JPH02289590A - 有機ケイ素化合物 - Google Patents
有機ケイ素化合物Info
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- JPH02289590A JPH02289590A JP1110196A JP11019689A JPH02289590A JP H02289590 A JPH02289590 A JP H02289590A JP 1110196 A JP1110196 A JP 1110196A JP 11019689 A JP11019689 A JP 11019689A JP H02289590 A JPH02289590 A JP H02289590A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は新規な有機ケイ素化合物に関し、詳しくは、室
温硬化性オルガノポリシロキサン組成物における硬化剤
成分として有用な有機ケイ素化合物に関する。
温硬化性オルガノポリシロキサン組成物における硬化剤
成分として有用な有機ケイ素化合物に関する。
(従来の技術)
l液型の接着剤として広く使用されている室温硬化性(
RTV ; Roo+a Temperature
Valcanizing)オルガノボリシロキサン組成
物は、オルガノボリシロキサンを主成分とし、これに硬
化剤成分を含有させることにより得られるものである.
このオルガノポリシロキサン組成物は、チューブやカー
トリッジから単に押し出すだけで、室温で硬化させるこ
とができるため、取り扱いが簡便であるという利点を有
し、電気・電子、自動車、建築をはじめとする広い分野
で賞用されている.このRTVオルガノポリシロキサン
組成物は、その硬化機構により縮台型と付加型とに分類
されるが、接着剤としては、縮台型のものが最もよく使
用されている.縮合型RTVオルガノポリシロキサン組
成物は、含有される硬化剤の種類により各々特有の縮合
反応生成物を放出して硬化接着し、その縮合反応生成物
の種類により、脱酢酸型、脱アミン型、脱オキシム型及
び脱アルコール型などが知られている。硬化剤としては
、種々の有機ケイ素化合物が使用され、縮合型RTVオ
ルガノボリシロキサン組成物が空気中に放出されると、
空気中の湿気により縮合反応が起こり、例えば、酢゛酸
、ブタノオキシム、メタノール、プチルアミン等のガス
を放出し、硬化する. しかしながら、上記の縮合型RTVオルガノボリシロキ
サン組成物において、脱酢酸型、脱アミン型及び脱オキ
シム型のものは、硬化時に毒性もしくは腐食性の悪臭ガ
スを放出するという問題がある。一方、脱アルコール型
のものは、腐食性が無く、しかも無臭であるが、貯蔵安
定性に欠けるという問題がある。
RTV ; Roo+a Temperature
Valcanizing)オルガノボリシロキサン組成
物は、オルガノボリシロキサンを主成分とし、これに硬
化剤成分を含有させることにより得られるものである.
このオルガノポリシロキサン組成物は、チューブやカー
トリッジから単に押し出すだけで、室温で硬化させるこ
とができるため、取り扱いが簡便であるという利点を有
し、電気・電子、自動車、建築をはじめとする広い分野
で賞用されている.このRTVオルガノポリシロキサン
組成物は、その硬化機構により縮台型と付加型とに分類
されるが、接着剤としては、縮台型のものが最もよく使
用されている.縮合型RTVオルガノポリシロキサン組
成物は、含有される硬化剤の種類により各々特有の縮合
反応生成物を放出して硬化接着し、その縮合反応生成物
の種類により、脱酢酸型、脱アミン型、脱オキシム型及
び脱アルコール型などが知られている。硬化剤としては
、種々の有機ケイ素化合物が使用され、縮合型RTVオ
ルガノボリシロキサン組成物が空気中に放出されると、
空気中の湿気により縮合反応が起こり、例えば、酢゛酸
、ブタノオキシム、メタノール、プチルアミン等のガス
を放出し、硬化する. しかしながら、上記の縮合型RTVオルガノボリシロキ
サン組成物において、脱酢酸型、脱アミン型及び脱オキ
