JPS6296308A - 珪酸質球状体の製法 - Google Patents
珪酸質球状体の製法Info
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- JPS6296308A JPS6296308A JP23636185A JP23636185A JPS6296308A JP S6296308 A JPS6296308 A JP S6296308A JP 23636185 A JP23636185 A JP 23636185A JP 23636185 A JP23636185 A JP 23636185A JP S6296308 A JPS6296308 A JP S6296308A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
-
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、珪酸質球状体の製法、さらに詳しくは、半導
体素子封止用樹脂組成物のフィラーとして適した性質を
もった珪酸質球状体の量産製法に関する。
体素子封止用樹脂組成物のフィラーとして適した性質を
もった珪酸質球状体の量産製法に関する。
半導体素子の封止には、金属やセラミックを用いる気密
封止法と樹脂を用いる樹脂封止法がラリ、後者は、経済
性、量産性にすぐれるため約80%を占めている。樹脂
封止法におけるフィラーとしては、主として、天然珪石
の溶融・粉砕品が用いられているが、このものは多くの
尖端をもった不定形物であるので流動性が悪いのみなら
ず素子表面に応力を与え素子の特性を狂わしたり、さら
には成型の際に素子を損傷させる危険があった。また、
UやThなどの放射性不純物がわずかに含まれており、
そこから発生するα線が半導体製品にソフトエラーを与
えるので高集積化には不向きである。
封止法と樹脂を用いる樹脂封止法がラリ、後者は、経済
性、量産性にすぐれるため約80%を占めている。樹脂
封止法におけるフィラーとしては、主として、天然珪石
の溶融・粉砕品が用いられているが、このものは多くの
尖端をもった不定形物であるので流動性が悪いのみなら
ず素子表面に応力を与え素子の特性を狂わしたり、さら
には成型の際に素子を損傷させる危険があった。また、
UやThなどの放射性不純物がわずかに含まれており、
そこから発生するα線が半導体製品にソフトエラーを与
えるので高集積化には不向きである。
以上の問題点を解消するため、合成シリカ微粒子を原料
とする球状シリカ粒子の製法が種々提案されているが一
長一短がある。
とする球状シリカ粒子の製法が種々提案されているが一
長一短がある。
例えば、特開昭58−140313号公報には、ハロゲ
ン化シラン化合物を火炎と共に耐火性の標的上に吹きつ
けて、その酸化加水分解で生成するシリカ微粒子を標的
上に付着させ、これをその平均粒径が1μm以上になる
まで溶融成長させる方法が紹介されているが、この方法
では、シリカ微粒子のまま飛散したり標的上でガラス膜
化するものの割合が大きく成長粒子が得られにくいとい
う欠点がある。
ン化シラン化合物を火炎と共に耐火性の標的上に吹きつ
けて、その酸化加水分解で生成するシリカ微粒子を標的
上に付着させ、これをその平均粒径が1μm以上になる
まで溶融成長させる方法が紹介されているが、この方法
では、シリカ微粒子のまま飛散したり標的上でガラス膜
化するものの割合が大きく成長粒子が得られにくいとい
う欠点がある。
また、特開昭58−88130号公報には、合成シリカ
微粒子を再度合成雰囲気中にさらして粒子成長させる方
法、特開昭59−152215号公報には、合成シリカ
微粒子を気体もしくは液体燃料または酸素、空気等の支
燃性がスに分散させてバーナーに供給し粒子成長させる
方法がそれぞれ記載されている。しかし、これらの方法
では、気相中で合成シリカ微粒子を合着又は成長させる
ため、球状成長せずに不定形粒子となったり、あるいは
合着・成長にあずからなかったものは微粒子のまま残存
することになる。不定形粒子は、前述のように、成形性
と流動性に悪影響を与え、また、微粒子の残存は、フィ
ラーの比表面積を増大させることになるので、これまた
流動性に害を与える。
微粒子を再度合成雰囲気中にさらして粒子成長させる方
法、特開昭59−152215号公報には、合成シリカ
微粒子を気体もしくは液体燃料または酸素、空気等の支
燃性がスに分散させてバーナーに供給し粒子成長させる
方法がそれぞれ記載されている。しかし、これらの方法
では、気相中で合成シリカ微粒子を合着又は成長させる
ため、球状成長せずに不定形粒子となったり、あるいは
合着・成長にあずからなかったものは微粒子のまま残存
することになる。不定形粒子は、前述のように、成形性
と流動性に悪影響を与え、また、微粒子の残存は、フィ
ラーの比表面積を増大させることになるので、これまた
流動性に害を与える。
また、以上の方法によって得られたいずれもの合成シリ
