＡＴ＆Ｔベル研究所によるエキシマレーザ
のフロントミラーとレーザチャンバとの間にエアーギャ
ップエタロンを配置し、エキシマレーザの狭帯域化を図
ろうとする技術が提案されている。しかし、この方式は
スペクトル線幅をあまり狭くできず、かつ、エアーギャ
ップエタロン挿入によるパワーロスが大きいという問題
があり、更に空間横モードの数もあまり多くすることが
できないという欠点がある。
またエアーギャップエタロンは耐久性に問題がある。
そこで、比較的耐久性に優れたグレーティングを波長選
択素子として採用して構成したエキシマレーザが提案さ
れている。しかしながら、このグレーティングを用いた
従来の装置はグレーティングの利用の仕方に問題かあり
効率よく狭帯域化できないという問題があった。
〔発明が解決しようとする課題〕
このように従来のエキシマレーザは狭帯域化、出力パワ
ー、空間横モードの数、耐久性のいずれかの点において
問題があり、これをそのままステッパーの光源として用
いることはできなかった。
そこでこの発明は、波長選択素子としてグレーティング
を採用し、しかも効率よく狭帯域化できる狭帯域発振エ
キシマレーザを提供することを目的とする。
〔課題を解決するだめの手段〕
この発明の狭帯域発振エキシマレーザにおいてはグレー
ティングを、その線引方向がレーザの放電方向と略垂直
になるように配置する。
またグレーティングに照射される光ビームを拡大するビ
ームエキスパンダを用いる場合は、このビームエキスパ
ンダもそのビーム拡大方向がレーザの放電方向と略垂直
になるように配置する。
更に光共振器内にアパーチャを配置する場合はこのアパ
ーチャをレーザの放電方向に長い形状にする。
更に光共振器のフロントミラーをシリンドリカルミラー
を用いて構成し、この場合、シリンドリカルミラーの機
械軸をレーザの放電方向と一致（平行）させる。
〔作用〕
エキシマレーザはそのビーム広がり角がレーザの放電方
向に垂直な方向よりもレーザの放電方向の方が大きい。
そこで、グレーティングの線引方向をレーザの放電方向
と略垂直にすることにより効率よく狭帯域化することが
できる。
またビームエキスパンダのビーム拡大方向をレーザの放
電方向と略垂直にすることによっても狭帯域化の効率は
向上する。
更に光共振器内に配置されたアパーチャの形状をレーザ
の放電方向に長い形状にすることによって狭帯域化の効
率は向上する。
更に、光共振器のフロントミラーをシリンドリカルミラ
ーから構成し、このシリンドルカルミラーの機械軸をレ
ーザの放電方向と一致させることによって更に狭帯域化
の効率は向上する。
〔実施例〕
以下、この発明に係わる狭帯域発振エキシマレーザの実
施例を添付図面を参照して詳細に説明する。
第１図はこの発明に係わる狭帯域発振エキシマレーザの
一実施例を示したもので、第１図（ａ＞はその側面図、
第１図（ｂ）はその正面図を示している。第１図（ａ）
および第１図（ｂ）において、この実施例の狭帯域発振
エキシマレーザはフロントミラー１０とレーザチャンバ
２０とリアミラーとして機能するグレーティング３０か
ら構成され、いわゆるリトロ−配置をとっている。レー
ザチャンバ２０内にはレーザガスとしてＫｒＦ等が封入
され、このレーザガスを放電励起するための電ｔ！！２
３．２４が設けられ、更にこのレーザチャンバ２０には
発振レーザ光を通すウィンドウ２１．２２が設けられて
いる。
グレーティング３０は光の回折を利用して特定波長の光
を選択するもので、一定方向に配列された多数の溝が形
成されいる。この明細書ではこの多数の溝と直角の方向
を線引方向と称している。
グレーティング３０はこの線引方向を含む平面内で入射
光に対するグレーティング３０の角度θを可変させるこ
とにより特定の波長の光を選択することができる。すな
わち、グレーティング３０は入射光に対するグレーティ
ングの角度θに対応する特定の光のみを所定の方向（こ
の場合入射光の方向）に反射させ、これによって特定の
波長の光に対する選択動作を行なう。
さて、この実施例ではこのグレーティング３０の線引方
向がレーザチャンバ２０内の電極２３．２４による放電
方向に対して垂直になるようにレーザチャンバ２０内の
電極２３．２４に対するグレーティング３０の配置を選
択したことを特徴としている。
一般にレーザチャンバ２０のウィンドウ２２から出力さ
れるレーザビームの広がり角は電極２３．２４による放
電方向、すなわち電極２３．２４の配列方向よりもこの
放電方向に垂直な方向の方が小さい。そこでグレーティ
