DE29907349U1 - Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung - Google Patents

Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung

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Description

Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
Die Erfindung betrifft einen Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung hoher spektraler Reinheit mit einem Resonator, der ein laseraktives Medium zwischen reflektierenden Elementen und zumindest ein wellenlängenselektives Element aufweist, und einer wellenlängenselektiven Auskoppeleinrichtung zum Auskoppeln der Strahlung aus dem Laser-Resonator.
Ein solcher Laser ist aus der U.S. Patentschrift 5 856 991 (Ershov) bekannt. Der dort beschriebene Excimerlaser weist als wellenlängenselektives Element im Resonator ein Gitter auf und ein Etalon als wellenlängenselektive Auskoppeleinrichtung zum Auskoppeln von Strahlung aus dem Resonator.
Die Erfindung befaßt sich mit dem Problem, bei einem solchen Laser möglichst schmalbandige Strahlung mit hoher Stabilität zu erzeugen. Dies ist insbesondere beim Einsatz in der Fotolithographie zur Erzeugung integrierter Schaltungen wichtig. Hierzu sind Wellenlängen < 250 nm erforderlich, um Strukturen mit Abmessungen < 0,25 &mgr;&pgr;&igr; zu erzeugen (für Strukturen mit Abmessungen < 0,18 ßm sind Wellenlängen < 200 nm erforderlich). In solchen Wellenlängenbereichen sind achromatisch abbildende Optiken kaum herstellbar. Deshalb muß die vewendete Strahlung sehr schmalbandig sein,um die Abbildungsfehler aufgrund der chromatischen Aberration klein zu halten. Im Einsatzbereich der Fotolithographie, um die es bei der vorliegenden Erfindung insbesondere geht, sind für brechende Abbildungsoptiken Bandbreiten im Bereich < 0,6 pm akzeptabel.
Eine andere wichtige Strahlungseigenschaft bei solchen Verwendungen von Laserstrahlung ist die sog. Spektrale Reinheit (spectral purity, auch "95 % Integral" genannt). Die spektrale Reinheit der Strahlung kann z. B. durch dasjenige Wellenlängenintervall angegeben werden, in dem 95 % der gesamten Pulsenergie liegt.
Der Stand der Technik kennt vielfältige Versuche, die Bandbreite und die spektrale Reinheit zu verbessern.
Ein Ansatz zur Verbesserung der spektralen Reinheit ist die Erkenntnis, daß die sog. Wellenfrontkrümmung erheblichen Einfluß auf die Bandbreite und insbesondere die spektrale Reinheit der abgegebenen Laserstrahlung hat. Das deutsche Gebrauchsmuster 298 22 090 beschreibt Laser, bei denen eine derartige Wellenfrontkrümmung korrigiert wird.
Ein weiterer Ansatz zur Verbesserung der Bandbreite und der spektralen Reinheit wird in den US-Patenten 5 150 37 0 (Furuya et al.) und 5 559 816 (Basting und Kleinschmidt) verfolgt. Dort werden jeweils zwei polarisationsgekoppelte Resonatoren vorgeschlagen, bei denen die Haupt-Lichterzeugung in einem ersten Resonator stattfindet und die Wellenlangenselektion mittels eines Etalons durchgeführt wird, das in einem zweiten Resonator mit relativ geringer Strahlungsleistung angeordnet ist. Auch die U.S. Patente 5 835 520 (Palash et al.) und 5 150 370 (Furuya et al.) beschreiben Anordnungen, bei denen die wellenlängenselektiven Einheiten auf einer Seite des laseraktiven Mediums angeordnet sind.
Die U.S. Patente 5 852 627 und 5 856 991 (Ershov) und 5 559 816 (Basting et al.) eröffnen die Möglichkeit, wellenlängenselektive optische Elemente auf beiden Seiten des aktiven Mediums anzuordnen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einem Laser die Bandbreite der abgegebenen Strahlung und deren spektrale Reinheit mit einfachen und zuverlässigen Mitteln zu verbessern.
Gemäß der Erfindung wird dieses Ziel durch eine wellenlängenselektive Auskoppeleinrichtung in Form eines Prismas oder dergleichen erreicht.
Gemäß einer ersten Variante ist das Prisma im engeren Sinn so angeordnet, daß die Laserstrahlung aus dem Resonator auf eine
- 3 1
Seite des gleichschenkligen Prismas (insbesondere senkrecht) auftrifft, an der Grundfläche reflektiert wird und die Ausgangsstrahlung des Lasers aus der anderen gleichschenkligen Seite des Prismas austritt (insbesondere unter einem rechten Winkel zu der Fläche). Dabei erfolgen an den nicht beschichteten Flächen des gleichschenkligen Prismas Reflexionen mit Reflexionsgraden im Bereich von wenigen Prozenten (z. B. 4 %) (sog. Fresnel-Reflexionen) und es ergibt sich eine sog. 2-Strahl-Interferenz mit einem bestimmten freien Spektralbereich (free spectral range) und somit eine Bandbreitenreduzierung und Verbesserung der spektralen Reinheit.
