JPS63271455A - 有機感光体 - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
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- G03G5/0517—Organic non-macromolecular compounds comprising one or more cyclic groups consisting of carbon-atoms only
-
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- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0624—Heterocyclic compounds containing one hetero ring
- G03G5/0627—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered
- G03G5/0629—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered containing one hetero atom
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、有機感光体に関し、より詳しくは、電子写真
用感光体として好適な有機感光体に関する。
用感光体として好適な有機感光体に関する。
〈従来の技術と発明が解決しようとする問題点〉近年、
電子写真用感光体として、加工性がよく製造コストの面
で有利であると共に、機能設計の自由度が大きな有機感
光体が使用されている。なかでも、光照射により電荷を
発生させる電荷発生材料と、発生した電荷を輸送する電
荷輸送材料とにより、各機能を分離して高感度化等を図
るため、機能分離型の有機感光体が知られている。また
、上記電荷輸送材料としてヒドラゾン系化合物を含有す
る感光体が知られている(特開昭0l−2707(i4
号公報および特開昭01−2707[i8号公報参照)
。
電子写真用感光体として、加工性がよく製造コストの面
で有利であると共に、機能設計の自由度が大きな有機感
光体が使用されている。なかでも、光照射により電荷を
発生させる電荷発生材料と、発生した電荷を輸送する電
荷輸送材料とにより、各機能を分離して高感度化等を図
るため、機能分離型の有機感光体が知られている。また
、上記電荷輸送材料としてヒドラゾン系化合物を含有す
る感光体が知られている(特開昭0l−2707(i4
号公報および特開昭01−2707[i8号公報参照)
。
しかしながら、上記ヒドラゾン系化合物は、太陽光や白
色螢光灯等の光、特に、約430no+以下の短波長光
あるいは熱に対して安定でなく、光照射等により上記ヒ
ドラゾン系化合物が異性化したり三量化するため、メイ
ンテナンス時等において、前記ヒドラゾン系化合物を含
有する感光体に光が当ると、感光体の感度が低下すると
共に、感光体の表面電位および残留電位が高\なり、複
写画像部にカブリが生じ、画、作品質が悪くな)という
問題がある。
色螢光灯等の光、特に、約430no+以下の短波長光
あるいは熱に対して安定でなく、光照射等により上記ヒ
ドラゾン系化合物が異性化したり三量化するため、メイ
ンテナンス時等において、前記ヒドラゾン系化合物を含
有する感光体に光が当ると、感光体の感度が低下すると
共に、感光体の表面電位および残留電位が高\なり、複
写画像部にカブリが生じ、画、作品質が悪くな)という
問題がある。
〈発明の目的〉
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、ヒド
ラゾン系化合物を含有するにも拘らず、光や熱等に対し
て安定で、光が当っても感度等が低下することなく、画
像品質に優れた有機感光体を提供することを目的とする
。
ラゾン系化合物を含有するにも拘らず、光や熱等に対し
て安定で、光が当っても感度等が低下することなく、画
像品質に優れた有機感光体を提供することを目的とする
。
く問題点を解決するための手段および作用〉上記目的を
達成するため、本発明の有機感光体は、電荷輸送材料と
してヒドラゾン系化合物を含有する感光層を有する感光
体において、上記感光層が、アルキルフェノール系酸化
防止剤を含有することを特徴とするものである。
達成するため、本発明の有機感光体は、電荷輸送材料と
してヒドラゾン系化合物を含有する感光層を有する感光
体において、上記感光層が、アルキルフェノール系酸化
防止剤を含有することを特徴とするものである。
上記構成の有機感光体によれば、ヒドラゾン系化合物を
用いているにも拘らず、感光層がアルキルフェノール系
酸化防止剤を含有しているので、光照射等によっても上
記ヒドラゾン系化合物が酸化されず、ヒドラゾン系化合
物ひいては感光体が安定化するものと思われる。
用いているにも拘らず、感光層がアルキルフェノール系
酸化防止剤を含有しているので、光照射等によっても上
記ヒドラゾン系化合物が酸化されず、ヒドラゾン系化合
物ひいては感光体が安定化するものと思われる。
以下に、本発明の詳細な説明する。
上記ヒドラゾン系化合物としては、種々のもの、例えば
、ジエチルアミノベンズアルデヒド N。
、ジエチルアミノベンズアルデヒド N。
N−ジフェニルヒドラゾン、N、N−ジフェニルアミノ
ベンズアルデヒド N、N−ジフェニルヒドラゾン等、
従来公知のものが使用できるが、上記アルキルフェノー
ル系酸化防止剤との組合せにおいて、感光体の感度、表
面電位を高めると共に、残留電位の小さい感光体を得る
ため、下記一般式(1)で表されるヒドラゾン系化合物
と組合せて使用するのが好ましい。
ベンズアルデヒド N、N−ジフェニルヒドラゾン等、
従来公知のものが使用できるが、上記アルキルフェノー
ル系酸化防止剤との組合せにおいて、感光体の感度、表
面電位を高めると共に、残留電位の小さい感光体を得る
ため、下記一般式(1)で表されるヒドラゾン系化合物
と組合せて使用するのが好ましい。
Ω1
(式中、R1は水素原子または低級アルキル基を示す)