シム型のものは、硬化時に毒性もしくは腐食性の悪臭ガ
スを放出するという問題がある。一方、脱アルコール型
のものは、腐食性が無く、しかも無臭であるが、貯蔵安
定性に欠けるという問題がある。
そこで、本願出願人は、これらの問題を解消するものと
して、一般式(■): (ここで、R3はl価の炭化水素基であり、R4、Rs
は夫々水素原子または1価の炭化水素基であり、mは1
〜4の整数である)で示される加水分解性に優れたアル
ケニルオキシ基含有有機ケイ素化合物を開発し、この有
機ケイ素化合物を硬化剤として含有するRTVオルガノ
ボリシロキサン組成物を提案した. 更に、本願出願人は硬化剤として、ケテンアセクール基
とアルケニルオキシ基の両方を含有する有機ケイ素化合
物を開発し、この有機ケイ素化合物を含有する脱エステ
ルー脱ケトン型のRTVオルガノポリシロキサン組成物
を提案した(特公昭63−20464号). (発明が解決しようとする課題) ところが、前記のアルケニルオキシ基含有有機ケイ素化
合物を用いる組成物においては、該化合物の合成に長時
間を有する上に、得られた有機ケイ素化合物自体が非常
に高価格であり、また変色しやすいという問題がある。
して、一般式(■): (ここで、R3はl価の炭化水素基であり、R4、Rs
は夫々水素原子または1価の炭化水素基であり、mは1
〜4の整数である)で示される加水分解性に優れたアル
ケニルオキシ基含有有機ケイ素化合物を開発し、この有
機ケイ素化合物を硬化剤として含有するRTVオルガノ
ボリシロキサン組成物を提案した. 更に、本願出願人は硬化剤として、ケテンアセクール基
とアルケニルオキシ基の両方を含有する有機ケイ素化合
物を開発し、この有機ケイ素化合物を含有する脱エステ
ルー脱ケトン型のRTVオルガノポリシロキサン組成物
を提案した(特公昭63−20464号). (発明が解決しようとする課題) ところが、前記のアルケニルオキシ基含有有機ケイ素化
合物を用いる組成物においては、該化合物の合成に長時
間を有する上に、得られた有機ケイ素化合物自体が非常
に高価格であり、また変色しやすいという問題がある。
また、前記の特公昭63−20464号に記載の組成物
においては、シリルケテンアセクールがα.β一不飽和
エステルとSi−H基との1. 4一付加反応により
合成されるため、硬化時に放出される縮合物が、例えば
プロピオン酸エステルなど、炭素数2以上のカルボン酸
エステルとなり、これらが悪臭を伴うという問題が発生
する。
においては、シリルケテンアセクールがα.β一不飽和
エステルとSi−H基との1. 4一付加反応により
合成されるため、硬化時に放出される縮合物が、例えば
プロピオン酸エステルなど、炭素数2以上のカルボン酸
エステルとなり、これらが悪臭を伴うという問題が発生
する。
本発明はかかる従来の問題に鑑みてなされたものであり
、その目的は、1液型接着剤としてのオルガノボリシロ
キサン組成物の硬化剤成分として使用した際に、硬化時
に悪臭及び腐食性のガスが発生せず、しかも、保存安定
性に優れた新規な有機ケイ素化合物を提供することにあ
る.(課題を解決するための手段) 上記課題を解決するために本発明は、 一般式(■): (ここで、Rlはメチル基またはエチル基であり、1は
炭素原子数1〜4のアルキル基であり、nは1〜3の整
数である)で示される有機ケイ素化合物を提供するもの
である. 一a式(1)において、91はメチル基またはエチル基
であり、『はメチル基、エチル基、プロビル基またはプ
チル基であり、nは1〜3の整数である。具体的には、
下記の式で示されるものをあげることができる. 本発明の有機ケイ素化合物は、例えば、次のようにして
合成される.即ち、一般式(■):(ここで、R1及び
nは前記と同様である)で示される化合物と、一般式(
■): L icIl zcOR ”
( IV )(ここで、Rtは前記と同様である
)で示される化合物とにおける脱塩化リチウム(LiC
1)反応により上記一般式(1)の有機ケイ素化合物が
得られる. この一般式(1)で示される有機ケイ素化合物はその分
子中に−Si−CIIzCOOR”基を有するため、高