ング３０の線引方向をこの放電方向に垂直な方向に一致
させると、グレーティング３０におけるビーム広がりを
最小にすることができ、これにより効率よく狭帯域化す
ることができる。
第２図（ａ＞　、（ｂ）はこの発明に係わる狭帯域発振
エキシマレーザの他の実施例を側面図および平面図で示
したものである。この実施例はいわゆる斜入射配置によ
って構成されたものである。なお、第２図以下の図面に
おいて第１図に示した実施例と同一の機能を果たす部分
には説明の便宜上同じ符号を付する。第２図に示した実
施例は第１図で示した実施例のグレーティング３０の部
分がグレーティング３１と全反射ミラー３２とによって
構成される。他の部分は第１図に示したものと同一であ
る。第２図に示した実施例では全反射ミラー３２がこの
狭帯域発振エキシマレーザのりャミラーとして機能し、
グレーティング３１が特定の波長のレーザ光を選択する
波長選択素子として機能する。この第２図に示した実施
例においてもグレーティング３１の線引方向はレーザチ
ャンバ２０内の電極２３．２４による放電方向と垂直と
なるように電極２３．２４、グレーティング３１、全反
射ミラー３２が夫々配置される。これによりグレーティ
ング３１の線引方向に照射されるレーザ光の広がりは最
小になり、グレーティング３１におけるビーム塩がりを
最小にすることができるので高効率て狭帯域化すること
が可能となる。
第３図（ａ）　、　（ｂ）はレーザチャンバ２０とグレ
ーティング３０との間にプリズムによるビームエキスパ
ンダを挿入したこの発明の他の実施例を側面図および平
面図で示したものである。第３図において、プリズム４
１．４２かレーザチャンバ２０から出力されたレーザビ
ームを拡大してグレーティング３１に照射させるビーム
エキスパンダを構成している。ここでグレーティング３
０の線引方向はレーザチャンバ２０内の電極２Ｂ、２４
による放電方向と垂直になっており、上記プリズム４１
．４２によるビームエキスパンダによるビーム拡大方向
（すなわちプリズムの陵線方向と垂直な方向）はグレー
ティング３０の線引方向、すなわちレーザチャンバ２０
内の電極２３．２４による放電方向と垂直な方向に一致
している。
このような構成のビームエキスパンダを用いることによ
り、グレーティング３０におけるビーム塩がり角がビー
ムエキスパンダの拡大率の逆数針だけ小さくなるので狭
帯域化の効率を高めることができる。
第４図（ａ）　、　（ｂ）は第３図に示した実施例のプ
リズム４１．４２によるビームエキスパンダの代わりに
２個のシリンドリカルレンズ４３．４４により構成され
たビームエキスパンダを用いたこの発明の他の実施例を
側面図および平面図で示したものである。この実施例の
場合も、グレーティング３０の線引方向はレーザチャン
バ２０内の電極２３．２４による放電方向と垂直にされ
、シリンドリカルレンズ４３．４４によるビームエキス
パンダのビーム拡大方向はグレーティング３０の線引方
向と一致するように構成される。
第５図（ａ＞　、　（ｂ）は第３図に示した実施例のグ
レーティング３０の代わりにグレーティング３１および
全反射ミラー３２を用いた斜入射配置をとるこの発明の
更に他の実施例を側面図および平面図で示したものであ
り、第６図（ａ）　、　（ｂ）は第４図示した実施例の
グレーティング３０の代わりにグレーティング３１およ
び全反射ミラー３２を用いた斜入射配置をとるこの発明
の更に他の実施例を側面図および平面図で示したもので
ある。
第５図（ａ）　、　（ｂ）に示す実施例においてグレー
ティング３１の線引方向はレーザチャンバ２０内の電極
２３．２４による放電方向と垂直にされ、プリズム４１
．４２によるビームエキスパンダのビーム拡大方向はグ
レーティング３１の線引方向と一致するように構成され
る。
また第６図（ａ）　、　（ｂ）に示す実施例において、
グレーティング３１の線引方向はレーザチャンバ２０内
の電極２３．２４による放電方向と垂直にされ、シリン
ドリカルレンズ４３．４４にヨルビームエキスパンダの
ビーム拡大方向はグレーティング３１の線引方向と一致
するように構成される。
第７図（ａ）　、　（ｂ）に示す実施例は第１図に示し
た実施例のフロントミラー１０とレーザチャンバ２０と
の間にアパーチャ５１を挿入し、レーザチャンバ２０と
グレーティング３０との間にアパーチャ５２を挿入した
他の実施例を側面図および平面図で示したものである。
ここでアパーチャ５１および５２はレーザチャンバ２０
内の電極２３．２４による放電方向に長い形状となって
いる。
