JPH02275713A - 球状シリカ粒子の製造方法 - Google Patents

球状シリカ粒子の製造方法

Info

Publication number
JPH02275713A
JPH02275713A JP1095218A JP9521889A JPH02275713A JP H02275713 A JPH02275713 A JP H02275713A JP 1095218 A JP1095218 A JP 1095218A JP 9521889 A JP9521889 A JP 9521889A JP H02275713 A JPH02275713 A JP H02275713A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silica
spherical
suspension
silica particles
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1095218A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2545282B2 (ja
Inventor
Yujiro Ito
伊藤 勇次郎
Takashi Higashiogawa
東小川 隆
Masahiro Matsuura
松浦 正弘
Koichi Orii
折井 晃一
Yasumasa Yamaguchi
山口 靖正
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Nitto Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Chemical Industry Co Ltd filed Critical Nitto Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP1095218A priority Critical patent/JP2545282B2/ja
Priority to US07/508,813 priority patent/US5028360A/en
Publication of JPH02275713A publication Critical patent/JPH02275713A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2545282B2 publication Critical patent/JP2545282B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/02Amorphous compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/01Particle morphology depicted by an image
    • C01P2004/03Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/10Particle morphology extending in one dimension, e.g. needle-like
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/30Particle morphology extending in three dimensions
    • C01P2004/32Spheres
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/30Particle morphology extending in three dimensions
    • C01P2004/32Spheres
    • C01P2004/34Spheres hollow
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/61Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/10Solid density
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80Compositional purity

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は球状シリカ粒子の製造方法に関する。
詳しくは、微粒子シリカ懸濁液を噴霧乾燥して得られた
球形造粒シリカを焼結することにより、充実度が高く、
かつ、表面の平滑度が調整された球状シリカ粒子を製造
する方法に関する。
本発明に係る球状シリカ粒子は、特に高密度集積回路電
子部品の封止用慴脂組成物(以下、封止材という)の充
填材として好適に用いられる。
〔従来の技術〕
近時、集積回路の高密度化に伴い、封止材中に占めるチ
ップ面積の割合が増大すると共に、パッケージの)W型
化が進んでいる。薄い封止材でチップを保護できるよう
、封止材の品質に対する要求はますます厳しくなってい
る。
先ず、耐熱応力性である。シリコンチップと封止材それ
ぞれの熱膨張率の差によって熱応力が生ずる。そこで、
封止材の熱膨張率をシリコンチップのそれにできるだけ
近づけるために、熱膨張率の小さいシリカを充填材とし
てできるだけ多く樹脂に加える方法が用いられている。
従来、充填材層シリカとしては、粉砕して製造された形
状が不規則で鋭い角を有する破砕体シリカが用いられて
いた。しがし、このような破砕体シリカの充填率の高い
封止材は、その粘度が高まって成形時の流動性が悪化し
、所定の特性を有する均質なパンケージが得られなくな
る。また、鋭い角を有する破砕体シリカは、成形用金型
を摩耗させると共に、チップ表面の保護皮膜を突き抜け
てチップ上のアルミ配線を傷つける恐れがある。
このようなことから、流動性が良く、鋭い角の無い球状
シリカが強く求められている。
従来、球状シリカ粒子の型遣方法としては;1) シリ
カ破砕体を火炎中で溶融する方法。
