JPH01234319A - 球状シリカの製造方法 - Google Patents
球状シリカの製造方法Info
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- JPH01234319A JPH01234319A JP63060582A JP6058288A JPH01234319A JP H01234319 A JPH01234319 A JP H01234319A JP 63060582 A JP63060582 A JP 63060582A JP 6058288 A JP6058288 A JP 6058288A JP H01234319 A JPH01234319 A JP H01234319A
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Classifications
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- C01B33/181—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
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-
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- C01P2006/80—Compositional purity
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフィラー用球状シリカの製造方法に係る。
シリカは各種の樹脂フィラーとして使用されており、シ
リカが充填された樹脂組成物は各種の成形品、フィルム
、封止材等として使用されている。
リカが充填された樹脂組成物は各種の成形品、フィルム
、封止材等として使用されている。
例えば、現在80%以上のIC封止に樹脂組成物が使用
されており、この樹脂組成物中のフィラーとして主にシ
リカが使用されている。このtC封止用樹脂組成物につ
いては、最近のICの高集積化に伴い、ソフトエラーの
原因になるウランやトリウムの含有量を可及的に低減せ
しめること(低α線)のほか、充填率を高くして熱膨張
係数を小さくし、かつ、樹脂封止の際に優れた流動性と
成形性を発揮することが求められており、このような特
性の樹脂組成物を実現できるフィラー用球状シリカの開
発が要請されている。
されており、この樹脂組成物中のフィラーとして主にシ
リカが使用されている。このtC封止用樹脂組成物につ
いては、最近のICの高集積化に伴い、ソフトエラーの
原因になるウランやトリウムの含有量を可及的に低減せ
しめること(低α線)のほか、充填率を高くして熱膨張
係数を小さくし、かつ、樹脂封止の際に優れた流動性と
成形性を発揮することが求められており、このような特
性の樹脂組成物を実現できるフィラー用球状シリカの開
発が要請されている。
そしてこのような球状シリカを製造する方法として特開
昭61−251509号や特開昭62−96309号等
でスプレィドライ法が提案されているが、いずれも合成
シリカ微粉末を水又はエタノール等の有機溶媒に分散さ
せて原料スラリーを調製し、これを噴霧造粒することに
より球状粒子を得、その後所定条件で焼成することによ
り球状シリカを製造するものであり、多くの工程を必要
とする。
昭61−251509号や特開昭62−96309号等
でスプレィドライ法が提案されているが、いずれも合成
シリカ微粉末を水又はエタノール等の有機溶媒に分散さ
せて原料スラリーを調製し、これを噴霧造粒することに
より球状粒子を得、その後所定条件で焼成することによ
り球状シリカを製造するものであり、多くの工程を必要
とする。
また、シリカ微粉末をハロゲン化シリコン化合物の酸化
分解により合成する方法には腐食性のハロゲン化水素が
発生するほか、この酸化分解は高温反応であるので腐食
の問題があって製造設備が材質的に制約を受ける。
分解により合成する方法には腐食性のハロゲン化水素が
発生するほか、この酸化分解は高温反応であるので腐食
の問題があって製造設備が材質的に制約を受ける。
