JPH0228158A - 液晶性化合物、それを含有する液晶組成物および液晶素子 - Google Patents
液晶性化合物、それを含有する液晶組成物および液晶素子Info
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- JPH0228158A JPH0228158A JP63177082A JP17708288A JPH0228158A JP H0228158 A JPH0228158 A JP H0228158A JP 63177082 A JP63177082 A JP 63177082A JP 17708288 A JP17708288 A JP 17708288A JP H0228158 A JPH0228158 A JP H0228158A
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Landscapes
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、新規な液晶性化合物、それを含有する液晶組
成物および該液晶組成物を使用する液晶素−f−に関す
るものである。
成物および該液晶組成物を使用する液晶素−f−に関す
るものである。
[従来の技術]
従来の液晶素子としては、例えばエム・シャット(M、
5chadt)とダブリュー・ヘルフリヒ(凱11c
lfrich) ’J、゛アプライド・フィジックス・
レターズパ 18巻4 ry じ八pplied
Physics Letlers 。
5chadt)とダブリュー・ヘルフリヒ(凱11c
lfrich) ’J、゛アプライド・フィジックス・
レターズパ 18巻4 ry じ八pplied
Physics Letlers 。
Vol、 18. No、 4) (1971,2,1
5) 127〜128頁の「捩れネマチック液晶の゛重
圧依存光学挙動」(Voltage Depende
nt Opt、1cal ActiviLy o
f aTwisted NcmaLic Liqui
d CrysLaビ)に記載されたrN(ツィステッド
・ネマチック twisシed netsatiC)液
晶を用いたものか知られている。しかしなから、4のT
N液晶は、画素密度を高くしたマトリクス電極構造を用
いた時分11,1駆動の時、クロストークを発生する聞
届点かあるため、画素数か制限されていた。また、電界
応答か〃く視野角特性か悪いためにデイスプレィとして
の用途は限定されていた。
5) 127〜128頁の「捩れネマチック液晶の゛重
圧依存光学挙動」(Voltage Depende
nt Opt、1cal ActiviLy o
f aTwisted NcmaLic Liqui
d CrysLaビ)に記載されたrN(ツィステッド
・ネマチック twisシed netsatiC)液
晶を用いたものか知られている。しかしなから、4のT
N液晶は、画素密度を高くしたマトリクス電極構造を用
いた時分11,1駆動の時、クロストークを発生する聞
届点かあるため、画素数か制限されていた。また、電界
応答か〃く視野角特性か悪いためにデイスプレィとして
の用途は限定されていた。
更に、各画素に薄膜トランジスタによるスイッチング素
子を接続し、各画素毎をスイッチングする方式の表示素
子か知られているか、基板上に薄膜トランジスタを形成
する工程か極めて煩雑な上、大面積の表示、ド子を作成
することが難しい問題点かある。
子を接続し、各画素毎をスイッチングする方式の表示素
子か知られているか、基板上に薄膜トランジスタを形成
する工程か極めて煩雑な上、大面積の表示、ド子を作成
することが難しい問題点かある。
このような従来型の液晶素子の欠点を4為するものとし
て、双安定性を有する液晶素子の使用か、クラーク(C
1ark)およびラガウェル(Lagerwall)に
より提案されている(特開昭55−107216号公報
、米国特許第4:167924号明細占等)。双安定性
を有する液晶としては、一般に、カーイラルスメクチン
クC相(Slc”)又はH相(Sl(ゝ)を有する強1
A″市性液晶か用いられる。
て、双安定性を有する液晶素子の使用か、クラーク(C
1ark)およびラガウェル(Lagerwall)に
より提案されている(特開昭55−107216号公報
、米国特許第4:167924号明細占等)。双安定性
を有する液晶としては、一般に、カーイラルスメクチン
クC相(Slc”)又はH相(Sl(ゝ)を有する強1
A″市性液晶か用いられる。
この強誘電性液晶は自発分極を有するために非常に速い
応答速度を有するLに、メモリー性のある双安定状態を
発現させることかてき、さらに視野角特性も優れている
ことから、大容凌大画1mのデイスプレィとして適して
いる。
応答速度を有するLに、メモリー性のある双安定状態を
発現させることかてき、さらに視野角特性も優れている
ことから、大容凌大画1mのデイスプレィとして適して
いる。
また強14電性液晶として用いられる材料は不斉)突上
を有しているために、そのカイラルスメクデイック相を
利用した強請′心性液晶として使用する以外に、次のよ
うな光学素子としても使用することかてきる。
を有しているために、そのカイラルスメクデイック相を
利用した強請′心性液晶として使用する以外に、次のよ
うな光学素子としても使用することかてきる。
I)液晶状態においてコレステリック・ネマティック相
転移効果を利用するもの(シェイ シェイウインキ、エ
イ アタムス、ダフリュ ハアース「フィジックス レ
ウユー レターズJ (J、 J。
転移効果を利用するもの(シェイ シェイウインキ、エ
イ アタムス、ダフリュ ハアース「フィジックス レ
ウユー レターズJ (J、 J。
Wysoki、 A、 八dams and
W、 1laas; Pbys、 Rev。
W、 1laas; Pbys、 Rev。
1、t4L、)、 20. 1024 (1958
) )2)液晶状FBにおいてホワイト・ティラー形
ゲスト・ホスト効果を利用するもの〔デー エル ホワ
イト、シー エム ヂエイラー[ジャーナルオフ アプ
ライド フィジッスクj (D、 l4. White
and G、 N、Taylor; J、 Appl、
Phys、)、 45.4718(+q74):+
、 iか知られている。個々の方式についての詳細な説
明は省略するか、表示素子や変調素子として重要である
。
) )2)液晶状FBにおいてホワイト・ティラー形
ゲスト・ホスト効果を利用するもの〔デー エル ホワ
イト、シー エム ヂエイラー[ジャーナルオフ アプ
ライド フィジッスクj (D、 l4. White
and G、 N、Taylor; J、 Appl、