(例えば、特開昭58−145613号公報)。
2) アルキルシリケートを加水分解して得られたゾル
状溶液を加熱媒体中に噴霧して乾燥造粒し、次いで火炎
中で溶融する方法。
(例えば、特開昭58−2233号公報)。
3)シリコンアルコキシドを加水分解して得うした部分
縮合体ゾルからアルコールを除去した後、これを水に分
散させて沈澱したシリカゲルを焼成する方法(例えば、
特開昭63−225538号公報)。
などが提案されている。
更に、高密度集積回路電子部品のソフトエラーの発生を
防止するため、使用する封止材用充填材の高純度化が求
められている9 これらの要求に応え得るものが、アルカリ (土類)金
属、ハロゲン、放射性物質などの不純物含有率の低い、
高純度球状シリカ粒子である。
〔発明が解決しようとする課題〕
球状シリカ粒子の製造法としての前記、従来の方法はそ
れぞれ次の問題点を有している。
■)または2)の方法で得られる粒子は、その表面が滑
らか過ぎるために樹脂との接着力が小さく、封止材用充
填材としては適さない。また、火炎溶融法は、高価な水
素や酸素を多鼠に消費するために経済面の制約がある。
また、2)の方法は原料が高価であると共に、原料由来
の有機物を含む排水の処理を必要とする。
3)の方法で得られる粒子は、封止材用充填材としては
理想的な形状であるといえるが、3)の方法は複雑な工
程操作を必要とし、高価な原料を使用し、排水対策を要
するなどの問題点を有する。
本発明は、アルカリ金属珪酸塩水溶液を原料として、複
雑な操作や排水処理を要することなく、表面の平滑度が
調整された球状シリカ粒子を得る方法を提供するもので
ある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、従来法における問題点を改善するために
研究を行い、アルカリ金属珪酸塩水溶液を原料として製
造された非晶質シリカを湿式粉砕し、得られた微粒子シ
リカ懸濁液を噴霧乾燥して得た球形造粒シリカを焼結す
ることにより、表面の状態が平滑なものから微細な凹凸
を有するものまで、表面の平滑度が調整された球状シリ
カ粒子が得られることを知り、本発明を完成した。
本発明の要旨は、「アルカリ金属珪酸塩水i8液を水混
和性有機媒体または酸溶液中に細孔から押し出して得ら
れた凝固物を酸含有液で処理した後水洗し、得られた非
晶質シリカを湿式粉砕して重量平均粒子径が10μm以
下である微粒子シリカ懸濁液を得、この微粒子シリカ懸
濁液を噴霧乾燥して得られた球形造粒シリカを焼結する
ことを特徴とする球状シリカ粒子の製造方法。」である
本発明において球状シリカ粒子とは、一つのシリカ粒子
における最大直径に対する最小直径の比がl〜0.6の
範囲であるものをいう。
以下、本発明について説明する。本発明の実施態様は、
次の4工程から構成される。
〈工程−1〉=(非晶質シリカ製造工程)。
アルカリ金属珪酸塩水溶液を水混和性有機媒体または酸
溶液中で凝固させて得られた凝固物を、酸含有液で処理
した後水洗し、非晶質シリカを製造する工程。
〈工程−2〉:(微粒子シリカ懸濁液調製工程)。
工程−1で得られた非晶質シリカを湿式粉砕し、重量平
均粒子径が10μm以下である微粒子ノリ力を含むg濁
液を調製する工程。
く工程−3〉=(球形造粒シリカ製造工程)。
工程−2で得られた微粒子シリカ懸濁液を噴霧乾燥法に
よって造粒乾燥し、球形造粒シリカを得る工程。
く工程−4〉:(球形造粒シリカ焼結工程)。
工程−3で得られた球形造粒シリカを焼結し、緻密な球
状シリカ粒子へ変換する工程。
以下、前記各工程について順次説明する。
1]非晶質シリカ製造工程(工程−1)。
本発明の方法は、非晶質シリカ中の不純物含有率で限定
されないが、目的とする球状シリカ粒子の用途に応じて
不純物含有率の低い高純度非晶質シリカを用いることが
好ましい。
特に、高密度集積回路電子部品の封止材用充填材として
用いられる球状シリカ粒子を製造する場合には、本発明
の方法において取り扱われる非晶質シリカないし球状シ
リカ粒子は: ■ Na、  Kなどのアルカリ金属元素、’g+ C
aなどのアルカリ土類金属元素およびハロゲン類元素の
含有率が各々t ppm以下であり、かつ、■ U。
Thなどの放射性元素の含有率が各々1 ppb以下で
あるものであることが好ましい。
このような不純物含有率の低い高純度非晶質シリカは、
本発明者等が先に提案した、たとえば、特開昭62−3
011号または特開昭62−283809号各公報記数
の方法により、アルカリ金属珪酸塩水溶液を水混和性有
機媒体または酸溶液中に細孔から押し出して得られた微
細な繊維状凝固物を、酸含有液で処理した後、水洗して
不純物を抽出除去することによって得ることができる。
実施の態様としては、予め粘度が2〜500ボイズの範
囲に調製されたアルカリ金属珪酸塩水溶液を、孔径が0
.02〜1ff111の範囲であるノズルから、水混和
性有機媒体または酸溶液からなる凝固浴中に押し出して
繊維状ないし柱状あるいは粒状に凝固させ、得られたゲ
ルを酸含有液で処理した後、次いで水洗する。
上記方法によって、内外両面に無数の亀裂を有する壁に
囲まれた中空構造を有し、しかも、前記の、更にはAI
、Fe、Tiなど各種の不純物含有率が、いずれもI 
PPIII以下である高純度非晶質シリカを得ることが
できる。
使用するノズルは、凝固浴中でゲル化したアルカリ金属
珪酸塩がノズル面に付着するトラブルの発生を防ぐため
に、金−白金合金など貴金属合金類製または四弗化エチ
レン系樹脂製、またはノズル面を貴金属合金類または四
弗化エチレン系樹脂で被覆したものであることが好まし
い。
凝固浴に用いられる水混和性有機媒体としては例えば、
メタノール、エタノール、n−プロパツール等のアルコ
ール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、ジメ
チルスルフオキシド等を挙げることができる。
また、凝固浴に用いられる酸としては、硫酸。
硝酸、塩酸などの無機酸であって、硫酸、硝酸を用いる
のが好ましく、酸溶液としては、実用上、これらの酸の
水溶液が好ましい。酸濃度は、0.1〜4規定、好まし
くは0.5〜3規定、更に好ましくは1〜2規定の範囲
