JP2002237634A - 狭帯域発振レーザ - Google Patents

狭帯域発振レーザ

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JP2002237634A
JP2002237634A JP2001380190A JP2001380190A JP2002237634A JP 2002237634 A JP2002237634 A JP 2002237634A JP 2001380190 A JP2001380190 A JP 2001380190A JP 2001380190 A JP2001380190 A JP 2001380190A JP 2002237634 A JP2002237634 A JP 2002237634A
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JP
Japan
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grating
slit
laser
light
laser chamber
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Pending
Application number
JP2001380190A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Wakabayashi
理 若林
Masahiko Kowaka
雅彦 小若
Yujiyufu Kobayashi
諭樹夫 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】グレーティングの波長選択性を向上させるとと
もに、レーザチャンバ内のゲイン領域を有効的に活用で
きるようにする。 【解決手段】凹面鏡11、11′の焦点位置近傍にスリ
ット7が設けられ、このスリット7の長手方向とグレー
ティング6の溝方向とが平行になるように配置されたこ
とにより、レーザチャンバ3から出射された光のうち拡
散光がスリット7によって遮断され、凹面鏡11で反射
されてグレーティング6に入射する光が平行に近い光の
みにされ、さらにグレーティング6によって選択した特
定波長の光のみがスリット7を通過する。また、凹面鏡
11′で反射されてレーザチャンバ3内に戻る光の放電
幅方向の幅が放電幅とほぼ同じ大きさになり、この平行
に近い光がレーザチャンバ3内の全ゲイン領域上を通過
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はステッパー用の光源
として使用される狭帯域発振レーザに関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】半導体
装置製造用の縮小投影露光装置(以下、ステッパーとい
う)の光源としてエキシマレーザの利用が注目されてい
る。これはエキシマレーザの波長が短い(KrFの波長
は約248.4nm)ことから光露光の限界を0.5μ
m以下に延ばせる可能性があること、同じ解像度なら従
来用いていた水銀ランプのg線やi線に比較して焦点深
度が深いこと、レンズの開口数(NA)が小さくて済
み、露光領域を大きくできること、大きなパワーが得ら
れること等の多くの優れた利点が期待できるからであ
る。
【0003】さて、ステッパーの光源として利用される
エキシマレーザとしては線幅3pm以下の狭帯域化が要
求されている。
【0004】エキシマレーザの狭帯域化にはプリズムビ
ームエキスパンダ、グレーティング等の狭帯域化素子が
用いられる。
【0005】グレーティングを用いた従来技術では、グ
レーティングとレーザチャンバとの間に配置したスリッ
トによって、グレーティングに入射する光の拡がりを小
さくして、効率よい狭帯域化を行うようにしている。
【0006】グレーティングによって特定波長の平行光
が選択されると、この選択された平行光のみがスリット
を通過することにより波長選択性が向上する。
【0007】しかしながら、従来技術では、平行光の放
電幅方向の幅がスリットによって減少されて放電幅より
も小さくなるという事態が生じていた。
【0008】この従来技術について図8を参照して説明
する。図8ではレーザチャンバ83内の放電電極89側
からスリット87とレーザチャンバ83を見ている。な
お、レーザチャンバ83内のゲイン領域Gの放電幅W方
向の幅は、放電幅Wと同じである。
【0009】同図8に示すように、レーザチャンバ83
内に戻る平行光L′の放電幅W方向の幅W′は、スリッ