Phys、)、 45.4718(+q74):+
、 iか知られている。個々の方式についての詳細な説
明は省略するか、表示素子や変調素子として重要である
。
しかしながら、上記の様に各種の液晶を使用した液晶素
子か知られているか、広い温度範囲ての液晶状態の安定
性と高速応答を兼ね備えた液晶性化合物またそれを使用
した液晶素子はまた得られていない現状である。
子か知られているか、広い温度範囲ての液晶状態の安定
性と高速応答を兼ね備えた液晶性化合物またそれを使用
した液晶素子はまた得られていない現状である。
[発明か解決しようとする課題]
未発(!J1は、この様な従来技術に鑑みてなされたち
のてあり、液晶性化合物の骨格にピリミジンI]を導入
することにより、安定した液晶状態;をもつ新規な液晶
性化合物の提供することを[1的とする。
のてあり、液晶性化合物の骨格にピリミジンI]を導入
することにより、安定した液晶状態;をもつ新規な液晶
性化合物の提供することを[1的とする。
また、L述の新規な液晶性化合物を少なくとも1種類含
有する液晶組成物およびそれを使用した応答速度か速い
液晶J r−を提供することを目的とする。
有する液晶組成物およびそれを使用した応答速度か速い
液晶J r−を提供することを目的とする。
[課題を解決するためのr0段]および[作用]本発明
は、に述の目的を達成するためになされたちのであり、
第一の発明は、下記一般式[1]て表わされる新規な液
晶性化合物である。
は、に述の目的を達成するためになされたちのであり、
第一の発明は、下記一般式[1]て表わされる新規な液
晶性化合物である。
CIl□= CIl+ CIl□←h−X−Δ−B−E
−Y−1ぴ [1](式中、Xは単結合または一〇
−O−、Yは屯結合のいずれかであり、且つA、B、H
の少なくとも1つはピリミジル基を示す。また、mは1
〜14の整数、R′は不斉1)素原子を含む光学活性基
を示す。) また、第二の発明は、前記一般式[1]で表わされる液
晶性化合物を少なくとも1種類含有することを特徴とす
る液晶組成物である。
−Y−1ぴ [1](式中、Xは単結合または一〇
−O−、Yは屯結合のいずれかであり、且つA、B、H
の少なくとも1つはピリミジル基を示す。また、mは1
〜14の整数、R′は不斉1)素原子を含む光学活性基
を示す。) また、第二の発明は、前記一般式[1]で表わされる液
晶性化合物を少なくとも1種類含有することを特徴とす
る液晶組成物である。
さらに、第三の発明は、前記一般式[1]で表わされる
液晶性化合物を少なくと51種類含有する液晶組成物を
使用することを特徴とする液晶溝r−である。
液晶性化合物を少なくと51種類含有する液晶組成物を
使用することを特徴とする液晶溝r−である。
以f、本発明の詳細な説明する。
本発明の前記一般式[1]で表わされる液晶性化合物に
おいて、R8は不斉炭素原子を含有する光学活性基てあ
れば良いか、電界応答性をより高めるためには不斉炭素
原子に直接極性基を導入し、自発分極を増大させること
か重要である。
おいて、R8は不斉炭素原子を含有する光学活性基てあ
れば良いか、電界応答性をより高めるためには不斉炭素
原子に直接極性基を導入し、自発分極を増大させること
か重要である。
具体的には、前記一般式[1コにおいてR8か下記の一
般式[2] [ %式%[2] (式中、ZはYか−O−または−CO−のとき−C11
2てあり、Yか一〇C−のときl′n結合である。
般式[2] [ %式%[2] (式中、ZはYか−O−または−CO−のとき−C11
2てあり、Yか一〇C−のときl′n結合である。
nは1〜16の整数、C1は不斉炭素原rを示す)て示
されるように、不斉炭素原子に直接フッ素ノ、(を導入
した光学活性)、(であることか望ましい。
されるように、不斉炭素原子に直接フッ素ノ、(を導入
した光学活性)、(であることか望ましい。
次に1本発明の液晶性化合物の代表的な合成フローを示
す。
す。
(G
またはB r 。
p+r
■)
■G=011のとき
QC2I+、。
(p+q=oまたは1)
の場合
R,R′のどちらかかe11□= (:1I−(CII
2′F−9他方か光学活性基 の場合 R: e112= C11−(e112元E。
2′F−9他方か光学活性基 の場合 R: e112= C11−(e112元E。
、光学活性基
■G=Brのとき
1)CO□
1)SOCl2
(:
の場合
R・
CI+□= (: l+−(に I+□)。
:光学活性J
以上のようにして製造可能な液晶性化合物の具体例を以
下に記す。
下に記す。
また、本発明の液晶組成物は、前記一般式[1]で表わ
される液晶性化合物を少なくとも1種類配合成分として
含有するものである。例えば、前記液晶性化合物を、下
記の式(1)〜(13)て示されるような強調゛1ニ性
液、清と組合わせると1自発分極を増大し、応答速度を
改4することかできる。
される液晶性化合物を少なくとも1種類配合成分として
含有するものである。例えば、前記液晶性化合物を、下
記の式(1)〜(13)て示されるような強調゛1ニ性
液、清と組合わせると1自発分極を増大し、応答速度を
改4することかできる。
この場合、本発明の前記一般式[1]て示される液晶性
化合物を、得られる液晶組成物の0.1〜99■に量%
、特に1〜90重贋%となる割合て使用することか望ま
しい。
化合物を、得られる液晶組成物の0.1〜99■に量%
、特に1〜90重贋%となる割合て使用することか望ま
しい。
メチルフチルシンナメート
(DOB八MへG)
メチルフ゛チルーα−シアノシンナメート(TDOB八
MBへG)クロルプロピルシンナメート (1108八cpc) メチルフチルーα−クロロシンナノ−1〜(OOIIA
MRCC) メチルフチル α−シアノシンナメート(DOBAMBCC)P−才ク
チルオキシベンジリデン−P′−アミノ2−メチルフチ
ルーα−メチルシンナメートメチルフチル) エステル ヘキシルオキシフェニル−4−(2″−メチルフ壬ル)
ビフェニル−4′−カルボキシレート・1′−オクチル
アニリン (M B RA 4−才クチルオキシフェニル−4−(ど−メチルフチル
)ビフェニル−4′−カルポキシレーhオキシビフエニ
ル−4 カルボキシレート 4−へブチルフェニル−4−(4″−メチルヘキシル)
ビフェニル−4′−カルボキシレートC811,、O(
)(狸coo +QC9I+、。
MBへG)クロルプロピルシンナメート (1108八cpc) メチルフチルーα−クロロシンナノ−1〜(OOIIA
MRCC) メチルフチル α−シアノシンナメート(DOBAMBCC)P−才ク
チルオキシベンジリデン−P′−アミノ2−メチルフチ