第８図は第７図に示す装置をフロントミラー１０側から
見た図である。この場合°フロントミラー１０の後にア
パーチャ５１が見え、その後にレーザチャンバ２０が見
える。ここでアパーチャ５１の孔５１ａはレーザチャン
バ２０内の電極２３．２４による放電方向に長い長方形
となっている。
なお、レーザチャンバ２０とグレーティング３０の間に
挿入されるアパーチャ５２も第８図に示したアパーチャ
５１と同一形状である。
ところで前述したように、レーザチャンバ２０から出力
されるレーザビームの広がり角は電極２３．２４による
放電方向よりもこの放電方向に垂直な方向の方が小さく
なっている。したがって上述した実施例のように電極２
３．２４の放電方向に長い長方形のアパーチャ５１．５
２を用いることによりレーザチャンバ２０から出力され
るレーザ光を効率よく透過させることができ、これによ
って出力レベルのアパーチャ挿入による減衰を最小にお
さえることができる。なお、第７図に示した実施例にお
いては２箇所にアパーチャを挿入したが、これを１箇所
にすることもできる。また第２図乃至第６図に示した構
成においても第７図と同様のアパーチャを挿入すること
によって構成することもてきる。
なお、この場合においてもアパーチャの形状は電極の放
電方向に長い形状にされる。ただし、この形状は長方形
には限らず、例えば楕円形でもよい。またアパーチャを
挿入する箇所は２箇所に限らず１箇所でもよい、３箇所
以上でもよい。
なお、第１図、第３図、第４図、第７図に示すリトロ−
配置の実施例において、グレーティング３０は第９図に
示すようなニジエールグレーティングを用いると好適で
ある。ニジエールグレーティングは第９図に示すように
溝の頂角かほぼ直角となっており、またブレーズ角βの
大きなものか製作可能であるため、高効率てしかも高分
解能となっている。したがって上述したリトロ−配置の
第１図、第３図、第４図、第７図に示す実施例において
グレーティング３０として第９図に示すようなニジエー
ルグレーティングを用い、レーザ光の入射角および回折
角がそのプレース角を一致するようにすれば更に効率の
よい狭帯域化か可能になり、グレーティング単一段でも
充分な狭帯域化が実現できる。
第１Ｏ図（ａ）　１（ｂ）はこの発明の更に他の実施例
を側面図および平面図で示したものである。この実施例
は第１図に示した実施例のフロントミラー１０をシリン
ドリカルミラー６０に置換して構成されたものである。
この第１０図に示す実施例においてシリンドリカルミラ
ー６０はその機械軸（長さ方向に沿ってミラーを２分す
る軸）をレーザチャンバ２０内の電極２３．２４による
放電方向と一致させるようにして配置される。
またシリンドリカルミラー６０の曲率半径はレーザ光の
ビームウェストがグレーティング３ｏ上にくるように選
択される。すなわちシリンドリカルミラー６０の曲率半
径をＲ１レーザのキャビティ長、すなわちシリンドリカ
ルミラー６０とグレーティング３０の回転軸までの長さ
をＬとするときＲ−２Ｌの関係が成立するようにシリン
ドリカルミラー６０の曲率半径を選択する。またシリン
ドリカルミラー６０の機械軸とグレーティング３０の回
転軸を一致させる。
これによって更に高効率でレーザ光の狭帯域化を行なう
ことができる。
なお、第２図乃至第６図に示した構成においてもフロン
トミラー１０を第１０図に示したようなシリンドリカル
ミラーに置換することによって同様に高効率な狭帯域化
が可能になる。
また、第１０図に示した構成において、］または複数の
アパーチャを挿入することもできる。かかる構成の１例
か第１１図（ａ）　、　（ｂ）に側面図および平面図に
示される。
第１１図（ａ）　、（ｂ）において、シリンドリカルミ
ラー６０とレーザチャンバ２０との間にはアパーチャ５
１か配置され、レーザチャンバ２０とグレーティング３
０との間にはアパーチャ５２が配置される。ここでアパ
ーチャ５１および５２は例えば第８図に示したようにレ
ーザチャンバ２０内の電極２３．２４による放電方向に
長い形状のものである。
また、第２図乃至第６図のフロントミラー１０を第１０
図に示したようにシリンドリカルミラーに置換した構成
において、更に第１１図に示すようなアパーチャを１個
または複数個挿入して構成してもよい。
なお、上述した実施例においてレーザチャンバ内の電極
２３．２４による放電方向とグレーティング３０または
３１の線引方向とは必ずしも正確に垂直にする必要はな
い。グレーティング３０または３１の線引方向が電極２
