JPH02206189A - 光学パルス流生成装置 - Google Patents
光学パルス流生成装置Info
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- JPH02206189A JPH02206189A JP1303462A JP30346289A JPH02206189A JP H02206189 A JPH02206189 A JP H02206189A JP 1303462 A JP1303462 A JP 1303462A JP 30346289 A JP30346289 A JP 30346289A JP H02206189 A JPH02206189 A JP H02206189A
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- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 50
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0057—Temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
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- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光学ソースに関し、特に、高パワー（出力）
と高繰返し速度を有する光学パルス流を生成する光学ソ
ースに関する。
と高繰返し速度を有する光学パルス流を生成する光学ソ
ースに関する。
［従来技術の説明］
多数の光学システムの応用において、高パワーと高繰返
し速度を有するレーザ光学ソースが必要とされている。
し速度を有するレーザ光学ソースが必要とされている。
そのような応用分野の一例として、光コンピュータがあ
り、ここでは、数ワットの平均出力で、ギガヘルツ（Ｇ
Ｈｚ）以上の高繰返し速度が要求されている。現在、こ
の２つの条件を満す光学ソースは存在しない。半導体レ
ーザはＧＨｚレベルの高繰返し速度で動作するが、数ミ
リワットの平均出力しかない。一方、固体レーザは数十
ワットの平均出力が得られるが、１００ＭＨｚ以下の繰
返し速度しかない。
り、ここでは、数ワットの平均出力で、ギガヘルツ（Ｇ
Ｈｚ）以上の高繰返し速度が要求されている。現在、こ
の２つの条件を満す光学ソースは存在しない。半導体レ
ーザはＧＨｚレベルの高繰返し速度で動作するが、数ミ
リワットの平均出力しかない。一方、固体レーザは数十
ワットの平均出力が得られるが、１００ＭＨｚ以下の繰
返し速度しかない。
［発明の概要］
高出力・高繰返し速度の光学ソースは、モードロック光
学パルス流の選択スペクトラルモードを伝送することに
より達成される。モードロックレーザからの隣接スペク
トラルモード間の分離を増加させることにより、光学パ
ルス流の繰り返し速度を必要な倍数だけ増加することが
できる。
学パルス流の選択スペクトラルモードを伝送することに
より達成される。モードロックレーザからの隣接スペク
トラルモード間の分離を増加させることにより、光学パ
ルス流の繰り返し速度を必要な倍数だけ増加することが
できる。
本発明の一実施例では、ファブリペローエタロンがモー
ドロック光学パルスソースに外部で結合されたスペクト
ルモードセレクタとして用いられる。エタロンのキャビ
ティ長を調整することによリ、このソースからの複数の
等間隔所定スペクトラムモード出力がエタロンから伝搬
される。伝搬されるスペクトラムモード出力はコヒーレ
ント結合され、ソースの繰返し速度より速い繰返し速度
を有する光学パルス流を生成する。各Ｍ番目のスペクト
ラルモードを伝搬することにより、それに対応して、繰
返し速度はＭ（ここで、Ｍは２以上の整数）倍で増加す
る。
ドロック光学パルスソースに外部で結合されたスペクト
ルモードセレクタとして用いられる。エタロンのキャビ
ティ長を調整することによリ、このソースからの複数の
等間隔所定スペクトラムモード出力がエタロンから伝搬