更に、合成シリカ微粉末が不定型又は0.1μm未満の
微粒子である場合には、原料スラリーを高濃度にすると
粘度が著しく上昇して流動性が低下するので、噴霧造粒
の際にスプレードライヤーが閉塞をきたして連Vt運転
ができなくなるという不都合が起こり、また、低濃度に
すると噴霧直後の液滴から乾燥後のシリカになるまでの
変形量が大きく、中空なシリカやへこみのあるシリカあ
るいは中実体でも小粒径のシリカが出来やすいという不
都合が起こる。
微粒子である場合には、原料スラリーを高濃度にすると
粘度が著しく上昇して流動性が低下するので、噴霧造粒
の際にスプレードライヤーが閉塞をきたして連Vt運転
ができなくなるという不都合が起こり、また、低濃度に
すると噴霧直後の液滴から乾燥後のシリカになるまでの
変形量が大きく、中空なシリカやへこみのあるシリカあ
るいは中実体でも小粒径のシリカが出来やすいという不
都合が起こる。
本発明の目的は平均粒径が5〜40μmのフィラー用球
状シリカの製造方法を提供することおよび中実なフィラ
ー用球状シリカの製造方法を提供すること並びに工程が
複雑とならない製造方法を提供することにある。
状シリカの製造方法を提供することおよび中実なフィラ
ー用球状シリカの製造方法を提供すること並びに工程が
複雑とならない製造方法を提供することにある。
本発明は、アンモニア性アルコール水溶液中で、テトラ
アルコキシシランを加水分解して得られる平均粒径がO
01〜2.OIJmの単分散球状シリカ粒子を含むゾル
を固形分濃度が20〜5QwL%になるように濃縮し、
これをスプレードライヤーを用いて噴霧造粒することに
より平均粒径が5〜40μmの球状粒子を得、その後焼
成するフィラー用球状シリカの製造方法である。
アルコキシシランを加水分解して得られる平均粒径がO
01〜2.OIJmの単分散球状シリカ粒子を含むゾル
を固形分濃度が20〜5QwL%になるように濃縮し、
これをスプレードライヤーを用いて噴霧造粒することに
より平均粒径が5〜40μmの球状粒子を得、その後焼
成するフィラー用球状シリカの製造方法である。
以下本発明の詳細な説明する。本発明で使用するテトラ
アルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン
、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テ
トラベンジルオキシシラン等があり、テトラアルコキシ
シランであればいかなるものでもよいが、好ましくは炭
素vi1〜4のアルコキシ基を有するものであり、高純
度の球状シリカを製造する上ではテトラメトキシシラン
およびテトラエトキシシランがよい、また、これらは蒸
留等により容易にウランの含有量および/又はトリウム
の含有量を低下させることができる。
アルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン
、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テ
トラベンジルオキシシラン等があり、テトラアルコキシ
シランであればいかなるものでもよいが、好ましくは炭
素vi1〜4のアルコキシ基を有するものであり、高純
度の球状シリカを製造する上ではテトラメトキシシラン
およびテトラエトキシシランがよい、また、これらは蒸
留等により容易にウランの含有量および/又はトリウム
の含有量を低下させることができる。
アンモニア性アルコール水溶液とはアルコール、水およ
びアンモニアを含有する溶液のことであり、アルコール
としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール
、プロピルアルコール、ブチルアルコール、フェノール
、ベンジルアルコール等がある。
びアンモニアを含有する溶液のことであり、アルコール
としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール
、プロピルアルコール、ブチルアルコール、フェノール
、ベンジルアルコール等がある。
固形分とはゾルを乾燥した際に残存する成分のことであ
る。
る。
テトラアルコキシシランの加水分解は、アンモニア存在
下のアルコール中でテトラアルコキシシランと水を接触
させることにより可能であり、その方法としては、例え
ば、攪拌下のアンモニア性アルコール水溶液中にテトラ
アルコキシシランを滴下する方法がある。加水分解時の
液温については、必要に応じて適当な温度を選ぶことが
よいが、常温でも可能である。
下のアルコール中でテトラアルコキシシランと水を接触
させることにより可能であり、その方法としては、例え
ば、攪拌下のアンモニア性アルコール水溶液中にテトラ
アルコキシシランを滴下する方法がある。加水分解時の
液温については、必要に応じて適当な温度を選ぶことが
よいが、常温でも可能である。
この加水分解により平均粒径が0.1〜2.0μmの範
囲の単分散球状シリカ粒子を含むゾルを得ることができ
る。このシリカ粒子の粒径は加水分解方法や加水分解時
の液温等により変化し、テトラアルコキシシランをアン
モニア性アルコール水溶液中に滴下する方法の場合には
滴下速度により変化する。
囲の単分散球状シリカ粒子を含むゾルを得ることができ
る。このシリカ粒子の粒径は加水分解方法や加水分解時
の液温等により変化し、テトラアルコキシシランをアン
モニア性アルコール水溶液中に滴下する方法の場合には
滴下速度により変化する。
このゾルの固形分濃度は通常2Qwt%未満であるので
濃縮する。濃縮は、例えば、汎用の蒸発器を用いる加熱
濃縮が有利であるが、限外濾過ユニット等を使用する方
法であってもよい。
濃縮する。濃縮は、例えば、汎用の蒸発器を用いる加熱
濃縮が有利であるが、限外濾過ユニット等を使用する方
法であってもよい。
固形分濃度は20〜5Qwt%になるように制御する。
固形分濃度が2Qwt%未満であると、噴霧造粒の際に
、得られる粒子の一部又は全部が変形の大きいくぼみを
持ったり、あるいは中空体になることがあるし、固形分
濃度を50wt%より高濃度にすると、粘度が著しく上
昇することがある。
、得られる粒子の一部又は全部が変形の大きいくぼみを
持ったり、あるいは中空体になることがあるし、固形分
濃度を50wt%より高濃度にすると、粘度が著しく上
昇することがある。
例えば、テトラメトキシシランを攪拌下のアンモニア性
メチルアルコール水溶液中に常温で滴下して得た平均粒
径が0.2μmの単分散球状シリ力粒子を含むゾルを加
熱濃縮して固形分7;度を23,4wt%にしたときの
粘度は5cpsであり、固形分濃度を44.2wt%に
したときの粘度は275cpsであった。一方、特開昭
62−96309号の実施例1および実施例2によると
合成シリカ微粉末を水と有機溶媒との混合液に分散させ
て得たスラリーは固形分濃度が5wL%のときで粘度2
20cps、固形分濃度が3wt%のときで粘度290
CpSである。
メチルアルコール水溶液中に常温で滴下して得た平均粒
径が0.2μmの単分散球状シリ力粒子を含むゾルを加
熱濃縮して固形分7;度を23,4wt%にしたときの
粘度は5cpsであり、固形分濃度を44.2wt%に
したときの粘度は275cpsであった。一方、特開昭
62−96309号の実施例1および実施例2によると
合成シリカ微粉末を水と有機溶媒との混合液に分散させ
て得たスラリーは固形分濃度が5wL%のときで粘度2
20cps、固形分濃度が3wt%のときで粘度290
CpSである。
噴霧造粒することにより得られる球状粒子の粒径はゾル
の粘度に合わせて噴霧造粒の条件を変化させることによ
り制御でき、例えば、回転ディスク式スプレードライヤ
ーを使用する場合には回転ディスクの回転速度等を変化
させることにより制御できる。
の粘度に合わせて噴霧造粒の条件を変化させることによ
り制御でき、例えば、回転ディスク式スプレードライヤ
ーを使用する場合には回転ディスクの回転速度等を変化
させることにより制御できる。
平均粒径が5〜40μmの球状粒子を常法により焼成す
れば、目的とする球状シリカが生成する。
れば、目的とする球状シリカが生成する。
焼成雰囲気は空気でよく、焼成温度は球状粒子が溶融す
る温度であり、800〜1400℃程度でよい、ただし
、焼成温度が高い程、短時間の焼成ですむ。
る温度であり、800〜1400℃程度でよい、ただし
、焼成温度が高い程、短時間の焼成ですむ。