３．２４による放電方向と略垂直になれば充分高効率な
波長制御が可能となる。
また、プリズム４１．４２またはシリンドリカルレンズ
４３．４４によるビームエキスパンダのビーム拡大方向
はグレーティング３０または３１の線引方向と正確に一
致する必要はない。ビームエキスパンダのビーム拡大方
向がグレーティング３０または３１の線引方向と略一致
すれば充分な高効率の波長制御が可能となる。
またフロントミラーとしてシリンドリカルミラー６０を
用いた構成においても、シリンドリカルミラー６０の機
械軸が電極２３．２４による放電方向と略一致し、また
シリンドリカルミラー６０の曲率が式Ｒ−２Ｌを略満足
するように決定されかつシリンドリカルミラー６０の機
械軸がグレーティングの回転軸と略一致するように構成
されれば充分な高効率が波長制御が可能となる。
〔発明の効果〕
以上説明したようにこの発明によれば非常に高効率で狭
帯域化かでき、しかも耐久性に優れた狭帯域発振エキシ
マレーザを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図（ａ）　、（ｂ）はリトコー配置をとるこの発明
の一実施例を示す側面図および平面図、第２図（ａ）　
、（ｂ）は斜入射配置をとるこの発明の他の実施例を示
す側面図および平面図、第３図（ａ）　、　（ｂ）はプ
リズムによるビームエキスパンダを用いたりドロー配置
をとるこの発明の他の実施例を示す側面図および平面図
、第４図（ａ）　、（ｂ）はシリンドリカルレンズによ
るビームエキスパンダを用いたりドロー配置をとるこの
発明の他の実施例を示す側面図および平面図、第５図（
ａ）　、　（ｂ）はプリズムによるビームエキスパンダ
を用いた斜入射配置をとるこの発明の他の実施例を示す
側面図および平面図、第６図（ａ）　、　（ｂ）はシリ
ンドリカルレンズによるビームエキスパンダを用いた斜
入射配置をとるこの発明の他の実施例を示す側面図およ
び平面図、第７図（ａ）　、　（ｂ）はアパーチャを挿
入したこの発明の他の実施例を示す側面図および平面図
、第８図は第７図に示す実施例をフロントミラ一方向か
ら見た図、第９図はニジエールグレーティングの一例を
示す図、第１０図（ａ）　、　（ｂ）はフロントミラー
としてシリンドリカルミラーを用いたこの発明の他の実
施例を示す側面図および平面図、第１１図（ａ）　、　
（ｂ）はフロントミラーとしてシリンドリカルミラーを
用い、かつアパーチャを挿入したこの発明の他の実施例
を示す側面図および平面図である。 １０・・フロントミラー、２０・・・レーザチャンバ、
２１．２２・・・ウィンド、２３．２４・・・電極、３
０゜３１・・・・グレーティング、３２・・・全反射ミ
ラー、４１．４２・・・プリズム、４３．４４・・・シ
リンドリカルレンズ、５１．５２・・アパーチャ、６０
・シリンドリカルミラー。 第１図（ａ） 第１図（ｂ） 第２図（ａ） 第２図（ｂ） ｚ４ 第４図（ａ） 第４図（ｂ） 第６図（ａ） ｊ］ 第６図（ｂ） 埋 第７図（ａ） 第７図（ｂ）

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）波長選択素子としてグレーティングを用いた放電
    励起による狭帯域発振エキシマレーザにおいて、 前記グレーティングを、その線引方向が前記放電励起の
    ための放電方向と略垂直となるように配置した狭帯域発
    振エキシマレーザ。
  2. （２）前記グレーティングは、エシエールタイプのグレ
    ーティングである請求項（１）記載の狭帯域発振エキシ
    マレーザ。
  3. （３）波長選択素子としてグレーティングを用いるとと
    もに該グレーティングへビームエキスパンダを介してレ
    ーザ光を照射する放電励起による狭帯域発振エキシマレ
    ーザにおいて、 前記グレーティングの線方向と前記ビームエキスパンダ
    のビーム拡大方向とが前記放電励起のための放電方向と
    それぞれ略垂直となるように前記グレーティングおよび
    ビームエキスパンダを配置した狭帯域発振エキシマレー
    ザ。
  4. （４）前記グレーティングは、エシエールタイプのグレ
    ーティングである請求項（３）記載の狭帯域発振エキシ
    マレーザ。
  5. （５）前記ビームエキスパンダは、プリズムを用いて構
    成され、前記プリズムの稜線方向は前記放電方向と略平
    行にされる請求項（３）記載の狭帯域発振エキシマレー
    ザ。
  6. （６）前記ビームエキスパンダは、シリンドリカルレン