である。
凝固浴温度は、25°C以上、好ましくは40〜80°
Cの’JN囲に保持するのがよい。
アルカリ金属珪酸塩水溶液と酸とを反応させて得られた
シリカの精製には、硫酸、硝酸、塩酸などの鉱酸、過酸
化水素などの過酸化物およびキレート剤などから選ばれ
た物質を含む水溶液による洗浄など公知の方法を用いる
ことができる。
2〕微粒子シリカ懸濁液調製工程(工程−2)。
工程−1で得られた非晶質シリカを本工程において湿式
粉砕する。
本工程においては、湿式粉砕に用いられる通常のむ)枠
装置−たとえば、ボットミル、チューブミル コニカル
ボールミルまたはコンパートメントミルなどの転勤ボー
ルミル、振動ボールミル、または塔式扮砕機1撹拌槽型
ミルなどの媒体撹拌ミルなどを用いることができ、好ま
しくは、転勤ボールミル、振動ボールミルが用いられる
砕料と接触する粉砕装置要部または必要によって用いら
れるボール、ロンドなどの粉砕媒体の材質は通常の場合
、アルミナ、ジルコニア、プラスチック被覆鋼、炭化ケ
イ素または窒化ケイ素などから、また、アルミニウム、
ジルコニウムなどの混入が好ましくない場合には、石英
ガラス、溶融石英、水晶、偶瑞または珪石などの珪酸質
材料の中から適宜選択すればよい。
また、必要によって用いられるボールなどの剛体からな
る粉砕媒体の大きさは、直径が0.5〜25鴫の範囲、
好ましくは1〜10閣の範囲である。特に、平均粒径が
177m以下である超微粒子シリカを得ようとする場合
に用いられる粉砕媒体は、直径が1〜5+n+sの範囲
であるものが好ましい。
本発明の方法において、湿式粉砕の際の分散媒体として
は水が用いられ、結合剤としてコロイダルシリカ、カル
ボキシメチルセルロースなどを添加することもできる。
また、分散媒体として液体有機化合物を用いることがで
き、水溶性液体有機化合物の具体例としては、メタノー
ル、エタノールなどのアルコール類、ホルムアミド1 
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのア
ミド類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類
などを挙げることができる。
水と水溶性有機化合物との混合物を分散媒体とすること
もできる。
水性媒体を用いた場合の粉砕時の系のpHは、2〜11
の範囲、好ましくは2〜5または7〜11の範囲がよい
、粉砕時の系のpHが2未満では酸の含有率が高まり、
また、11を超えると媒体へのシリカの溶解度が崗まる
ので好ましくない、そして、5を超え7未満の範囲では
得られるシリカ懸濁液の流動性が低下する傾向がある。
pl+の調節に際しては、酸としては硫酸、塩酸などの
鉱酸、また、アルカリとしてはアンモニア。
メチルアミンなどのアミン類を用いることができる。
本発明の方法において本工程で湿式粉砕する非晶質シリ
カは、工程−1において水洗後、洗浄水を分離する前の
スラリー状のもの、洗浄水壱分離して得られた湿った状
態のもの、適宜の方法で乾燥処理して得られた乾燥状態
のものまたは適宜の方法で加熱して焼成処理を施したも
のを用いることができる。これらは、所望する球状シリ
カ粒子表面の平滑度に応じて任意に選択することができ
、各々単独で、または任意の割合に混合して湿式粉砕す
ることができる。
粉砕装置への原料シリカおよび粉砕媒体それぞれの充填
量、粉砕媒体の径の選択と組合せなど粉砕処理の条件は
、原料シリカの組み合わせおよび目的とする微粒子シリ
カの平均粒径や懸濁液中のシリカ濃度などによって適宜
に選択する。
非晶質シリカを適宜の条件で焼成処理すると、シリカ粒
子の細孔容積ならびにシラノール基濃度を調整すること
ができる。本発明の方法における非晶質シリカの焼成温
度は500〜1300°C1好ましくは800−129
0 ’Cの範囲である。
湿式わ)枠周原料として、細孔容積が小さくシラノール
基濃度が低いシリカを用いるとシリカ懸濁液の粘変の増
大が比較的小さいので、取り扱いが可能な微粒子シリカ
懸濁液中のシリカ濃度の限界を高めることができる。
本発明において湿式粉砕して得られる微粒子シリカ懸濁
液中のシリカ濃度は、焼成処理を行わないシリカを用い
た場合に5〜45重星%、焼成処理を行ったシリカを用
いた場合には、焼成処理の条件によって変化し30〜8
0重量%の範囲である。
工程−4において焼結処理される球形造粒シリカを構成
するシリカ粒子の平均粒径は、焼結して得られるシリカ
粒子の緻密性と強度を支配する重要な因子であり、焼結
処理されるシリカ粒子の平均粒径が小さい程、工程−4
において得られる球状シリカ粒子が緻密になる。
本発明の方法において、湿式粉砕して得られる微粒子シ
リカの平均粒径は、10μm以下であることが必要で、
好ましくは5μm以下、更に好ましくは0.3〜1μm
の範囲である。平均粒径が1°0μmを超えると焼結処
理に要する温度が高(なり過ぎ、粒子内の焼結と共に粒
子間の焼結が進み目的とする球状シリカ粒子を得ること
ができない。
3〕球形造粒シリカ製造工程(工程−3)。
工程−2で調製した微粒子シリカ懸濁液を噴霧乾燥法に
よって熱風の流れの中に噴霧し、球形に造粒し乾燥させ
て球形造粒シリカを製造する。
本発明の方法における噴霧乾燥に際しての微粒子シリカ
懸濁液を噴霧する方向と熱風の流れの方向の関係は、並
流、向流、混合流のいづれでも選択することができる6
また、乾燥域に熱風を多段に供給することもできる。
微粒子シリカ懸濁液の噴霧方式としては、遠心式、圧力
ノズル式、2流体ノズル式などの各種の機構を用いるこ
とができる。
本発明の方法において噴霧乾燥して得られる球形造粒シ
リカの粒径は、0 、2 mm以下、好ましくは0.1
5++nn以下、更に好ましくは0 、1 +nn+以
下であることがよい。これにより、工程−4で焼結して
得られる球状シリカ粒子の粒径を0.1+nmないしそ
れ以下とすることができる。
本発明の方法において噴霧乾燥する微粒子シリカ懸濁液
中のシリカ濃度は5〜80重量%、好ましくは10〜6
0重世%の範囲であり、熱風温度は10〜450’C,
好ましくは30〜250°Cの範囲である。
噴霧乾燥に際して、微粒子シリカ懸濁液中のシリカ濃度
