JPH02173653A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JPH02173653A JPH02173653A JP63328697A JP32869788A JPH02173653A JP H02173653 A JPH02173653 A JP H02173653A JP 63328697 A JP63328697 A JP 63328697A JP 32869788 A JP32869788 A JP 32869788A JP H02173653 A JPH02173653 A JP H02173653A
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- -1 methoxyphenyl Chemical group 0.000 claims abstract description 46
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N butadiene group Chemical class C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 29
- JGOAZQAXRONCCI-SDNWHVSQSA-N n-[(e)-benzylideneamino]aniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1N\N=C\C1=CC=CC=C1 JGOAZQAXRONCCI-SDNWHVSQSA-N 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- SHLWAEUNKOVQMZ-UHFFFAOYSA-N 4-(diethylamino)-2-phenylmethoxybenzaldehyde Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(C=O)C(OCC=2C=CC=CC=2)=C1 SHLWAEUNKOVQMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YTJZGOONVHNAQC-UHFFFAOYSA-N 4-[(diphenylhydrazinylidene)methyl]-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=NN(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YTJZGOONVHNAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- MNEPURVJQJNPQW-UHFFFAOYSA-N 4-[1-[4-(diethylamino)phenyl]-4,4-diphenylbuta-1,3-dienyl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=CC=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MNEPURVJQJNPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IRKBOPBCDTWDDY-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzyl-4-[(diphenylhydrazinylidene)methyl]aniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(C=1C=CC(C=NN(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=CC=1)CC1=CC=CC=C1 IRKBOPBCDTWDDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 abstract description 3
- 230000000638 stimulation Effects 0.000 abstract description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 4
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-M 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC([O-])=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRBKEAMVRSLQPH-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butyl-4-hydroxyanisole Chemical compound COC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 MRBKEAMVRSLQPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzaldehyde Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C=O)C=C1 BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJFWSPAHTQPBIC-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol;2-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O.CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 DJFWSPAHTQPBIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000967 As alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- TUCVSIRQWDGUHY-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-4-[[methyl(phenyl)hydrazinylidene]methyl]aniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=NN(C)C1=CC=CC=C1 TUCVSIRQWDGUHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N oxytitamium phthalocyanine Chemical compound [Ti+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、電子写真感光体に関し、特に有機光導電材料
を用いた感光体に係わるものである。
を用いた感光体に係わるものである。
[従来の技術]
電子写真感光体の光導電材料には一般にセレン(Se)
、硫化カドミウム(Cds)、酸化亜鉛(Zno)、ア
モルファスシリコン(a−5i)等の無機材料が使用さ
れているが、断る無機材料を用いた感光体は暗所で例え
ば帯電ブラシによりtiF電し、次いで像露光を行なっ
て露光部のみの電荷を選択的に消失せしめて静電潜像を
形成し、次いで現像剤で現像可視化して画像を形成する
如く利用されている。斯る電子写真感光体に要求される
バ本的特性として、■暗所で適当な電位にffF電でき
ること、■光照射で表面電荷を消失せしめる機能を備え
ていること等があるが、上記無機材料は夫々長所及び短
所を仔している。例えばセレン(Se)は前述の■■の
特性は充分満足するが、可撓性がなくフィルム状に加工
することが難しい。
、硫化カドミウム(Cds)、酸化亜鉛(Zno)、ア
モルファスシリコン(a−5i)等の無機材料が使用さ
れているが、断る無機材料を用いた感光体は暗所で例え
ば帯電ブラシによりtiF電し、次いで像露光を行なっ
て露光部のみの電荷を選択的に消失せしめて静電潜像を
形成し、次いで現像剤で現像可視化して画像を形成する
如く利用されている。斯る電子写真感光体に要求される
バ本的特性として、■暗所で適当な電位にffF電でき
ること、■光照射で表面電荷を消失せしめる機能を備え
ていること等があるが、上記無機材料は夫々長所及び短
所を仔している。例えばセレン(Se)は前述の■■の
特性は充分満足するが、可撓性がなくフィルム状に加工
することが難しい。
又、熱や機械的衝撃に鋭敏なために取扱に注意を要する
等の欠点がある。又、アモルファスシリコン(a−5i
)は製造条件が難しく製造コストが高(なる欠点がある
。ところで近年上記の欠点を排除したイr機材料例えば
ヒドラゾン化合物やブタジェン化合物等を利用した感光
体が種々提案され、部実用にも供されている。ヒドラゾ
ン化合物とブタジェン化合物の混合を電荷移動剤として
使用した感光体は優れた電子写真特性を有する。しかし
ヒドラゾン化合物とブタジェン化合物をバインダーに溶
かして成膜し乾燥した膜においては、膜の内部応力が非
常に太き(、油、指紋等の何首という刺激により、膜に
クラックが生じるという問題がある。
等の欠点がある。又、アモルファスシリコン(a−5i
)は製造条件が難しく製造コストが高(なる欠点がある
。ところで近年上記の欠点を排除したイr機材料例えば
ヒドラゾン化合物やブタジェン化合物等を利用した感光
体が種々提案され、部実用にも供されている。ヒドラゾ
ン化合物とブタジェン化合物の混合を電荷移動剤として
使用した感光体は優れた電子写真特性を有する。しかし
ヒドラゾン化合物とブタジェン化合物をバインダーに溶
かして成膜し乾燥した膜においては、膜の内部応力が非
常に太き(、油、指紋等の何首という刺激により、膜に
クラックが生じるという問題がある。
[発明が解決しようとする問題点コ
本発明は、上記の諸欠点に鑑み感光体を使用する場合、
まれではあるがオイル滴が付むしたり、指紋が付いた時
でも感光膜にクラックを生じ、感光体が破壊されること
のない電子写真感光体を提供しようとするものである。
まれではあるがオイル滴が付むしたり、指紋が付いた時
でも感光膜にクラックを生じ、感光体が破壊されること
のない電子写真感光体を提供しようとするものである。
[問題点を解決するための手段]
しかして、下記−数式CI]で表されるブタジェン化合
物と、下記−数式[■]で表されるヒドラゾン化合物と
、更にモノフェノール系酸化防止剤を含有する感光膜を
備えたことを特徴とする。
物と、下記−数式[■]で表されるヒドラゾン化合物と
、更にモノフェノール系酸化防止剤を含有する感光膜を
備えたことを特徴とする。
[式中A1〜A4はアルキル基で相互に同じであつでも
異なっていてもよい。コ [式中Blと82はアルキル基、フェニル乱、ベンジル
基、メトキシフェニル基で相互に同じであっても異なっ
ていてもよく、R1は水素用、アルキル基、0−R(R
は炭素原子5〜10個をaする直鎖状又は分岐状のアル
キル基、アルケニル基、アルカジェニル甚、炭素数7〜
10個を有するアルキル基)、R2はアルキル基、フェ
ニル基、メトキシ基、エトキシ基、ベンジル川、メトキ
シフニル基、トリル基、ナフチル基を示す。]一般数式
Iコ、−数式[11]で表される化合物にモノフェノー
ル系酸化防止剤を加え、バインダー中に溶解し成膜した
膜について内部応力が減少し、油、指紋等の付合による
刺激に対してもクラックを生じないことが確認できた。
異なっていてもよい。コ [式中Blと82はアルキル基、フェニル乱、ベンジル
基、メトキシフェニル基で相互に同じであっても異なっ
ていてもよく、R1は水素用、アルキル基、0−R(R
は炭素原子5〜10個をaする直鎖状又は分岐状のアル
キル基、アルケニル基、アルカジェニル甚、炭素数7〜
10個を有するアルキル基)、R2はアルキル基、フェ
ニル基、メトキシ基、エトキシ基、ベンジル川、メトキ
シフニル基、トリル基、ナフチル基を示す。]一般数式
Iコ、−数式[11]で表される化合物にモノフェノー
ル系酸化防止剤を加え、バインダー中に溶解し成膜した
膜について内部応力が減少し、油、指紋等の付合による
刺激に対してもクラックを生じないことが確認できた。
まず、−数式CI]のブタジェン化合物及び−数式[■
]のヒドラゾン化合物の好ましい具体例を示すと次のと
うりである。
]のヒドラゾン化合物の好ましい具体例を示すと次のと
うりである。
一般式[I]のブタジェン化合物としては、Al−A4
のいずれもがメチル基かエチル基のもの、即ち C!]3 [1,1−ビス(p−ジメチルアミノフェノール)−4
,4−ジフェニル−1,3−ブタジェン][p−ジエチ
ルアミノベンズアルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)
] 2H5 [1,1−ビス(p−ジフェニルアミノフェノール)−
4,4−ジフェニル−1,3−ブタジエンコが、また−
数式[■]で表されるヒドラゾン化合物としては、B1
.B2がともにメチル基、エチル基、ベンジル川、フェ
ニル基のいずれか一つか、又はB1がベンジル基でB2
がメトキシフェニル基であり、R1がH,エチル基、メ
トキシ基又はベンジルオキシ基で、R2がメチル基、フ
ェニル基又はベンジル井のもの、即ち [p−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−フェニルヒ
ドラゾン)コ (ジ [p−ジベンジルアミノベンズアルデヒド−フェニルヒ
ドラゾン)] (ジ [p−(ベンジル−メトキシフェニル)アミノベンズア
ルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)][]p−ジメチ
ルアミノベンズアルデヒド(ジフェニルヒドラゾン)] [o−メチル−p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
(ジフェニルヒドラゾン) [0−メチル−p−ジベンジルアミノベンズアルデヒド
ー(ジフェニルヒドラゾン) [Q−メトキシ−p−ジエチルアミノベンズアルデヒド
−(ジフェニルヒドラゾン) [0−ベンジルオキシ−p−ジエチルアミノベンズアル
デヒド−(ジフェニルヒドラゾン)[p−ジエチルアミ
ノベンズアルデヒド−(メチル−フェニルヒドラゾン) [0−メチル−p−ジベンジルアミノベンズアルデヒド
−(メチル−フェニルヒドラゾン)[0−メチル−p−
ジベンジルアミノベンズアルデヒド−(ベンジル−フェ
ニルヒドラゾン)これらのブタジェン化合物及びヒドラ
ゾン化合物は本出願前公知のものであり、それぞれ常法
により製造される。
のいずれもがメチル基かエチル基のもの、即ち C!]3 [1,1−ビス(p−ジメチルアミノフェノール)−4
,4−ジフェニル−1,3−ブタジェン][p−ジエチ
ルアミノベンズアルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)
] 2H5 [1,1−ビス(p−ジフェニルアミノフェノール)−
4,4−ジフェニル−1,3−ブタジエンコが、また−
数式[■]で表されるヒドラゾン化合物としては、B1
.B2がともにメチル基、エチル基、ベンジル川、フェ
ニル基のいずれか一つか、又はB1がベンジル基でB2
がメトキシフェニル基であり、R1がH,エチル基、メ
トキシ基又はベンジルオキシ基で、R2がメチル基、フ
ェニル基又はベンジル井のもの、即ち [p−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−フェニルヒ
ドラゾン)コ (ジ [p−ジベンジルアミノベンズアルデヒド−フェニルヒ
ドラゾン)] (ジ [p−(ベンジル−メトキシフェニル)アミノベンズア
ルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)][]p−ジメチ
ルアミノベンズアルデヒド(ジフェニルヒドラゾン)] [o−メチル−p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
(ジフェニルヒドラゾン) [0−メチル−p−ジベンジルアミノベンズアルデヒド
ー(ジフェニルヒドラゾン) [Q−メトキシ−p−ジエチルアミノベンズアルデヒド
−(ジフェニルヒドラゾン) [0−ベンジルオキシ−p−ジエチルアミノベンズアル
デヒド−(ジフェニルヒドラゾン)[p−ジエチルアミ
ノベンズアルデヒド−(メチル−フェニルヒドラゾン) [0−メチル−p−ジベンジルアミノベンズアルデヒド
−(メチル−フェニルヒドラゾン)[0−メチル−p−
ジベンジルアミノベンズアルデヒド−(ベンジル−フェ
ニルヒドラゾン)これらのブタジェン化合物及びヒドラ
ゾン化合物は本出願前公知のものであり、それぞれ常法
により製造される。
モノフェノール系酸化防止剤としては、2−tert−
ブチル−4−メトキシフェノール、2.6−シーter
t−ブチルフェノール、2.6−シーtert−ブチル
−4−メチルフェノール、2.6−シーtert−ブチ
ル−4−エチルフェノール、2.6−シーtert−ブ
チル−4−メトキシフェノールが上げられる。尚、モノ
フェノール系酸化防止剤以外にも、プラスチック等に添
加されているビスフェノール系酸化防止剤、アミン系酸
化防止剤、サリチル酸系光安定剤、ベンゾフェノン系光
安定剤等の使用を試みたが、ポリフェノール系酸化防止
剤を添加した場合は油、指紋の何首によりクラックが発
生する。ビスフェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防
止剤、サリチル酸系光安定剤、ベンゾフェノン系光安定
剤については、それらを添加することにより、クラック
の発生はなくなるが残留電位が高くなり、感光体として
の機能が低下してしまう。しかしモノフェノール系酸化
防止剤については、感光体としての機能を損なうことな
く油、指紋等の何首によるクラックの発生を抑えること
ができる。
ブチル−4−メトキシフェノール、2.6−シーter
t−ブチルフェノール、2.6−シーtert−ブチル
−4−メチルフェノール、2.6−シーtert−ブチ
ル−4−エチルフェノール、2.6−シーtert−ブ
チル−4−メトキシフェノールが上げられる。尚、モノ
フェノール系酸化防止剤以外にも、プラスチック等に添
加されているビスフェノール系酸化防止剤、アミン系酸
化防止剤、サリチル酸系光安定剤、ベンゾフェノン系光
安定剤等の使用を試みたが、ポリフェノール系酸化防止
剤を添加した場合は油、指紋の何首によりクラックが発
生する。ビスフェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防
止剤、サリチル酸系光安定剤、ベンゾフェノン系光安定
剤については、それらを添加することにより、クラック
の発生はなくなるが残留電位が高くなり、感光体として
の機能が低下してしまう。しかしモノフェノール系酸化
防止剤については、感光体としての機能を損なうことな
く油、指紋等の何首によるクラックの発生を抑えること
ができる。
本発明の電子写真感光体の構造は、第1図及び第2図に
示したとうりであるが、そのうち第1図は基板1側に電
荷発生層2、その上層に電荷移動層3を形成する負ノ;
F電型の機能分離型二層構造を示し、又、第2図は基板
1側に電荷移動層4、その上層に電荷発生層5を形成し
た正(tF電型の二層4:4 mを示す。尚、本発明は
夫々上層に更に所要の電荷移動層等を積属しても実施で
きる。本発明の感光体は前期−数式CI]のブタジェン
化合物[1゜1、 4. 4−テトラフェニル−1,3
−ブタジェン化合物]と前期−数式[■コのヒドラゾン
化合物及びモノフェノール系酸化防止剤をバインダー(
結芒剤)と共に適当な溶媒中に溶解し、必要に応じて光
を吸収して電荷を発生する光導電物質、増感染料、電子
吸収性材料或は可塑剤等を添加して得られる塗布液を導
電性基板上に塗布、乾燥し通常5〜30μmの膜厚の感
光店を形成することにより製作できる。電荷発生層2と
電荷移動層3から成る第1図構造の場合は光導電材料を
バインダーに分散させてなる電荷発生層2の上に前記の
塗布液を塗布する。又、第2図の場合は前記塗布液を塗
布して得られる電荷移動層4上に電荷発生層5を形成す
ればよい。−数式[I]のブタジェン化合物と一般式[
11]のヒドラゾン化合物(以下ヒドラゾン)の混合物
の添加量はバインダー100ffl量部に対し、20〜
20Offlffi部、好ましくは30〜150tli
fi1部が好適範囲である。更にブタジェン化合物とヒ
ドラゾン化合物との割合(混合比)はブタジェン化合物
100重量部に対し、ヒドラゾン化合物10〜4000
mm部、好ましくは50〜3000重量部である。更に
モノフェノール系酸化防止剤の添加量は、ヒドラゾン化
合物とブタジェン化合物を合わせたちの1001i塁部
に対して5〜20重量部である。尚、本発明に適用され
る電荷発生層としては公知の光導電性材料(Ses
5e−Te合金、5e−As合金、Cds、ZnO等の
無機材料或はCu、AI、In、Ti、Pb、V等の金
属を含有するフタロシアニン類、更には無金属フタロシ
アニン、クロロジアン、ア/系a料、ブルー顔料、ビス
アゾ系顔料、或はシアニン系顔料等の打機材料を単独或
は混合して使用できる。又、電気的絶縁性のバインダー
としてはポリエステル、ポリカーボネート、アクリル、
ポリアミド等の熱可塑性樹脂、エポキシ、ウレタン、シ
リコーン等の熱硬化性樹脂、或はポリ−N−ビニルカル
バゾール等の光硬化性樹脂を単独或は混合して使用でき
る。又、塗布液調整用の溶剤としてはテトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、メチルエチルケトン、
シクロヘキサン等のケトン類、トルエン、キシレン笠の
芳香族炭水化水素、ジクロルエタン、クロロホルム等の
塩素系炭化水素が利用でき、更に導電性基板にはアルミ
ニウム、ニッケル等の板状又はドラム状に加工したもの
、或はプラスチックフィルム表面にアルミニウム、銅、
ニッケル等の金属を真空原告又はメツキしたもの、更に
はプラスチック材料にカーボン等の導電性粉末を混入し
、これをシート状、ドラム状に加工したものが利用でき
る。
示したとうりであるが、そのうち第1図は基板1側に電
荷発生層2、その上層に電荷移動層3を形成する負ノ;
F電型の機能分離型二層構造を示し、又、第2図は基板
1側に電荷移動層4、その上層に電荷発生層5を形成し
た正(tF電型の二層4:4 mを示す。尚、本発明は
夫々上層に更に所要の電荷移動層等を積属しても実施で
きる。本発明の感光体は前期−数式CI]のブタジェン
化合物[1゜1、 4. 4−テトラフェニル−1,3
−ブタジェン化合物]と前期−数式[■コのヒドラゾン
化合物及びモノフェノール系酸化防止剤をバインダー(
結芒剤)と共に適当な溶媒中に溶解し、必要に応じて光
を吸収して電荷を発生する光導電物質、増感染料、電子
吸収性材料或は可塑剤等を添加して得られる塗布液を導
電性基板上に塗布、乾燥し通常5〜30μmの膜厚の感
光店を形成することにより製作できる。電荷発生層2と
電荷移動層3から成る第1図構造の場合は光導電材料を
バインダーに分散させてなる電荷発生層2の上に前記の
塗布液を塗布する。又、第2図の場合は前記塗布液を塗
布して得られる電荷移動層4上に電荷発生層5を形成す
ればよい。−数式[I]のブタジェン化合物と一般式[
11]のヒドラゾン化合物(以下ヒドラゾン)の混合物
の添加量はバインダー100ffl量部に対し、20〜
20Offlffi部、好ましくは30〜150tli
fi1部が好適範囲である。更にブタジェン化合物とヒ
ドラゾン化合物との割合(混合比)はブタジェン化合物
100重量部に対し、ヒドラゾン化合物10〜4000
mm部、好ましくは50〜3000重量部である。更に
モノフェノール系酸化防止剤の添加量は、ヒドラゾン化
合物とブタジェン化合物を合わせたちの1001i塁部
に対して5〜20重量部である。尚、本発明に適用され
る電荷発生層としては公知の光導電性材料(Ses
5e−Te合金、5e−As合金、Cds、ZnO等の
無機材料或はCu、AI、In、Ti、Pb、V等の金
属を含有するフタロシアニン類、更には無金属フタロシ
アニン、クロロジアン、ア/系a料、ブルー顔料、ビス
アゾ系顔料、或はシアニン系顔料等の打機材料を単独或
は混合して使用できる。又、電気的絶縁性のバインダー
としてはポリエステル、ポリカーボネート、アクリル、
ポリアミド等の熱可塑性樹脂、エポキシ、ウレタン、シ
リコーン等の熱硬化性樹脂、或はポリ−N−ビニルカル
バゾール等の光硬化性樹脂を単独或は混合して使用でき
る。又、塗布液調整用の溶剤としてはテトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、メチルエチルケトン、
シクロヘキサン等のケトン類、トルエン、キシレン笠の
芳香族炭水化水素、ジクロルエタン、クロロホルム等の
塩素系炭化水素が利用でき、更に導電性基板にはアルミ
ニウム、ニッケル等の板状又はドラム状に加工したもの
、或はプラスチックフィルム表面にアルミニウム、銅、
ニッケル等の金属を真空原告又はメツキしたもの、更に
はプラスチック材料にカーボン等の導電性粉末を混入し
、これをシート状、ドラム状に加工したものが利用でき
る。
次に本発明の実施例について説明する。
[実施例1]
チタニルフタロシアニンを真空度10−’*m)1g中
で加熱し、アルミドラム上に0.2μ閣の厚さに蒸若し
た7u荷発生層を形成し、次いでポリカーボネートZ(
三菱瓦斯化学(株)) 100重量部、前記−数式CI
]のブタジェン化合物(2)の1.1−ビス(p−ジエ
チルアミノフェノール)−4,4−ジフェニル−1,3
ブタジ工ンlO重量部、−数式[■]のヒドラゾン化合
物(9)の0−メチル−p−ジエチルアミノベンズアル
デヒド−(ジフェニルヒドラゾン)90重量部、2,6
.ジーtert−ブチルー4−メチルフェノール101
[ii1部、クロロホルム500重皿部から成る溶液を
スプレー法或はデイツプ法で塗布し、厚さ20μ−の電
荷移動層を形成し、更に空気中80°C1時間乾燥させ
た感光体を製作した。
で加熱し、アルミドラム上に0.2μ閣の厚さに蒸若し
た7u荷発生層を形成し、次いでポリカーボネートZ(
三菱瓦斯化学(株)) 100重量部、前記−数式CI
]のブタジェン化合物(2)の1.1−ビス(p−ジエ
チルアミノフェノール)−4,4−ジフェニル−1,3
ブタジ工ンlO重量部、−数式[■]のヒドラゾン化合
物(9)の0−メチル−p−ジエチルアミノベンズアル
デヒド−(ジフェニルヒドラゾン)90重量部、2,6
.ジーtert−ブチルー4−メチルフェノール101
[ii1部、クロロホルム500重皿部から成る溶液を
スプレー法或はデイツプ法で塗布し、厚さ20μ−の電
荷移動層を形成し、更に空気中80°C1時間乾燥させ
た感光体を製作した。
[実施例2]
実施例1で使用したヒドラゾン化合物(9)に代えてヒ
ドラゾン化合物(3)p−メチルアミノベンズアルデヒ
ド−(ジフェニルヒドラゾン)を使用し、2.6−シー
tert−4−メチルフェノールに代え、2.6−シー
tert−ブチル−4−メトキシフェノールを用いた他
は実施例1と同様な方法で感光体を製作した。
ドラゾン化合物(3)p−メチルアミノベンズアルデヒ
ド−(ジフェニルヒドラゾン)を使用し、2.6−シー
tert−4−メチルフェノールに代え、2.6−シー
tert−ブチル−4−メトキシフェノールを用いた他
は実施例1と同様な方法で感光体を製作した。
[比較例1]
実施例1において、2,6−シーtert−ブチル−4
−メチルフェノールを含まない溶液により感光体を製作
した。
−メチルフェノールを含まない溶液により感光体を製作
した。
[比較例2]
実施例1において、2.2’−メチレン−ビス(4−メ
チル−6−tert−ブチルフェノール)を加えた溶液
により感光体を製作した。
チル−6−tert−ブチルフェノール)を加えた溶液
により感光体を製作した。
[比較例3]
比較例1において、ペンタエリスチリル−テトラキス[
3−(3,5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシ
フェニール)プロピオネート]を加えた溶液より感光体
を製作した。
3−(3,5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシ
フェニール)プロピオネート]を加えた溶液より感光体
を製作した。
[比較例4コ
比較例1において、N−フェノール−1−ナフチルアミ
ンを加えた溶液より感光体を製作した。
ンを加えた溶液より感光体を製作した。
[比較例5]
比較例1において、サリチル酸−p−tert−ブチル
フェノールを加えた溶液より感光体を製作した。
フェノールを加えた溶液より感光体を製作した。
[比較例6]
比較例1において、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベ
ンゾフェノンを加えた溶液より感光体を製作した。
ンゾフェノンを加えた溶液より感光体を製作した。
表1から明らかなように、比較例1の添加剤を加えない
ものは浦、指紋の何首により発生することが確認できた
。又、添加剤を加えたものでも比較例3の場合はクラン
クが発生する。更に実施例1、実施例2、比較例2、比
較例4、比較例5、比較例6においては油、指紋等の何
首によるクラックの発生は無い。電子写真特性について
みると、実施例1、実施例2ではなんら問題のない特性
を示す。比較例2から比較例6についてはいずれも残留
電位が高く、又繰り返しにより残留電位の上昇もみられ
た。
ものは浦、指紋の何首により発生することが確認できた
。又、添加剤を加えたものでも比較例3の場合はクラン
クが発生する。更に実施例1、実施例2、比較例2、比
較例4、比較例5、比較例6においては油、指紋等の何
首によるクラックの発生は無い。電子写真特性について
みると、実施例1、実施例2ではなんら問題のない特性
を示す。比較例2から比較例6についてはいずれも残留
電位が高く、又繰り返しにより残留電位の上昇もみられ
た。
この傾向は比較例5、比較例6については特に大きかっ
た。
た。
(表1)
感光体を使用する場合、まれではあるが浦がついたり指
紋等を付けてしまうこともあり、クラックが発生すると
使用できなくなる。本発明においてはこのようなトラブ
ルの発生を防ぎ、尚且つ感光体としての本来の特性を損
なうことがない感光体を提供する優れた効果がある。
紋等を付けてしまうこともあり、クラックが発生すると
使用できなくなる。本発明においてはこのようなトラブ
ルの発生を防ぎ、尚且つ感光体としての本来の特性を損
なうことがない感光体を提供する優れた効果がある。
第1図、第2図は本発明の実施例に適用される感光体の
断面図で、図中1は導電性パ板、2と5は電荷発生層、
3と4は電荷移動層である。 (但し) vo: 表面電位(−5KV) Efo : 半減露光ff1(at、650V、7B
0nm)DDRI : 暗減衰率(初期:10秒間)
DDR2: ノt (200fイク
ル後= 10秒間)Vol : 初期(1シ電電位 vo2 : 200号イクイクル後電11位V
RI : 初期残留電位 VH2:20叶イウb後の残留電位 クラックの発生: 油、指紋等を感光体表面に付むさせ
48時間後目視にて観察
断面図で、図中1は導電性パ板、2と5は電荷発生層、
3と4は電荷移動層である。 (但し) vo: 表面電位(−5KV) Efo : 半減露光ff1(at、650V、7B
0nm)DDRI : 暗減衰率(初期:10秒間)
DDR2: ノt (200fイク
ル後= 10秒間)Vol : 初期(1シ電電位 vo2 : 200号イクイクル後電11位V
RI : 初期残留電位 VH2:20叶イウb後の残留電位 クラックの発生: 油、指紋等を感光体表面に付むさせ
48時間後目視にて観察
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中A1〜A4はアルキル基で相互に同じであっても
異なっていてもよい。]で表わされるブタジエン化合物
と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中B1とB2はアルキル基、フェニル基、ベンジル
基、メトキシフェニル基で相互に同じであっても異なっ
ていてもよく、R1は水素基、アルキル基、O−R(R
は炭素原子5〜10個を有する直鎖状又は分岐状のアル
キル基、アルケニル基、アルカジエニル基、炭素数7〜
10個を有するアルキル基)、R2はアルキル基、フェ
ニル基、メトキシ基、エトキシ基、ベンジル基、メトシ
キフェニル基、トリル基、ナフチル基を示す。]で表さ
れるヒドラゾン化合物及びモノフェノール系酸化防止剤
を上記電荷移動剤に対して5〜20重量%とを含有する
感光層を備えた電子写真感光体。 - (2)ブタジエン化合物が、1、1−ビス(p−ジエチ
ルアミノフェニル)−4、4ジフェニル−1、3−ブタ
ジエンである特許請求の範囲第1項記載の電子写真感光
体。 - (3)ヒドラゾン化合物が、p−ジメチルアミノベンズ
アルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)、o−メチル−
p−ジベンジルアミノベンズアルデヒド−(ジフェニル
ヒドラゾン)及びo−ベンジルオキシ−p−ジエチルア
ミノベンズアルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)から
なる群より選ばれるヒドラゾン化合物である特許請求の
範囲第1項記載の電子写真感光体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63328697A JPH02173653A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 電子写真感光体 |
US07/451,244 US5061584A (en) | 1988-12-26 | 1989-12-15 | Electrophotographic photoreceptor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63328697A JPH02173653A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02173653A true JPH02173653A (ja) | 1990-07-05 |
Family
ID=18213163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63328697A Pending JPH02173653A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 電子写真感光体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5061584A (ja) |
JP (1) | JPH02173653A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08152728A (ja) * | 1994-11-29 | 1996-06-11 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JP2007072139A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Mitsubishi Chemicals Corp | 電子写真感光体 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3069449B2 (ja) * | 1992-09-18 | 2000-07-24 | 新電元工業株式会社 | 電子写真用感光体 |
US5925486A (en) * | 1997-12-11 | 1999-07-20 | Lexmark International, Inc. | Imaging members with improved wear characteristics |
KR100677553B1 (ko) * | 2005-01-13 | 2007-02-02 | 삼성전자주식회사 | 전자사진 감광체 및 이를 채용한 전자사진 화상형성장치 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS63271455A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-09 | Mita Ind Co Ltd | 有機感光体 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5542380A (en) * | 1978-09-20 | 1980-03-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of magnetic head |
JPS617840A (ja) * | 1984-06-21 | 1986-01-14 | Minolta Camera Co Ltd | 感光体 |
JPS6123154A (ja) * | 1984-07-11 | 1986-01-31 | Takasago Corp | 電子写真感光体 |
JPS6230255A (ja) * | 1985-07-31 | 1987-02-09 | Minolta Camera Co Ltd | 電子写真感光体 |
JPH0721646B2 (ja) * | 1986-06-05 | 1995-03-08 | 高砂香料工業株式会社 | 電子写真感光体 |
-
1988
- 1988-12-26 JP JP63328697A patent/JPH02173653A/ja active Pending
-
1989
- 1989-12-15 US US07/451,244 patent/US5061584A/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
US5061584A (en) | 1991-10-29 |
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