ルーα−メチルシンナメートメチルフチル) エステル ヘキシルオキシフェニル−4−(2″−メチルフ壬ル)
ビフェニル−4′−カルボキシレート・1′−オクチル
アニリン (M B RA 4−才クチルオキシフェニル−4−(ど−メチルフチル
)ビフェニル−4′−カルポキシレーhオキシビフエニ
ル−4 カルボキシレート 4−へブチルフェニル−4−(4″−メチルヘキシル)
ビフェニル−4′−カルボキシレートC811,、O(
)(狸coo +QC9I+、。
(2″−メチルフチル)フェニル−4−(4″−メチル
ヘキシル)ビフェニル−4′−カルボキシレート(4−
ノニルオキシフェニル)−4′〜オクチルオキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート \ 74.3°C8] 、0°C S m C” <□ S Il八 また1本発明の一般式[1]て表わされる液晶性化合物
を、下記の式(14)〜(18)で示されるような、そ
れ自体はカイラルてないスメクティック液11’lに配
合J−ることにより、強誘電性液晶として使用ζ1丁能
な液晶、組成物か得られる。
ヘキシル)ビフェニル−4′−カルボキシレート(4−
ノニルオキシフェニル)−4′〜オクチルオキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート \ 74.3°C8] 、0°C S m C” <□ S Il八 また1本発明の一般式[1]て表わされる液晶性化合物
を、下記の式(14)〜(18)で示されるような、そ
れ自体はカイラルてないスメクティック液11’lに配
合J−ることにより、強誘電性液晶として使用ζ1丁能
な液晶、組成物か得られる。
この場合、−競式[1]て示される液晶性化合物を、得
られる液晶組成物の0.1〜99重湯%、特に1〜g
g 屯;1%て使用することか好ましい。
られる液晶組成物の0.1〜99重湯%、特に1〜g
g 屯;1%て使用することか好ましい。
このような液晶組成物は、本発明の液晶性化合物の含有
州に応して、これに起因する大きな自発分極を得ること
かできる。
州に応して、これに起因する大きな自発分極を得ること
かできる。
Cl011210+ 5+oc+oL
4.4′−デシルオキシアゾキシベンゼン77°C
C「ハし、 −〉S rx C
120℃
←−−−−→
123℃
←−−−−→Iso。
2−(4’−へキシルオキシフェニル)−5(4−へキ
シルオキシフェニル)ピリミジン120℃ Cr y SL 、 −〉S m C 89°C ←−ンStsへ 216℃ ←−−一−→ (I7) 2−(4’−オクチルオキシフェニル)−5ノニルピリ
ミジン 36C CrysL、−一→SmC 60’C ←−−−−→5LIA 5aC ←−−−→Iso。
シルオキシフェニル)ピリミジン120℃ Cr y SL 、 −〉S m C 89°C ←−ンStsへ 216℃ ←−−一−→ (I7) 2−(4’−オクチルオキシフェニル)−5ノニルピリ
ミジン 36C CrysL、−一→SmC 60’C ←−−−−→5LIA 5aC ←−−−→Iso。
(I8)
170は)象))Coo +Or:511. 。
4′−ペンチルオキシフェニル−4
オクチルオキシベンツエート
ここて、記りは、それぞれ以下の相を示す。
Crysl :結晶相、 Sm八:スメクチッ
クA相、SmB °スメクチックB相、SsC:スメク
チツクC相、N:ネマチック相、 lso、:等
方相。
クA相、SmB °スメクチックB相、SsC:スメク
チツクC相、N:ネマチック相、 lso、:等
方相。
また、本発明の一般式[1]て表される液晶性化合物を
少なくとも−・種類含有する液晶組成物を使用すること
により、例えば強誘電性液晶素子、ツィステッドネマチ
ック液晶素子等の液晶素子を得ることかできる。
少なくとも−・種類含有する液晶組成物を使用すること
により、例えば強誘電性液晶素子、ツィステッドネマチ
ック液晶素子等の液晶素子を得ることかできる。
[実施例]
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
実施例■
2− [4′−(2−フルオロオクチルオキシ)フェニ
ル]−5−(8−ノネニル)ピリミジンの製造下記工程
に従い2− [4’−(2−フルオロオクチルオキシ)
フェニル]−5−(8−ノネニル)ピリミジンを製造し
た。
ル]−5−(8−ノネニル)ピリミジンの製造下記工程
に従い2− [4’−(2−フルオロオクチルオキシ)
フェニル]−5−(8−ノネニル)ピリミジンを製造し
た。
C11゜=all−(−elf2 )y−elf
+0C2115)2+10 (トC ・IIG \ J:程1) 1.1−ジェトキシ川0−ウンデセンの製造ナス型フラ
スコ中で10−ウンデセナール0.84g(5mmol
)、オルl−ギ酸エチル1. Ilg(7,5smol
)、p−t−ルエンスルホン酸47■g(0,25mm
ol)をエタノール2.5mj!を溶媒とし、室温て6
時間攪拌することにより反応させた。反応終了後、エタ
ノールを留去し、1N炭酸水素ナトリウム水溶液2虐!
を加え、ジエチルエーテルおよびヘキサンを用いて抽出
した。得られた有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムに
より乾燥し、溶媒を留去して減圧蒸留を行い、[l的の
1.1−ジェトキシ−10−ウンデセンを得た。
+0C2115)2+10 (トC ・IIG \ J:程1) 1.1−ジェトキシ川0−ウンデセンの製造ナス型フラ
スコ中で10−ウンデセナール0.84g(5mmol
)、オルl−ギ酸エチル1. Ilg(7,5smol
)、p−t−ルエンスルホン酸47■g(0,25mm
ol)をエタノール2.5mj!を溶媒とし、室温て6
時間攪拌することにより反応させた。反応終了後、エタ
ノールを留去し、1N炭酸水素ナトリウム水溶液2虐!
を加え、ジエチルエーテルおよびヘキサンを用いて抽出
した。得られた有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムに
より乾燥し、溶媒を留去して減圧蒸留を行い、[l的の
1.1−ジェトキシ−10−ウンデセンを得た。
b、p、 97〜l[]0℃/ l 〜2 l11m
11g収:H:0.70g (2,9+s+5ol)
収+ 58%王程2) β−ジメチルアミノ−α−(8−ノネニル)アクロレイ
ンの製造 1.2−ジクロロエタン4m1)と乾燥DMF2.08
g (28,5imol)をナス型フラスコに入れ、冷
却しなから攪拌しているところへ、3()%ホスゲン/
トルエン溶液3.8g (] 1ino l )を滴下
して加えた。さらに、1.2−ジクロロエタン4mj!
