JPH02152288A - レーザ光の波長制御方法とそれを用いたエキシマレーザ装置および露光装置 - Google Patents
レーザ光の波長制御方法とそれを用いたエキシマレーザ装置および露光装置Info
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- JPH02152288A JPH02152288A JP63305929A JP30592988A JPH02152288A JP H02152288 A JPH02152288 A JP H02152288A JP 63305929 A JP63305929 A JP 63305929A JP 30592988 A JP30592988 A JP 30592988A JP H02152288 A JPH02152288 A JP H02152288A
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- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/136—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/137—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、波長狭帯域化機能を有するエキシマレーザ装
置における波長制御方法、およびそれを用いたエキシマ
レーザ装置並びに露光装置に関するものである。
置における波長制御方法、およびそれを用いたエキシマ
レーザ装置並びに露光装置に関するものである。
半導体積層回路の微細バタン形成に現在広く用いられて
いる縮小投影露光法では、露光の波長を短くすることに
より解像度を向上させることができる。そこで、従来用
いられてきた高圧水銀ランプのg線(波長436nm)
またはi線(波長365n m )に代えて、より短波
長の遠紫外エキシマレーザ光(例えばKrFレーザ、波
長248n m )を光源とする縮小投影露光法が注目
されている。
いる縮小投影露光法では、露光の波長を短くすることに
より解像度を向上させることができる。そこで、従来用
いられてきた高圧水銀ランプのg線(波長436nm)
またはi線(波長365n m )に代えて、より短波
長の遠紫外エキシマレーザ光(例えばKrFレーザ、波
長248n m )を光源とする縮小投影露光法が注目
されている。
しかし、上記KrFエキシマレーザ等の遠紫外光を透過
する光学材料の種類は極めて限定されている。このため
、上記エキシマレーザを光源とする縮小投影露光法にお
いては、縮小投影レンズに対していわゆる色収差補正を
行うことが極めて難しい。そこで、上記方法では0.5
nm程度の自然スペクトル幅を有するエキシマレーザ光
の波長を、5 / 1000n m以下に狭帯域化して
1色収差補正を行わない縮小投影レンズを用いて露光を
行うのが一般的である。上記波長狭帯域化は、複数のエ
タロン、グレーティング、プリズム等の波長狭帯域化素
子を組み合わせることにより行われることが多い。
する光学材料の種類は極めて限定されている。このため
、上記エキシマレーザを光源とする縮小投影露光法にお
いては、縮小投影レンズに対していわゆる色収差補正を
行うことが極めて難しい。そこで、上記方法では0.5
nm程度の自然スペクトル幅を有するエキシマレーザ光
の波長を、5 / 1000n m以下に狭帯域化して
1色収差補正を行わない縮小投影レンズを用いて露光を
行うのが一般的である。上記波長狭帯域化は、複数のエ
タロン、グレーティング、プリズム等の波長狭帯域化素
子を組み合わせることにより行われることが多い。
なお、エキシマレーザ縮小投影露光法については、例え
ばソリッド・ステート・テクノロジー・1月号(Sol
id 5tate Technology/ Janu
ary)(1987)第71頁から第76頁において論
じられてぃ゛る。
ばソリッド・ステート・テクノロジー・1月号(Sol
id 5tate Technology/ Janu
ary)(1987)第71頁から第76頁において論
じられてぃ゛る。
上記従来技術では、例えば振動や熱などの影響により上
記波長狭帯域化素子の状態(例えば、エタロンの反射面
と光軸とのなす角度やエタロンのギャップの大きさなど
)が変動すると、これに伴い狭帯域化された波長スペク
トル分布の中心波長(以下、出力波長と記す)が変化し
てしまうという問題点があった。上記出力波長が変化す