Das "Prisma" im Sinne der vorliegenden Erfindung braucht nicht im engeren Sinne ein massiver, im Schnitt dreieckiger Glaskörper zu sein. Gemäß einer Variante der Erfindung weist die wellenlängenselektive Auskoppeleinrichtung zwei strahlungsdurchlässige Platten auf, die in der Art eines Prismas zueinander gewinkelt angeordnet sind, wobei die durchlaufende Strahlung an einem im Strahlungsweg zwischen den Platten angeordneten Spiegel reflektiert wird.
Gemäß einer weiteren Variante der Erfindung weist die wellenlängenselektive Auskoppeleinrichtung einen Winkel-Spiegel mit einer davor angeordneten Platte auf, wobei durch Teilreflexion an der Platte zwei interferrierende Strahlen entstehen.
Bevorzugte Ausgestaltungen der erfindungsgemäßen Laser sind in den abhängigen Schutzansprüchen beschrieben.
Die Erfindung beruht auf dem Prinzip, durch gewinkelte Anordnung von teilreflektierenden Flächen und Spiegeln eine 2-Strahl-Interferenz oder Vielstrahl-Interferenz zu erzeugen, die auf den Laserresonator rückwirkt und so eine Wellenlängenselektion und eine Verbesserung der spektralen Reinheit erreicht.
Die erfindungsgemäß vorgesehene prismenartige Anordnung der Elemente ist eine "verallgemeinerte" Struktur zur Erzeugung von Zwei- oder Vielstrahl-Interferenzen. Die erfindungsgemäß
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zusätzlich in den Strahlengang eingeführte dritte Reflexionsfläche bietet (anders als ein Etalon) die Möglichkeit einer Wellenlängendurchstimmung (Wellenlängenänderung) aufgrund zusätzlicher physikalischer Effekte, wie z. B. einer Phasenänderung der Reflektivität durch gesteuerte Totalreflexion.
Weiterhin bieten die erfindungsgemäßen Lösungen den Vorteil, daß die zwei reflektierenden Oberflächen, die für die Zweistrahl- oder Vielstrahl-Interferenzen maßgeblich sind, bei den prismenartigen Anordnungen selbst nicht bewegt werden. Bei einem Etalon (US 5,856,991) muß zumindest ein Etalonspiegel bei der Wellenlängenabstimmung (tuning) bewegt werden.
Insbesondere ist die Erfindung zur Verwirklichung bei einem Excimer-Laser geeignet, z. B. einem KrF-Excimer-Laser, oder auch mit einem F2-Laser.
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt:
Figur 1 schematisch die Gesamtanordnung eines Lasers
mit einer wellenlängenselektiven Auskoppeleinrichtung;
Figur 2 schematisch das Prinzip der erfindungsgemäßen wellenlängenselektiven Auskoppelung der Strahlung aus dem Laserresonator;
Figur 3 ein weiteres Ausführungsbeispiel einer wellenlängenselektiven Auskoppe!einrichtung;
Figur 4 ein weiteres Ausführungsbeispiel einer
wellenlängenselektiven Auskoppeleinrichtung;
Figur 5 ein weiteres Ausführungsbeispiel einer wellenlängenselektiven Auskoppeleinrichtung und
Figur 6 eine Abwandlung der wellenlängenselektiven Auskoppeleinrichtung gemäß Figur 5.
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Figur 1 zeigt einen Laserresonator 10 mit einem laseraktiven Medium 12, einem wellenlängenselektiven Element 14 und einer Auskoppeleinrichtung 16 zum Auskoppeln von Strahlung 20 aus dem Laserresonator. Beispielsweise kann es sich um einen Excimer-Laser (z. B. KrF) handeln mit einem Gitter als wellenlängenselektivem Element 14.
Die ausgekoppelte Laserstrahlung 20 ist in weiter unten näher beschriebener Weise hinsichtlich ihrer Bandbreite und spektralen Reinheit den eingangs genannten Anforderungen entsprechend verbessert. Die Laserstrahlung passiert einen teildurchlässigen Spiegel 18 und ein geringer Anteil der Strahlung wird in ein Wellenlängenmeßgerät 22 eingegeben, dessen Meßergebnis in eine Steuerung 24 übertragen wird. Die Steuerung 24 steuert über Steuersignale 2 6 bzw. 28 sowohl das wellenlängenselektive Element 14 (also z. B. das Gitter) als auch die wellenlangenselektive Auskoppeleinrichtung 16, von der nachfolgend mehrere Ausführungsbeispiele beschrieben werden.
Figur 2 zeigt schematisch zur Erläuterung das allgemeine Prinzip und ein erstes Beispiel einer erfindungsgemäßen wellenlängenselektiven Auskoppeleinrichtungen 16. Ein Prisma weist gleichschenklige Seitenflächen 32, 34 auf, d. h. die Strecke AB ist gleich der Strecke AC. Z. B. kann als Material für das Prisma CaF2 vorgesehen sein.