を加えた後、1.1−ジェトキシ−1[]−ウンデセン
2.3g (9,5mmol)と1.2−ジクロロエタ
ンを滴下して加えた。70℃て15分間反応させた後放
冷した。反応溶液の液温か十分下かつてから氷4gを加
え、飽和炭酩カリウム水溶液を8 rsR’W4下して
加えた。 100℃で1.2−ジクロロエタンを留去後
、95°Cに15分間保った後、ベンゼンエタノール(
−2:1)の混合溶媒て抽出し炭酸カリウムて乾燥させ
た後、溶媒を留去し、蒸留により精製した。
11g収:H:0.70g (2,9+s+5ol)
収+ 58%王程2) β−ジメチルアミノ−α−(8−ノネニル)アクロレイ
ンの製造 1.2−ジクロロエタン4m1)と乾燥DMF2.08
g (28,5imol)をナス型フラスコに入れ、冷
却しなから攪拌しているところへ、3()%ホスゲン/
トルエン溶液3.8g (] 1ino l )を滴下
して加えた。さらに、1.2−ジクロロエタン4mj!
を加えた後、1.1−ジェトキシ−1[]−ウンデセン
2.3g (9,5mmol)と1.2−ジクロロエタ
ンを滴下して加えた。70℃て15分間反応させた後放
冷した。反応溶液の液温か十分下かつてから氷4gを加
え、飽和炭酩カリウム水溶液を8 rsR’W4下して
加えた。 100℃で1.2−ジクロロエタンを留去後
、95°Cに15分間保った後、ベンゼンエタノール(
−2:1)の混合溶媒て抽出し炭酸カリウムて乾燥させ
た後、溶媒を留去し、蒸留により精製した。
b、p、 140〜160℃10.4〜0.511(
g数州1.8g(8,1m廖o1) 収J85%[程
3) 4−ヒドロキシベンズアミジン塩酸塩の製造チオシアン
酸アンモニウム3.0g (40m5ol)と4ヒドロ
キシベンズニトリル1.2g (10m5ol)を混合
し、180°Cて3時間よく攪拌した。放冷した後。
g数州1.8g(8,1m廖o1) 収J85%[程
3) 4−ヒドロキシベンズアミジン塩酸塩の製造チオシアン
酸アンモニウム3.0g (40m5ol)と4ヒドロ
キシベンズニトリル1.2g (10m5ol)を混合
し、180°Cて3時間よく攪拌した。放冷した後。
29%アンモニア水を約51?加え、沈殿物を炉取した
。得られた固体は、冷水10mpて洗浄後、デシケータ
−中(乾燥剤:水酸化カリウム)で乾燥した。1−分乾
燥させて、e塩酸に溶解し、余剰の塩酸を留去し、4−
ヒドロキシベンズアミジン塩酸塩を得た。
。得られた固体は、冷水10mpて洗浄後、デシケータ
−中(乾燥剤:水酸化カリウム)で乾燥した。1−分乾
燥させて、e塩酸に溶解し、余剰の塩酸を留去し、4−
ヒドロキシベンズアミジン塩酸塩を得た。
1、p、 21.9°C
収J 116g (7,9mmol )収率 7
9% 1−程4) 2−(4’−ヒドロキシフェニル) −5−(8−ノネ
ニル)ピリミジンの製造 ナトリウム240B (10,4mmol)を乾燥メタ
ノールに溶解させ、次に、そこへ4〜ヒドロキシベンズ
アミジン塩酸塩を0.90g (5,2mmol)とβ
−ジメチルアミノ−α−(8−ノネニル)アクロレイン
を1、16g(5,2maol )加え、6 u+j間
加熱加熱還流った。反応終了後、希酢酸をIO,8tj
!加え、ジエチルエーテルを用いて抽出した。得られた
ニーデル溶液は1%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後
、水洗し、無水硫酸ナトリウムて乾燥した。溶媒を留去
し、得られた粗生成物をカラムクロマトクラフィー(移
動相:酢酸エチル/ジクロロメタン=1/2)により精
製し、目的の2−(4’−ヒドロキシフェニル)−5−
(8″−ノネニル)ピリミジンを1.1g(3,7gm
ol)を得た。(収率71%)1程5) 2−[4’−(2−フルオロオクチルオキシ)フェニル
]−5−(8−ノネニル)ピリミジンの製造1)−)−
ルエンスルホン酸2−フルオロオクチル0.54g (
1,8gmol) 、 2− (4’−ヒドロキシフェ
ニル)−5−(8−ノネニル)ピリミジン0.5:Ig
を乾燥ジメチルホルムアミド1.5 ranに溶解させ
、攪拌しているところへ60%水素化ナトリウム72I
Ig(1,8■■ol)を加えた後、130℃て7時間
反応させた。ジメチルホルムアミドを留去してから水を
入れ、ジエチルエーテルで抽出し、得られたエーテル溶
液は無水LMナトリウムて乾燥した後、溶媒を留去し、
カラムクロマトグラフィー(移動相ニジクロロメタン)
で精製した。
9% 1−程4) 2−(4’−ヒドロキシフェニル) −5−(8−ノネ
ニル)ピリミジンの製造 ナトリウム240B (10,4mmol)を乾燥メタ
ノールに溶解させ、次に、そこへ4〜ヒドロキシベンズ
アミジン塩酸塩を0.90g (5,2mmol)とβ
−ジメチルアミノ−α−(8−ノネニル)アクロレイン
を1、16g(5,2maol )加え、6 u+j間
加熱加熱還流った。反応終了後、希酢酸をIO,8tj
!加え、ジエチルエーテルを用いて抽出した。得られた
ニーデル溶液は1%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後
、水洗し、無水硫酸ナトリウムて乾燥した。溶媒を留去
し、得られた粗生成物をカラムクロマトクラフィー(移
動相:酢酸エチル/ジクロロメタン=1/2)により精
製し、目的の2−(4’−ヒドロキシフェニル)−5−
(8″−ノネニル)ピリミジンを1.1g(3,7gm
ol)を得た。(収率71%)1程5) 2−[4’−(2−フルオロオクチルオキシ)フェニル
]−5−(8−ノネニル)ピリミジンの製造1)−)−
ルエンスルホン酸2−フルオロオクチル0.54g (
1,8gmol) 、 2− (4’−ヒドロキシフェ
ニル)−5−(8−ノネニル)ピリミジン0.5:Ig
を乾燥ジメチルホルムアミド1.5 ranに溶解させ
、攪拌しているところへ60%水素化ナトリウム72I
Ig(1,8■■ol)を加えた後、130℃て7時間
反応させた。ジメチルホルムアミドを留去してから水を
入れ、ジエチルエーテルで抽出し、得られたエーテル溶
液は無水LMナトリウムて乾燥した後、溶媒を留去し、
カラムクロマトグラフィー(移動相ニジクロロメタン)
で精製した。
[1的の2−[4′−(2−フルオロオクチルオキシ)
フェニル]−5−(8−ノネニル)ピリミジンは0.5
6g (1,:l+imol)得られた。(収率7I%
)相転移温度(°C) 25.9 4+、0 54.3Cry
st、 結晶相、 S3 : SvA、 Ss(:
”以外のスメクチック相(未確認)、S:SIAまたは
Sac”相(未確認)、Iso:に9方性液体相 実施例2 2−[4′−(2−フルオロオクチルオキシ)フェニル
]−5−(10−ウンデセニルオキシ)ピリミジンの製
造 ド記r程に従い、2−[4’−(2−フルオロオクチル
オキシ)フェニル]−5−(10−ウンデセニルオキシ
)ピリミジンを製造した。
フェニル]−5−(8−ノネニル)ピリミジンは0.5
6g (1,:l+imol)得られた。(収率7I%