される。伝搬されるスペクトラムモード出力はコヒーレ
ント結合され、ソースの繰返し速度より速い繰返し速度
を有する光学パルス流を生成する。各Ｍ番目のスペクト
ラルモードを伝搬することにより、それに対応して、繰
返し速度はＭ（ここで、Ｍは２以上の整数）倍で増加す
る。
［実施例の説明］
第１図に、本発明の高繰返し速度・高出力光学パルスソ
ースが図示されている。本発明は、モードロック光学パ
ルス流の選択されたスペクトラルモードを伝搬すること
により、光学パルス流の繰返し速度を必要な倍数で増加
することができるという発見に基いている。
ースが図示されている。本発明は、モードロック光学パ
ルス流の選択されたスペクトラルモードを伝搬すること
により、光学パルス流の繰返し速度を必要な倍数で増加
することができるという発見に基いている。
安定モードロックレーザＩＯから光学パルス流１１が、
ファブリペローエタロン１２を介して伝搬する。
ファブリペローエタロン１２を介して伝搬する。
このファブリペローエタロン１２は、光学パルス流１１
よりも速い繰返し速度を有する光学パルス流１６を生成
する。モードロックレーザＩＯでは、生成される光学パ
ルス流１１のスペクトルは、（レーザのゲイン媒体によ
り決定される）スペクトル包路線以下のスペクトラルモ
ード（レーザスペクトルとも）と呼称される一連の線か
らなる。典型的なスペクトラムモード成分を表す第２図
に示すように、モードロックレーザ１０からの光学パル
ス流１１は、光周波数で振動する。その光周波数のスペ
クトラルモード分離Δｆは、次の式で表される。
よりも速い繰返し速度を有する光学パルス流１６を生成
する。モードロックレーザＩＯでは、生成される光学パ
ルス流１１のスペクトルは、（レーザのゲイン媒体によ
り決定される）スペクトル包路線以下のスペクトラルモ
ード（レーザスペクトルとも）と呼称される一連の線か
らなる。典型的なスペクトラムモード成分を表す第２図
に示すように、モードロックレーザ１０からの光学パル
ス流１１は、光周波数で振動する。その光周波数のスペ
クトラルモード分離Δｆは、次の式で表される。
Δｆ頗ｃ ／ ２１
ここで、Ｃは光の速度、１はモードロックレーザ共振器
長である。これらのスペクトラムモードは共振器に直交
する面では等しい空間エネルギ分布を有する。またこれ
らのスペクトラムモードを固定することにより、光学パ
ルス出力１１を固定繰返し速度Ｆｏ（スペクトラムモー
ド分離に等しい）を有する光学パルスの周期的列から構
成されるようになる。
長である。これらのスペクトラムモードは共振器に直交
する面では等しい空間エネルギ分布を有する。またこれ
らのスペクトラムモードを固定することにより、光学パ
ルス出力１１を固定繰返し速度Ｆｏ（スペクトラムモー
ド分離に等しい）を有する光学パルスの周期的列から構
成されるようになる。
第１図に示したように、リフレクタ１３．１５は光学媒
体１４と共に、ファブリペローエタロン１２を構成する
。第３図に示すように、このファブリペロエタロン１２
の伝搬対周波数プロフィールは、伝搬ピーク（自由スペ
クトラルレンジとして知られる）間の分離ｆＰＳＲを示
す。この分離は、リフレクタ１３，１５間の分離距離ｄ
と光学媒体１４の屈折率ｎに依存する。更に、この自由
スペクトラルレンジは、これらのパラメータに次式で関
係する。
体１４と共に、ファブリペローエタロン１２を構成する
。第３図に示すように、このファブリペロエタロン１２
の伝搬対周波数プロフィールは、伝搬ピーク（自由スペ
クトラルレンジとして知られる）間の分離ｆＰＳＲを示
す。この分離は、リフレクタ１３，１５間の分離距離ｄ
と光学媒体１４の屈折率ｎに依存する。更に、この自由
スペクトラルレンジは、これらのパラメータに次式で関
係する。
ｆ ＰＳＲ−Ｃ／ ２ ｎ ｄ
エタロン１２のリフレクタ１３．１５間の分離の距離は
、エタロン１２の伝搬ピーク間の分離がモードロックレ
ーザー０からのスペクトラムモード間の分離の１０倍に
なるよう、調整される。スペクトラルモードセレクタと
して動作すると、エタロン１２はモードロックレーザＩ
Ｏからの各Ｍ番目スペクトラムモードを伝搬する。これ