Der Einfallswinkel des Strahles auf die Grundfläche BC des Prismas 30 sei &agr;. Wenn &agr; < &thgr; = aresin (l/n) (wobei &thgr; der Winkel der Totalreflexion und &eegr; der Brechungsindex sind), muß die Oberfläche CB zur Reflexion entsprechend beschichtet sein, d. h. eine hochreflektierende Beschichtung (HR) aufweisen. Ist der Winkel &agr; > &thgr;, so findet Totalreflexion statt, auch wenn die Oberfläche CB nicht hochreflektierend beschichtet ist. Die Oberflächen 32, 34 (also AB und AC) sind nicht
- 9 -::.. I I. 1G-82 014
beschichtet, weshalb dort nur eine sog. Fresnel-Reflexion stattfindet mit Reflexionsgraden von wenigen Prozent, z. B. 4 %.
Der Laserstrahl 3 6 (vgl. auch Figur 1) tritt in Figur 2 von unten kommend unter einem rechten Winkel durch die Oberfläche 32 in das Prisma 3 0 ein und wird gemäß der durchgezogenen Linie an der Grundfläche BC total reflektiert. Der Strahl tritt dann unter einem Winkel von 90° durch die zweite Fläche 34 aus dem gleichschenkligen Prisma (gleiche Schenkel 32, 34) aus. Der austretende Strahl ist mit dem Bezugszeichen 2 0 gekennzeichnet (vgl. auch Figur 1). Wie gesagt, wird ein kleiner Teil der Strahlung an der nicht beschichteten Fläche 34 reflektiert. Dies ist in Figur 2 mit gestrichelter Linie angedeutet. Es kommt zu einer 2-Strahl-Interferenz. Dabei ist der freie Spektralbereich FSR gegeben durch FSR = &lgr;2/(2nh). Um einen freien Spektralbereich FSR von 2pm bei einer Wellenlänge von &lgr; = 248 nm und bei einem Brechungsindex &eegr; von 1,5 zu erreichen, muß die Höhe h (Figur 2) des Prismas etwa im Bereich von 10 mm liegen.
Figur 3 zeigt ein abgewandeltes Ausführungsbeispiel einer wellenlängenselektiven Auskoppeleinrichtung 16, die, wie auch die nachfolgenden weiteren Ausführungsbeispiele, jeweils an Stelle der Auskoppeleinrichtung 16 in einem Laser gemäß Figur 1 einsetzbar ist. Die in die Auskoppeleinrichtung eintretende Resonatorstrahlung ist in allen Figuren mit dem Bezugszeichen 3 6 gekennzeichnet und die aus der Auskoppeleinrichtung austretende Strahlung (d. h. die "ausgekoppelte" Laserstrahlung) mit 20.
Beim Ausführungsbeispiel gemäß Figur 3 sind zwei strahlungsdurchlässige Platten 40, 42 unter einem Winkel &bgr; zueinander angeordnet. Senkrecht zur Winkelhalbierenden des Winkels &bgr; steht ein hochreflektierender Spiegel 44 mit einer hochreflektierenden (HR) Vorderfläche 44a.
&bull; ·
&bull; · &bull; ·
Die Außenseiten 40a bzw. 42a der beiden Platten 40 bzw. 42 sind antireflektierend (AR) beschichtet, d. h. nichtreflektierend. Teil-Reflexionen der Strahlung (die obengenannten Fresnel-Reflexionen) mit Reflexionskoeffizienten im Bereich von wenigen Prozent treten also nur an den inneren Plattenflächen 40b bzw. 42b auf. Sie führen zur anhand der Figur 2 bereits erläuterten 2-Strahl-Interferenz. Die beiden Platten 40, 42 können z. B. aus CaF2 oder MgF2 bestehen. Eine Abstimmung (tuning) der Wellenlänge kann durch Bewegung des Spiegels 44 in Richtung des Doppelpfeiles 46 erfolgen. Z. B. kann der Spiegel 44 mit einem piezo-elektrischen Kristal in der erforderlichen Weise um sehr kleine Wegstrecken verschoben werden. Dabei bleibt der Spiegel senkrecht zur Winkelhalbierenden des Winkels ß. Der freie Spektralbereich FSR ergibt sich zu &lgr;2/(2&eegr;&eegr;). Ein besonderer Fall ist der eines Winkels &bgr; = 90° (dieser Fall ist in Figur 1 schematisch gezeigt) .