)相転移温度(°C) 25.9 4+、0 54.3Cry
st、 結晶相、 S3 : SvA、 Ss(:
”以外のスメクチック相(未確認)、S:SIAまたは
Sac”相(未確認)、Iso:に9方性液体相 実施例2 2−[4′−(2−フルオロオクチルオキシ)フェニル
]−5−(10−ウンデセニルオキシ)ピリミジンの製
造 ド記r程に従い、2−[4’−(2−フルオロオクチル
オキシ)フェニル]−5−(10−ウンデセニルオキシ
)ピリミジンを製造した。
e11□=(:II−C−CH2)wO−CH211:
H−(−0(:2115)2Nl+ +10+C / ・11C1 \ 工程1) 2−(10−ウンデセニルオキシ)アセトアルデヒドジ
エチルアセタールの製造。
H−(−0(:2115)2Nl+ +10+C / ・11C1 \ 工程1) 2−(10−ウンデセニルオキシ)アセトアルデヒドジ
エチルアセタールの製造。
60%水素化ナトリウム1.32g (33miol)
と乾燥トルエン5ij7を混合した液体に、IO−ウン
デセン1−オール5.1g(30mmol)の乾燥トル
エン溶液(3Ip)をゆっくり滴下することにより加え
た。加熱還流を行ない、水素ガスの発生かおさまった後
、反応溶液の温度を80°Cにドげ、プロモアセトアル
デヒトシエチルアセタール6.21g(301■01)
の乾燥ジメチルホルムアミド9mj)の溶液を滴下して
加え、さらに85℃て25時u■反応させた。反応終了
後、トルエン、ジメチルホルムアミドを留去してから氷
を加え、ジエチルエーテルを用いて抽出した。食塩水で
エーテル層を洗浄後、無水硫酸マクネシウムて乾燥させ
、溶媒を留去し減圧蒸留を行い、2−(10−ウンデセ
ニルオキシ)アセトアルデヒドジエチルアセタールを得
た。
と乾燥トルエン5ij7を混合した液体に、IO−ウン
デセン1−オール5.1g(30mmol)の乾燥トル
エン溶液(3Ip)をゆっくり滴下することにより加え
た。加熱還流を行ない、水素ガスの発生かおさまった後
、反応溶液の温度を80°Cにドげ、プロモアセトアル
デヒトシエチルアセタール6.21g(301■01)
の乾燥ジメチルホルムアミド9mj)の溶液を滴下して
加え、さらに85℃て25時u■反応させた。反応終了
後、トルエン、ジメチルホルムアミドを留去してから氷
を加え、ジエチルエーテルを用いて抽出した。食塩水で
エーテル層を洗浄後、無水硫酸マクネシウムて乾燥させ
、溶媒を留去し減圧蒸留を行い、2−(10−ウンデセ
ニルオキシ)アセトアルデヒドジエチルアセタールを得
た。
b、p、 1411 ’C/ 0.6 +s+511
g収j、:L4.8g (1711mol) 収率5
G%■程2) β−ジメチルアミノ−α−(In−ウンデセニルオキシ
)アクロレインの製造 1.2−ジクロロエタン4[lI!と乾燥ジメチルホル
ムアミド8.9g(122,5mmo l )を混合し
、冷却下にしてホスゲン(30%1〜ルエン溶液) 1
7.7g(611msol)を滴下により加え、さらに
1.2〜ジクロロエタン2−pを加え、攪拌した。20
分後、2−(10−ウンデセニルオキシ)アセトアルデ
ヒドジエチルアセタール7.0g(24,5ssol)
の1.2−ジクロロエタン溶液(4i&)を滴下して加
え、室温で40分間、次に、70℃で50分間攪拌した
。反応終了、放冷して氷16.8gを加え、飽和炭酸カ
リウム水溶液を:17.8si’加えた。90°Cにし
、1.2−ジクロロエタンな留去後、さらに30分間g
O°Cに保ち、ベンゼン二二タノール=2.1の混合て
抽出した。得られた有機層を炭酸カリウムて乾燥後、溶
媒を留去し、減圧蒸留を行った。得られたβ−ジメチル
アミノ−α(10−ウンデセニルオキシ)アクロレイン
は2、:17g(8,9ssol)、収率は36%であ
った。 (b、p。
g収j、:L4.8g (1711mol) 収率5
G%■程2) β−ジメチルアミノ−α−(In−ウンデセニルオキシ
)アクロレインの製造 1.2−ジクロロエタン4[lI!と乾燥ジメチルホル
ムアミド8.9g(122,5mmo l )を混合し
、冷却下にしてホスゲン(30%1〜ルエン溶液) 1
7.7g(611msol)を滴下により加え、さらに
1.2〜ジクロロエタン2−pを加え、攪拌した。20
分後、2−(10−ウンデセニルオキシ)アセトアルデ
ヒドジエチルアセタール7.0g(24,5ssol)
の1.2−ジクロロエタン溶液(4i&)を滴下して加
え、室温で40分間、次に、70℃で50分間攪拌した
。反応終了、放冷して氷16.8gを加え、飽和炭酸カ
リウム水溶液を:17.8si’加えた。90°Cにし
、1.2−ジクロロエタンな留去後、さらに30分間g
O°Cに保ち、ベンゼン二二タノール=2.1の混合て
抽出した。得られた有機層を炭酸カリウムて乾燥後、溶
媒を留去し、減圧蒸留を行った。得られたβ−ジメチル
アミノ−α(10−ウンデセニルオキシ)アクロレイン
は2、:17g(8,9ssol)、収率は36%であ
った。 (b、p。
160 ℃10,6 層m II g J工程3)
2−(4’−ヒドロキシフェニル) −5−(10−ウ
ンデセニルオキシ)ピリミジンの製造 ナトリウム92mg(4■mol)を乾燥メタノール2
@pに溶解させた溶液に、実施例1の工程3)で製造し
た4−ヒドロキシベンズアミジン塩酸塩310g(1,
8mmol)とβ−ジメチルアミノ−a−(10−ウシ
デセニルオキシ)アクロレイン460g (+、7■■
OI)の混合物を加え、攪拌し、8時間加熱還流を行っ
た。反応終了後、希酢酸を2■Pを加え、ジエチルエー
テルを用いて抽出した。得られたエーテル溶液を1%炭
酸水素ナトリウム水溶液、木で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウム水溶液を用いて乾燥させた。溶媒を留去して得られ
た粗生成物をカラムクロマトグラフィー(移動相・ジク
ロロメタン/酢酸エチル=9/l)により精製し、目的
の2−(4’−ヒドロキシフェニル)−5−(10−ウ
ンデセニルオキシ)ピリミジンか:l30B (0,9
7gmol )得られた。(収率57%) 工程4) 2−[4’−(2−フルオロオクチルオキシ)フェニル
] −5−(10−ウンデセニルオキシ)ピリミジンの
製造 2−(4’−ヒドロキシフェニル)−5−(10−ウン
デセニルオキシ)ピリミジン460mg (1,4m+
*ol)を乾燥ジメチルホルムアミド1mj)に溶解さ
せた溶液に、60%水素化ナトリウム6511g(1,
6ssol)を加え攪拌した。次に、p−トルエンスル
ホン酸2−フルオロオクチル4]0+++g (1,4
m■of)の乾燥ジメチルホルムアミド溶液(l ml
?)を加え、130℃で7時間反応させた。反応終了後
、ジメチルホルムアミドを留去し、氷を加え、ジエチル
エーテルを用いて抽出した。得られたエーテル溶液は無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、カラムクロ
マトグラフイーて精製した。(移動相・ジクロロメタン
