JPH02173653A - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体

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JPH02173653A
JPH02173653A JP63328697A JP32869788A JPH02173653A JP H02173653 A JPH02173653 A JP H02173653A JP 63328697 A JP63328697 A JP 63328697A JP 32869788 A JP32869788 A JP 32869788A JP H02173653 A JPH02173653 A JP H02173653A
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diphenylhydrazone
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JP63328697A
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Kenichi Fujimori
藤森 研一
Yoshitaro Nakayama
中山 嘉太郎
Hajime Suzuki
一 鈴木
Yoshiko Kobayashi
小林 よ志子
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Shindengen Electric Manufacturing Co Ltd
Yamanashi Electronics Co Ltd
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Shindengen Electric Manufacturing Co Ltd
Yamanashi Electronics Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電子写真感光体に関し、特に有機光導電材料
を用いた感光体に係わるものである。
[従来の技術] 電子写真感光体の光導電材料には一般にセレン(Se)
、硫化カドミウム(Cds)、酸化亜鉛(Zno)、ア
モルファスシリコン(a−5i)等の無機材料が使用さ
れているが、断る無機材料を用いた感光体は暗所で例え
ば帯電ブラシによりtiF電し、次いで像露光を行なっ
て露光部のみの電荷を選択的に消失せしめて静電潜像を
形成し、次いで現像剤で現像可視化して画像を形成する
如く利用されている。斯る電子写真感光体に要求される
バ本的特性として、■暗所で適当な電位にffF電でき
ること、■光照射で表面電荷を消失せしめる機能を備え
ていること等があるが、上記無機材料は夫々長所及び短
所を仔している。例えばセレン(Se)は前述の■■の
特性は充分満足するが、可撓性がなくフィルム状に加工
することが難しい。
又、熱や機械的衝撃に鋭敏なために取扱に注意を要する
等の欠点がある。又、アモルファスシリコン(a−5i
)は製造条件が難しく製造コストが高(なる欠点がある
。ところで近年上記の欠点を排除したイr機材料例えば
ヒドラゾン化合物やブタジェン化合物等を利用した感光
体が種々提案され、部実用にも供されている。ヒドラゾ
ン化合物とブタジェン化合物の混合を電荷移動剤として
使用した感光体は優れた電子写真特性を有する。しかし
ヒドラゾン化合物とブタジェン化合物をバインダーに溶
かして成膜し乾燥した膜においては、膜の内部応力が非
常に太き(、油、指紋等の何首という刺激により、膜に
クラックが生じるという問題がある。
[発明が解決しようとする問題点コ 本発明は、上記の諸欠点に鑑み感光体を使用する場合、
まれではあるがオイル滴が付むしたり、指紋が付いた時
でも感光膜にクラックを生じ、感光体が破壊されること
のない電子写真感光体を提供しようとするものである。
[問題点を解決するための手段] しかして、下記−数式CI]で表されるブタジェン化合
物と、下記−数式[■]で表されるヒドラゾン化合物と
、更にモノフェノール系酸化防止剤を含有する感光膜を
備えたことを特徴とする。
[式中A1〜A4はアルキル基で相互に同じであつでも
異なっていてもよい。コ [式中Blと82はアルキル基、フェニル乱、ベンジル
基、メトキシフェニル基で相互に同じであっても異なっ
ていてもよく、R1は水素用、アルキル基、0−R(R
は炭素原子5〜10個をaする直鎖状又は分岐状のアル
キル基、アルケニル基、アルカジェニル甚、炭素数7〜
10個を有するアルキル基)、R2はアルキル基、フェ
ニル基、メトキシ基、エトキシ基、ベンジル川、メトキ
シフニル基、トリル基、ナフチル基を示す。]一般数式
Iコ、−数式[11]で表される化合物にモノフェノー
ル系酸化防止剤を加え、バインダー中に溶解し成膜した
膜について内部応力が減少し、油、指紋等の付合による
刺激に対してもクラックを生じないことが確認できた。
まず、−数式CI]のブタジェン化合物及び−数式[■
]のヒドラゾン化合物の好ましい具体例を示すと次のと
うりである。
一般式[I]のブタジェン化合物としては、Al−A4
のいずれもがメチル基かエチル基のもの、即ち C!]3 [1,1−ビス(p−ジメチルアミノフェノール)−4
,4−ジフェニル−1,3−ブタジェン][p−ジエチ
ルアミノベンズアルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)
] 2H5 [1,1−ビス(p−ジフェニルアミノフェノール)−
4,4−ジフェニル−1,3−ブタジエンコが、また−
数式[■]で表されるヒドラゾン化合物としては、B1
.B2がともにメチル基、エチル基、ベンジル川、フェ
ニル基のいずれか一つか、又はB1がベンジル基でB2
がメトキシフェニル基であり、R1がH,エチル基、メ
トキシ基又はベンジルオキシ基で、R2がメチル基、フ
ェニル基又はベンジル井のもの、即ち [p−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−フェニルヒ
ドラゾン)コ (ジ [p−ジベンジルアミノベンズアルデヒド−フェニルヒ
ドラゾン)] (ジ [p−(ベンジル−メトキシフェニル)アミノベンズア
ルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)][]p−ジメチ
ルアミノベンズアルデヒド(ジフェニルヒドラゾン)] [o−メチル−p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
(ジフェニルヒドラゾン) [0−メチル−p−ジベンジルアミノベンズアルデヒド
ー(ジフェニルヒドラゾン) [Q−メトキシ−p−ジエチルアミノベンズアルデヒド
−(ジフェニルヒドラゾン) [0−ベンジルオキシ−p−ジエチルアミノベンズアル
デヒド−(ジフェニルヒドラゾン)[p−ジエチルアミ
ノベンズアルデヒド−(メチル−フェニルヒドラゾン) [0−メチル−p−ジベンジルアミノベンズアルデヒド
−(メチル−フェニルヒドラゾン)[0−メチル−p−
ジベンジルアミノベンズアルデヒド−(ベンジル−フェ
ニルヒドラゾン)これらのブタジェン化合物及びヒドラ
ゾン化合物は本出願前公知のものであり、それぞれ常法
により製造される。
モノフェノール系酸化防止剤としては、2−tert−
ブチル−4−メトキシフェノール、2.6−シーter
t−ブチルフェノール、2.6−シーtert−ブチル
−4−メチルフェノール、2.6−シーtert−ブチ
ル−4−エチルフェノール、2.6−シーtert−ブ
チル−4−メトキシフェノールが上げられる。尚、モノ
フェノール系酸化防止剤以外にも、プラスチック等に添
加されているビスフェノール系酸化防止剤、アミン系酸
化防止剤、サリチル酸系光安定剤、ベンゾフェノン系光
安定剤等の使用を試みたが、ポリフェノール系酸化防止
剤を添加した場合は油、指紋の何首によりクラックが発
生する。ビスフェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防
止剤、サリチル酸系光安定剤、ベンゾフェノン系光安定
剤については、それらを添加することにより、クラック
の発生はなくなるが残留電位が高くなり、感光体として
の機能が低下してしまう。しかしモノフェノール系酸化
防止剤については、感光体としての機能を損なうことな
く油、指紋等の何首によるクラックの発生を抑えること
ができる。
本発明の電子写真感光体の構造は、第1図及び第2図に
示したとうりであるが、そのうち第1図は基板1側に電
荷発生層2、その上層に電荷移動層3を形成する負ノ;
F電型の機能分離型二層構造を示し、又、第2図は基板
1側に電荷移動層4、その上層に電荷発生層5を形成し
た正(tF電型の二層4:4 mを示す。尚、本発明は
夫々上層に更に所要の電荷移動層等を積属しても実施で
きる。本発明の感光体は前期−数式CI]のブタジェン
化合物[1゜1、 4. 4−テトラフェニル−1,3
−ブタジェン化合物]と前期−数式[■コのヒドラゾン
化合物及びモノフェノール系酸化防止剤をバインダー(
結芒剤)と共に適当な溶媒中に溶解し、必要に応じて光
を吸収して電荷を発生する光導電物質、増感染料、電子
吸収性材料或は可塑剤等を添加して得られる塗布液を導
電性基板上に塗布、乾燥し通常5〜30μmの膜厚の感
光店を形成することにより製作できる。電荷発生層2と
電荷移動層3から成る第1図構造の場合は光導電材料を
バインダーに分散させてなる電荷発生層2の上に前記の
塗布液を塗布する。又、第2図の場合は前記塗布液を塗
布して得られる電荷移動層4上に電荷発生層5を形成す
ればよい。−数式[I]のブタジェン化合物と一般式[
11]のヒドラゾン化合物(以下ヒドラゾン)の混合物
の添加量はバインダー100ffl量部に対し、20〜
20Offlffi部、好ましくは30〜150tli
fi1部が好適範囲である。更にブタジェン化合物とヒ
ドラゾン化合物との割合(混合比)はブタジェン化合物
100重量部に対し、ヒドラゾン化合物10〜4000
mm部、好ましくは50〜3000重量部である。更に
モノフェノール系酸化防止剤の添加量は、ヒドラゾン化
合物とブタジェン化合物を合わせたちの1001i塁部
に対して5〜20重量部である。尚、本発明に適用され
る電荷発生層としては公知の光導電性材料(Ses  
5e−Te合金、5e−As合金、Cds、ZnO等の
無機材料或はCu、AI、In、Ti、Pb、V等の金
属を含有するフタロシアニン類、更には無金属フタロシ
アニン、クロロジアン、ア/系a料、ブルー顔料、ビス
アゾ系顔料、或はシアニン系顔料等の打機材料を単独或
は混合して使用できる。又、電気的絶縁性のバインダー
としてはポリエステル、ポリカーボネート、アクリル、
ポリアミド等の熱可塑性樹脂、エポキシ、ウレタン、シ
リコーン等の熱硬化性樹脂、或はポリ−N−ビニルカル
バゾール等の光硬化性樹脂を単独或は混合して使用でき
る。又、塗布液調整用の溶剤としてはテトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、メチルエチルケトン、
シクロヘキサン等のケトン類、トルエン、キシレン笠の
芳香族炭水化水素、ジクロルエタン、クロロホルム等の
塩素系炭化水素が利用でき、更に導電性基板にはアルミ
ニウム、ニッケル等の板状又はドラム状に加工したもの
、或はプラスチックフィルム表面にアルミニウム、銅、
ニッケル等の金属を真空原告又はメツキしたもの、更に
はプラスチック材料にカーボン等の導電性粉末を混入し
、これをシート状、ドラム状に加工したものが利用でき
る。
次に本発明の実施例について説明する。
[実施例1] チタニルフタロシアニンを真空度10−’*m)1g中
で加熱し、アルミドラム上に0.2μ閣の厚さに蒸若し
た7u荷発生層を形成し、次いでポリカーボネートZ(
三菱瓦斯化学(株)) 100重量部、前記−数式CI
]のブタジェン化合物(2)の1.1−ビス(p−ジエ
チルアミノフェノール)−4,4−ジフェニル−1,3
ブタジ工ンlO重量部、−数式[■]のヒドラゾン化合
物(9)の0−メチル−p−ジエチルアミノベンズアル
デヒド−(ジフェニルヒドラゾン)90重量部、2,6
.ジーtert−ブチルー4−メチルフェノール101
[ii1部、クロロホルム500重皿部から成る溶液を
スプレー法或はデイツプ法で塗布し、厚さ20μ−の電
荷移動層を形成し、更に空気中80°C1時間乾燥させ
た感光体を製作した。
[実施例2] 実施例1で使用したヒドラゾン化合物(9)に代えてヒ
ドラゾン化合物(3)p−メチルアミノベンズアルデヒ
ド−(ジフェニルヒドラゾン)を使用し、2.6−シー
tert−4−メチルフェノールに代え、2.6−シー
tert−ブチル−4−メトキシフェノールを用いた他
は実施例1と同様な方法で感光体を製作した。
[比較例1] 実施例1において、2,6−シーtert−ブチル−4
−メチルフェノールを含まない溶液により感光体を製作
した。
[比較例2] 実施例1において、2.2’−メチレン−ビス(4−メ
チル−6−tert−ブチルフェノール)を加えた溶液
により感光体を製作した。
[比較例3] 比較例1において、ペンタエリスチリル−テトラキス[
3−(3,5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシ
フェニール)プロピオネート]を加えた溶液より感光体
を製作した。
[比較例4コ 比較例1において、N−フェノール−1−ナフチルアミ
ンを加えた溶液より感光体を製作した。
[比較例5] 比較例1において、サリチル酸−p−tert−ブチル
フェノールを加えた溶液より感光体を製作した。
[比較例6] 比較例1において、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベ
ンゾフェノンを加えた溶液より感光体を製作した。
〔発明の効果〕
表1から明らかなように、比較例1の添加剤を加えない
ものは浦、指紋の何首により発生することが確認できた
。又、添加剤を加えたものでも比較例3の場合はクラン
クが発生する。更に実施例1、実施例2、比較例2、比
較例4、比較例5、比較例6においては油、指紋等の何
首によるクラックの発生は無い。電子写真特性について
みると、実施例1、実施例2ではなんら問題のない特性
を示す。比較例2から比較例6についてはいずれも残留
電位が高く、又繰り返しにより残留電位の上昇もみられ
た。
この傾向は比較例5、比較例6については特に大きかっ
た。
(表1) 感光体を使用する場合、まれではあるが浦がついたり指
紋等を付けてしまうこともあり、クラックが発生すると
使用できなくなる。本発明においてはこのようなトラブ
ルの発生を防ぎ、尚且つ感光体としての本来の特性を損
なうことがない感光体を提供する優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本発明の実施例に適用される感光体の
断面図で、図中1は導電性パ板、2と5は電荷発生層、
3と4は電荷移動層である。 (但し) vo:  表面電位(−5KV) Efo :  半減露光ff1(at、650V、7B
0nm)DDRI :  暗減衰率(初期:10秒間)
DDR2:      ノt     (200fイク
ル後= 10秒間)Vol :  初期(1シ電電位 vo2  :    200号イクイクル後電11位V
RI :  初期残留電位 VH2:20叶イウb後の残留電位 クラックの発生: 油、指紋等を感光体表面に付むさせ
48時間後目視にて観察

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中A1〜A4はアルキル基で相互に同じであっても
    異なっていてもよい。]で表わされるブタジエン化合物
    と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中B1とB2はアルキル基、フェニル基、ベンジル
    基、メトキシフェニル基で相互に同じであっても異なっ
    ていてもよく、R1は水素基、アルキル基、O−R(R
    は炭素原子5〜10個を有する直鎖状又は分岐状のアル
    キル基、アルケニル基、アルカジエニル基、炭素数7〜
    10個を有するアルキル基)、R2はアルキル基、フェ
    ニル基、メトキシ基、エトキシ基、ベンジル基、メトシ
    キフェニル基、トリル基、ナフチル基を示す。]で表さ
    れるヒドラゾン化合物及びモノフェノール系酸化防止剤
    を上記電荷移動剤に対して5〜20重量%とを含有する
    感光層を備えた電子写真感光体。
  2. (2)ブタジエン化合物が、1、1−ビス(p−ジエチ
    ルアミノフェニル)−4、4ジフェニル−1、3−ブタ
    ジエンである特許請求の範囲第1項記載の電子写真感光
    体。
  3. (3)ヒドラゾン化合物が、p−ジメチルアミノベンズ
    アルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)、o−メチル−
    p−ジベンジルアミノベンズアルデヒド−(ジフェニル
    ヒドラゾン)及びo−ベンジルオキシ−p−ジエチルア
    ミノベンズアルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)から
    なる群より選ばれるヒドラゾン化合物である特許請求の
    範囲第1項記載の電子写真感光体。
JP63328697A 1988-12-26 1988-12-26 電子写真感光体 Pending JPH02173653A (ja)

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