Figur 4 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel einer wellenlängenselektiven Auskoppeleinrichtung 16". Hier ist eine Platte 52 aus z. B. CaF2 oder MgF2 auf ihrer Außenseite 52a anti-reflektierend beschichtet und die Resonatorstrahlung 36 tritt senkrecht durch die Platte 52 (in Figur 4 von unten kommend). Hinter der Platte 52 ist ein Spiegel 50 mit zwei gewinkelten, hochreflektierenden (HR) Spiegelflächen 50a, 50b angeordnet. Die beiden Spiegelflächen 50a, 50b stehen beim gezeigten Ausführungsbeispiel in einem Winkel von 90° und bilden zusammen mit den Flächen der Platte 52 jeweils ein gleichschenkliges Dreieck. Hier werden die zwei interferrierenden Strahlen an nur einer einzigen Platte, nämlich der Platte 52, erzeugt. Die Teilreflexion (mit einem Reflexionsgrad von wenigen Prozent) erfolgt an der "inneren" Fläche 52b der Platte 52. Durch die Ausbildung der beiden hochreflektierenden Spiegelflächen 50a, 50b in einem Block 50 ist diese Anordnung stabil gegen geringfügige DeJustierungen des Spiegels beim Abstimmen der Wellenlänge. Beim Abstimmen der Wellenlänge wird mittels eines piezoelektrischen Elementes der Spiegel 50 in Richtung des Doppelpfeiles P senkrecht zur Ebe-
-?-:;.. &idigr; &iacgr;&iacgr; · * ·· .: ig-82oi4
ne der Platte 52 verschoben. Auch hier ist der freie Spektralbereich FSR der wellenlängenselektiven Anordnung gegeben durch &lgr;2/(2&eegr;&eegr;). Die beiden Spiegelflächen 50a, 50b stehen bevorzugt in einem rechten Winkel zueinander.
Figur 5 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel mit einem Prisma 60 und einem parallel zu dessen Grundfläche angeordneten Spiegel 62, der in Richtung des Doppelpfeiles 64 mit einem piezoelektrischen Element im Bezug auf die Grundfläche des Prismas 60 verschiebbar ist. Der Abstand zwischen der vorderen Fläche des Spiegels 62 und der Grundfläche 66 des Spiegels 60 ist in Figur 5 mit "d" bezeichnet. Auch diese wellenlängenselektive Auskoppeleinrichtung 16'" beruht auf 2-Strahl-Interferenz.
An der Grundfläche 66 des Prismas 60 erfolgt Totalreflexion. Das Prisma 60 besteht z. B. aus CaF2 oder MgF2. Die Strahlung 3 6 tritt in das Prisma 60 ein und an der Grundfläche 66 erfolgt eine Totalreflexion, d. h. der Einfallswinkel &agr; ist > &thgr; = aresin (l/n) (&THgr; ist der Winkel der Totalreflexion).
Der Abstand d zwischen der total-reflektierenden Oberfläche 66 und dem Spiegel 62 wird in Richtung des Pfeiles 64 (also in Richtung der Flächennormalen der Grundfläche 66 und des Spiegels 62) justiert. Eine Variation der optischen Weglängen wird erreicht durch eine Variation der Phase des Reflexionskoeffizienten R des total-reflektierenden Prismas. R ergibt sich in guter Näherung (&agr; « &thgr;) durch
R = 1 + i (st/cosa exp(-2Kd); |r| « i) &kgr; = (2&pgr;/&lgr;)3; s = ((&eegr; sina)2-!)*5; t = 4n (Polarisation senkrecht zur Einfallsebene) t = 4/n (Polarisation parallel zur Einfallsebene)
Dabei ist &kgr; der Abschwächungskoeffizient der quergedämpften Welle (evanescent wave), d. h. senkrecht zur totalreflektierenden Oberfläche. Die Variation AL der optischen Weglänge L
ergibt sich durch (man differenziere den Imaginärteil von R nach d)
AL = (2t/cosa)s~2exp(-2Kd) Ad
Da AL/Ad sehr klein gemacht werden kann (z.B. AL/Ad « 0,006), ist eine sehr feine Abstimmung der Wellenlänge möglich.
Eine Schwierigkeit beim Ausführungsbeispiel gemäß Figur 5 ist darin begründet, daß der optische Weg der Interferenz-Anordnung im Festkörper (des Prismas 60) verläuft, so daß thermische Probleme auftreten können. Andererseits ist der Umstand, daß eine Verschiebung des Spiegels 62 nur den Reflexionskoeffizienten R beeinflußt und nicht den optischen Weg als solchen, ein großer Vorteil. Um eine quergedämpfte Welle (evanescent wave) mit geringer Dämpfung zu erreichen (und damit den Abstand d größer zu machen) soll der Einfallswinkel &agr; sehr nahe dem Winkel &thgr; der Totalreflexion liegen (s< <l).