例えば、空気雰囲気中で焼成する場合には、焼成温度が
900℃のときはlO0時間程、1100℃のときは4
時間程度、1300℃のときは15〜30分間程度焼成
することがよい。
900℃のときはlO0時間程、1100℃のときは4
時間程度、1300℃のときは15〜30分間程度焼成
することがよい。
本発明の球状シリカは平均粒径が5〜40μmであって
、かつ、中実であり、本発明の球状シリカが充填された
樹脂組成物は流れ特性が良好である。
、かつ、中実であり、本発明の球状シリカが充填された
樹脂組成物は流れ特性が良好である。
例えば、各種の平均粒径(μm)の本発明方法で製造さ
れた球状シリカ450重量部をオルソクレゾールノボラ
ックエポキシ樹脂100重量部、フェノール樹脂硬化剤
52.8重量部および硬化促進剤0.5重量部に配合し
た樹脂組成物のスパイラルフロー(cm)を温度180
℃の条件で測定したところ平均粒径8.3、■0.7お
よび12.1のとき、それぞれ85.85および89で
あったが、平均粒径が10μmの粉砕天然シリカでは6
0であった。
れた球状シリカ450重量部をオルソクレゾールノボラ
ックエポキシ樹脂100重量部、フェノール樹脂硬化剤
52.8重量部および硬化促進剤0.5重量部に配合し
た樹脂組成物のスパイラルフロー(cm)を温度180
℃の条件で測定したところ平均粒径8.3、■0.7お
よび12.1のとき、それぞれ85.85および89で
あったが、平均粒径が10μmの粉砕天然シリカでは6
0であった。
固形分1度が20WL%以上になるように本発明のゾル
を濃縮しても、粘度が著しく上昇することがないのは、
ゾルに含まれるシリカ粒子が表面に多くのシラノール基
を有するためにシリカ粒子同士が静電的反発を示すこと
、単分散で球状であるためにシリカ粒子同士の反発力お
よび引力が均一であること並びにその粒径が0.1μm
以上と大きいことにより、濃縮してもシリカ粒子同士の
凝集が起こらないためであると推定される。
を濃縮しても、粘度が著しく上昇することがないのは、
ゾルに含まれるシリカ粒子が表面に多くのシラノール基
を有するためにシリカ粒子同士が静電的反発を示すこと
、単分散で球状であるためにシリカ粒子同士の反発力お
よび引力が均一であること並びにその粒径が0.1μm
以上と大きいことにより、濃縮してもシリカ粒子同士の
凝集が起こらないためであると推定される。
以下、実施例に基づいて、本発明方法を具体的に説明す
る。
る。
実施例1
アンモニア性アルコール水溶液中でテトラメトキシシラ
ンを加水分解して得た平均粒径が0.2μmの単分散球
状シリカ粒子を含む固形分1度lO100O%以下のゾ
ルを、固形分濃度が28゜4wt%になるように加熱濃
縮し、これを原料ゾル(粘度5cps:B型粘度計、6
0r、p、m、)とし、回転ディスク式のスプレードラ
イヤーに10k g / h rの速度で供給してディ
スク回転数2500 Or、p、m、および乾燥空気温
度150℃の条件で噴霧造粒して平均粒径が10μmの
球状粒子を得た。これをアルミナ製の焼成るつぼに入れ
、シリコニット型電気炉内で空気中1100℃の条件で
、4時間加熱焼成して球状シリカを得た。得られた球状
シリカは欠けやクランクが全くない球状であり、その比
表面積および真比重を測定したところ、比表面積は1.
50m”/g、真比重は通常の溶融シリカの真比重と同
じ2.21であり、この球状シリカが内部欠陥のない、
完全球状体であると認められる。
ンを加水分解して得た平均粒径が0.2μmの単分散球
状シリカ粒子を含む固形分1度lO100O%以下のゾ
ルを、固形分濃度が28゜4wt%になるように加熱濃
縮し、これを原料ゾル(粘度5cps:B型粘度計、6
0r、p、m、)とし、回転ディスク式のスプレードラ
イヤーに10k g / h rの速度で供給してディ
スク回転数2500 Or、p、m、および乾燥空気温
度150℃の条件で噴霧造粒して平均粒径が10μmの
球状粒子を得た。これをアルミナ製の焼成るつぼに入れ
、シリコニット型電気炉内で空気中1100℃の条件で
、4時間加熱焼成して球状シリカを得た。得られた球状
シリカは欠けやクランクが全くない球状であり、その比
表面積および真比重を測定したところ、比表面積は1.
50m”/g、真比重は通常の溶融シリカの真比重と同
じ2.21であり、この球状シリカが内部欠陥のない、
完全球状体であると認められる。
実施例2
原料ゾルの固形分濃度を44.2wt%(粘度は275
cps :B型粘度計、60r、p、m、)としたこと
およびディスク回転数を1800 Or、p、s+。
cps :B型粘度計、60r、p、m、)としたこと
およびディスク回転数を1800 Or、p、s+。
として得られる球状粒子の平均粒径を26μmとしたこ
と以外は実施例1と同様にした。得られた球状シリカは
欠けやクランクが全くない球状であり、その比表面積は
1.12m”/g、真比重は2、21であり、内部欠陥
のない、完全球状体であった。
と以外は実施例1と同様にした。得られた球状シリカは
欠けやクランクが全くない球状であり、その比表面積は
1.12m”/g、真比重は2、21であり、内部欠陥
のない、完全球状体であった。
本発明によれば平均粒径が5〜40μmであって中実な
フィラー用球状シリカを得ることができる。また、ウラ
ン含有量0.1ppb以下及び/又はトリウム含有量0
.1ppb以下のフィラー用球状シリカを容易に得るこ
とができる。
フィラー用球状シリカを得ることができる。また、ウラ
ン含有量0.1ppb以下及び/又はトリウム含有量0
.1ppb以下のフィラー用球状シリカを容易に得るこ
とができる。
この球状粒子を樹脂のフィラーに用いれば、流動性およ
びパリ特性の優れた樹脂組成物、特に、トランスファー
成形に適した樹脂組成物とすることができる。
びパリ特性の優れた樹脂組成物、特に、トランスファー
成形に適した樹脂組成物とすることができる。
特許出願人 新日鐵化学株式会社
Claims (1)
- 1、アンモニア性アルコール水溶液中でテトラアルコキ
シシランを加水分解して得られる平均粒径が0.1〜2
.0μmの範囲の単分散球状シリカ粒子を含むゾルを固
形分濃度が20〜50wt%になるように濃縮し、これ
をスプレードライヤーを用いて噴霧造粒することにより
平均粒径が5〜40μmの球状粒子を得、その後焼成す
ることを特徴とするフィラー用球状シリカの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63060582A JPH01234319A (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 球状シリカの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63060582A JPH01234319A (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 球状シリカの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01234319A true JPH01234319A (ja) | 1989-09-19 |
Family
ID=13146378
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63060582A Pending JPH01234319A (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 球状シリカの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01234319A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006269304A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Matsushita Electric Works Ltd | 燃料電池用セパレータ材料の製造方法と燃料電池用セパレータ並びに燃料電池 |
CN1330570C (zh) * | 2002-12-17 | 2007-08-08 | 德古萨股份公司 | 热解二氧化硅及其分散体 |
KR20160037945A (ko) | 2013-08-01 | 2016-04-06 | 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 | 해쇄 실리카 입자의 제조방법 및 그 입자를 포함하는 수지 조성물 |
US10184069B2 (en) | 2016-12-02 | 2019-01-22 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Silica-based polishing particle and abrasive |
US10190023B2 (en) | 2016-11-07 | 2019-01-29 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Silica-based polishing particle and abrasive |
US10301183B2 (en) | 2016-12-28 | 2019-05-28 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Silica particle dispersion and production method of the same |
-
1988
- 1988-03-16 JP JP63060582A patent/JPH01234319A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1330570C (zh) * | 2002-12-17 | 2007-08-08 | 德古萨股份公司 | 热解二氧化硅及其分散体 |
JP2006269304A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Matsushita Electric Works Ltd | 燃料電池用セパレータ材料の製造方法と燃料電池用セパレータ並びに燃料電池 |
KR20160037945A (ko) | 2013-08-01 | 2016-04-06 | 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 | 해쇄 실리카 입자의 제조방법 및 그 입자를 포함하는 수지 조성물 |
US10358353B2 (en) | 2013-08-01 | 2019-07-23 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Method for producing disintegrated silica particles |
US10190023B2 (en) | 2016-11-07 | 2019-01-29 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Silica-based polishing particle and abrasive |
US10184069B2 (en) | 2016-12-02 | 2019-01-22 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Silica-based polishing particle and abrasive |
US10301183B2 (en) | 2016-12-28 | 2019-05-28 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Silica particle dispersion and production method of the same |
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