ると。
記波長狭帯域化素子の状態(例えば、エタロンの反射面
と光軸とのなす角度やエタロンのギャップの大きさなど
)が変動すると、これに伴い狭帯域化された波長スペク
トル分布の中心波長(以下、出力波長と記す)が変化し
てしまうという問題点があった。上記出力波長が変化す
ると。
縮小投影レンズの結像面が光軸方向に移動してしまうた
め、最適条件でマスクバタンの転写を行うことができな
い。したがって、狭帯域化された上記出力波長の絶対値
をモニタし、その変動を上記波長狭帯域化素子の状態に
フィードバックして(例えばエタロンの反射面と光軸と
のなす角度を微調整するなどして)上記出力波長を常に
一定に保つ必要がある。このような波長の微調整機能は
、上記波長狭帯域化素子の状態変化だけではなく、縮小
投影レンズの状態変化や気圧変動による結像面位置の変
化を修正する場合にも有効である。
め、最適条件でマスクバタンの転写を行うことができな
い。したがって、狭帯域化された上記出力波長の絶対値
をモニタし、その変動を上記波長狭帯域化素子の状態に
フィードバックして(例えばエタロンの反射面と光軸と
のなす角度を微調整するなどして)上記出力波長を常に
一定に保つ必要がある。このような波長の微調整機能は
、上記波長狭帯域化素子の状態変化だけではなく、縮小
投影レンズの状態変化や気圧変動による結像面位置の変
化を修正する場合にも有効である。
しかしながら、一般に波長狭帯域化素子の状態は、出力
パワーと波長スペクトル分布の状態とに極1.めで大き
な影響をおよぼす。特に複数の波長狭帯域化素子を用い
た場合は、上記波長狭帯域化素子の1つを独立に動かす
と著しい出力パワーの低下を生じる。また、このとき所
望の波長以外の絶対波長を有する側帯波を発生する場合
が多い。このような側帯波は、バタン露出時の投影光学
像のコントラストを低下させ、バタン形成に悪影響を及
ぼすことになる。
パワーと波長スペクトル分布の状態とに極1.めで大き
な影響をおよぼす。特に複数の波長狭帯域化素子を用い
た場合は、上記波長狭帯域化素子の1つを独立に動かす
と著しい出力パワーの低下を生じる。また、このとき所
望の波長以外の絶対波長を有する側帯波を発生する場合
が多い。このような側帯波は、バタン露出時の投影光学
像のコントラストを低下させ、バタン形成に悪影響を及
ぼすことになる。
本発明の目的は、複数の波長狭帯域化素子を用いて、波
長の狭帯域化を行うエキシマレーザ装置において、出力
パワーの低下を最小限に抑え、かつ、側帯波を発生させ
ることなく、絶対波長を可変にすることができる波長可
変方法、および上記機能を有するエキシマレーザ装置を
得ることにあり、また、上記波長狭帯域化方法を用いて
、エキシマレーザ光を最適な状態に保ちながら、極めて
容易に露光できる露光装置を得ることにある。
長の狭帯域化を行うエキシマレーザ装置において、出力
パワーの低下を最小限に抑え、かつ、側帯波を発生させ
ることなく、絶対波長を可変にすることができる波長可
変方法、および上記機能を有するエキシマレーザ装置を
得ることにあり、また、上記波長狭帯域化方法を用いて
、エキシマレーザ光を最適な状態に保ちながら、極めて
容易に露光できる露光装置を得ることにある。
上記目的は、波長の狭帯域化に関係する複数の波長狭帯
域化素子のそれぞれの状態を、同一波長に対する波長選
択効率が最大になるように、連動させながら変化させる
ことによって達成される。
域化素子のそれぞれの状態を、同一波長に対する波長選
択効率が最大になるように、連動させながら変化させる
ことによって達成される。
ここに、波長狭帯域化素子の状態とは、エタロンのギャ
ップ、エタロン、グレーティング、プリズム等の波長狭
帯域化素子の反射面がレーザ装置の光軸となす角度、ま
たは、上記狭帯域化素子またはその周辺媒質の屈折率等
である。周辺媒質の屈折率は、例えば素子周辺の気圧を
上下させるなどにより変化させることができる。
ップ、エタロン、グレーティング、プリズム等の波長狭
帯域化素子の反射面がレーザ装置の光軸となす角度、ま
たは、上記狭帯域化素子またはその周辺媒質の屈折率等
である。周辺媒質の屈折率は、例えば素子周辺の気圧を
上下させるなどにより変化させることができる。
また、波長選択効率ηとは、例えば
(作用〕
つぎに本発明の作用を、簡単のために、エタロン2枚を
用いる場合で代表して説明する。第4図に示すように、
それぞれのギャップΔh工、Δh2(Δh□〉Δh、)
を有する2枚のエタロンを配置し、それぞれのエタロン