ト87によって減少されて放電幅Wよりも小さくなる。
【0010】すなわち平行光L′の放電幅W方向の幅
W′は、レーザチャンバ83内のゲイン領域Gの放電幅
W方向の幅よりも小さくなる。
【0011】したがって、平行光L′は全ゲイン領域G
上を通過することができない。
【0012】このため、従来技術ではレーザチャンバ8
3内のゲイン領域Gを有効的に活用することができなく
なり、発振効率が低下するという問題が生じる。
【0013】この発明はこのような事情に鑑みてなされ
たもので、グレーティングの波長選択性を向上させるこ
とができるとともに、レーザチャンバ内のゲイン領域を
有効的に活用することができる狭帯域発振レーザを提供
することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
にこの発明の主な発明では、狭帯域化素子としてグレー
ティングを具えた狭帯域発振レーザにおいて、前記グレ
ーティングとレーザチャンバとの間に、対の凹面鏡と当
該凹面鏡の焦点位置近傍に開口が配置されるスリットと
から成る空間フィルタを配置し、当該スリット開口の長
手方向とグレーティングの溝形成方向とを平行に配置す
るようにしている。
【0015】
【作用】かかる構成によれば、図7に示すように、凹面
鏡11、11′の焦点位置近傍にスリット7が設けら
れ、このスリット7の長手方向とグレーティング6の溝
方向とが平行になるように配置されたことにより、レー
ザチャンバ3から出射された光のうち拡散光がスリット
7によって遮断され、凹面鏡11で反射されてグレーテ
ィング6に入射する光が平行に近い光のみにされ、さら
にグレーティング6によって選択した特定波長の光のみ
がスリット7を通過する。また、凹面鏡11′で反射さ
れてレーザチャンバ3内に戻る光の放電幅方向の幅が放
電幅とほぼ同じ大きさになり、この平行に近い光がレー
ザチャンバ3内の全ゲイン領域上を通過する。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、この発明の狭帯域発振レー
ザの実施例を添付図面を参照して詳細に説明する。な
お、本実施例ではレーザとしてエキシマレーザを想定し
ている。
【0017】図1はこの発明の第1の実施例を示した側
面図である。
【0018】この第1の実施例は、フロントミラー1
と、リアミラーおよび波長選択素子の機能を有するグレ
ーティング6との間に、レーザチャンバ3、および波長
選択素子として機能する空間フィルタ20が配設され
る。空間フィルタ20はこの場合集光レンズ4、4′と
アパーチャ5で構成している。すなわちこの場合はフロ
ントミラー1とグレーティング6との間に光共振器が構
成されている。このグレーティングの配置は謂ゆるリト
ロー配置である。
【0019】レーザチャンバ3はその内にKrF等を含
むレーザガスが循環可能に充填され、更にレーザチャン
バ3の両端には所定の角度で配置されたウィンドウ2
a、2bが設けられている。
【0020】グレーティング6は、光の回折を利用して
特定波長の光を選択するもので、一定方向に配列された
多数の溝が形成されている。この明細書では溝形成方向
(図1では紙面に垂直な方向)を溝方向と称している。
グレーティング6は、この溝方向と平行な軸を回転軸と
して、入射光に対するグレーティング6の角度θを可変
させることにより、特定の波長の光を選択する。すなわ
ち、グレーティング6は入射光に対するグレーティング
の角度に対応する特定の光のみを所定の方向(この場合
入射方向)に反射させ、これによって特定の波長の光に
対する選択動作を行う。
【0021】このように、空間フィルタ20をレーザチ
ャンバ3とグレーティング6との間に配置することで、
グレーティング6に入射するビームの拡がりを小さくし
て、効率よい狭帯域化を行うようにしている。
【0022】なお第1の実施例において、アパーチャ5
の代わりにスリットを配置するようにしてもよい。ただ
し、スリットを配置する場合は、スリットの長手方向と
グレーティング6の溝方向とが平行になるように配置す
る。
【0023】このような構成によれば、レーザチャンバ
3から出射された光のうち拡散光がスリットによって遮
断され、集光レンズ4′、4を通過してグレーティング
6に入射する光が平行に近い光のみにされ、さらにグレ
ーティング6によって選択した特定波長の光のみがスリ
ットを通過する。これにより、波長選択性を向上させる
ことができ、効率よく狭帯域化することができる。
【0024】また、集光レンズ4′、4を通過してレー
ザチャンバ3内に戻る光の放電幅方向の幅が放電幅とほ
ぼ同じ大きさになり、この平行に近い光がレーザチャン
バ3内の全ゲイン領域上を通過する。これによりレーザ
チャンバ3内のゲイン領域を有効的に活用することがで
きようになり、発振効率を向上させることができる。
【0025】図2(a)、(b)は第1の実施例の空間
フィルタ20をシリンドリカルレンズ8、8′とスリッ
ト7で構成した第2の実施例を平面図および側面図で示
したものである。この第2の実施例では、シリンドリカ
ルレンズ8、8′によりレーザ光を線光線として集光す
るため、先の第1の実施例に比べてエネルギー密度がよ
り小さくなり、スリット7の寿命をより延ばすことがで
きる。
【0026】図3(a)、(b)は第1の実施例におけ
る放電方向とスリット7の配置方向との関係を特定した
第3の実施例を平面図および側面図で示したものであ
る。
【0027】この第3の実施例では、スリット7の長手
方向をレーザの放電方向とほぼ一致させることでスリッ
ト7によってけられるレーザ光を少なくし空間フィルタ
20の透過率を向上させている。すなわち、レーザチャ
ンバ3のウィンドウ2bから出力されるレーザビームの
広がり角は一般に電極9、9による放電方向すなわち電
極9、9の配列方向よりも、この放電方向に垂直な方向
の方が小さく、その形状は縦長の長方形状となってい
る。そこで、このレーザ断面形状に対応するようスリッ
ト7を配置することにより空間フィルタ20の透過率を
向上させて効率のよい狭帯域化をなし得るようにしてい
る。
【0028】図4(a)、(b)は第2の実施例におい
て放電方向とスリット7の長手方向とシリンドリカルレ
ンズ8、8′の中心軸(シリンドリカルレンズ8、8′
の長手方向に沿って、シリンドリカルレンズ8、8′の
中心を通る軸)をほぼ一致させ、さらにこれらの方向が
グレーティング6の溝方向とほぼ平行になるようにした
第4の実施例を平面図および側面図で示したものであ
る。
【0029】このように構成すれば、スリット7によっ
てけられるレーザ光が少なくなり、空間フィルタ20の
透過率が向上し、しかもシリンドリカルレンズ8、8′
により集光しているためにエネルギー密度が小さくな
り、スリット7の寿命をより延ばすことができる。さら
に、グレーティング6の溝方向も電極9、9による放電
方向に対して平行になるようにグレーティング6を配置
するようにしているので、グレーティング6におけるビ
ーム広がりが小さくされて、レーザ光が平行に近づき、
波長選択性を向上させることができ、効率よく狭帯域化
することができる。
【0030】図5(a)、(b)は第4の実施例にプリ
ズムビームエキスパンダ10を追加した第5の実施例を
平面図および側面図で示したものであり、プリズムビー
ムエキスパンダ10は空間フィルタ20とグレーティン
グ6の間に配置するようにしている。
【0031】ここで、ビームエキスパンダ10によるビ
ーム拡大方向はレーザチャンバ3内の電極9、9による
放電方向と垂直な方向に一致している。
【0032】このような構成によれば、ビームエキスパ
ンダ10によってビームを拡大するようにしているの
で、レーザビームのエネルギー密度がさらに小さくな
り、スリット7及びグレーティング6の寿命を延ばすこ
とができる。さらに、その拡大方向は電極9、9による
放電方向と垂直な方向のみであるので、グレーティング
に入射するビーム拡がり角が更に小さくされて、レーザ
光が平行に近づき、波長選択性を向上させることがで
き、効率よく狭帯域化することができる。
【0033】図6(a)、(b)は第4の実施例のシリ
ンドリカルレンズ8′の配置位置をずらせて空間フィル
タ20とビームエキスパンダとの機能を2個のシリンド
リカルレンズ8、8′とスリット7のみで実現した第6
の実施例を側面図および平面図で示したものである。
【0034】このようにすることにより、ビームエキス
パンダを省略することができる。
【0035】図7は空間フィルタ20を凹面鏡(または
軸外放物面鏡)11、11′とスリット7で構成した第
7の実施例である。
【0036】このような構成によれば、凹面鏡11、1
1′の焦点位置近傍にスリット7が設けられ、このスリ
ット7の長手方向とグレーティング6の溝方向とが平行
になるように配置されたことにより、レーザチャンバ3
から出射された光のうち拡散光がスリット7によって遮
断され、凹面鏡11で反射されてグレーティング6に入
射する光が平行に近い光のみにされ、さらにグレーティ
ング6によって選択した特定波長の光のみがスリット7
を通過する。これにより、波長選択性を向上させること
ができ、効率よく狭帯域化することができる。
【0037】また、凹面鏡11′で反射されてレーザチ
ャンバ3内に戻る光の放電幅方向の幅が放電幅とほぼ同
じ大きさになり、この平行に近い光がレーザチャンバ3
内の全ゲイン領域上を通過する。これによりレーザチャ
ンバ3内のゲイン領域を有効的に活用することができ
る。
【0038】なお、この凹面鏡(または軸外放物面鏡)
11、11′をシリンドリカル形状に構成すれば、スリ
ット7には線光線が集光されるためにスリット7の耐久
性を増すことができる。
【0039】なお、上述した実施例では、リトロー配置
のみを例示したが本発明は斜入射配置でも適用すること
ができる。また、実施例では空間フィルタ20として単
レンズを例にあげたが、収差補正を施した組レンズ、非
球面レンズなどを用いればさらに良好な狭帯域化をなし
得る。さらに色収差補正を施せば、レンズの色が変化し
ても焦点位置が変化しないためさらに良好な狭帯域化を
なし得る。
【0040】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、 (1)グレーティングの波長選択性を向上させることが
できる。
【0041】(2)レーザチャンバ内のゲイン領域を有
効的に活用することができる。
【0042】などの優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の第1の実施例を示す平面図であ
る。
【図2】図2(a)、(b)は本発明の第2の実施例を
示す平面図および側面図である。
【図3】図3(a)、(b)は本発明の第3の実施例を
示す平面図および側面図である。
【図4】図4(a)、(b)は本発明の第4の実施例を
示す平面図および側面図である。
【図5】図5(a)、(b)は本発明の第5の実施例を
示す平面図および側面図である。
【図6】図6(a)、(b)は本発明の第6の実施例を
示す平面図および側面図である。
【図7】図7(a)、(b)は本発明の第7の実施例を
示す平面図および側面図である。
【図8】図8は従来技術を示す図である。
【符号の説明】
3…レーザチャンバ 6…グレーティング 7…スリット 11、11′…凹面鏡 20…空間フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 諭樹夫 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内 Fターム(参考) 2H097 AA03 CA13 LA10 5F046 CA03 CB09 CB22 5F072 AA06 JJ13 KK06 KK07 KK09 KK18 RR05 YY09

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 狭帯域化素子としてグレーティングを
    具えた狭帯域発振レーザにおいて、 前記グレーティングとレーザチャンバとの間に、対の凹
    面鏡と当該凹面鏡の焦点位置近傍に開口が配置されるス
    リットとから成る空間フィルタを配置し、当該スリット
    開口の長手方向とグレーティングの溝形成方向とを平行
    に配置したことを特徴とする狭帯域発振レーザ。
  2. 【請求項2】 狭帯域素子としてグレーティングを具
    えた狭帯域発振レーザにおいて、 前記グレーティングとレーザチャンバとの間に、対のシ
    リンドリカルレンズと当該シリンドリカルレンズの焦点
    位置近傍に開口が配置されるスリットとから成る空間フ
    ィルタを配置し、当該スリット開口の長手方向とグレー
    ティングの溝形成方向とを平行に配置したことを特徴と
    する狭帯域発振レーザ。
JP2001380190A 2001-12-13 2001-12-13 狭帯域発振レーザ Pending JP2002237634A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004140265A (ja) * 2002-10-18 2004-05-13 Gigaphoton Inc 狭帯域化レーザ装置
CN100338529C (zh) * 2003-03-25 2007-09-19 富士胶片株式会社 曝光装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004140265A (ja) * 2002-10-18 2004-05-13 Gigaphoton Inc 狭帯域化レーザ装置
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Effective date: 20030805