カ粒子は、粒度分布幅が広いので、適切な粒度構成とす
るには分級工程が不可欠となる欠点がある。
カ粒子は、粒度分布幅が広いので、適切な粒度構成とす
るには分級工程が不可欠となる欠点がある。
一方、特開昭60−131868号公報には、σ含有量
が少なく流動性と成形性にすぐれ、しかも比較的シャー
プな粒度分布をもった球状7リカを製造する方法として
、まず、合成シリカ微粒子をスラリー化し、次いでそれ
を噴霧乾燥した後焼成又は溶融する技術が開示されてい
る。この方法によれば、種々の利点をもたらすが、量産
条件は記載されておらず、また条件によっては、十分に
緻密化された球状粒子が得られないところが未解決であ
った。
が少なく流動性と成形性にすぐれ、しかも比較的シャー
プな粒度分布をもった球状7リカを製造する方法として
、まず、合成シリカ微粒子をスラリー化し、次いでそれ
を噴霧乾燥した後焼成又は溶融する技術が開示されてい
る。この方法によれば、種々の利点をもたらすが、量産
条件は記載されておらず、また条件によっては、十分に
緻密化された球状粒子が得られないところが未解決であ
った。
本発明者は、特開昭60−13868号公報における以
上の未解決問題を解決する丸め種々検討を重ねた結果、
スラリーのpHを8〜10に調整すればよいことを見い
出し、本発明を完成するに至った。
上の未解決問題を解決する丸め種々検討を重ねた結果、
スラリーのpHを8〜10に調整すればよいことを見い
出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、スラリー化した合成珪素質微粉末
を噴霧乾燥し、それを熱処理して珪酸質球状体を製造す
る方法において、スラリーのpHを8〜10に調整する
ことを特徴とする珪酸質球状体の製法である。
を噴霧乾燥し、それを熱処理して珪酸質球状体を製造す
る方法において、スラリーのpHを8〜10に調整する
ことを特徴とする珪酸質球状体の製法である。
以下、さらに詳しく本発明について説明する。
本発明において、原料とする合成珪素質微粉末は、例え
ば、ハロゲン化シリコン化合物等の揮発しやすい珪素化
合物及びシラン等を加水分解、酸化分解あるいはアルコ
ール存在下でアルコキシドとし加水分解することにより
生成したもので、UlThの含有量は10 ppb以下
で、その粒度は0.005〜0.5 μm程度の微細
なものが好適である。
ば、ハロゲン化シリコン化合物等の揮発しやすい珪素化
合物及びシラン等を加水分解、酸化分解あるいはアルコ
ール存在下でアルコキシドとし加水分解することにより
生成したもので、UlThの含有量は10 ppb以下
で、その粒度は0.005〜0.5 μm程度の微細
なものが好適である。
この合成珪素質微粉末と、結合剤を混合してスラリーを
調製し、それをスプレードライヤー等の噴婦式造粒機を
用いて造粒する。結合剤としては、U −? Th等の
放射性不純物を実質的に含有しない水やアルコール等に
、エチルシリケート、コロイダルシリカ、ホリビニルア
ルコール、カルボキシメチルセルロースなどを必要に応
じて添加したものを用いる。ここで、本発明において特
に重要なことは、スラリーを調製する際、そのpHを8
〜10に調節することである。この理由について説明す
れば次の通りである。
調製し、それをスプレードライヤー等の噴婦式造粒機を
用いて造粒する。結合剤としては、U −? Th等の
放射性不純物を実質的に含有しない水やアルコール等に
、エチルシリケート、コロイダルシリカ、ホリビニルア
ルコール、カルボキシメチルセルロースなどを必要に応
じて添加したものを用いる。ここで、本発明において特
に重要なことは、スラリーを調製する際、そのpHを8
〜10に調節することである。この理由について説明す
れば次の通りである。
スラリー濃度が小さいときには生産性が悪く、かつ、得
られた造粒品には空隙が多いものとなり緻密性も低下す
る。緻密性の低下は、次の熱処理において十分焼結でき
ず、また、破裂の原因ともなる。そこで、スラリー濃度
を高くすればこれらの欠点は解消されるが、その反面、
スラリー〇rル化によって流動性が低下しスプレードラ
イヤー等の閉塞をきたし連続運転ができなくなるという
不都合が起こる。そこで、本発明では、この高濃度のス
ラリーの流動性を高めるために、そのpHを8〜10に
調節したものである。−が8よりも小さいと珪素質微粉
末表面の負電荷が少なくなりかえって粘度の高いビル化
しやすいものとなる。
られた造粒品には空隙が多いものとなり緻密性も低下す
る。緻密性の低下は、次の熱処理において十分焼結でき
ず、また、破裂の原因ともなる。そこで、スラリー濃度
を高くすればこれらの欠点は解消されるが、その反面、
スラリー〇rル化によって流動性が低下しスプレードラ
イヤー等の閉塞をきたし連続運転ができなくなるという
不都合が起こる。そこで、本発明では、この高濃度のス
ラリーの流動性を高めるために、そのpHを8〜10に
調節したものである。−が8よりも小さいと珪素質微粉
末表面の負電荷が少なくなりかえって粘度の高いビル化
しやすいものとなる。
一方、−が10を越えるとシリカの溶解が始まり、ガス
装置の腐食も激しくなるので好ましくはない。
装置の腐食も激しくなるので好ましくはない。
このように、pHを8〜10とすることによって、例え
ば、0.01〜0.06μmの粒径をもつ珪素質微粉末
の場合には15重量%程度までの、また、0.01〜0
.08μmの粒径をもつもつのは60重′M%程度まで
のスラリー濃度とすることができる。
ば、0.01〜0.06μmの粒径をもつ珪素質微粉末
の場合には15重量%程度までの、また、0.01〜0
.08μmの粒径をもつもつのは60重′M%程度まで
のスラリー濃度とすることができる。
これらの値は、−7における濃度に比べて約50チ高い
ものである。
ものである。
なお、造粒粒子の大きさとしては、粒径300μm以下
、特許200μm以下とするのがよい。
、特許200μm以下とするのがよい。
3[]0μmよりも大きくなると溶射溶融する際バーナ
ーの詰まりが発生するおそれがあり、また、シャープな
粒度構成をもった球状粒子は得られにく く な
る 。
ーの詰まりが発生するおそれがあり、また、シャープな
粒度構成をもった球状粒子は得られにく く な
る 。
以上の方法によって得られた造粒品を熱処理して珪r8
1R質球状体とする。熱処理条件としては、1.700
℃以上の雰囲気下で瞬時に焼成又は溶融することが望ま
しい。
1R質球状体とする。熱処理条件としては、1.700
℃以上の雰囲気下で瞬時に焼成又は溶融することが望ま
しい。
以下、本発明の実施例及び比較例をあげてさらに具体的
に説明する。
に説明する。
実施例
原料として、粒径0.01〜0.05 pm (7ww
観察)を有する合成シリカ微粒子20ゆと純水35ゆを
混合し、アンモニア水浴液を用いてスラリーpHを8.
9に調節した。
観察)を有する合成シリカ微粒子20ゆと純水35ゆを
混合し、アンモニア水浴液を用いてスラリーpHを8.
9に調節した。
このスラリーを回転ディスク方式のスプレードライヤー
に151 / Hrの速度で供給しディスク回転数15
.00 Q rpm、乾燥温度260’Oの条件で噴霧
造粒して粒径5〜60μmの造粒球状品を得た。この造
粒品を、温度1)50℃で2時間焼成し、その後水系が
、x、 60 Nm3/ Hr (43,9m/8 )
酸素がス15 Nm’ / Fir (8,3m/s
) +17) dスm成で形成した温度1850℃のフ
レーム中に溶射溶融して製品とした。得られた製品をS
KM観察したところ、第1図に示すように吸密な球状体
であり、真比重は2.21g/rz3であった。
に151 / Hrの速度で供給しディスク回転数15
.00 Q rpm、乾燥温度260’Oの条件で噴霧
造粒して粒径5〜60μmの造粒球状品を得た。この造
粒品を、温度1)50℃で2時間焼成し、その後水系が
、x、 60 Nm3/ Hr (43,9m/8 )
酸素がス15 Nm’ / Fir (8,3m/s
) +17) dスm成で形成した温度1850℃のフ
レーム中に溶射溶融して製品とした。得られた製品をS
KM観察したところ、第1図に示すように吸密な球状体
であり、真比重は2.21g/rz3であった。
比較例1
実施例と同一の合成シリカ微粒子5匈と純水45ゆを混
合してスラリーを調製した。このスラリーの−は4.5
であった。これを、実施例と同−条件で造粒し熱処理し
たところ、得られた製品は第2図に示すように、一部分
側れた粒子を含むものであった。また、真比重は1.6
7g/CrIL3であった。
合してスラリーを調製した。このスラリーの−は4.5
であった。これを、実施例と同−条件で造粒し熱処理し
たところ、得られた製品は第2図に示すように、一部分
側れた粒子を含むものであった。また、真比重は1.6
7g/CrIL3であった。
比較例2
実施例と同一の合成シリカ微粒子20klilと純水6
5稽を混合してスラリーを調製しく−は4.0)、それ
を実施例と同一の条件で噴霧造粒したところ、スラリー
供給開始から10分程度で噴gd内に閉塞が生じ造粒の
継続が不可能となった。得られた造粒品は粒径3〜60
μmの球状品であったが一部に大きく変形した粒子がみ
られた。
5稽を混合してスラリーを調製しく−は4.0)、それ
を実施例と同一の条件で噴霧造粒したところ、スラリー
供給開始から10分程度で噴gd内に閉塞が生じ造粒の
継続が不可能となった。得られた造粒品は粒径3〜60
μmの球状品であったが一部に大きく変形した粒子がみ
られた。
比較例6
実施例において、スラリーのpHを7.5にした。
この場合、合成シリカ微粒子の配合量を20kli+か
ら10kgまでに減じてやらないと、実施例と同程度の
流動性をもったスラリーを調製することができなかった
。この合成シリカ微粒子の配合割合は、実施例に比べて
約40%減に相当するものである。
ら10kgまでに減じてやらないと、実施例と同程度の
流動性をもったスラリーを調製することができなかった
。この合成シリカ微粒子の配合割合は、実施例に比べて
約40%減に相当するものである。
本発明によれば、以下の効果を奏するものである。
(1) スラリー濃度を高めることができるので生産
性が高まる。
性が高まる。
(2)、紋密な球状粒子を得ることができ、かつ、その
粒度分布はシャープとなる。
粒度分布はシャープとなる。
(3)高純度であり、U−?Th等の放射線不純物の含
有量が低い。
有量が低い。
(4) スラリーによるスプレードライヤー等の閉塞
は起こらない。
は起こらない。
なお、本発明によって得られた珪酸質球状体は、i M
Mt 、 4 !Jbit用ICの樹脂封土用フィラー
として1重用することができる。
Mt 、 4 !Jbit用ICの樹脂封土用フィラー
として1重用することができる。
第1図は実施例で得られた製品のSEM写真、第2図は
比較例1で得られた73品のSE’+(写真であり、い
ずれも倍率は350倍である。 特許出願人 電気化学工業株式会社 手続補正書(方式) 昭和61年2月14日 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 1、事件の表示 昭和60年特許願第236361号 2、発明の名称 珪酸質球状体の製法 6、補正をする者 事件との関係 特許出願人 〒100 東京都千代田区有楽町1丁目4番1号 昭和61年1月28日 (発送日) 5、補正の対象 明細書の図面の簡単な説明の欄 6 補正の内容 別紙のとおり (七゛・ 明細書第10頁第10〜12行を次のとおり釘止する。
比較例1で得られた73品のSE’+(写真であり、い
ずれも倍率は350倍である。 特許出願人 電気化学工業株式会社 手続補正書(方式) 昭和61年2月14日 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 1、事件の表示 昭和60年特許願第236361号 2、発明の名称 珪酸質球状体の製法 6、補正をする者 事件との関係 特許出願人 〒100 東京都千代田区有楽町1丁目4番1号 昭和61年1月28日 (発送日) 5、補正の対象 明細書の図面の簡単な説明の欄 6 補正の内容 別紙のとおり (七゛・ 明細書第10頁第10〜12行を次のとおり釘止する。
Claims (1)
- (1)スラリー化した合成珪素質微粉末を噴霧造粒し、
それを熱処理して珪酸質球状体を製造する方法において
、スラリーのpHを8〜10に調整することを特徴とす
る珪酸質球状体の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23636185A JPS6296308A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 珪酸質球状体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23636185A JPS6296308A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 珪酸質球状体の製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6296308A true JPS6296308A (ja) | 1987-05-02 |
Family
ID=16999658
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23636185A Pending JPS6296308A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 珪酸質球状体の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6296308A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5028360A (en) * | 1989-04-17 | 1991-07-02 | Nitto Chemical Industries Co., Ltd. | Method of manufacturing spherical silica particles |
-
1985
- 1985-10-24 JP JP23636185A patent/JPS6296308A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5028360A (en) * | 1989-04-17 | 1991-07-02 | Nitto Chemical Industries Co., Ltd. | Method of manufacturing spherical silica particles |
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