Figur 6 zeigt eine Abwandlung des Ausführungsbeispiels gemäß Figur 5 dahingehend, daß die Winkel, unter denen die Strahlung 36 in das Prisma 70 eintritt bzw. die ausgekoppelte Strahlung 20 aus ihm austritt, jeweils rechte Winkel sind. Auch hier ist ein Spiegel 72 parallel zur Grundfläche 76 des Prismas 70 angeordnet. Die Funktion des Spiegels 72, der in Richtung des Doppelpfeiles 74 mittels eines piezoelektrischen Kristalles verschiebbar ist, ist analog der obenbeschriebenen Funktion des Spiegels 62 von Figur 5. Figur 6 zeigt mit dem Symbol &THgr; zum einen die optische Achse des Systems und zum anderen die Polarisation des einfallenden Laserstrahls 36. Die rechten Winkel sind mit dem üblichen Symbol gekennzeichnet. Bei dieser Anordnung wird z. B. ein MgF2~Prisma verwendet mit n=ne= 1,41615 (bei 248 nm). Der Einfallswinkel &agr; ist 45° und s (siehe oben) beträgt 0,05.

Claims (12)

1. Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung hoher spektraler Reinheit mit
- einem Resonator (10), der ein laseraktives Medium (12) zwischen reflektierenden Elementen (14, 16) und zumindest ein wellenlängenselektives Element (14) aufweist, und
- einer wellenlängenselektiven Auskoppeleinrichtung (16) zum Auskoppeln der Strahlung aus dem Laser-Resonator (10),dadurch gekennzeichnet, daß als Auskoppeleinrichtung (16, 16''', 16"") ein Prisma (30; 60; 70) vorgesehen ist, das durch Interferenz wellenlängenselektiv ist.
2. Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung hoher spektraler Reinheit mit
- einem Resonator (10), der ein laseraktives Medium (12) zwischen reflektierenden Elementen (14, 16) und zumindest ein wellenlängenselektives Element (14) aufweist, und
- einer wellenlängenselektiven Auskoppeleinrichtung (16) zum Auskoppeln der Strahlung aus dem Laser-Resonator (10),dadurch gekennzeichnet, daß die Auskoppeleinrichtung (16') zwei strahlungsdurchlässige Platten (40, 42) umfaßt, die jeweils auf einer Seite teilreflektierend sind, z. B. durch eine teilreflektierende Beschichtung.
3. Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung hoher spektraler Reinheit mit
- einem Resonator (10), der ein laseraktives Medium (12) zwischen reflektierenden Elementen (14, 16) und zumindest ein wellenlängenselektives Element (14) aufweist, und
- einer wellenlängenselektiven Auskoppeleinrichtung (16) zum Auskoppeln der Strahlung aus dem Laser-Resonator (10),dadurch gekennzeichnet, daß als wellenlängenselektive Auskoppeleinrichtung (50, 52) ein Winkel-Spiegel (50) mit einer davor angeordneten Platte (52) vorgesehen ist, wobei durch Teilreflexion an der Platte (52) zwei interferrierende Strahlen entstehen.
4. Laser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Auskoppeleinrichtung (16) ein gleichschenkliges Prisma (30; 60; 70) umfaßt.
5. Laser nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zwei Platten (40, 42) gewinkelt in der Art eines gleichschenkligen Prismas angeordnet sind.
6. Laser nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Laserstrahlung (36) senkrecht auf die gleichschenkligen Seiten (32, 34) des Prismas (30) trifft.
7. Laser nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Lasserstrahlung (36) senkrecht auf die Platten (40, 42) trifft.
8. Laser nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Auskoppeleinrichtung (16) durch 2-Strahl-Interferenz wellenlängenselektiv ist.
9. Laser nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die von dem wellenlängenselektiven Element (14) selektierte Wellenlänge zumindest annähernd der von der Auskoppeleinrichtung selektierten Wellenlänge entspricht.
10. Laser nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das wellenlängenselektive Element (14) und die Auskoppeleinrichtung (16) zur Abstimmung der Wellenlänge mittels einer Steuereinrichtung (22, 24) einstellbar sind.