が低く熱風温度が高い場合には、乾燥シリカが球形で得
られず、中空状になったり粒子表面に大きな凹みを生ず
ることがある。これを防ぐには、微粒子シリカ懸濁液中
のシリカ濃度を高めとし、熱風温度は低くすることが好
ましい。
また、噴霧乾燥する微粒子シリカ懸濁液のpHは2〜1
1の範囲がよい。
工程−2において前記各種状態の非晶質シリカをそれぞ
れ単独で湿式粉砕した後に、得られた微粒子シリカミQ
濁液を適宜の割合に混合して、本工程における球形造粒
シリカ製造用の原料として用いることができる。
焼成処理の存無または焼成条件の差により熱履歴の異な
る非晶質シリカを混合して処理することにより、次のよ
うな効果が得られる。
第一は、工程−2において湿式粉砕して得られる微粒子
シリカ懸?rfJ液中のシリカ濃度の選択の幅を広げる
ことができる。
ン嘉式粉砕用原料として焼成処理を施したシリカを用い
ると、前述の通り微粒子シリカQ、 <液中のシリカ濃
度を高めても取り扱いが可能である。
湿式粉砕用原料混合体の構成比を変えることにより、得
られる微粒子シリカ懸濁液中のシリカ濃度を、焼成処理
を施したシリカのみを用いた場合を上限とする適宜のシ
リカ濃度の微粒子シリカ懸濁液を得ることができる。
第二は、本発明が目的とする球状シリカ粒子の表面状態
を制御することができる。
熱履歴の異なる非晶質シリカの混合体は、それぞれ収縮
率の異なるシリカ粒子から構成される。
このような混合体を焼結処理することにより、得られる
シリカ粒子の表面に多数の微細な凹凸を形成させること
ができ、焼結用原料を構成する非晶質シリカの熱処理の
程度の差とその混合比率を選ぶことによって、焼結して
得られるシリカ粒子の表面の凹凸の度合いを制御するこ
とができる。
焼結用原料を構成する熱履歴の異なる非晶質シリカとし
て、たとえば焼成処理を行わないシリカと焼成処理を行
ったシリカとの混合比率は、重量比で99:1〜20 
: 80の範囲、好ましくは95:5〜40 : 60
の範囲である。
熱H歴の異なる非晶質シリカの混合比率の調整は、工程
−2における湿式粉砕用原料調製の段階または/および
工程−3における噴霧乾燥用原料調製の段階で行うこと
ができる。
4]球形造粒シリカ焼結工程(工程−4)。
工程−3で得た球形造粒シリカを焼結し、最終的な機能
を賦与された球状シリカ粒子を得る。
工程−3で得られた球形造粒シリカは、なお多量の水分
を含むと共に、多数の細孔を有し、また粉砕処理で得ら
れた微粒子シリカが相互に単に軽度に凝集しているのみ
であるので、このままでは封止材用充填材として適さな
い。
本工程における焼結処理の目的は ■ 球形造粒シリカ中に残留する水分を除去し、更に、
存在するシラノール基を0.1重Y%程度ないしそれ以
下に減少させてシリカ粒子の疏水化を図る。
■ シリカ粒子が有する細孔を閉孔させて比友面積を5
0rI′f/g以下とし、シリカ粒子を緻密で、かつ、
水分が浸透し難い構造に変化させる。
■ 最大の目的は、焼結原料としての球形造粒シリカを
構成する各シリカ粒子の径および熱履歴によって異なる
、焼結処理の際の収縮率の差を利用し、焼結して得られ
る球状シリカ粒子の表面に多数の微細な凹凸を形成させ
ることにある。
本発明に係る球状シリカ粒子を電子部品の封止材用充填
材として用いたとき、この゛多数の微細な凹凸゛によっ
て樹脂との接着面積が増大し密着性がよくなるので封止
強度が高まる。
焼結処理によるシリカ粒子の線収縮率は、10〜50%
の範囲にわたる。
焼結は加熱処理によって行う。前記■ないし■の目的を
達成できる焼結処理の加熱温度は、1000°C以上、
好ましくは1100〜1300°Cの範囲がよい。
加熱温度が1000°C未満では、前記■ないし■のい
ずれも、不充分である。
例えば、前記1〕の方法で得た非晶質シリカを温度80
0°Cで焼成して得られたシリカでは、2重量%(12
50’c焼成法)相当量のシラノール基が残留しており
、また、比表面積は500ni/gで、なお細孔が残存
していることが示される。このシリカ粒子は、温度20
’Cで相対湿度70%の雰囲気に3日間暴露したところ
、3重量%相当量の水分を吸収した。
焼結処理の加熱時間は温度と関係するが、前記■ないし
■の目的を達成し得る、たとえば、0.01〜100時
間、好ましくは0.1〜50時間の範囲で設定する。
焼結処理を行う雰囲気は、本発明の思想を損なわない限
り任意であり、A r + II eなどの不活性ガス
雰囲気、空気などの酸化性雰囲気、水素などの還元性雰
囲気、水蒸気雰囲気、またシリカ中の不純物を効果的に
除去できる塩素含有雰囲気を用いることができる。
加熱源は任意であり、電熱または燃焼ガスは経済的な熱
源である。その他、プラズマ加熱、イメージ炉を用いる
こともできる。
本発明の方法によって、粒径が1〜100μmの範囲で
、平均粒径が10〜40μmの範囲である、表面の状態
が平滑に近いものから多数の微細な凹凸を有するものま
で表面の平滑度が調整された球状シリカ粒子を得ること
ができる。
球状シリカ粒子の表面の状態は、焼結原料としての球形
造粒シリカを構成するシリカ粒子の径および熱履歴の異
なるシリカ粒子の混合割合をjδ宜に選ぶことによって
望ましい範囲に調整することができる。
〔発明の効果〕
本発明の方法によって、アルカリ金属珪酸塩水溶液を原
料として、複雑な操作や排水処理を要することなく、充
実度の高い球状で表面の平滑度が調整され、鋭い角が無
く流動性の良い、かつ、アルカリ (土類)金属、ハロ
ゲン、放射性物質などの不純物含有率の低い、高純度の
球状シリカ粒子を製造することができる。
本発明に係る球状シリカ粒子は、特にその粒子表面に多
数の微細な凹凸を有し、樹脂との接着面積が増大するの
で高密度集積回路電子部品の封止材用充填材として好適
に用いられる。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1 l−1)  非晶質シリカの製造 1−1−1)ン是シリカ JIS 3号水ガラスを加熱濃縮して、20゛Cにおけ
る粘度を300 cpsとした。この水ガラス約8℃を
ポンプで加圧し、濾過器(目開き70μm)を通してノ