/ヘキサン−271) 11的の2−[4′−(2−フルオロオクチルオキシ)
フェニル]−5−(10−ウンデセニルオキシ)ピリミ
ジンか520mg (1,IIIIIol)得られた。
ンデセニルオキシ)ピリミジンの製造 ナトリウム92mg(4■mol)を乾燥メタノール2
@pに溶解させた溶液に、実施例1の工程3)で製造し
た4−ヒドロキシベンズアミジン塩酸塩310g(1,
8mmol)とβ−ジメチルアミノ−a−(10−ウシ
デセニルオキシ)アクロレイン460g (+、7■■
OI)の混合物を加え、攪拌し、8時間加熱還流を行っ
た。反応終了後、希酢酸を2■Pを加え、ジエチルエー
テルを用いて抽出した。得られたエーテル溶液を1%炭
酸水素ナトリウム水溶液、木で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウム水溶液を用いて乾燥させた。溶媒を留去して得られ
た粗生成物をカラムクロマトグラフィー(移動相・ジク
ロロメタン/酢酸エチル=9/l)により精製し、目的
の2−(4’−ヒドロキシフェニル)−5−(10−ウ
ンデセニルオキシ)ピリミジンか:l30B (0,9
7gmol )得られた。(収率57%) 工程4) 2−[4’−(2−フルオロオクチルオキシ)フェニル
] −5−(10−ウンデセニルオキシ)ピリミジンの
製造 2−(4’−ヒドロキシフェニル)−5−(10−ウン
デセニルオキシ)ピリミジン460mg (1,4m+
*ol)を乾燥ジメチルホルムアミド1mj)に溶解さ
せた溶液に、60%水素化ナトリウム6511g(1,
6ssol)を加え攪拌した。次に、p−トルエンスル
ホン酸2−フルオロオクチル4]0+++g (1,4
m■of)の乾燥ジメチルホルムアミド溶液(l ml
?)を加え、130℃で7時間反応させた。反応終了後
、ジメチルホルムアミドを留去し、氷を加え、ジエチル
エーテルを用いて抽出した。得られたエーテル溶液は無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、カラムクロ
マトグラフイーて精製した。(移動相・ジクロロメタン
/ヘキサン−271) 11的の2−[4′−(2−フルオロオクチルオキシ)
フェニル]−5−(10−ウンデセニルオキシ)ピリミ
ジンか520mg (1,IIIIIol)得られた。
(収率79%)
相転移温度(°C)
:IO,68:1.5 90.0自発分極
6()口C/cm2(5f1℃)実施例3 実施例1に示される液晶性化合物を配合成分とする液晶
組成物Aを調製した。また、比較例として実施例1に示
される液晶性化合物を含まない液晶組成物Bを調製した
。下記の第1表に液晶組成14A、Bそれぞれの相転移
温度および自発分極のイ直を示す。
6()口C/cm2(5f1℃)実施例3 実施例1に示される液晶性化合物を配合成分とする液晶
組成物Aを調製した。また、比較例として実施例1に示
される液晶性化合物を含まない液晶組成物Bを調製した
。下記の第1表に液晶組成14A、Bそれぞれの相転移
温度および自発分極のイ直を示す。
[液晶組r&物A]
1[]vrt%
相転移温度(°C)
[液晶M1成物B]
Z[jwL%
+8 52 64
75第 1 表 次に、2枚の0.7mm厚のガラス板を用意し、それぞ
れのガラス板りにITO(インジウム チンオキサイt
’ ; Indiu+s Tin 0xitje) I
IQを形成し、電圧印加電極を作成し、さらにこの上に
SiO2を蒸着させ1絶縁層とした。ガラス板上にシラ
ンカラプリン剤(信越化学■製、 KBU−602)
0.2%イソプロピルアルコール溶液を回転31200
0r、p、m、のスピードて15秒間塗布し、表面処理
を施した。この後、120°Cにて20分間加熱乾燥処
理を施した。
75第 1 表 次に、2枚の0.7mm厚のガラス板を用意し、それぞ
れのガラス板りにITO(インジウム チンオキサイt
’ ; Indiu+s Tin 0xitje) I
IQを形成し、電圧印加電極を作成し、さらにこの上に
SiO2を蒸着させ1絶縁層とした。ガラス板上にシラ
ンカラプリン剤(信越化学■製、 KBU−602)
0.2%イソプロピルアルコール溶液を回転31200
0r、p、m、のスピードて15秒間塗布し、表面処理
を施した。この後、120°Cにて20分間加熱乾燥処
理を施した。
さらに、表面処理を行なったITO膜付きのガラス板1
−にボリイミ1−樹脂前駆体(東し■、5P−5問)2
%ジメチルアセトアミド溶液を回転数2000r、p、
m、のスピンナーて15秒間塗布した。成膜後、60分
間、300”Cにて加熱縮合焼成処理を施した。この時
の塗膜の膜厚は約700人であった。この焼成後の被膜
に、アセテート植毛布によるラビング処理を施した。
−にボリイミ1−樹脂前駆体(東し■、5P−5問)2
%ジメチルアセトアミド溶液を回転数2000r、p、
m、のスピンナーて15秒間塗布した。成膜後、60分
間、300”Cにて加熱縮合焼成処理を施した。この時
の塗膜の膜厚は約700人であった。この焼成後の被膜
に、アセテート植毛布によるラビング処理を施した。
その後、イソプロピルアルコール掖て洗浄し、モ均粒径
2鉢1のアルミナビーズを一方のガラス板上に散布した
後、それぞれのラビンク処理軸か互いにモ行となる様に
し、接着シール剤(リクソンボント、チッソv4製)を
用いてガラス板を貼り合わせ、同0 °Cにて60分間
加熱乾燥しセルを作成した。このセルのセル厚をベレッ
ク位相板によってΔ一定したところ、約2仄臘であった
。
2鉢1のアルミナビーズを一方のガラス板上に散布した
後、それぞれのラビンク処理軸か互いにモ行となる様に
し、接着シール剤(リクソンボント、チッソv4製)を
用いてガラス板を貼り合わせ、同0 °Cにて60分間
加熱乾燥しセルを作成した。このセルのセル厚をベレッ
ク位相板によってΔ一定したところ、約2仄臘であった
。
ここて、先に調製した強誘電性液晶組成物AおよびBを
各I(等方相丁、均一混合液体状態で、作製したセル内
に真空注入した。等方相から0.5’C/ hて徐冷す
ることにより1強:J5TL性液晶素子を作成した。
各I(等方相丁、均一混合液体状態で、作製したセル内
に真空注入した。等方相から0.5’C/ hて徐冷す
ることにより1強:J5TL性液晶素子を作成した。
この強誘電性液晶素子を使ってピーク・トウ・ピーク電
圧30Vの電圧印加により、直交ニコル下ての光学的な
応答(透過光量変化0〜90%)を検知して応答速度(
以後、光学応答速度という)を測定した。その結果を第
2表に示す。
圧30Vの電圧印加により、直交ニコル下ての光学的な
応答(透過光量変化0〜90%)を検知して応答速度(
以後、光学応答速度という)を測定した。その結果を第
2表に示す。
第2表
リミシル基を含まない液晶性化合物を含有する液晶組成
物りを調製した。下記の第3表に液晶MIJ&物C,D
それぞれの相転移温度および自発分極の値を示す。
物りを調製した。下記の第3表に液晶MIJ&物C,D
それぞれの相転移温度および自発分極の値を示す。