11. Excimer-Laser gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche.
12. F2-Laser gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10.
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6421365B1 (en) 1999-11-18 2002-07-16 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6522681B1 (en) 1999-04-26 2003-02-18 Lambda Physik Ag Laser for the generation of narrow band radiation
US6553050B1 (en) 1999-11-18 2003-04-22 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6577665B2 (en) 1999-04-07 2003-06-10 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser
US6580517B2 (en) 2000-03-01 2003-06-17 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US6597462B2 (en) 2000-03-01 2003-07-22 Lambda Physik Ag Laser wavelength and bandwidth monitor
US6603788B1 (en) 1999-11-23 2003-08-05 Lambda Physik Ag Resonator for single line selection
US6747741B1 (en) 2000-10-12 2004-06-08 Lambda Physik Ag Multiple-pass interferometric device
US6795473B1 (en) 1999-06-23 2004-09-21 Lambda Physik Ag Narrow band excimer laser with a prism-grating as line-narrowing optical element
US6807205B1 (en) 2000-07-14 2004-10-19 Lambda Physik Ag Precise monitor etalon calibration technique
US7006541B2 (en) 1998-06-01 2006-02-28 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6792023B1 (en) 1998-06-04 2004-09-14 Lambda Physik Ag Method and apparatus for reduction of spectral fluctuations
US6763048B2 (en) 2000-06-19 2004-07-13 Lambda Physik Ag Line narrowing of molecular fluorine laser emission
US7054256B2 (en) * 2000-10-20 2006-05-30 Ochoa Optics Llc High capacity digital data storage by transmission of radiant energy through arrays of small diameter holes

Family Cites Families (96)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3471800A (en) 1964-12-17 1969-10-07 Hughes Aircraft Co Resonant reflector for laser beam output
US3546622A (en) 1965-10-29 1970-12-08 Lockheed Aircraft Corp Laser having controlled frequency translation
NL6807820A (de) 1967-07-25 1969-01-28
US3609586A (en) 1969-06-18 1971-09-28 Bell Telephone Labor Inc Laser with pulsed transmission mode q-switching
US3868592A (en) 1973-05-30 1975-02-25 Coherent Radiation Improved tuning apparatus for a dye laser
US4393505A (en) 1978-07-24 1983-07-12 Gte Sylvania Incorporated Gas discharge laser having a buffer gas of neon
DE2918863C2 (de) 1979-05-10 1981-07-02 Lambda Physik Gesellschaft zur Herstellung von Lasern mbH & Co KG, 3400 Göttingen Abstimmbarer Laseroscillator
JPS6016479A (ja) 1983-07-08 1985-01-28 Mitsubishi Electric Corp 単一周波数発振レ−ザ装置
US4611270A (en) 1983-09-16 1986-09-09 Questek Incorporated Method and means of controlling the output of a pulsed laser
US4616908A (en) 1984-07-19 1986-10-14 Gca Corporation Microlithographic system
JPS61168978A (ja) 1985-01-22 1986-07-30 Komatsu Ltd ガスレ−ザ
US4696012A (en) 1985-06-11 1987-09-22 Texas Instruments Incorporated Tunable multiline/multiband laser
DD256440A3 (de) 1986-01-09 1988-05-11 Halle Feinmech Werke Veb Anordnung zur wellenlaengenselektion und internen leistungsmodulation der strahlung von hochleistungs-co tief 2-lasern
US4856018A (en) 1986-01-22 1989-08-08 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Light source for reduced projection
US4829536A (en) 1986-06-09 1989-05-09 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Multi-mode narrow-band oscillation excimer laser
JP2657487B2 (ja) 1987-03-19 1997-09-24 株式会社小松製作所 レーザの波長制御装置および方法
US4860300A (en) 1987-06-03 1989-08-22 Lambda Physik Forschungs- Und Entwicklungsgesellschaft Mb Electrode for pulsed gas lasers
US4803696A (en) 1987-06-30 1989-02-07 Hughes Aircraft Company Laser with grating feedback unstable resonator
DE3891284T1 (de) 1987-07-17 1990-04-26 Komatsu Mfg Co Ltd Laserwellenlaengen-regelvorrichtung
US4926428A (en) 1987-08-31 1990-05-15 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakucho Method and apparatus for sensing the wavelength of a laser beam
KR920009706B1 (ko) 1987-09-26 1992-10-22 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤 레이저장치
DE3744323C2 (de) 1987-12-28 1999-03-11 Lambda Physik Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Stabilisieren der Frequenz eines Laserstrahles
WO1989007353A1 (en) 1988-01-27 1989-08-10 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Method and apparatus for controlling narrow-band oscillation excimer laser
US4873692A (en) 1988-08-12 1989-10-10 Spectra-Physics Pulsed tunable solid state laser
US4972429A (en) 1988-11-18 1990-11-20 Spectra-Physics, Inc. Achromatic prism beam expander for high magnification and tunable laser using same
JPH02152288A (ja) 1988-12-05 1990-06-12 Hitachi Ltd レーザ光の波長制御方法とそれを用いたエキシマレーザ装置および露光装置