により、エタロン１２から伝搬される隣接スペクトルモ
ード間の分離を、光学パルス１１のスペクトルモード分
離に対して倍数で増加させる。繰返し速度はスペクトル
モード分離に等しいので、スペクトルモード分離のＭ倍
の増加は、パルス繰返し速度のＭ倍の増加になる。
、エタロン１２の伝搬ピーク間の分離がモードロックレ
ーザー０からのスペクトラムモード間の分離の１０倍に
なるよう、調整される。スペクトラルモードセレクタと
して動作すると、エタロン１２はモードロックレーザＩ
Ｏからの各Ｍ番目スペクトラムモードを伝搬する。これ
により、エタロン１２から伝搬される隣接スペクトルモ
ード間の分離を、光学パルス１１のスペクトルモード分
離に対して倍数で増加させる。繰返し速度はスペクトル
モード分離に等しいので、スペクトルモード分離のＭ倍
の増加は、パルス繰返し速度のＭ倍の増加になる。
もとのスペクトラムモードのＭ番目のものがエタ０ン１
２を介して伝搬されるので、光学パルス流１６の平均パ
ワーは、光学パルス１１の元の平均パワーの１／Ｍに減
少する。
２を介して伝搬されるので、光学パルス流１６の平均パ
ワーは、光学パルス１１の元の平均パワーの１／Ｍに減
少する。
エタロン１２で伝搬されないスペクトラルモードは、モ
ードロックレーザｌＯ方向に反射され、後続のエタロン
で更に処理される。これらの後続のエタロンのわずかな
長さの差が、同一のより高い繰返し速度を有するＭ個の
光学パルス１流の全部を獲得する為に、同一のスペクト
ラルモード分離を有する更にＭ−１セツトのスペクトラ
ルモードを選択するのに、使用される。
ードロックレーザｌＯ方向に反射され、後続のエタロン
で更に処理される。これらの後続のエタロンのわずかな
長さの差が、同一のより高い繰返し速度を有するＭ個の
光学パルス１流の全部を獲得する為に、同一のスペクト
ラルモード分離を有する更にＭ−１セツトのスペクトラ
ルモードを選択するのに、使用される。
［実験例コ
本発明の具体例が第４図に示される。ＣＷモード０ツク
Ｎｄ ： ＹＡＧレーザ（λ−１，０８μｍ）がモード
ロックレーザ４０として使用された。モードロックレー
ザ４０から生成された光学パルス流４１は次の特性を有
する。繰返し速度８２ＭＨｚ、スペクトラルモード分離
８２ＭＨｚ、パルス幅ｌＯＯピコ秒、スペクトル包絡線
幅１８Ｇ Ｈｚ 、平均円カフワット、光学パルス４１
は、立体ビーム偏光子４３と１１４波長板４４からなる
アイソレータ４２を介して伝搬する。アイソレータ４２
は、エタロン５０からの反射光（光学パルス５５）を再
指向し、光学パルス５５を出力し、モードロックレーザ
４０に戻るのを阻止し、破損を防止する。
Ｎｄ ： ＹＡＧレーザ（λ−１，０８μｍ）がモード
ロックレーザ４０として使用された。モードロックレー
ザ４０から生成された光学パルス流４１は次の特性を有
する。繰返し速度８２ＭＨｚ、スペクトラルモード分離
８２ＭＨｚ、パルス幅ｌＯＯピコ秒、スペクトル包絡線
幅１８Ｇ Ｈｚ 、平均円カフワット、光学パルス４１
は、立体ビーム偏光子４３と１１４波長板４４からなる
アイソレータ４２を介して伝搬する。アイソレータ４２
は、エタロン５０からの反射光（光学パルス５５）を再
指向し、光学パルス５５を出力し、モードロックレーザ
４０に戻るのを阻止し、破損を防止する。
エタロン５０内のりフレフタ５１．５３は、この実施例
では、直径２インチ、平面度１７２００波長、反射率Ｒ
−９８，７％である。リフレクタ５１．５３で封止され
た光学媒体５２は、ほぼ均一の光学屈折率を有する空気
である。フィネスＦと呼称されるパラメタはりフレフタ
５１．５３に、式πＪＲ／１−Ｒで反射率に関係し、Ｒ
が前記の値であれば、フィネスは９３．５である。アイ
ソレータ４２からの光学パルス流４５は、ガリレオ式望
遠鏡４６を介して伝搬し、これにより、光学パルス４９
の分散を最適化し、光学パルス４５のレイレー範囲をフ
ァブリペローエタロン５０を横切る光学長（２ｎＦｌ）
に適合させる。
では、直径２インチ、平面度１７２００波長、反射率Ｒ
−９８，７％である。リフレクタ５１．５３で封止され
た光学媒体５２は、ほぼ均一の光学屈折率を有する空気