の反射面の法線が光軸となす角度をθ8.θ2とする。
用いる場合で代表して説明する。第4図に示すように、
それぞれのギャップΔh工、Δh2(Δh□〉Δh、)
を有する2枚のエタロンを配置し、それぞれのエタロン
の反射面の法線が光軸となす角度をθ8.θ2とする。
上記各エタロンの透過率Tは、波長λと角度0工または
θ2との関数であり、次式で表される。
θ2との関数であり、次式で表される。
ただし、λ:波長
λ。:所望の中心波長
Δλ:各波長波長狭帯域化素子る狭帯域化波長半値幅
Io(λ):自然波長スペクトル
I(λ):各波長狭帯域化素子により狭帯域化された波
長スペクトル で表される量である。
長スペクトル で表される量である。
ここに、λは露光波長、fはエタロンのフィネスである
。2枚のエタロンの総合的な透過率TはT = T、
X T、で与えられる。エキシマレーザの自然波長スペ
クトルを丁。(λ)とすると、2枚のエタロンを通過し
た出力光の波長スペクトル■(λ)は 工(λ)=T
x(θ0.λ) XTz(θ2.λ)XI。(λ)
(3)で与えられる。
。2枚のエタロンの総合的な透過率TはT = T、
X T、で与えられる。エキシマレーザの自然波長スペ
クトルを丁。(λ)とすると、2枚のエタロンを通過し
た出力光の波長スペクトル■(λ)は 工(λ)=T
x(θ0.λ) XTz(θ2.λ)XI。(λ)
(3)で与えられる。
第5図に02を固定してθ、を変化させたときに、エ(
λ)が変化する様子を示す6また、第6図にはθ1を固
定して02を変化させた場合における同様の図を示す。
λ)が変化する様子を示す6また、第6図にはθ1を固
定して02を変化させた場合における同様の図を示す。
いずれの場合も、エタロンの角度を動かすことにより、
出力波長を変化させることができる。
出力波長を変化させることができる。
しかし、このとき同時に出力強度も変動し、まは、上記
エタロンの角度の設定によっては出力波長スペクトルが
1本のピークにならず、2本または3本になってしまう
ことが判る。上記に示したこれらの事はいずれも好まし
いことではない。第7図は出力強度だけに着目し、上記
出力強度をθ□、θ2の関数として示したものである。
エタロンの角度の設定によっては出力波長スペクトルが
1本のピークにならず、2本または3本になってしまう
ことが判る。上記に示したこれらの事はいずれも好まし
いことではない。第7図は出力強度だけに着目し、上記
出力強度をθ□、θ2の関数として示したものである。
この図からも、θ、と02のどちらか一方を固定して他
方を変化させると、出力強度が激しく変動することが判
る。上記は2個のエタロンを用いた場合について記した
が、エタロン以外の波長狭帯域化素子を使用した場合で
も、全く同様な特性を得ることができる。一方、第6図
に示す尾根状の部分に沿って、θ2.θ、を変化させる
と、出力強度の変化を非常に小さく抑えることができる
。
方を変化させると、出力強度が激しく変動することが判
る。上記は2個のエタロンを用いた場合について記した
が、エタロン以外の波長狭帯域化素子を使用した場合で
も、全く同様な特性を得ることができる。一方、第6図
に示す尾根状の部分に沿って、θ2.θ、を変化させる
と、出力強度の変化を非常に小さく抑えることができる
。
また、この時に出力波長スペクトルは、単一ピークの形
状を保ちながらピーク波長が変化し、こと書くことがで
きる。
状を保ちながらピーク波長が変化し、こと書くことがで
きる。
つぎに本発明の実施例を図面とともに説明する。
第1図は本発明によるエキシマレーザ装置の一実施例を
示す構成図、第2図は上記実施例による波長調整方法を
示す説明図、第3図は本発明によるエキシマレーザ装置
の他の実施例を示す構成図、第7図は本発明の原理を示
すエキシマレーザ出力特性図である。
示す構成図、第2図は上記実施例による波長調整方法を
示す説明図、第3図は本発明によるエキシマレーザ装置
の他の実施例を示す構成図、第7図は本発明の原理を示
すエキシマレーザ出力特性図である。
第1実施例
本発明の第1実施例を第1図に示す構成図により説明す
る0本装置は、反射鏡1、KrFエキシマレーザガスチ
ャンバ2、エタロン3、出力@4、エタロン5、エタロ
ン角度調整装置6および7、出力波長制御装置8、出力
波長モニタ装置9、出力強度モニタ装置10を含み、上
記各構成要素は第1図に示すように配置されている。な
お、11はモニタ用ビームスプリッタ、12はモニタ用
反射鏡である。上記エタロン3および5はそれぞれ0.