JP2531788B2 (ja) 1989-05-18 1996-09-04 株式会社小松製作所 狭帯域発振エキシマレ―ザ
US5150370A (en) 1989-06-14 1992-09-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Narrow-band laser apparatus
US5404366A (en) 1989-07-14 1995-04-04 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Narrow band excimer laser and wavelength detecting apparatus
US5025445A (en) 1989-11-22 1991-06-18 Cymer Laser Technologies System for, and method of, regulating the wavelength of a light beam
DE4002162C1 (de) 1990-01-25 1991-04-18 Lambda Physik Forschungs- Und Entwicklungsgesellschaft Mbh, 3400 Goettingen, De
US5095492A (en) 1990-07-17 1992-03-10 Cymer Laser Technologies Spectral narrowing technique
JP2591371B2 (ja) 1991-07-03 1997-03-19 三菱電機株式会社 レーザ加工装置
US5802094A (en) 1991-11-14 1998-09-01 Kabushiki Kaisha Komatsu Narrow band excimer laser
DE4206803C2 (de) 1992-03-04 1994-02-10 Lambda Physik Gmbh Verfahren zum Nachfüllen von Halogengas in das Gasreservoir eines Excimer-Lasers
US5557629A (en) 1992-08-28 1996-09-17 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Laser device having an electrode with auxiliary conductor members
US5337330A (en) 1992-10-09 1994-08-09 Cymer Laser Technologies Pre-ionizer for a laser
DE69325783T2 (de) 1992-12-11 1999-11-18 Raytheon Co., El Segundo Achromatisches und apochromatisches Prismenelement aus Prisma und Gittern
EP0602992B1 (de) 1992-12-18 1999-03-03 Raytheon Company Eine Kombination aus Beugungsgitter und Prisma
DE4302378C2 (de) 1993-01-28 1994-12-01 Lambda Physik Gmbh Abstimmbarer Laseroszillator
US5559584A (en) 1993-03-08 1996-09-24 Nikon Corporation Exposure apparatus
US5440578B1 (en) 1993-07-16 2000-10-24 Cymer Inc Gas replenishment method ad apparatus for excimer lasers
US5450207A (en) 1993-07-16 1995-09-12 Cymer Laser Technologies Method and apparatus for calibrating a laser wavelength control mechanism
DE4335079C1 (de) 1993-10-14 1995-01-19 Lambda Physik Gmbh Elektroden in einer Fluor enthaltenden Entladungseinheit eines gepulsten Gasentladungslasers
US5596456A (en) 1994-02-25 1997-01-21 New Focus, Inc. Achromatic anamorphic prism pair
US5440574A (en) 1994-06-02 1995-08-08 Spectra-Physics Laserplane, Inc. Solid-state laser
US5479431A (en) 1994-06-02 1995-12-26 Spectra-Physics Laserplane, Inc. Solid-state laser with active etalon and method therefor
DE712346T1 (de) 1994-06-06 1996-11-07 Amada Co Verfahren und vorrichtung zur zufuhr von stickstoff zu einer laserstrahlmaschine
US5532880A (en) 1994-07-01 1996-07-02 Lockhead Missiles & Space Company, Inc. Laser beam expanders
DE4429898C1 (de) 1994-08-23 1995-11-30 Lambda Physik Gmbh Optischer parametrischer Oszillator
US5559816A (en) 1994-10-26 1996-09-24 Lambda Physik Gesellschaft Zur Herstellung Von Lasern Mbh Narrow-band laser apparatus
US5684822A (en) 1994-11-17 1997-11-04 Cymer, Inc. Laser system with anamorphic confocal unstable resonator
DE69628514T2 (de) 1995-02-17 2004-04-29 Cymer, Inc., San Diego Leistungspulsgenerator mit energierückgewinnung
JPH08274399A (ja) 1995-04-03 1996-10-18 Komatsu Ltd パルスレーザ装置のパルスエネルギ制御装置と方法
DE29509648U1 (de) 1995-06-19 1995-09-14 Trumpf Gmbh & Co, 71254 Ditzingen Laserbearbeitungsmaschine mit gasgefülltem Strahlführungsraum
KR100389756B1 (ko) 1995-11-22 2003-12-24 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 광 헤드
DE19603637C1 (de) 1996-02-01 1997-07-31 Lambda Physik Gmbh Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
US5646954A (en) 1996-02-12 1997-07-08 Cymer, Inc. Maintenance strategy control system and monitoring method for gas discharge lasers
DE19619483A1 (de) 1996-05-14 1997-11-20 Lambda Physik Gmbh Abstimmbare schmalbandige Quelle kohärenter Strahlung
WO1998032036A1 (en) 1997-01-17 1998-07-23 Cymer, Inc. Reflective overcoat for replicated diffraction gratings
US5898725A (en) 1997-01-21 1999-04-27 Cymer, Inc. Excimer laser with greater spectral bandwidth and beam stability
US6005880A (en) 1997-02-14 1999-12-21 Lambda Physik Gmbh Precision variable delay using saturable inductors
US6020723A (en) 1997-02-14 2000-02-01 Lambada Physik Gmbh Magnetic switch controlled power supply isolator and thyristor commutating circuit
US5914974A (en) 1997-02-21 1999-06-22 Cymer, Inc. Method and apparatus for eliminating reflected energy due to stage mismatch in nonlinear magnetic compression modules
US5982800A (en) 1997-04-23 1999-11-09 Cymer, Inc. Narrow band excimer laser
US5991324A (en) 1998-03-11 1999-11-23 Cymer, Inc. Reliable. modular, production quality narrow-band KRF excimer laser
US5982795A (en) 1997-12-22 1999-11-09 Cymer, Inc. Excimer laser having power supply with fine digital regulation