ズル(孔径0.2mm、孔数50個)から、50°Cに
保持された8重量%硫酸水溶液300℃を入れた凝固浴
中へ速度1rn/秒で押し出した。繊維状で得られたシ
リカを10倍星の新たに調製した8重里%硫酸水溶液中
に浸漬し、温度杓95°Cで約1時間攪拌して不純物の
抽出を行った。
得られた短繊維状シリカを純水を用いて、洗液のpl+
が4になるまで洗浄した後、遠心分離機で脱水し、7.
1kgの湿シリカを得た。得られた湿ソリ力の含水率は
、シリカ乾量基でVで100重量%であった。
1−1−2)  乾燥シリカ 前記1−1−1)のようにして得た湿シリカ7 、1 
kgを熱風乾燥機を用いて温度150°Cで8時間乾燥
し、3.7kgの乾燥シリカを得た。
1−1−3)  Vf、成シリカ 前記1−1−2)のようにして得た乾燥シリカ3 、7
 kgを石英製坩堝に入れ電気炉を用いて、温度120
0°Cで2時間の加熱処理を行い、3.4kgの焼成シ
リカを得ブこ。
1−2)  微粒子シリカ懸FA液の調製前記1−1)
のようにして得られた各種の非晶質シリカを、表−1に
示す仕様の装置を使用して湿式粉砕し、各種の微粒子シ
リカ懸濁液を得た。
表−1,使用した$5)枠装置の諸元;て湿式粉砕処理
を行い、表−2に示す各種の微粒子シリカ懸濁?夜を得
た。
得られた微粒子シリカ懸濁液中の固形分は、いづれも3
0重1%であった。
なお、湿式粉砕して得られた微粒子シリカ懸濁液中のシ
リカ粒子の平均粒径は、遠心沈降光透過法によって測定
した。
表−2゜ 1−2−1)  前記1−1−1)のようにして得られ
た湿ンリカ1 、3 kgを純水0.8でと共に、ボー
ル4I!、を充填した前記ボールミル−Aを用いて60
rpmで24時間粉砕処理を行い、平均粒径0.5μm
の微粒子シリカ懸濁液(固形分:30重量%)を得た。
1−2−2)  以下、前記1−1)のようにして得ら
れた各種の非晶質シリカの単独または混合体を粉砕原料
とし、処理条件杏変え、前記1−2−1)の方法に準じ
1−3 )  rib形造粒ソリ力の製造および焼結前
記1−2)のようにして得られた各種の微粒子シリカ・
懸濁液を噴霧I乾燥装置を用いて造粒乾燥し、izLら
れたLド形造粒ソリ力を焼結して緻密な球状シリカ粒子
を得た。
なお、焼結して1)られたシリカ粒子の平均粒径は、レ
ーザー光散乱法によって4111定した。
1−3−1)  表−2のNo、 2− (3)のよう
にして、湿シリカと焼成ソリ力との混合体から得た微粒
子シリカ:懸濁液を下記仕様の装置llを用いて噴霧乾
燥し、1時間の処理で約115 gの球形造粒シリカを
得た。
・噴霧乾燥装置−への諸元; 円筒部直径・13cm、  (要部材質ニガラス)高さ
:50c+n シリカg 21液の噴霧方式: 2流体ノズル・操作条
件; 熱風量:毎分3001 熱風温度=(入口)70’C 懸/!!?Ifj、供給速度:毎分5ml。
得られた球形造粒ノリ力を石英製坩堝に入れ、電気炉を
用いて1200°Cで2時間の加熱処理を行って焼結し
、82gの球状シリカ粒子を得た。
得られたシリカ粒子は、平均粒径が12μmで書度が2
.2 g / c−r6であり、陥没のない球状で表面
に多数の微細な凹凸を存していた。
このI、ト状シリカ粒子の不純物含有率は、Na Q、
3ppm、^l O,4ppm、 Zr 0.lppm
であり、Uは0.05ppb以下であった。
1−3−2 )  ?Wrシリカから得られた微粒子シ
リカQ </&、(表−2のNO42−(1) )  
と、焼成シリカから得られた微粒子シリカ懸濁液 (表
−2のNo、 2− (2)、 )  との混合体(混
合比重2)を前記1−3−1)と同様に処理し、平均粒
径が12μmで密度が2.2g/cfflであり、陥没
のない球状で表面に多数の微細な凹凸を有するシリカ粒
子を得た。
この球状シリカ粒子の不純物含有率は、Na O,3p
pm、 AI 0.4ppm、 Zr 0.lppmで
あり、Uは0.05111)b以下であった。
1−3−3)  前記1−1−2)のようにして得られ
た乾燥シリカを、更に600°Cで2時間の加熱処理を
行った後、前記1−2−1)の方法に準して湿式粉砕処
理を行い、平均粒径0.5μmの微粒子シリカ懸4液(
固形分=30重量%)を得た。
この微粒子シリカ懸濁液と、前記1−2−1)のように
して温シリカから得た微粒子シリカ懸濁液との混合体(
/11合比2:8)を、噴霧乾燥の条件として熱風量毎
分100 ffi 、入口熱風温度180’Cとしたほ
かは前記1−3−1)と同様に処理し、平均粒径が12
μmで密度が2.2g/cfflであり、陥没のない球
状で表面に多数の微細な凹凸を有するシリカ粒子を得た
1−3−4)  焼成シリカから得られた微粒子シリカ
懸濁液(表−2のNo、 2− (2) 、 固形分=
3030重量8kgをロータリーエバポレーター (容
量: 101)  を用いて減圧下で4縮し、固形分が
60重量%である微粒子シリカ懸濁液を得た。
この微粒子シリカ懸/fI/f!を前記1−3−1)と
同様に処理して球状シリカ粒子を得た。
得られたシリカ粒子は、平均粒径が14μmで密度が2
.2g/cdであり、陥没のない球状で表面に多数の微
細な凹みを有し、凸部は少なかった。
1−3−5)  前記1−3−4)のようにして得た焼
成シリカからの微粒子シリカ懸濁液(固形分=60重量
%)と、前記1−2−1)めようにしてン易シリカから
得た微粒子シリカ懸濁液(固形分:30重量%)との混
合体(混合比l:1)を前記1−3−3)と同様に処理
し、平均粒径が13μmで密度が2.2g/c+Iであ
り、陥没のない球状で表面に多数の微細な凹凸を有する
シリカ粒子を得た。
実施例2 1111記表−2に示したNα2−(4)またはNo、
 2− (5)のようにして、湿シリカからの微粒子シ
リカ懸濁液と焼成シリカからの微粒子シリカ懸’In 
?&とをそれぞれ調製し、得られた微粒子シリカ懸濁液
の単独または混合体を、それぞれ下記仕様の噴霧乾燥装
置−Bを用いて噴霧乾燥した。
・噴霧乾燥装置−8の諸元; 円筒部直径: 3.2 m、高さ: 7m2シリカ懸濁
液の噴霧方式:遠心式 ・操作条件;熱風量:毎分30 rイ、熱風温度:(入
口)125°C1懸i液供給速度:毎時70!。