い加水分解性を示す。従って、この有機ケイ素化合物を
硬化剤として両末端を水酸基で封鎖されたオルガノポリ
シロキサンと混合して得られたl液型の接着剤組成物は
、空気中の湿気の作用により、次式: に示すように脱酢酸エステル化反応が進行することによ
り硬化物となる。この縮合反応により放出される酢酸エ
ステルは悪臭や腐食性がないため、一般式(1)で示さ
れる有機ケイ素化合物は、RTVオルガノボリシロキサ
ン組成物の硬化剤成分として極めて有用である。
、その目的は、1液型接着剤としてのオルガノボリシロ
キサン組成物の硬化剤成分として使用した際に、硬化時
に悪臭及び腐食性のガスが発生せず、しかも、保存安定
性に優れた新規な有機ケイ素化合物を提供することにあ
る.(課題を解決するための手段) 上記課題を解決するために本発明は、 一般式(■): (ここで、Rlはメチル基またはエチル基であり、1は
炭素原子数1〜4のアルキル基であり、nは1〜3の整
数である)で示される有機ケイ素化合物を提供するもの
である. 一a式(1)において、91はメチル基またはエチル基
であり、『はメチル基、エチル基、プロビル基またはプ
チル基であり、nは1〜3の整数である。具体的には、
下記の式で示されるものをあげることができる. 本発明の有機ケイ素化合物は、例えば、次のようにして
合成される.即ち、一般式(■):(ここで、R1及び
nは前記と同様である)で示される化合物と、一般式(
■): L icIl zcOR ”
( IV )(ここで、Rtは前記と同様である
)で示される化合物とにおける脱塩化リチウム(LiC
1)反応により上記一般式(1)の有機ケイ素化合物が
得られる. この一般式(1)で示される有機ケイ素化合物はその分
子中に−Si−CIIzCOOR”基を有するため、高
い加水分解性を示す。従って、この有機ケイ素化合物を
硬化剤として両末端を水酸基で封鎖されたオルガノポリ
シロキサンと混合して得られたl液型の接着剤組成物は
、空気中の湿気の作用により、次式: に示すように脱酢酸エステル化反応が進行することによ
り硬化物となる。この縮合反応により放出される酢酸エ
ステルは悪臭や腐食性がないため、一般式(1)で示さ
れる有機ケイ素化合物は、RTVオルガノボリシロキサ
ン組成物の硬化剤成分として極めて有用である。
(実施例)
裏嵐■土
撹拌棒、滴下ロ一ト、低温温度計及び乾燥管付き冷却管
を備えた1l四つロフラスコに、乾燥テトラヒドロフラ
ン2 6 6 g,ジイソプ口ピルアミン40.4gを
仕込み、反応混合物を0゜Cに冷却した。反応混合物の
温度を−lO〜0゜Cに保ちながら、ここにn−プチル
リチウム15%ヘキサン溶液170.8gを滴下した.
滴下終了後、0゜Cにおいて15分間撹拌し、続いて、
ドライアイスーアセトンにより−78゜Cに冷却した.
その後、酢酸メチル29、6gを加えて−70℃で30
分間撹拌し、更に、メチルジメトキシクロロシラン12
6. 0 gを−70℃以下に保ちながら滴下した。反
応混合物の温度を徐々に室温まで昇温した後、濾過、蒸
留を行って、沸点116゜C/140mHg、屈折率1
.4134 (25゜C)の留分10.7g(収率15
.0%)を得た.このものはIH−NMRスペクトル、
IRスペクトルの測定及びGC−MS分析により下記の
構造であることがIl1!認された.溶媒:CCl4、
内部標準物質:TMS(テトラメチルシラン) δ(ppm) :0.06 (s,St−Clls,
311)1.28 ( s ,Si−CHg.21l)
3.52 ( s ,SiO−Clh.6}1)3.5
4 ( S ,CO−CI3,3H)ユ』ノシ漏’LL
火 1 7 4 0cm−’にC=0に起因するピークが観
察された(第1図)。
を備えた1l四つロフラスコに、乾燥テトラヒドロフラ
ン2 6 6 g,ジイソプ口ピルアミン40.4gを
仕込み、反応混合物を0゜Cに冷却した。反応混合物の
温度を−lO〜0゜Cに保ちながら、ここにn−プチル
リチウム15%ヘキサン溶液170.8gを滴下した.
滴下終了後、0゜Cにおいて15分間撹拌し、続いて、
ドライアイスーアセトンにより−78゜Cに冷却した.