である。フィネスＦと呼称されるパラメタはりフレフタ
５１．５３に、式πＪＲ／１−Ｒで反射率に関係し、Ｒ
が前記の値であれば、フィネスは９３．５である。アイ
ソレータ４２からの光学パルス流４５は、ガリレオ式望
遠鏡４６を介して伝搬し、これにより、光学パルス４９
の分散を最適化し、光学パルス４５のレイレー範囲をフ
ァブリペローエタロン５０を横切る光学長（２ｎＦｌ）
に適合させる。
本実施例では、ファブリペローエタロン５０を横切る光
学長は５７００ｃ＋ｎである。その結果、この長さのレ
イレー範囲を有する最小ビームくびれは６，２１ｍｌで
ある（１／ｅ直径で測定した）。従って、光学要素（凹
レンズ）４７と光学要素（凸レンズ）４８は、リフレク
タ５１上の光学パルス４９の入射のビームくびれが８．
２１ ｍｍであるよう選択される。
学長は５７００ｃ＋ｎである。その結果、この長さのレ
イレー範囲を有する最小ビームくびれは６，２１ｍｌで
ある（１／ｅ直径で測定した）。従って、光学要素（凹
レンズ）４７と光学要素（凸レンズ）４８は、リフレク
タ５１上の光学パルス４９の入射のビームくびれが８．
２１ ｍｍであるよう選択される。
ファブリペローエタロン５０は、微細移動段と圧セラミ
ック製造トランジューサを有する超インパール実験回路
（Ｓｕｐｅｒ−Ｉｎｖａｒ ｂｒｅａｄｂｏａｒｄ）上
に載置され、リフレクタ５１．５３間の分離距離ｄを正
確に調整する。繰返し速度を６倍に増加する為に、リフ
レクタ５１．５３間の分離距離は、伝搬ピーク間の分離
が、モードロックレーザ４０のスペクトルモード分離 調整される。かくして、リフレクタ５１．５３間の分離
距離ｄは、モードロックレーザ４０のキャビティ長ｌの
１／６である。
ック製造トランジューサを有する超インパール実験回路
（Ｓｕｐｅｒ−Ｉｎｖａｒ ｂｒｅａｄｂｏａｒｄ）上
に載置され、リフレクタ５１．５３間の分離距離ｄを正
確に調整する。繰返し速度を６倍に増加する為に、リフ
レクタ５１．５３間の分離距離は、伝搬ピーク間の分離
が、モードロックレーザ４０のスペクトルモード分離 調整される。かくして、リフレクタ５１．５３間の分離
距離ｄは、モードロックレーザ４０のキャビティ長ｌの
１／６である。
ファブリペローエタロン５０を介して伝搬されるモード
ロックレーザ４０のスペクトラルモードは、隣接スペク
トルモード分離間倍に増加している分離を有する（第６
図）。繰返し速度がスペクトラルモード分離に等しいと
すると、光学パルス流５４の繰返し速度は、光学パルス
流４１の繰返し速度の６倍である。光学パルス流５４の
理論的平均出力は、１．１６７ワツトであるが、実際の
出力は１ワツトである。この差はりフレフタ５１．５３
の光学錯乱に起因すると推測される。
ロックレーザ４０のスペクトラルモードは、隣接スペク
トルモード分離間倍に増加している分離を有する（第６
図）。繰返し速度がスペクトラルモード分離に等しいと
すると、光学パルス流５４の繰返し速度は、光学パルス
流４１の繰返し速度の６倍である。光学パルス流５４の
理論的平均出力は、１．１６７ワツトであるが、実際の
出力は１ワツトである。この差はりフレフタ５１．５３
の光学錯乱に起因すると推測される。
エタロン５０からのアイソレータ４２により再指向され
た反射光５５は、部品要素５０．４６の組合せに類似の
構成により更に処理される。各選択されたスペクトラル
モードにスペクトル的に隣接して、４９６ＭＨｚの繰返
し速度を有する第２光学パルス流を得る為に、個別に選
択された反射スペクトラルモードが示される。後続のエ
タロンの長さの微小差は、第２光学パルス流を得る為に
、光学パルス流５５からの反射スペクトラルモードを選
択するのに使用される。本実施例では、６個のより高速
な光学パルス流は５個のファブリペローエタロンを用い
て得られる。
た反射光５５は、部品要素５０．４６の組合せに類似の
構成により更に処理される。各選択されたスペクトラル
モードにスペクトル的に隣接して、４９６ＭＨｚの繰返
し速度を有する第２光学パルス流を得る為に、個別に選
択された反射スペクトラルモードが示される。後続のエ
タロンの長さの微小差は、第２光学パルス流を得る為に