表−3に示す構成の微粒子シリカ懸濁液を噴霧乾燥して
得られた各々の球形造粒シリカを、それぞれ石英製坩堝
に入れ電気炉を用いて1250°Cで2時間の加熱処理
を行って焼結し、球状シリカ粒子を得た。
得られた球状シリカ粒子は、比表面積が1〜10rd/
gの範囲で、いづれも密度が、2.2g/ctdであり
、陥没のない球状であったが、その表面の状態は原料シ
リカの構成によって異なり、平滑に近いもの、多数の微
細な凹みを主体として凸部は少ないもの、または多数の
微細な凹凸を有するものと各種であった。
球状シリカ粒子の構造を示す電子顕微鏡写真を第1〜5
図として添付した。
第1図は、ン兄シリカのみから得られた焼結シリカ粒子
は、その表面が比較的に滑らかであり、また、よく焼結
していることを示す。
第5図は、焼成シリカのみから得られた焼結シリカ粒子
は、その表面に多数の微細な凹みを有し、凸部は少ない
ことを示す。
第2〜4図は、湿シリカと焼成シリカとの混合体から得
られた焼結シリカ粒子は、その表面に多数の微細な凹凸
を有していることを示す。
得られた球状シリカ粒子は、温度20°Cで相対湿度7
0%の雰囲気に暴露したが、いづれも増量は認められず
吸湿性を示さなかった。
【図面の簡単な説明】
第1〜5図は、本発明の方法を用いて得られた球状シリ
カ粒子の構造を示す電子顕微鏡写真であり、それぞれ表
−3に示す実施例2の各側に対応するものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)アルカリ金属珪酸塩水溶液を水混和性有機媒体また
    は酸溶液中に細孔から押し出して得られた凝固物を酸含
    有液で処理した後水洗し、得られた非晶質シリカを湿式
    粉砕して重量平均粒子径が10μm以下である微粒子シ
    リカ懸濁液を得、この微粒子シリカ懸濁液を噴霧乾燥し
    て得られた球形造粒シリカを焼結することを特徴とする
    球状シリカ粒子の製造方法。
JP1095218A 1989-04-17 1989-04-17 球状シリカ粒子の製造方法 Expired - Fee Related JP2545282B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1095218A JP2545282B2 (ja) 1989-04-17 1989-04-17 球状シリカ粒子の製造方法
US07/508,813 US5028360A (en) 1989-04-17 1990-04-16 Method of manufacturing spherical silica particles

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1095218A JP2545282B2 (ja) 1989-04-17 1989-04-17 球状シリカ粒子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02275713A true JPH02275713A (ja) 1990-11-09
JP2545282B2 JP2545282B2 (ja) 1996-10-16

Family

ID=14131606

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1095218A Expired - Fee Related JP2545282B2 (ja) 1989-04-17 1989-04-17 球状シリカ粒子の製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5028360A (ja)
JP (1) JP2545282B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03257009A (ja) * 1990-03-08 1991-11-15 Tokuyama Soda Co Ltd シリカ系フィラー
JPH03258164A (ja) * 1990-03-08 1991-11-18 Yamatoya & Co Ltd 画像形成装置
JP2006021948A (ja) * 2004-07-07 2006-01-26 Asahi Denka Kogyo Kk 高純度シリカ粒子の製造方法、これにより得られた高純度シリカ粒子及びこれを用いた高純度石英ガラス粒子の製造方法
JP2013056791A (ja) * 2011-09-07 2013-03-28 Fuji Kagaku Kk 非晶質ケイ酸アルミニウムナトリウム及びその製造方法

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5236683A (en) * 1987-01-20 1993-08-17 Mizusawa Industrial Chemicals, Ltd. Amorphous silica spherical particles
JPH0699135B2 (ja) * 1989-02-20 1994-12-07 富士デヴィソン株式会社 球状シリカゲルの製造法
CA2087911C (en) * 1992-01-24 1999-06-29 Kiyoshi Abe Spherical granules of porous silica or silicate, process for the production thereof, and applications thereof
BE1005718A3 (fr) * 1992-03-10 1993-12-28 Solvay Procede pour la fabrication d'une poudre microspheroidale a faible dispersite, poudre microspheroidale a faible dispersite ainsi obtenue, catalyseurs pour la polymerisation d'alpha-olefines et procede de polymerisation d'alpha-olefines.