その後、酢酸メチル29、6gを加えて−70℃で30
分間撹拌し、更に、メチルジメトキシクロロシラン12
6. 0 gを−70℃以下に保ちながら滴下した。反
応混合物の温度を徐々に室温まで昇温した後、濾過、蒸
留を行って、沸点116゜C/140mHg、屈折率1
.4134 (25゜C)の留分10.7g(収率15
.0%)を得た.このものはIH−NMRスペクトル、
IRスペクトルの測定及びGC−MS分析により下記の
構造であることがIl1!認された.溶媒:CCl4、
内部標準物質:TMS(テトラメチルシラン) δ(ppm) :0.06 (s,St−Clls,
311)1.28 ( s ,Si−CHg.21l)
3.52 ( s ,SiO−Clh.6}1)3.5
4 ( S ,CO−CI3,3H)ユ』ノシ漏’LL
火 1 7 4 0cm−’にC=0に起因するピークが観
察された(第1図)。
GC−MS
親ピーク:17B(分子1178.3)災施IL
撹拌捧、滴下ロ一ト、低温温度計及び乾燥管付き冷却管
を備えた11四つ口フラスコに、乾燥テトラヒドロフラ
ン1 7 8 g,ジイソプロビルアミン30.4gを
仕込み、反応混合物を0゜Cに冷却した.反応混合物の
温度を−10〜0゜Cに保ちながら、ここにn−プチル
リチウム15%ヘキサン溶液128.0gを滴下した.
滴下終了後、θ℃において15分間撹拌し、続いて、ド
ライアイスーアセトンにより−78゜Cに冷却した。そ
の後、酢酸エチル26.5gを加えて−70℃で30分
間撹拌し、更に、メチルジメトキシクロロシラン90.
0gを−70℃以下に保ちながら滴下した。
を備えた11四つ口フラスコに、乾燥テトラヒドロフラ
ン1 7 8 g,ジイソプロビルアミン30.4gを
仕込み、反応混合物を0゜Cに冷却した.反応混合物の
温度を−10〜0゜Cに保ちながら、ここにn−プチル
リチウム15%ヘキサン溶液128.0gを滴下した.
滴下終了後、θ℃において15分間撹拌し、続いて、ド
ライアイスーアセトンにより−78゜Cに冷却した。そ
の後、酢酸エチル26.5gを加えて−70℃で30分
間撹拌し、更に、メチルジメトキシクロロシラン90.
0gを−70℃以下に保ちながら滴下した。
反応混合物の温度を徐々に室温まで昇温した後、濾過、
蒸留を行って、沸点95℃/ 4 9 cm H g、
屈折率1.4156 (25℃)の留分7.1g (収
率l2.3%)を得た.このものは’H−NMRスペク
トル、IRスペクトルの測定及びGC−MS分析により
下記の構造であることが確認された。
蒸留を行って、沸点95℃/ 4 9 cm H g、
屈折率1.4156 (25℃)の留分7.1g (収
率l2.3%)を得た.このものは’H−NMRスペク
トル、IRスペクトルの測定及びGC−MS分析により
下記の構造であることが確認された。
’ H − N M Rスペクトル
δ(ppm) :0.05 (s,St−Cll,I
,311)1.11 (s+c−Clls,311)
1.70 ( s ,Si−CIlz,211)3.5
6 ( s ,SiO−CIIs.611)3.96
( s ,CO−CIb.21l)土且スペクトル 1740cr’にC=Oに起因するピークが観察された
(第2図). GC−MS 親ピーク:192(分子量:192.3)夫星口主 撹拌棒、滴下ロ一ト、低温温度針及び乾燥管付き冷却管
を備えた2l四つ口フラスコに、乾燥テトラヒドロフラ
ン655.5g、ジイソプ口ピルアミン101.2gを
仕込み、反応混合物をO″Cに冷却した。反応混合物の
温度を−10〜O″Cに保ちながら、ここにn−プチル
リチウム15%ヘキサン溶液343.8gを滴下した.
滴下終了後、O″Cにおいて15分間撹拌し、続いて、
ドライアイスーアセトンにより−78℃に冷却した.そ
の後、酢酸エチル88.1gを加えて−70゜Cで30
分間撹拌した後、メチルメトキシジク口ロシラン72.
5gを−70゜C以下に保ちながら滴下し、1時間撹拌
した。次いで、トリメチルクロロシラン168.2gを
滴下し、反応混合物の温度を徐々に室温まで昇温した後
、濾過、蒸留を行って、沸点105゜C / 4 ma
H g、屈折率1 .4332 ( 2 5”C )
の留分31.7g(収率l2.8%)を得た。
,311)1.11 (s+c−Clls,311)
1.70 ( s ,Si−CIlz,211)3.5
6 ( s ,SiO−CIIs.611)3.96
( s ,CO−CIb.21l)土且スペクトル 1740cr’にC=Oに起因するピークが観察された
(第2図). GC−MS 親ピーク:192(分子量:192.3)夫星口主 撹拌棒、滴下ロ一ト、低温温度針及び乾燥管付き冷却管
を備えた2l四つ口フラスコに、乾燥テトラヒドロフラ
ン655.5g、ジイソプ口ピルアミン101.2gを
仕込み、反応混合物をO″Cに冷却した。反応混合物の
温度を−10〜O″Cに保ちながら、ここにn−プチル
リチウム15%ヘキサン溶液343.8gを滴下した.