[液晶組成物Cコ
以北の結果からも明らか様に、実施例1の液晶性化合物
の添加により低温域にSC1相か広がり、応答速度の速
い液晶組成物を得ることがてきた。
の添加により低温域にSC1相か広がり、応答速度の速
い液晶組成物を得ることがてきた。
実施例4
実施例2に示される液晶性化合物を配合成分とする液晶
組成物Cを調製した。また、比較例として実施例2に示
される液晶性化合物の代わりにピ相転移温度(℃) 35.4 63.4 72.3 3.6 [液晶組成物D] 相転移温度(°C) 43.9 63.7 70.5 第 3 表 また、これらの液晶、lJ&、物C,Dを、実施例3て
使用したセルと同様の方法で作製したセルに真空注入し
、それぞれの光学応答速度を測定した。その結果を−F
記の第4表に示す。
組成物Cを調製した。また、比較例として実施例2に示
される液晶性化合物の代わりにピ相転移温度(℃) 35.4 63.4 72.3 3.6 [液晶組成物D] 相転移温度(°C) 43.9 63.7 70.5 第 3 表 また、これらの液晶、lJ&、物C,Dを、実施例3て
使用したセルと同様の方法で作製したセルに真空注入し
、それぞれの光学応答速度を測定した。その結果を−F
記の第4表に示す。
第 4
表
第4表の結果から、実施例2に示される液晶性化合物を
添加することにより、広範囲のSac”相を持ち、しか
も応答性に優れた液晶組I&物か得られた。
添加することにより、広範囲のSac”相を持ち、しか
も応答性に優れた液晶組I&物か得られた。
実施例5
透明′1ニ極としてITO(Indius Tin 0
xide)膜を形成したガラス基板上に、ポリイミド樹
1階前駆体〔東し■製、5P−510)を用い、スピナ
ー塗布により成膜した後、300°Cて50分間焼成し
てポリイミド膜を形成した。次に、この被膜をラビング
により配向処理を行ない、ラビンク処理軸か直交するよ
うにしてセルを作製した。(セル間隔8gm)L記セル
にネマチック液晶組成物〔リクソンG11−63:チッ
ソ沖製、ビフェニル液晶混合物〕を注入し、TN(ツィ
ステッド・ネマチック)型セルとし、これを偏光顕微鏡
て観察したところ、リバースドメイン(しま模様)か生
じていることかわかった。
xide)膜を形成したガラス基板上に、ポリイミド樹
1階前駆体〔東し■製、5P−510)を用い、スピナ
ー塗布により成膜した後、300°Cて50分間焼成し
てポリイミド膜を形成した。次に、この被膜をラビング
により配向処理を行ない、ラビンク処理軸か直交するよ
うにしてセルを作製した。(セル間隔8gm)L記セル
にネマチック液晶組成物〔リクソンG11−63:チッ
ソ沖製、ビフェニル液晶混合物〕を注入し、TN(ツィ
ステッド・ネマチック)型セルとし、これを偏光顕微鏡
て観察したところ、リバースドメイン(しま模様)か生
じていることかわかった。
i7i記リクソンG11−6:l (99重量部)に
対して、本発明の実施例2の液晶性化合物(1重量部)
を加えた液晶混合物を用い、L記と同様にしてTNセル
として観察したところ、リバースドメインはみられず均
一性のよいネマチック相となっていた。このことから、
本発明の液晶性化合物はリバース・ドメインの防止に有
効であることか認められた。
対して、本発明の実施例2の液晶性化合物(1重量部)
を加えた液晶混合物を用い、L記と同様にしてTNセル
として観察したところ、リバースドメインはみられず均
一性のよいネマチック相となっていた。このことから、
本発明の液晶性化合物はリバース・ドメインの防止に有
効であることか認められた。
[発明の効果]
以上説明した様に、本発明によれば、電界応答性か良好
な液晶性化合物を得ることかできた。
な液晶性化合物を得ることかできた。
また、該液晶性化合物を含有した液晶組成物ならびに液
晶素子は応答速度を改善させるだけでなくリバースドメ
イン防止にも有効であることか確)ツされた。
晶素子は応答速度を改善させるだけでなくリバースドメ
イン防止にも有効であることか確)ツされた。
Claims (6)
- (1)下記一般式[1]で表わされる液晶性化合物。 CH_2=CH■CH_2■_mX−A−B−E−Y−
R^*[1] (式中、Xは単結合または−O−、Yは単結合、−O−
、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
、表等があります▼の中から選ばれ、A、Bはそれぞれ
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
の中から独立に選ばれ、Eは単結合、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼のいずれかであり
、且つA、B、Eの少なくとも1つはピリミジル基を示
す。また、mは1〜14の整数、R^*は不斉炭素原子
を含む光学活性基を示す。) - (2)前記一般式[1]で表される液晶性化合物におい
て、R^*が下記一般式[2]で表される基からなる請
求項1記載の液晶性化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼[2] (式中、ZはYが−O−または▲数式、化学式、表等が
あります▼のとき−CH_2−であり、Yが−OC−の
とき単詰合である。 nは1〜16の整数、C^*は不斉炭素原子を示す) - (3)下記一般式[1]で表わされる液晶性化合物を少
なくとも1種類含有することを特徴とする液晶組成物。 CH_2=CH■CH_2■_mX−A−B−E−Y−
R^*[1] (式中、Xは単結合または−O−、Yは単結合、−O−
、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
、表等があります▼の中から選ばれ、A、Bはそれぞれ
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
の中から独立に選ばれ、Eは単結合、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼のいずれかであり
、且つA、B、Eの少なくとも1つはピリミジル基を示
す。また、mは1〜14の整数、R^*は不斉炭素原子
を含む光学活性基を示す。) - (4)前記一般式[1]で表される液晶性化合物におい
て、R^*が下記一般式[2]で表される基からなる請
求項3記載の液晶組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼[2] (式中、ZはYが−O−または▲数式、化学式、表等が
あります▼のとき−CH_2−であり、Yが▲数式、化
学式、表等があります▼のとき単結合である。 nは1〜16の整数、C^*は不斉炭素原子を示す) - (5)下記一般式[1]で表わされる液晶性化合物を少
なくとも1種類含有する液晶組成物を使用することを特
徴とする液晶素子。 CH_2=CH■CH_2■_mX−A−B−E−Y−
R^*[1] (式中、Xは単結合または−O−、Yは単結合、−O−
、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
、表等があります▼の中から選ばれ、A、Bはそれぞれ
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
の中から独立に選ばれ、Eは単結合、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼のいずれかであり
、且つA、B、Eの少なくとも1つはピリミジル基を示
す。また、mは1〜14の整数、R^*は不斉炭素原子
を含む光学活性基を示す。) - (6)前記一般式[1]で表される液晶性化合物におい
て、R^*が下記一般式[2]で表される基からなる請
求項5記載の液晶素子。 ▲数式、化学式、表等があります▼[2] (式中、ZはYが−O−または▲数式、化学式、表等が
あります▼のとき−CH_2−であり、Yが▲数式、化
学式、表等があります▼のとき単結合である。 nは1〜16の整数、C^*は不斉炭素原子を示す)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63177082A JP2670814B2 (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 液晶性化合物、それを含有する液晶組成物および液晶素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63177082A JP2670814B2 (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 液晶性化合物、それを含有する液晶組成物および液晶素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0228158A true JPH0228158A (ja) | 1990-01-30 |
JP2670814B2 JP2670814B2 (ja) | 1997-10-29 |
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ID=16024811
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63177082A Expired - Fee Related JP2670814B2 (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 液晶性化合物、それを含有する液晶組成物および液晶素子 |
Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP2670814B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5641427A (en) * | 1994-07-26 | 1997-06-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal composition, liquid crystal device using the composition liquid crystal apparatus and display method |
US5653913A (en) * | 1993-08-31 | 1997-08-05 | Canon Kabushiki Kaishai | Mesomorphic compound, liquid crystal composition containing the compound, liquid crystal device using the composition, liquid crystal apparatus and display method |
US5785890A (en) * | 1995-10-12 | 1998-07-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal composition, liquid crystal device, and liquid crystal display apparatus using same |
US5825515A (en) * | 1991-09-03 | 1998-10-20 | Lucent Technologies Inc. | Supervisory apparatus for optical transmission system |
-
1988
- 1988-07-18 JP JP63177082A patent/JP2670814B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
LIQUID.CRYSTALS=1987 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5825515A (en) * | 1991-09-03 | 1998-10-20 | Lucent Technologies Inc. | Supervisory apparatus for optical transmission system |
US5653913A (en) * | 1993-08-31 | 1997-08-05 | Canon Kabushiki Kaishai | Mesomorphic compound, liquid crystal composition containing the compound, liquid crystal device using the composition, liquid crystal apparatus and display method |
US5641427A (en) * | 1994-07-26 | 1997-06-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal composition, liquid crystal device using the composition liquid crystal apparatus and display method |
US5785890A (en) * | 1995-10-12 | 1998-07-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal composition, liquid crystal device, and liquid crystal display apparatus using same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2670814B2 (ja) | 1997-10-29 |
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