5mmと0.05mmのギャップを有し、エタロン3は
反射鏡1と出力鏡4との間で発振されるレーザ光のスペ
クトルを、KrFエキシマレーザの自然スペクトル帯域
(248,1〜248.7nm)内で、はぼ等波長間隔
に分布するそれぞれ3 / 1000n m程度の半値
幅に狭帯域化された複数本のピーク状スペクトルにする
。エタロン5は、出力鏡4から出力された上記複数本の
狭帯域化されたスペクトルのピークから1本だけを選択
して透過する。エタロン角度調整装置6および7は、そ
れぞれエタロン3および5の反射面が光軸となす角度を
調整する。波長モニタ装置9は出力されたピーク波長の
絶対値を検出する。また、出力強度モニタ装置10は出
力光の強度を検出する。上記モニタ装置で得られた結果
は、必要に応じて出力波長制御装置8ヘフイードバツク
され、出力波長制御装置8は所望の波長または出力強度
が得られるように、エタロン角度調整装W6,7に信号
を送る。エタロン角度調整装置6,7は、それぞれ上記
信号にもとづきエタロン3および5の反射面が光軸とな
す角を調整する。
る0本装置は、反射鏡1、KrFエキシマレーザガスチ
ャンバ2、エタロン3、出力@4、エタロン5、エタロ
ン角度調整装置6および7、出力波長制御装置8、出力
波長モニタ装置9、出力強度モニタ装置10を含み、上
記各構成要素は第1図に示すように配置されている。な
お、11はモニタ用ビームスプリッタ、12はモニタ用
反射鏡である。上記エタロン3および5はそれぞれ0.
5mmと0.05mmのギャップを有し、エタロン3は
反射鏡1と出力鏡4との間で発振されるレーザ光のスペ
クトルを、KrFエキシマレーザの自然スペクトル帯域
(248,1〜248.7nm)内で、はぼ等波長間隔
に分布するそれぞれ3 / 1000n m程度の半値
幅に狭帯域化された複数本のピーク状スペクトルにする
。エタロン5は、出力鏡4から出力された上記複数本の
狭帯域化されたスペクトルのピークから1本だけを選択
して透過する。エタロン角度調整装置6および7は、そ
れぞれエタロン3および5の反射面が光軸となす角度を
調整する。波長モニタ装置9は出力されたピーク波長の
絶対値を検出する。また、出力強度モニタ装置10は出
力光の強度を検出する。上記モニタ装置で得られた結果
は、必要に応じて出力波長制御装置8ヘフイードバツク
され、出力波長制御装置8は所望の波長または出力強度
が得られるように、エタロン角度調整装W6,7に信号
を送る。エタロン角度調整装置6,7は、それぞれ上記
信号にもとづきエタロン3および5の反射面が光軸とな
す角を調整する。
この際、上記出力波長制御装置8は、上記2つの角度が
上記作用の説明で示した関係式(4)を満足させながら
変化するように、エタロン角度調整装置6および7Am
号を送る機能を有する。
上記作用の説明で示した関係式(4)を満足させながら
変化するように、エタロン角度調整装置6および7Am
号を送る機能を有する。
なお、エキシマレーザガスに関しては、本実施例に示し
たものに限らず、他の組成のものを用いてもよい、また
、エタロンのギャップに関しても、本実施例で示した値
に限定されない、ただし、第1図において、レーザ共振
器内に配置したエタロン3のギャップは、上記共振器外
に配置したエタロン5のギャップより大きくすることが
好ましい。
たものに限らず、他の組成のものを用いてもよい、また
、エタロンのギャップに関しても、本実施例で示した値
に限定されない、ただし、第1図において、レーザ共振
器内に配置したエタロン3のギャップは、上記共振器外
に配置したエタロン5のギャップより大きくすることが
好ましい。
このようにすることにより、出力されるレーザ光の強度
を大きくすることができる。これは、広いギャップをも
つエタロンによれば、エキシマレーザ光の自然スペクト
ル内の複数の選択された波長が共振されるので、共振器
内の励起状態にある気体を有効に活用できるためと考え
られる。
を大きくすることができる。これは、広いギャップをも
つエタロンによれば、エキシマレーザ光の自然スペクト
ル内の複数の選択された波長が共振されるので、共振器
内の励起状態にある気体を有効に活用できるためと考え
られる。
また、レーザ光は共振器内を数往復するため、共振器内
におかれたエタロンに対する利用効率が増大し、その実
効的なフィネスが増加する。狭帯域化されたスペクトル
の半値幅は、ギャップが広い方のエタロンにより支配さ
れるので、上記ギャップが広い方のエタロンを共振器内
に配置することにより、上記半値幅を一層小さくするこ
とができる。一方、レーザ共振器外に配置したエタロン
のフィネスを実効的に向上させるには、例えばレーザ光
の光路を、上記エタロンを2回以上通過するように設定
することが有効である。
におかれたエタロンに対する利用効率が増大し、その実
効的なフィネスが増加する。狭帯域化されたスペクトル
の半値幅は、ギャップが広い方のエタロンにより支配さ
れるので、上記ギャップが広い方のエタロンを共振器内
に配置することにより、上記半値幅を一層小さくするこ
とができる。一方、レーザ共振器外に配置したエタロン
のフィネスを実効的に向上させるには、例えばレーザ光
の光路を、上記エタロンを2回以上通過するように設定
することが有効である。
つぎに本実施例に示した装置による最適条件設定方法の
一例を示す。まず、出力強度モニタ装置10と波長制御
装置8を用いて、出力強度が最大になるように、エタロ
ン3または5のいずれか一方の角度だけを独立に調整す
る。第2図は波長調整法を示し、破線13はエキシマレ
ーザの自然スペクトル、14はエタロン5の透過率、1
5は狭帯域化ピークを示す。これにより、第2図(b)
に示すように、エタロン3を透過したスペクトルの複数
のピーク内の1本の波長と、エタロン5の最大透過率を
与える波長が一致する。すなわち関係式(4)が満たさ
れている。つぎに、出力波長モニタ装置9と波長制御装
置8とを用いて、出力波長が所望の値に達するまで、上
記関係式(4)を満足させながらエタロン3および5の
角度を、第2図(c)に示すように調整する。
一例を示す。まず、出力強度モニタ装置10と波長制御
装置8を用いて、出力強度が最大になるように、エタロ
ン3または5のいずれか一方の角度だけを独立に調整す
る。第2図は波長調整法を示し、破線13はエキシマレ
ーザの自然スペクトル、14はエタロン5の透過率、1
5は狭帯域化ピークを示す。これにより、第2図(b)
に示すように、エタロン3を透過したスペクトルの複数
のピーク内の1本の波長と、エタロン5の最大透過率を
与える波長が一致する。すなわち関係式(4)が満たさ
れている。つぎに、出力波長モニタ装置9と波長制御装
置8とを用いて、出力波長が所望の値に達するまで、上
記関係式(4)を満足させながらエタロン3および5の
角度を、第2図(c)に示すように調整する。
この際の波長制御は主に2つの方法により行われる。第
1の方法は、エタロン3の角度を変化させることによる
出力光強度の変化を、出力強度モニタ装置10.波長制
御装置8、エタロン角度調整装置7を介して、エタロン
5の角度に常にフィードバックし、出力最大を保ちなが
ら所望の波長までエタロン3の角度を変化させる。第2
の方法は、波長モニタ装置9により測定された現在の波
長と所望の波長との差から、波長制御装置により前もっ
てエタロン3および5の角度回転量を計算し、エタロン
角度調整装置6,7へ角度回転信号を送る。上記いずれ
の方法を用いても、良好な結果が得られた。
1の方法は、エタロン3の角度を変化させることによる
出力光強度の変化を、出力強度モニタ装置10.波長制
御装置8、エタロン角度調整装置7を介して、エタロン
5の角度に常にフィードバックし、出力最大を保ちなが
ら所望の波長までエタロン3の角度を変化させる。第2
の方法は、波長モニタ装置9により測定された現在の波
長と所望の波長との差から、波長制御装置により前もっ
てエタロン3および5の角度回転量を計算し、エタロン
角度調整装置6,7へ角度回転信号を送る。上記いずれ
の方法を用いても、良好な結果が得られた。
本装置において、出力波長を248.2nm〜248.
6nmの範囲内で変化させたところ、出力強度の劣化は
、エキシマレーザの自然スペクトルにおける発光強度の
波長依存性にほぼ一致し、極めてなめらかであった。ま
た、この間に側帯波の発生は見られず、半値幅的3 /
1000n mの単一ピークよりなるスペクトル形状
を保ちながら、絶対波長を走査することができた。
6nmの範囲内で変化させたところ、出力強度の劣化は
、エキシマレーザの自然スペクトルにおける発光強度の
波長依存性にほぼ一致し、極めてなめらかであった。ま
た、この間に側帯波の発生は見られず、半値幅的3 /
1000n mの単一ピークよりなるスペクトル形状
を保ちながら、絶対波長を走査することができた。
第2実施例
本発明の第2実施例を第3図を用いて説明する。
第3図に示したエキシマレーザ装置は、第1実施例に示
したエキシマレーザ装置におけるエタロン3に代えて、
グレーティング16を反射鏡1とエキシマレーザガスチ
ャンバ2との間に設置し、かつ、エタロン角度調整装置
6に代えてグレーティング角度調整装置17を設けたも
のである。上記グレーティング16によるレーザ光の回
折角に応じて、反射鏡1の設定位置および角度も変更し
た0本実施例を用いても第1実施例と同様な効果が得ら
れた。
したエキシマレーザ装置におけるエタロン3に代えて、
グレーティング16を反射鏡1とエキシマレーザガスチ
ャンバ2との間に設置し、かつ、エタロン角度調整装置
6に代えてグレーティング角度調整装置17を設けたも
のである。上記グレーティング16によるレーザ光の回
折角に応じて、反射鏡1の設定位置および角度も変更し
た0本実施例を用いても第1実施例と同様な効果が得ら
れた。
狭帯域化素子とその配置については、第1実施例や本実
施例に示したものに限らず、さまざまなものを用いるこ
とができる。
施例に示したものに限らず、さまざまなものを用いるこ
とができる。
第3実施例
第1実施例に示したエキシマレーザ装置の波長可変機能
を用いて、いわゆる多重結像露光法(通称FLEX法)
を行った。すなわち、異なる波長を用いて同一マスクの
露光を行うことにより、投影レンズの色収差特性を利用
して、光軸方向の異なった位置に結像面を設定して多重
露光を行った。
を用いて、いわゆる多重結像露光法(通称FLEX法)
を行った。すなわち、異なる波長を用いて同一マスクの
露光を行うことにより、投影レンズの色収差特性を利用
して、光軸方向の異なった位置に結像面を設定して多重
露光を行った。
第1図に示したエタロン3および5の反射面の法線と光
軸とのなす角度θ0.θ2を、第6図に示した出力最大
を与える尾根に沿うように変化させ、まず波長248,
39nm、つぎに248.41nmに設定し、それぞれ
の波長ごとに露光を行った。上記2つの露光における結
像位置間の距離は約2.5μmであった。また、上記変
更に伴う出力強度の変動は5%以下であった。
軸とのなす角度θ0.θ2を、第6図に示した出力最大
を与える尾根に沿うように変化させ、まず波長248,
39nm、つぎに248.41nmに設定し、それぞれ
の波長ごとに露光を行った。上記2つの露光における結
像位置間の距離は約2.5μmであった。また、上記変
更に伴う出力強度の変動は5%以下であった。
本実施例により0.3μm コンタクトホールパタンを
、±1.5μm以上の焦点深度をもって解像することが
できた。本実施例による焦点深度は、本実施例によらな
い場合の焦点深度の2倍以上であった。
、±1.5μm以上の焦点深度をもって解像することが
できた。本実施例による焦点深度は、本実施例によらな
い場合の焦点深度の2倍以上であった。
上記のように本発明によるレーザ光の波長制御方法とそ
れを用いたエキシマレーザ装置および露光装置は、出力
されるレーザ光の波長を、複数個の波長狭帯域化素子を
用いて狭帯域化するとともに、上記波長狭帯域化素子の
状態を変化されることにより、出力レーザ光の絶対波長
を変化させるレーザ光の波長制御方法において、所望の
波長に対する上記各波長狭帯域化素子の波長選択効率が
ほぼ最大になるように、上記各波長狭帯域化素子の状態
を設定することにより、上記出力波長の変化に伴う出力
強度の低下を最小限に抑えるとともに、上記狭帯域化さ
れた波長スペクトル形状を維持することができ、これら
の特徴をそなえたエキシマレーザ装置および露光装置を
得ることができる。
れを用いたエキシマレーザ装置および露光装置は、出力
されるレーザ光の波長を、複数個の波長狭帯域化素子を
用いて狭帯域化するとともに、上記波長狭帯域化素子の
状態を変化されることにより、出力レーザ光の絶対波長
を変化させるレーザ光の波長制御方法において、所望の
波長に対する上記各波長狭帯域化素子の波長選択効率が
ほぼ最大になるように、上記各波長狭帯域化素子の状態
を設定することにより、上記出力波長の変化に伴う出力
強度の低下を最小限に抑えるとともに、上記狭帯域化さ
れた波長スペクトル形状を維持することができ、これら
の特徴をそなえたエキシマレーザ装置および露光装置を
得ることができる。
第1図は本発明によるエキシマレーザ装置の一実施例を
示す構成図、第2図は上記実施例による波長調整方法を
示す説明図、第3図は本発明によるエキシマレーザ装置
の他の実施例を示す構成図、第4図は本発明の作用原理
を説明するための図。 第5図および第6図は従来のエキシマレーザ出力特性図
、第7図は本発明の原理を示すエキシマレーザ出力特性
図である。 2・・・エキシマレーザガスチャンバ 3.5・・・エタロン(波長狭帯域化素子)8・・・波
長制御装置 16・・・グレーティング(波長狭帯域化素子)代理人
弁理士 中 村 純之助 第2図 2:エルシマし−ヂブスh〉バ 8:違五制装置 3.5;エダロンC庭五狭帯を或イヒ素子ン11: り
゛し−ティ〉り・。 248.0 248.8 :/皮長入(nm) 第5 図 248.0 ミ皮長入 248.8 (nml 第 図
示す構成図、第2図は上記実施例による波長調整方法を
示す説明図、第3図は本発明によるエキシマレーザ装置
の他の実施例を示す構成図、第4図は本発明の作用原理
を説明するための図。 第5図および第6図は従来のエキシマレーザ出力特性図
、第7図は本発明の原理を示すエキシマレーザ出力特性
図である。 2・・・エキシマレーザガスチャンバ 3.5・・・エタロン(波長狭帯域化素子)8・・・波
長制御装置 16・・・グレーティング(波長狭帯域化素子)代理人
弁理士 中 村 純之助 第2図 2:エルシマし−ヂブスh〉バ 8:違五制装置 3.5;エダロンC庭五狭帯を或イヒ素子ン11: り
゛し−ティ〉り・。 248.0 248.8 :/皮長入(nm) 第5 図 248.0 ミ皮長入 248.8 (nml 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 出力されるレーザ光の波長を、複数個の波長狭帯
域化素子を用いて狭帯域化するとともに、上記波長狭帯
域化素子の状態を変化させることにより、出力レーザ光
の絶対波長を変化させるレーザ光の波長制御方法におい
て、所望の波長に対する上記各波長狭帯域化素子の波長
選択効率がほぼ最大になるように、上記各波長狭帯域化
素子の状態を設定することを特徴とするレーザ光の波長
制御方法。 2. 上記各波長狭帯域化素子の状態設定は、同一波長
に対する上記各波長狭帯域化素子の波長選択効率がほぼ
最大になるように、上記各波長狭帯域化素子の状態を、
連動させながら変化することを特徴とする特許請求の範
囲第1項に記載したレーザ光の波長制御方法。 3. 出力されるレーザ光の波長を、複数個の波長狭帯
域化素子を用いて狭帯域化するとともに、上記波長狭帯
域化素子の状態を変化させることにより、出力レーザ光
の絶対波長を変化させる機能を備えたエキシマレーザ装
置において、所望の波長に対する上記各波長狭帯域化素
子の波長選択効率がほぼ最大になるように、上記各波長
狭帯域化素子の状態を設定する波長制御装置を備えたこ
とを特徴とするエキシマレーザ装置。 4. 上記波長制御装置は、同一波長に対する上記各波
長狭帯域化素子の波長選択効率がほぼ最大になるように
、上記各波長狭帯域化素子の状態を、連動させながら変
化することを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載し
たエキシマレーザ装置。 5. 上記複数の波長狭帯域化素子は、エタロンまたは
グレーティングまたはプリズムであり、かつ、上記波長
選択効率が上記波長におけるエタロンまたはプリズムの
透過率、あるいはグレーティングの反射率であることを
特徴とする特許請求の範囲第3項または第4項に記載し
たエキシマレーザ装置。 6. 上記波長狭帯域化素子の状態は、エタロンまたは
グレーティングまたはプリズムの反射面が、レーザビー
ムの光軸となす角度、または周辺媒質の屈折率であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第3項または第4項に記
載したエキシマレーザ装置。 7. 上記複数個のエタロンは、ギャップΔh_i、フ
ィネスf_i(i:1〜n)を有し、上記各エタロン反
射面の法線と光軸とのなす角度θ_i(i=1〜n)を
変化させることによりレーザの出力波長λを変化させる
際、所望の波長λに対して、常に 0.8≦〔1+(2πf_i)^2sin^2(2πΔ
h_icosθ_i)/λ〕^−^1≦1(ただしi:
1〜n)を満たすように、すべてのθi(i:1〜n)
を設定することを特徴とする特許請求の範囲第3項ない
し第6項のいずれかに記載したエキシマレーザ装置。 8. 上記波長狭帯域化素子は、レーザ共振器の内部お
よび外部に配置し、上記レーザ共振器内部に配置する波
長狭帯域化素子の狭帯域化波長半値幅が、レーザ共振器
外部に配置する波長狭帯域化素子の狭帯域化波長半値幅
より小さいことを特徴とする特許請求の範囲第3項ない
し第7項のいずれかに記載したエキシマレーザ装置。 9. 上記複数のエタロンは、レーザ共振器の内外に配
置し、上記レーザ共振器内に挿入するエタロンが、レー
ザ共振器外に配置するエタロンよりも広いギャップをも
つことを特徴とする特許請求の範囲第5項ないし第7項
のいずれかに記載したエキシマレーザ装置。 10. 上記レーザ光の光路は、上記レーザ共振器外に
設置したエタロンを、少なくとも2回以上通過するよう
に設定したことを特徴とする特許請求の範囲第5項また
は第6項あるいは第9項に記載したエキシマレーザ装置
。 11. 出力されるレーザ光の波長を、複数個の波長狭
帯域化素子を用いて狭帯域化するとともに、上記波長狭
帯域化素子の状態を変化させることにより、出力レーザ
光の絶対波長を変化する機能をもち、上記各波長狭帯域
化素子の状態を設定する波長制御装置を有するエキシマ
レーザ装置を備えた露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63305929A JPH02152288A (ja) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | レーザ光の波長制御方法とそれを用いたエキシマレーザ装置および露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63305929A JPH02152288A (ja) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | レーザ光の波長制御方法とそれを用いたエキシマレーザ装置および露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02152288A true JPH02152288A (ja) | 1990-06-12 |
Family
ID=17950998
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63305929A Pending JPH02152288A (ja) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | レーザ光の波長制御方法とそれを用いたエキシマレーザ装置および露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02152288A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6421365B1 (en) | 1999-11-18 | 2002-07-16 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
US6424666B1 (en) | 1999-06-23 | 2002-07-23 | Lambda Physik Ag | Line-narrowing module for high power laser |
US6522681B1 (en) | 1999-04-26 | 2003-02-18 | Lambda Physik Ag | Laser for the generation of narrow band radiation |
US6577665B2 (en) | 1999-04-07 | 2003-06-10 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser |
US6603788B1 (en) | 1999-11-23 | 2003-08-05 | Lambda Physik Ag | Resonator for single line selection |
US6795473B1 (en) | 1999-06-23 | 2004-09-21 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer laser with a prism-grating as line-narrowing optical element |
KR100809273B1 (ko) * | 2006-07-28 | 2008-03-03 | 삼성전기주식회사 | 동일한 광 방출 위치를 갖는 레이저 장치 |
WO2015019739A1 (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-12 | 浜松ホトニクス株式会社 | 波長可変光源 |
-
1988
- 1988-12-05 JP JP63305929A patent/JPH02152288A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6577665B2 (en) | 1999-04-07 | 2003-06-10 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser |
US6522681B1 (en) | 1999-04-26 | 2003-02-18 | Lambda Physik Ag | Laser for the generation of narrow band radiation |
US6795473B1 (en) | 1999-06-23 | 2004-09-21 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer laser with a prism-grating as line-narrowing optical element |
US6424666B1 (en) | 1999-06-23 | 2002-07-23 | Lambda Physik Ag | Line-narrowing module for high power laser |
US6516012B2 (en) | 1999-11-18 | 2003-02-04 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
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US6603788B1 (en) | 1999-11-23 | 2003-08-05 | Lambda Physik Ag | Resonator for single line selection |
US6678291B2 (en) | 1999-12-15 | 2004-01-13 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser |
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WO2015019739A1 (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-12 | 浜松ホトニクス株式会社 | 波長可変光源 |
JP2015032739A (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-16 | 浜松ホトニクス株式会社 | 波長可変光源 |
CN105453351A (zh) * | 2013-08-05 | 2016-03-30 | 浜松光子学株式会社 | 波长可变光源 |
US9577402B2 (en) | 2013-08-05 | 2017-02-21 | Hamamatsu Photonics K.K. | Variable-wavelength light source |
CN105453351B (zh) * | 2013-08-05 | 2019-03-29 | 浜松光子学株式会社 | 波长可变光源 |
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