滴下終了後、O″Cにおいて15分間撹拌し、続いて、
ドライアイスーアセトンにより−78℃に冷却した.そ
の後、酢酸エチル88.1gを加えて−70゜Cで30
分間撹拌した後、メチルメトキシジク口ロシラン72.
5gを−70゜C以下に保ちながら滴下し、1時間撹拌
した。次いで、トリメチルクロロシラン168.2gを
滴下し、反応混合物の温度を徐々に室温まで昇温した後
、濾過、蒸留を行って、沸点105゜C / 4 ma
H g、屈折率1 .4332 ( 2 5”C )
の留分31.7g(収率l2.8%)を得た。
このものは’H−NMRスペクトル、IRスペクトルの
測定及びGC−MS分析により下記の構造であることが
確認された。
測定及びGC−MS分析により下記の構造であることが
確認された。
’H−NMRスペクトル
δ(pps+) :0.06 (s,St−CI,.
3H)1.16 ( t ,C−CI!.6H)1.8
9 ( s ,Si−CHx.411)3.50 (
s ,SiO−CHs,311)3.71 (q ,C
o−CHz,t)I)土且スペクトル 1 7 2 lea”にC=Oに起因するピークが観察
された(第3図)。
3H)1.16 ( t ,C−CI!.6H)1.8
9 ( s ,Si−CHx.411)3.50 (
s ,SiO−CHs,311)3.71 (q ,C
o−CHz,t)I)土且スペクトル 1 7 2 lea”にC=Oに起因するピークが観察
された(第3図)。
GC−MS
親ピーク:248(分子量:24B.3)裏施■土
撹拌棒、滴下ロ一ト、低温温度計及び乾燥管付き冷却管
を備えた2l四つ口フラスコに、乾燥テトラヒドロフラ
ン667.0g,ジイソプロビルアミン101.2gを
仕込み、反応混合物を0゜Cに冷却した.反応混合物の
温度を−10〜0℃に保ちながら、ここにn−ブチルリ
チウム15%ヘキサン溶液427.0gを滴下した.滴
下終了後、O℃において15分間撹拌し、続いて、ドラ
イアイスーアセトンにより−78℃に冷却した.その後
、酢酸エチル88.0gを加えて−70゜Cで30分間
撹拌した後、メチルトリクロロシラン1 19.4 g
を−70℃以下に保ちながら滴下し、72時間撹拌した
.次いで、トリメチルクロロシラン119.4gを滴下
し、反応混合物の温度を徐々に室温まで昇温した後、濾
過、蒸留を行って、沸点115゜C/1閣Hg、屈折率
1.4298 (25゜C)の留分22.5g(収率8
.6%)を得た.このものは’H−NMRスペクトル、
IRスペクトル測定及びQC−MS分析により下記の構
造であることが確認された. IH−NMRスペクトル δ(ppm) :0.28 (s,Si−CHs,3
H)1.26 ( t ,C−CH3.9H)2.00
( s ,Si−Cllz,48)4.07 (q+
0−CIIz+611)土且スペクトル 1720cm−’にC=Oに起因するピークが観察され
た(第4図)。
を備えた2l四つ口フラスコに、乾燥テトラヒドロフラ
ン667.0g,ジイソプロビルアミン101.2gを
仕込み、反応混合物を0゜Cに冷却した.反応混合物の
温度を−10〜0℃に保ちながら、ここにn−ブチルリ
チウム15%ヘキサン溶液427.0gを滴下した.滴
下終了後、O℃において15分間撹拌し、続いて、ドラ
イアイスーアセトンにより−78℃に冷却した.その後
、酢酸エチル88.0gを加えて−70゜Cで30分間
撹拌した後、メチルトリクロロシラン1 19.4 g
を−70℃以下に保ちながら滴下し、72時間撹拌した
.次いで、トリメチルクロロシラン119.4gを滴下
し、反応混合物の温度を徐々に室温まで昇温した後、濾
過、蒸留を行って、沸点115゜C/1閣Hg、屈折率
1.4298 (25゜C)の留分22.5g(収率8
.6%)を得た.このものは’H−NMRスペクトル、
IRスペクトル測定及びQC−MS分析により下記の構
造であることが確認された. IH−NMRスペクトル δ(ppm) :0.28 (s,Si−CHs,3
H)1.26 ( t ,C−CH3.9H)2.00
( s ,Si−Cllz,48)4.07 (q+
0−CIIz+611)土且スペクトル 1720cm−’にC=Oに起因するピークが観察され
た(第4図)。
GC−MS
親ピーク:262(分子量:262.4)(発明の効果
) 4. 本発明の有機ケイ素化合物は、新規物質である.該化合
物は、高い加水分解性を有し、オルガノポリシロキサン
の末端水酸基と反応して悪臭及び腐食性のない酢酸エス
テルを放出するため、室温硬化型のオルガノボリシロキ
サン組成物の硬化成分として極めて有用であり、電気・
電子、建築、自動車など幅広い分野での応用が可能であ
る。
) 4. 本発明の有機ケイ素化合物は、新規物質である.該化合
物は、高い加水分解性を有し、オルガノポリシロキサン
の末端水酸基と反応して悪臭及び腐食性のない酢酸エス
テルを放出するため、室温硬化型のオルガノボリシロキ
サン組成物の硬化成分として極めて有用であり、電気・
電子、建築、自動車など幅広い分野での応用が可能であ
る。
第1図〜第4図は、それぞれ実施例1〜4における本発
明の有機ケイ素化合物のIRスペクトルである.
明の有機ケイ素化合物のIRスペクトルである.
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ここで、R^1はメチル基またはエチル基であり、R
^2は炭素原子数1〜4のアルキル基であり、nは1〜
3の整数である)で示される有機ケイ素化合物。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1110196A JPH02289590A (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 有機ケイ素化合物 |