US6128323A (en) 1997-04-23 2000-10-03 Cymer, Inc. Reliable modular production quality narrow-band high REP rate excimer laser
US5936988A (en) 1997-12-15 1999-08-10 Cymer, Inc. High pulse rate pulse power system
US5835520A (en) 1997-04-23 1998-11-10 Cymer, Inc. Very narrow band KrF laser
US5818865A (en) 1997-05-16 1998-10-06 Cymer, Inc. Compact excimer laser insulator with integral pre-ionizer
US5856991A (en) 1997-06-04 1999-01-05 Cymer, Inc. Very narrow band laser
US6028879A (en) 1997-06-04 2000-02-22 Cymer, Inc. Narrow band laser with etalon based output coupler
US6137821A (en) 1997-06-04 2000-10-24 Cymer, Inc. Durable etalon based output coupler
US5852627A (en) * 1997-09-10 1998-12-22 Cymer, Inc. Laser with line narrowing output coupler
US5901163A (en) 1997-06-04 1999-05-04 Cymer, Inc. Narrow band laser with etalon based output coupler
US6240110B1 (en) * 1997-06-04 2001-05-29 Cymer, Inc. Line narrowed F2 laser with etalon based output coupler
US6014398A (en) 1997-10-10 2000-01-11 Cymer, Inc. Narrow band excimer laser with gas additive
US6018537A (en) 1997-07-18 2000-01-25 Cymer, Inc. Reliable, modular, production quality narrow-band high rep rate F2 laser
US5978409A (en) 1998-09-28 1999-11-02 Cymer, Inc. Line narrowing apparatus with high transparency prism beam expander
US5978391A (en) 1997-07-18 1999-11-02 Cymer, Inc. Wavelength reference for excimer laser
US5917849A (en) 1997-09-10 1999-06-29 Cymer, Inc. Line narrowing device with double duty grating
US5940421A (en) 1997-12-15 1999-08-17 Cymer, Inc. Current reversal prevention circuit for a pulsed gas discharge laser
JP3725781B2 (ja) 1997-12-15 2005-12-14 サイマー, インコーポレイテッド 高パルス速度パルス電源システム
US5978406A (en) 1998-01-30 1999-11-02 Cymer, Inc. Fluorine control system for excimer lasers
US6016479A (en) 1998-02-10 2000-01-18 Interstate Solutions, Llc Computer-based system, computer program product and method for recovering tax revenue
US5946337A (en) 1998-04-29 1999-08-31 Lambda Physik Gmbh Hybrid laser resonator with special line narrowing
US6061382A (en) 1998-05-04 2000-05-09 Lambda Physik Gmbh Laser system and method for narrow spectral linewidth through wavefront curvature compensation
US5949806A (en) 1998-06-19 1999-09-07 Cymer, Inc. High voltage cable interlock circuit
US6014206A (en) 1998-09-28 2000-01-11 Lambda Physik Gmbh Stabilization of angular and lateral laser beam position
JP2000124531A (ja) 1998-10-12 2000-04-28 Ushio Sogo Gijutsu Kenkyusho:Kk エキシマレーザ装置
DE29822090U1 (de) 1998-12-10 1999-02-11 Lambda Physik Gesellschaft zur Herstellung von Lasern mbH, 37079 Göttingen Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
US6154470A (en) 1999-02-10 2000-11-28 Lamba Physik Gmbh Molecular fluorine (F2) laser with narrow spectral linewidth
DE29907349U1 (de) 1999-04-26 2000-07-06 Lambda Physik Gesellschaft zur Herstellung von Lasern mbH, 37079 Göttingen Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
JP2001144355A (ja) 1999-11-17 2001-05-25 Ushio Sogo Gijutsu Kenkyusho:Kk 狭帯域化エキシマレーザ装置
JP3365500B2 (ja) 2000-01-19 2003-01-14 ウシオ電機株式会社 狭帯化ArFエキシマレーザ装置

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7006541B2 (en) 1998-06-01 2006-02-28 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US6577665B2 (en) 1999-04-07 2003-06-10 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser
US6522681B1 (en) 1999-04-26 2003-02-18 Lambda Physik Ag Laser for the generation of narrow band radiation
US6795473B1 (en) 1999-06-23 2004-09-21 Lambda Physik Ag Narrow band excimer laser with a prism-grating as line-narrowing optical element
US6421365B1 (en) 1999-11-18 2002-07-16 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6516012B2 (en) 1999-11-18 2003-02-04 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6553050B1 (en) 1999-11-18 2003-04-22 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6567451B2 (en) 1999-11-18 2003-05-20 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6603788B1 (en) 1999-11-23 2003-08-05 Lambda Physik Ag Resonator for single line selection
US6678291B2 (en) 1999-12-15 2004-01-13 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser
US6597462B2 (en) 2000-03-01 2003-07-22 Lambda Physik Ag Laser wavelength and bandwidth monitor
US6580517B2 (en) 2000-03-01 2003-06-17 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US6807205B1 (en) 2000-07-14 2004-10-19 Lambda Physik Ag Precise monitor etalon calibration technique
US6747741B1 (en) 2000-10-12 2004-06-08 Lambda Physik Ag Multiple-pass interferometric device

Also Published As

Publication number Publication date
US6522681B1 (en) 2003-02-18

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