JP2644681B2 (ja) * 1994-07-05 1997-08-25 工業技術院長 連結シリカ球状粒子からなる三次元網状構造体と樹脂とによる相互貫入型複合体およびその製造方法
FR2722185B1 (fr) * 1994-07-07 1996-09-27 Rhone Poulenc Chimie Suspension concentree de silice de precipitation, procedes pour sa preparation et utilisations de cette suspension
US6132618A (en) * 1998-04-16 2000-10-17 Pq Corporation System and method for waking a computer having a plurality of power resources from a system state using a data structure
JP4257687B2 (ja) * 1999-01-11 2009-04-22 株式会社トクヤマ 研磨剤および研磨方法
WO2001037291A1 (en) * 1999-11-17 2001-05-25 Roche Diagnostics Gmbh Magnetic glass particles, method for their preparation and uses thereof
JP5631530B2 (ja) * 2007-12-07 2014-11-26 日揮触媒化成株式会社 表面平滑性を備えた多孔質シリカ系粒子、その製造方法および該多孔質シリカ系粒子を配合してなる化粧料
US20090162546A1 (en) * 2007-12-19 2009-06-25 Gimvang Bo H System, formulation and method for producing ceramic vacuum microspheres
EP2331463A1 (de) * 2008-09-30 2011-06-15 Evonik Degussa GmbH Verfahren zur herstellung von hochreinem sio2 aus silikatlösungen
KR20110081165A (ko) * 2008-09-30 2011-07-13 에보니크 데구사 게엠베하 규산염 용액으로부터 고순도 sio2의 제조 방법
US8940364B2 (en) 2008-12-19 2015-01-27 Xurex, Inc. System, formulation and method for producing ceramic vacuum microspheres
EP2514718A4 (en) 2009-12-18 2013-09-04 Kao Corp METHOD FOR PRODUCING MESOPOROUS SILICONE ARTICLES
JP5603063B2 (ja) * 2009-12-21 2014-10-08 花王株式会社 複合シリカ粒子の製造方法
JP2011157261A (ja) * 2010-01-07 2011-08-18 Mitsubishi Materials Corp 合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法
DE102013215257A1 (de) * 2013-08-02 2015-02-05 Wacker Chemie Ag Verfahren zum Zerkleinern von Silicium und Verwendung des zerkleinerten Siliciums in einer Lithium-Ionen-Batterie
CN108298546A (zh) * 2018-01-02 2018-07-20 云南永昌硅业股份有限公司 制备高纯微硅粉的方法及其应用
CN109319802B (zh) * 2018-11-01 2020-06-26 江阴市友佳珠光云母有限公司 一种珠光材料用超薄合成云母粉的生产工艺

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1027707A (en) * 1973-10-23 1978-03-14 Ppg Industries, Inc. Process for preparing finely-divided precipitated silica flatting agent
DE3114493A1 (de) * 1981-04-10 1982-10-28 Degussa Ag, 6000 Frankfurt "faellungskieselsaeuren und verfahren zu ihrer herstellung"
JPS582233A (ja) * 1981-06-23 1983-01-07 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光フアイバ用シリカガラスの製造方法
JPS58145613A (ja) * 1982-02-15 1983-08-30 Denki Kagaku Kogyo Kk 溶融シリカ球状体、その製造法およびその装置
JPS60131868A (ja) * 1983-12-16 1985-07-13 電気化学工業株式会社 珪酸質粉末球状体の製造方法
JPS60204613A (ja) * 1984-03-30 1985-10-16 Nippon Sheet Glass Co Ltd 高純度シリカゲルの製造方法
JPS61251509A (ja) * 1985-05-01 1986-11-08 Mitsubishi Metal Corp 球状シリカ粉末の製造方法
CA1271307A (en) * 1985-06-27 1990-07-10 Iwao Ohshima Process for manufacturing high purity silica
JPS623011A (ja) * 1985-06-27 1987-01-09 Nitto Chem Ind Co Ltd 高純度シリカの製造方法