EP90304604A EP0395434B1 (en) | 1989-04-28 | 1990-04-27 | Organosilicon compound |
US07/515,416 US5124469A (en) | 1989-04-28 | 1990-04-27 | Organosilicon compound |
DE69020790T DE69020790T2 (de) | 1989-04-28 | 1990-04-27 | Organosilicium-Verbindungen. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1110196A JPH02289590A (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 有機ケイ素化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02289590A true JPH02289590A (ja) | 1990-11-29 |
Family
ID=14529484
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1110196A Pending JPH02289590A (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 有機ケイ素化合物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5124469A (ja) |
EP (1) | EP0395434B1 (ja) |
JP (1) | JPH02289590A (ja) |
DE (1) | DE69020790T2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2507251B2 (ja) * | 1991-12-04 | 1996-06-12 | 信越化学工業株式会社 | 2−トリメトキシシリルプロピオン酸エステル |
JPH07258274A (ja) * | 1994-03-16 | 1995-10-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 2−メチルジアルコキシシリルプロピオン酸エステル |
US5807922A (en) * | 1996-10-30 | 1998-09-15 | University Of Southern Mississippi | Multifunctional surface active agents, syntheses and applications thereof |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2589445A (en) * | 1949-06-03 | 1952-03-18 | Dow Corning | Organosilicon acids |
DE2904220A1 (de) * | 1979-02-05 | 1980-08-07 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur herstellung von carbalkoxialkylsilanen |
JPS6064905A (ja) * | 1983-09-17 | 1985-04-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 植物の生長促進剤および生長促進方法 |
DD238976A1 (de) * | 1985-07-01 | 1986-09-10 | Univ Halle Wittenberg | Verfahren zur herstellung von diorganosilyl(essigsaeureester) |
-
1989
- 1989-04-28 JP JP1110196A patent/JPH02289590A/ja active Pending
-
1990
- 1990-04-27 US US07/515,416 patent/US5124469A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-04-27 DE DE69020790T patent/DE69020790T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-04-27 EP EP90304604A patent/EP0395434B1/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
CHEMICAL ABSTRACTS=1966 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0395434A3 (en) | 1991-08-07 |
EP0395434A2 (en) | 1990-10-31 |
EP0395434B1 (en) | 1995-07-12 |
DE69020790D1 (de) | 1995-08-17 |
DE69020790T2 (de) | 1996-01-18 |
US5124469A (en) | 1992-06-23 |
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