、光学パルス流５５からの反射スペクトラルモードを選
択するのに使用される。本実施例では、６個のより高速
な光学パルス流は５個のファブリペローエタロンを用い
て得られる。
本実施例では、光学パルス流４１と光学パルス流４９の
スペクトラルモード分離Δｆは８２ＭＨｚである。第５
図に示すように、光学パルス流４９の時間分離Ｔ は繰
返し速度Ｆ。の逆数である。更に、個々のパルス幅τは
スペクトル包絡線の幅△ν（これはモードロックレーザ
４０のゲイン媒体に依存する）に逆比例する。エタロン
５０の伝搬バンド幅は、モードロックレーザ４０のスペ
クトル包絡線の幅Δνより広いので、光学パルス５４の
全体スペクトルは、光学パルス４１のそれと等しい。光
学パルス５４の個々のパルス幅（これは自己相関技術を
用いて測定される）は、１００ピコ秒で、これは、光学
パルス４１のパルス幅と同一である。
スペクトラルモード分離Δｆは８２ＭＨｚである。第５
図に示すように、光学パルス流４９の時間分離Ｔ は繰
返し速度Ｆ。の逆数である。更に、個々のパルス幅τは
スペクトル包絡線の幅△ν（これはモードロックレーザ
４０のゲイン媒体に依存する）に逆比例する。エタロン
５０の伝搬バンド幅は、モードロックレーザ４０のスペ
クトル包絡線の幅Δνより広いので、光学パルス５４の
全体スペクトルは、光学パルス４１のそれと等しい。光
学パルス５４の個々のパルス幅（これは自己相関技術を
用いて測定される）は、１００ピコ秒で、これは、光学
パルス４１のパルス幅と同一である。
各光学パルス流は、元のモードの１／６しか含まないと
いう事実に起因する平均出力の低減とは別に、エタロン
５０により伝搬されたモードのコヒーレント和は光学出
力パルス５４の振幅において、ピークからピークで約３
０％の変化がある（第７図）。スペクトルモード分離（
すなわち、Ｍの値）を増加させることは、ピークからピ
ークでの振幅の変化を増加させる。この振幅の変化は、
より高いフィネスのファブリペローエタロンを使用する
ことにより、低減される。
いう事実に起因する平均出力の低減とは別に、エタロン
５０により伝搬されたモードのコヒーレント和は光学出
力パルス５４の振幅において、ピークからピークで約３
０％の変化がある（第７図）。スペクトルモード分離（
すなわち、Ｍの値）を増加させることは、ピークからピ
ークでの振幅の変化を増加させる。この振幅の変化は、
より高いフィネスのファブリペローエタロンを使用する
ことにより、低減される。
ファブリペローエタロン５０に光学ゲインを導入する（
リフレクタ５１．５３間にＮｄ：ＹＡＧロッドを配置す
る）ことにより、振幅の安定性を増加させる。熱負荷に
よるレーザキャビティの長さの変化は、ダイオードポン
プ固体レーザ（熱負荷がないか、はとんどない）を用い
ることにより、最小化できる。
リフレクタ５１．５３間にＮｄ：ＹＡＧロッドを配置す
る）ことにより、振幅の安定性を増加させる。熱負荷に
よるレーザキャビティの長さの変化は、ダイオードポン
プ固体レーザ（熱負荷がないか、はとんどない）を用い
ることにより、最小化できる。
第６図は、第４図のファブリペローエタロンの典型的な
光学出力パルスのスペクトラルモード振幅対周波数のプ
ロフィール、 第７図は、第４図のエタロンの典型的な光学出力パルス
の振幅対時間のプロフィールである。
光学出力パルスのスペクトラルモード振幅対周波数のプ
ロフィール、 第７図は、第４図のエタロンの典型的な光学出力パルス
の振幅対時間のプロフィールである。
出 願 人：アメリカン テレフォン アンド
第１図は、本発明の高繰返し速度・高出力を生成する光
学装置のブロックダイヤグラム、第２図は、第１図のモ
ードロックレーザの光学出力パルスのスペクトラルモー
ド振幅対周波数のプロフィール、 第３図は、第１図のファブリペローエタロンの伝搬対周
波数のプロフィール、
学装置のブロックダイヤグラム、第２図は、第１図のモ
ードロックレーザの光学出力パルスのスペクトラルモー
ド振幅対周波数のプロフィール、 第３図は、第１図のファブリペローエタロンの伝搬対周
波数のプロフィール、
Claims (18)
- （１）第１繰返し速度のモードロック光学パルスを発生
させるソース； 前記ソースに結合されて、第１繰返し速度より速い第２
繰返し速度で光学パルス流を生成する為に、前記ソース
から少なくとも２つの所定スペクトラルモード出力を選
択する手段； を有することを特徴とする光学パルス流生成装置。 - （２）選択手段は、エタロンを構成する為に、平行でか
つ所定距離隔て配置された第１、第２リフレクタを有し
、 ここで、前記所定距離とは、エタロンが前記ソースから
少なくとも２つの所定スペクトラルモード出力を伝送す
るに必要な距離である ことを特徴とする請求項１記載の装置。 - （３）前記所定距離は、３個以上のモードが前記ソース
で選択された時、前記エタロンが、前記ソースからの複
数の等間隔のスペクトラルモードを伝送するに必要な距
離である ことを特徴とする請求項２記載の装置。 - （４）前記選択手段は、第１繰返し速度で発生する光学
パルスをビームシェープする手段を有し、このビームシ
ェープ手段は、モードロック光学パルスソースとエタロ
ンとの間に配置されることを特徴とする請求項２記載の
装置。 - （５）前記選択手段は、光学パルスが前記ソースに戻る
のを阻止する為に、第１繰返し速度で発生する光学パル
スを分離する手段を有することを特徴とする請求項４記
載の装置。 - （６）モードロック光学パルスソースは、レーザである
ことを特徴とする請求項５記載の装置。 - （７）エタロンは、第２繰返し速度の前記光学パルス流
を所定のパワーレベルまで光学的に増幅する手段を有し
、 この光学的増幅手段はエタロン内に配置されるゲイン媒
体を有する ことを特徴とする請求項６記載の装置。 - （８）ゲイン媒体はＮｄ：ＹＡＧロッドであることを特
徴とする請求項７記載の装置。 - （９）少なくとも、第１、第２の光学パルス流を生成す
る光学装置において、 第１繰返し速度のモードロック光学パルスを発生するソ
ース； 第１繰返し速度より速い第２繰返し速度の第１、第２の
光学パルス流を生成する為に、前記ソースから少なくと
も２つの所定スペクトラルモード出力を選択する少なく
とも第１、第２の選択手段；第１選択手段から反射され
る複数のスペクラルモードを第２選択手段へ光学的に指
向する手段；とを有することを特徴とする光学パルス流
生成装置。 - （１０）第１、第２の選択手段は、エタロンを形成する
為に、平行でかつ所定距離隔て配置された第１、第２リ
フレクタを有し、 ここで、前記所定距離とは、エタロンが前記ソースから
少なくとも２つの所定スペクトラルモード出力を伝送す
るに必要な距離である ことを特徴とする請求項９記載の装置。 - （１１）前記所定距離は、３個以上のモードが前記選択
手段で選択された時、前記エタロンが、前記ソースから
の複数の等間隔のスペクトラルモードを伝送するに必要
な距離である ことを特徴とする請求項１０記載の装置。 - （１２）前記第１、第２選択手段は、第１繰返し速度で
発生する光学パルスをビームシェープする手段を有し、 このビームシェープ手段は、モードロック光学パルスソ
ースとエタロンとの間に配置されることを特徴とする請
求項１１記載の装置。 - （１３）前記第１、第２選択手段は、光学パルスが前記
ソースに戻るのを阻止する為に、第１繰返し速度で発生
する光学パルスを分離する手段を有することを特徴とす
る請求項１２記載の装置。 - （１４）第１、第２の光学パルス流は、異なる第２繰返
し速度を有することを特徴とする請求項１３記載の装置
。 - （１５）第１、第２の光学パルス流は、ほぼ等しい第２
繰返し速度を有することを特徴とする請求項１３記載の
装置。 - （１６）モードロック光学パルスソースは、レーザであ
ることを特徴とする請求項１５記載の装置。 - （１７）エタロンは、第２繰返し速度の前記光学パルス
流を所定のパワーレベルまで光学的に増幅する手段を有
し、 この光学的増幅手段はエタロン内に配置されるゲイン媒
体を有する ことを特徴とする請求項１６記載の装置。 - （１８）ゲイン媒体はＮｄ：ＹＡＧロッドであることを
特徴とする請求項１７記載の装置。
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