JPS6279841A (ja) * 1985-10-02 1987-04-13 Teikoku Kako Kk 無機球状体の製造方法
JPS6296309A (ja) * 1985-10-24 1987-05-02 Denki Kagaku Kogyo Kk 珪酸質球状体の製法
JPS6296311A (ja) * 1985-10-24 1987-05-02 Denki Kagaku Kogyo Kk 高純度球状シリカフイラ−の製造方法
JPS6296308A (ja) * 1985-10-24 1987-05-02 Denki Kagaku Kogyo Kk 珪酸質球状体の製法
JPS6296313A (ja) * 1985-10-24 1987-05-02 Denki Kagaku Kogyo Kk 高純度球状シリカフイラ−の製造方法
JPS6296312A (ja) * 1985-10-24 1987-05-02 Denki Kagaku Kogyo Kk 高純度球状シリカフイラ−の製造方法
SU1653541A3 (ru) * 1986-02-05 1991-05-30 Nitto Chemical Industry Co Ltd Способ получения высокочистои окиси кренш1я
GB8610024D0 (en) * 1986-04-24 1986-05-29 Unilever Plc Porous structures
US4767433A (en) * 1986-05-22 1988-08-30 Asahi Glass Company Ltd. Spherical silica glass powder particles and process for their production
JPS63225538A (ja) * 1986-05-22 1988-09-20 Asahi Glass Co Ltd 球状石英ガラス粉末、その製造法及びその使用法
JPH0796447B2 (ja) * 1986-06-13 1995-10-18 モ−ゼス レイク インダストリ−ズ インコ−ポレイテツド 高純度シリカの製造方法
JPH0761852B2 (ja) * 1987-03-23 1995-07-05 日東化学工業株式会社 非焼結クリストバライト化シリカの製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03257009A (ja) * 1990-03-08 1991-11-15 Tokuyama Soda Co Ltd シリカ系フィラー
JPH03258164A (ja) * 1990-03-08 1991-11-18 Yamatoya & Co Ltd 画像形成装置
JP2006021948A (ja) * 2004-07-07 2006-01-26 Asahi Denka Kogyo Kk 高純度シリカ粒子の製造方法、これにより得られた高純度シリカ粒子及びこれを用いた高純度石英ガラス粒子の製造方法
JP4649677B2 (ja) * 2004-07-07 2011-03-16 株式会社Adeka 高純度シリカ粒子の製造方法、これにより得られた高純度シリカ粒子及びこれを用いた高純度石英ガラス粒子の製造方法
JP2013056791A (ja) * 2011-09-07 2013-03-28 Fuji Kagaku Kk 非晶質ケイ酸アルミニウムナトリウム及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2545282B2 (ja) 1996-10-16
US5028360A (en) 1991-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02275713A (ja) 球状シリカ粒子の製造方法
KR20120125232A (ko) 합성 비정질 실리카 분말 및 그 제조 방법
KR20120120150A (ko) 합성 비정질 실리카 분말
CN107417071B (zh) 制造含孔隙的不透明石英玻璃的方法
KR20120120149A (ko) 합성 비정질 실리카 분말 및 그 제조 방법
JPH03257010A (ja) シリカ粒子及びその製造法
JP2011207719A (ja) 合成非晶質シリカ粉末とその製造方法
KR20140002673A (ko) 합성 비정질 실리카 분말 및 그 제조 방법
US5643347A (en) Process for manufacture of silica granules
JP2004131378A (ja) 不透明石英ガラス材の製造方法
JPH02289416A (ja) 低シラノールシリカの製造方法
KR20120120148A (ko) 합성 비정질 실리카 분말 및 그 제조 방법
CN108394903A (zh) 一种纳米级碳化硅微粉的制备方法
CN106431396A (zh) 一种陶瓷坯制备方法
JP6927732B2 (ja) 異形シリカ粒子の製造方法
JP4484748B2 (ja) シリカガラス製品の製造方法
JPH0431311A (ja) 球状シリカ及びその製造方法並びにエポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JP2733860B2 (ja) 耐摩耗性シリカメディアの製造法
CN105540767B (zh) 一种改善水微观结构性能的矿石球
KR20080099819A (ko) 나노크기 입자의 실리카 제조방법
JPS6296313A (ja) 高純度球状シリカフイラ−の製造方法
JPH01270530A (ja) ガラス成形体の製造方法
CN110272685A (zh) 一种蓝宝石抛光液及其制备方法
JPH1160234A (ja) 低ウラン球状シリカ粉末の製造方法、及びシリカ粉末
JPH01234319A (ja) 球状シリカの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees