JPH03173486A - 狭帯域化レーザ装置 - Google Patents
狭帯域化レーザ装置Info
- Publication number
- JPH03173486A JPH03173486A JP31070289A JP31070289A JPH03173486A JP H03173486 A JPH03173486 A JP H03173486A JP 31070289 A JP31070289 A JP 31070289A JP 31070289 A JP31070289 A JP 31070289A JP H03173486 A JPH03173486 A JP H03173486A
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- JP
- Japan
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- mirror
- laser
- etalon
- plane
- reflected
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- Pending
Links
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 13
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明はエタロンを用いた狭帯域化レーザ装置に関する
。
。
（従来の技術）
エタロンを共振器ミラー間に設けてレーザビームを狭帯
域化することが行われている。たとえば第２図は特開昭
６３−４５８７５号公報に開示された技術を模式的に示
したもので、エキシマレーザガスをレーザ媒質としたレ
ーザ発振部（１）と、このレーザ発振部（１）を間にし
て一方が出力ミラー（２）、他方が高反射ミラー（３）
になる一対の共振器ミラーと、高反射ミラー（３）とレ
ーザ発振部（１）との間に設けられたエタロン（４）と
を備えた構成になっている。レーザビーム（５）はエタ
ロン（４〉を通過することで狭帯域化される。
域化することが行われている。たとえば第２図は特開昭
６３−４５８７５号公報に開示された技術を模式的に示
したもので、エキシマレーザガスをレーザ媒質としたレ
ーザ発振部（１）と、このレーザ発振部（１）を間にし
て一方が出力ミラー（２）、他方が高反射ミラー（３）
になる一対の共振器ミラーと、高反射ミラー（３）とレ
ーザ発振部（１）との間に設けられたエタロン（４）と
を備えた構成になっている。レーザビーム（５）はエタ
ロン（４〉を通過することで狭帯域化される。
（発明が解決しようとする課題）
上記従来の構成ではレーザビーム（５）はエタロン（４
）を単一光路あたり１回しか通過しないため、狭帯域化
が不十分であり、また、エタロン（４）の１か所がレー
ザビーム（４）で加熱されることになり、平行度が狂う
など光学的な影響が出るなどして、出力が不安定になる
問題があった。本発明はこのような問題に対処するため
になされたもので、エタロンの全域をａ効に作用させて
狭帯域化を計ったレーザ装置を提供することを目的とす
る。
）を単一光路あたり１回しか通過しないため、狭帯域化
が不十分であり、また、エタロン（４）の１か所がレー
ザビーム（４）で加熱されることになり、平行度が狂う
など光学的な影響が出るなどして、出力が不安定になる
問題があった。本発明はこのような問題に対処するため
になされたもので、エタロンの全域をａ効に作用させて
狭帯域化を計ったレーザ装置を提供することを目的とす
る。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段と作用）
レーザ発振部に隣接して設けられた一方の共振器ミラー
と、この一方の共振器ミラーから反射しレーザ発振部を
通過した反射光をこの反射光の光路外に反射する第１の
平面鏡と、この第１の平面鏡に対面して上記反射光を折
返し反射させる第２の平面鏡と、この第２の平面鏡での
最終の折返し光をこの折返し光路に反射させる他方の共
振器ミラーと、上記第１・第２の平面鏡間で上記折返し
光路に交差して設けられたエタロンとを備えたもので、
折返し反射しながらエタロン内全域を通過する。
と、この一方の共振器ミラーから反射しレーザ発振部を
通過した反射光をこの反射光の光路外に反射する第１の
平面鏡と、この第１の平面鏡に対面して上記反射光を折
返し反射させる第２の平面鏡と、この第２の平面鏡での
最終の折返し光をこの折返し光路に反射させる他方の共
振器ミラーと、上記第１・第２の平面鏡間で上記折返し
光路に交差して設けられたエタロンとを備えたもので、
折返し反射しながらエタロン内全域を通過する。
（実施例）
以下、実施例を示す図面に基づいて本発明を説明する。
第１図において、（１０）はエキシマレーザを発生させ
るレーザ発振部で、ＫｒＦ等のガスレーザ媒質を一対の
主放電電極（１１）、（１２）の放電空間（１３）に流
し、パルス放電励起するようになっている。（１４）は
共振器ミラーの一方をなす出力ミラーで、レーザ発振部
（１０）の一端面に所定の距離をおいて対面している。
るレーザ発振部で、ＫｒＦ等のガスレーザ媒質を一対の
主放電電極（１１）、（１２）の放電空間（１３）に流
し、パルス放電励起するようになっている。（１４）は
共振器ミラーの一方をなす出力ミラーで、レーザ発振部
（１０）の一端面に所定の距離をおいて対面している。
一方、（１５）はレーザ発信部（ｌＯ）の他端面に対面
して設けられた第１の平面鏡で、上記放電空間（１３）
を通るレーザビーム（１６）が一端部に入射するととも
に、放電空間（１３）を通る光路外に反射させる角度に
設定されている。（１７）はこの第１の平面鏡（１５）
に所定距離をおいて対面した第２の平面鏡で、第１の平
面鏡（１５）と対をなしてレーザビーム（１６）をジグ
ザグ状の折返し反射させる角度に設定されている。（１
８）は共振器ミラーの他方をなす高反射ミラーで、上記
第２の平面鏡（１７）に対面し、上記折返し反射の最終
の反射光をそのまま入射光路に戻す角度に設定されてい
る。（２０）はエタロンで、第１、第２の平面鏡（１５
）、（１７）のほぼ中間に設けられている。上記各折返
し反射光はエタロン（２０）に同一角度でそれぞれ入射
するようになっている。
して設けられた第１の平面鏡で、上記放電空間（１３）
を通るレーザビーム（１６）が一端部に入射するととも
に、放電空間（１３）を通る光路外に反射させる角度に
設定されている。（１７）はこの第１の平面鏡（１５）
に所定距離をおいて対面した第２の平面鏡で、第１の平
面鏡（１５）と対をなしてレーザビーム（１６）をジグ
ザグ状の折返し反射させる角度に設定されている。（１
８）は共振器ミラーの他方をなす高反射ミラーで、上記
第２の平面鏡（１７）に対面し、上記折返し反射の最終
の反射光をそのまま入射光路に戻す角度に設定されてい
る。（２０）はエタロンで、第１、第２の平面鏡（１５
）、（１７）のほぼ中間に設けられている。上記各折返
し反射光はエタロン（２０）に同一角度でそれぞれ入射
するようになっている。
次に、上記構成の作用について説明する。レーザ発振部
で発生したレーザビーム（１６）は第１、第２の平面鏡
（１５）、（１７）間で折返し反射され、出力ミラー（
１４）、高反射ミラー（１８）間の共振によって出力ミ
ラー（１４）から取り出される。レーザビーム（１６）
は上記折返し反射毎にエタロン（２０）を透過するので
、透過回数が複数回となり、レーザビーム（１６）のス
ペックトル幅が十分に狭められた。測定した結果では、
エタロン（２０）の透過回数を単一光路あたり、１回か
ら２回にした場合、スペクトル幅は１１００ｐから７０
ｐｍと狭まった。また、３回とした場合は、５０ｐｍと
なった。
で発生したレーザビーム（１６）は第１、第２の平面鏡
（１５）、（１７）間で折返し反射され、出力ミラー（
１４）、高反射ミラー（１８）間の共振によって出力ミ
ラー（１４）から取り出される。レーザビーム（１６）
は上記折返し反射毎にエタロン（２０）を透過するので
、透過回数が複数回となり、レーザビーム（１６）のス
ペックトル幅が十分に狭められた。測定した結果では、
エタロン（２０）の透過回数を単一光路あたり、１回か
ら２回にした場合、スペクトル幅は１１００ｐから７０
ｐｍと狭まった。また、３回とした場合は、５０ｐｍと
なった。
なお、エタロン（２０）での光損失は、エタロン（２０
）の透過回数に比例して増加する。しかし、たとえばエ
キシマレーザのような比較的高い利得を有するレーザに
おいては利得媒質における人力、出力の関係が比例では
なく、低入力において大きい増幅度が得られる。したが
って、単一の透過時と比較して多重透過時での出力パワ
ーの減少はそれ程大きいものとはならない。また、上記
実施例では高反射鏡（１８）側にエタロン（２０）を設
けたが、これに限定されることなく、反対の構成、すな
わち上記実施例の構成で出力ミラー（１４）と高反射ミ
ラー （１８）とを互いに入れ替えた構成としても良い
。
）の透過回数に比例して増加する。しかし、たとえばエ
キシマレーザのような比較的高い利得を有するレーザに
おいては利得媒質における人力、出力の関係が比例では
なく、低入力において大きい増幅度が得られる。したが
って、単一の透過時と比較して多重透過時での出力パワ
ーの減少はそれ程大きいものとはならない。また、上記
実施例では高反射鏡（１８）側にエタロン（２０）を設
けたが、これに限定されることなく、反対の構成、すな
わち上記実施例の構成で出力ミラー（１４）と高反射ミ
ラー （１８）とを互いに入れ替えた構成としても良い
。
ただし、この入れ替えた場合では、出力の低下が大きく
なるが、狭帯域化の精度は向上する。
なるが、狭帯域化の精度は向上する。
［発明の効果］
エタロンにレーザビームを複数回透過させたので、より
狭帯域化を実現することができた。また、エタロンの透
過箇所を一箇所でなく、エタロンの全域に渡るようにし
たので、光学的に狂いが生じるような影響もなく、安定
して狭帯域化したレーザビームを出力することができる
ようになった。
狭帯域化を実現することができた。また、エタロンの透
過箇所を一箇所でなく、エタロンの全域に渡るようにし
たので、光学的に狂いが生じるような影響もなく、安定
して狭帯域化したレーザビームを出力することができる
ようになった。
第１図は本発明の位置実施例を示す構成図、第２図は従
来例を示す構成図である。 （１０）・・・レーザ発振部 （１４）・・・出力ミラー （１５）・ ・第１の平面鏡 （１７）・ ・第２の平面鏡 （１８）・ ・高反射鏡 （２０）・ エタロン
来例を示す構成図である。 （１０）・・・レーザ発振部 （１４）・・・出力ミラー （１５）・ ・第１の平面鏡 （１７）・ ・第２の平面鏡 （１８）・ ・高反射鏡 （２０）・ エタロン
Claims (1)
- レーザ発振部に隣接して設けられた一方の共振器ミラー
と、この一方の共振器ミラーから反射しレーザ発振部を
通過した反射光をこの反射光の光路外に反射する第１の
平面鏡と、この第１の平面鏡に対面して上記反射光を折
返し反射させる第２の平面鏡と、この第２の平面鏡での
最終の折返し光をこの折返し光路に反射させる他方の共
振器ミラーと、上記第１・第２の平面鏡間で上記折返し
光路に交差して設けられたエタロンとを備えたことを特
徴とする狭帯域化レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31070289A JPH03173486A (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | 狭帯域化レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31070289A JPH03173486A (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | 狭帯域化レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03173486A true JPH03173486A (ja) | 1991-07-26 |
Family
ID=18008443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31070289A Pending JPH03173486A (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | 狭帯域化レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03173486A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02105565A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-18 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| EP1026487A2 (en) * | 1999-02-04 | 2000-08-09 | Cymer, Inc. | Double pass etalon spectrometer |
| US6320663B1 (en) | 1999-01-22 | 2001-11-20 | Cymer, Inc. | Method and device for spectral measurements of laser beam |
| US6359693B2 (en) | 1999-02-04 | 2002-03-19 | Cymer, Inc. | Double pass double etalon spectrometer |
-
1989
- 1989-12-01 JP JP31070289A patent/JPH03173486A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02105565A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-18 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| US6320663B1 (en) | 1999-01-22 | 2001-11-20 | Cymer, Inc. | Method and device for spectral measurements of laser beam |
| EP1026487A2 (en) * | 1999-02-04 | 2000-08-09 | Cymer, Inc. | Double pass etalon spectrometer |
| EP1026487A3 (en) * | 1999-02-04 | 2000-12-13 | Cymer, Inc. | Double pass etalon spectrometer |
| US6243170B1 (en) | 1999-02-04 | 2001-06-05 | Cymer, Inc. | Double pass etalon spectrometer |
| US6359693B2 (en) | 1999-02-04 | 2002-03-19 | Cymer, Inc. | Double pass double etalon spectrometer |
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