    ズを用いて構成され、前記シリンドリカルレンズの機械
    軸は前記放電方向と略平行にされる請求項（３）記載の
    狭帯域発振エキシマレーザ。
  7. （７）波長選択素子としてグレーティングを用いるとと
    もに光共振器内にアパーチャを配置した放電励起による
    狭帯域発振エキシマレーザにおいて、前記グレーティン
    グを、その線引方向が前記放電励起のための放電方向と
    略垂直となるように配置するとともに、前記アパーチャ
    を前記放電方向に長い形状とした狭帯域発振エキシマレ
    ーザ。
  8. （８）波長選択素子としてグレーティングを用いるとと
    もに該グレーティングへビームエキスパンダを介してレ
    ーザ光を照射し、かつ光共振器内にアパーチャを配置し
    た放電励起による狭帯域発振エキシマレーザにおいて、 前記グレーティングの線引方向と前記ビームエキスパン
    ダのビーム拡大方向とが前記放電励起のための放電方向
    とそれぞれ略垂直となるように前記グレーティングおよ
    びビームエキスパンダを配置するとともに前記アパーチ
    ャを前記放電方向に長い形状にした狭帯域発振エキシマ
    レーザ。
  9. （９）波長選択素子としてグレーティングを用いた放電
    励起による狭帯域発振エキシマレーザにおいて、 光共振器のフロントミラーとしてシリンドリカルミラー
    を用い、 前記グレーティングを、その線引方向が前記放電励起の
    ための放電方向と略垂直となるように配置するとともに
    前記シリンドルカルミラーをその機械軸が前記放電方向
    と略平行になるように配置した狭帯域発振エキシマレー
    ザ。
  10. （１０）波長選択素子としてグレーティングを用いると
    ともに該グレーティングへビームエキスパンダを解して
    レーザ光を照射した放電励起による狭帯域発振エキシマ
    レーザにおいて、 光共振器のフロントミラーとしてシリンドリカルミラー
    を用い 前記グレーティングの線引方向と前記ビームエキスパン
    ダのビーム拡大方向とが前記放電励起のための放電方向
    とそれぞれ略垂直となるように前記グレーティングおよ
    びビームエキスパンダを配置するとともに前記シリンド
    リカミラーをその機械軸が前記放電方向と略平行になる
    ように配置した狭帯域発振エキシマレーザ。
  11. （１１）波長選択素子としてグレーティングを用いると
    ともに光共振器内にアパーチャを配置した放電励起によ
    る狭帯域発振エキシマレーザにおいて、前記光共振器の
    フロントミラーとしてシリンドリカルミラーを用い、 前記グレーティングを、その線引き方向が前記放電励起
    のための放電方向と略垂直となるように配置するととも
    に前記シリンドリカルミラーをその機械軸が前記放電方
    向と略平行になるように配置し、更に前記アパーチャを
    前記放電方向に長い形状にした狭帯域発振エキシマレー
    ザ。
  12. （１２）波長選択素子としてグレーティングを用いると
    ともに該グレーティングへビームエキスパンダを介して
    レーザ光を照射し、かつ光共振器内にアパーチャを配置
    した放電励起による狭帯域発振エキシマレーザにおいて
    、 前記光共振器のフロントミラーとしてシリンドリカルミ
    ラーを用い、 前記グレーティングの線引方向と前記ビームエキスパン
    ダのビーム拡大方向とが前記放電励起のための放電方向
    とそれぞれ略垂直となるように前記グレーティングおよ
    びビームエキスパンダを配置するとともに前記シリンド
    リカルミラーをその機械軸が前記放電方向と略平行にな
    るように配置し、更に前記アパーチャを前記放電方向に
    長い形状にした狭帯域発振エキシマレーザ。
  13. （１３）波長選択素子としてグレーティングを用いた放
    電励起による狭帯域発振エキシマレーザにおいて、 前記グレーティングを、エシエールタイプのグレーティ
    ングで構成した狭帯域発振エキシマレーザ。
  14. （１４）前記グレーティングは、その線引方向が前記放
    電励起のための放電方向と略垂直となるように配置した
    請求項（１３）記載の狭帯域発振エキシマレーザ。
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