上記一般式(1)における低級アルキル基としては、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tart−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の
炭素数1〜6のアルキル基が例示される。
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tart−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の
炭素数1〜6のアルキル基が例示される。
上記一般式(1)で表されるヒドラゾン系化合物として
は、3−カルバゾリルアルデヒド N、N−ジフェニル
ヒドラゾン、N−メチル−3−カルバゾリルアルデヒド
N、N−ジフェニルヒドラゾン、N−エチル−3−カ
ルバゾリルアルデヒドN、N−ジフェニルヒドラゾン、
N−プロピル−3−カルバゾリルアルデヒド N、N−
ジフェニルヒドラゾン、N−イソプロピル−3−カルバ
ゾリルアルデヒド N、N−ジフェニルヒドラゾン、N
−ブチル−3−カルバゾリルアルデヒド N。
は、3−カルバゾリルアルデヒド N、N−ジフェニル
ヒドラゾン、N−メチル−3−カルバゾリルアルデヒド
N、N−ジフェニルヒドラゾン、N−エチル−3−カ
ルバゾリルアルデヒドN、N−ジフェニルヒドラゾン、
N−プロピル−3−カルバゾリルアルデヒド N、N−
ジフェニルヒドラゾン、N−イソプロピル−3−カルバ
ゾリルアルデヒド N、N−ジフェニルヒドラゾン、N
−ブチル−3−カルバゾリルアルデヒド N。
N−ジフェニルヒドラゾン、N−イソブチル−3−カル
バゾリルアルデヒド N、N−ジフェニルヒドラゾン、
N−1ert−ブチル−3−カルバゾリルアルデヒド
N、N−ジフェニルヒドラゾン、N−ペンチルー3−カ
ルバゾリルアルデヒド N。
バゾリルアルデヒド N、N−ジフェニルヒドラゾン、
N−1ert−ブチル−3−カルバゾリルアルデヒド
N、N−ジフェニルヒドラゾン、N−ペンチルー3−カ
ルバゾリルアルデヒド N。
N−ジフェニルヒドラゾン、N−へキシル−3−力ルバ
ゾリルアルデヒド N、N−ジフェニルヒドラゾンが例
示される。上記ヒドラゾン系化合物のうち、炭素数1〜
3のアルキル基を有するもの、特に、N−メチル−3−
カルバゾリルアルデヒドN、N−ジフェニルヒドラゾン
が好ましい。上記ヒドラゾン系化合物は一種または二種
以上混合して用いられる。
ゾリルアルデヒド N、N−ジフェニルヒドラゾンが例
示される。上記ヒドラゾン系化合物のうち、炭素数1〜
3のアルキル基を有するもの、特に、N−メチル−3−
カルバゾリルアルデヒドN、N−ジフェニルヒドラゾン
が好ましい。上記ヒドラゾン系化合物は一種または二種
以上混合して用いられる。
また、感光体の安定化を図ると共に繰返し特性を高める
ため、感光層は、上記ヒドラゾン系化合物と共に、酸化
防止剤を含有している。上記酸化防止剤としては、2.
4−ジメチル−6−tert −ブチルフェノール、2
,6−シーtert−ブチルフェノール、3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシトルエン、2.2−
−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフ
ェノール)、2゜2′−メチレンビス(4−エチル−6
−tert−ブチルフェノール)、4.4−−メチレン
ビス(2゜6−シーtert−ブチルフェノール)、4
.4”−ビス(2,6−シーtert−ブチルフェノー
ル)、4.4゛−メチレンビス(6−teri−ブチル
−O−クレゾール) 、1.3.5−1リメチル−2゜
4.6−4リス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)ベンゼン、4.4−−ブチリデン
ビス(6−tort−ブチル−m−クレゾール)等のア
ルキルフェノール系酸化防止剤が例示される。上記酸化
防止剤のうち、特に、3.5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシトルエンが好ましい。上記酸化防止剤は
、一種または二種以上混合して使用される。
ため、感光層は、上記ヒドラゾン系化合物と共に、酸化
防止剤を含有している。上記酸化防止剤としては、2.
4−ジメチル−6−tert −ブチルフェノール、2
,6−シーtert−ブチルフェノール、3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシトルエン、2.2−
−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフ
ェノール)、2゜2′−メチレンビス(4−エチル−6
−tert−ブチルフェノール)、4.4−−メチレン
ビス(2゜6−シーtert−ブチルフェノール)、4
.4”−ビス(2,6−シーtert−ブチルフェノー
ル)、4.4゛−メチレンビス(6−teri−ブチル
−O−クレゾール) 、1.3.5−1リメチル−2゜
4.6−4リス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)ベンゼン、4.4−−ブチリデン
ビス(6−tort−ブチル−m−クレゾール)等のア
ルキルフェノール系酸化防止剤が例示される。上記酸化
防止剤のうち、特に、3.5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシトルエンが好ましい。上記酸化防止剤は
、一種または二種以上混合して使用される。
上記酸化防止剤は、適宜量使用することができるが、前
記ヒドラゾン系化合物100重量部に対して、1〜10
0重量部、特に5〜50ffi量部使用するのが好まし
い。上記酸化防止剤が1重量部未満であると感光体の安
定化等を図ることが困難であり、100重量部を越える
と感度が低下する。
記ヒドラゾン系化合物100重量部に対して、1〜10
0重量部、特に5〜50ffi量部使用するのが好まし
い。上記酸化防止剤が1重量部未満であると感光体の安
定化等を図ることが困難であり、100重量部を越える
と感度が低下する。
なお、酸化防止剤としては、N−フェニルナフチルアミ
ン等のアミン系等、種々のものが知られているが、この
ような酸化防止剤と前記ヒドラゾン系化合物とを組合せ
て使用しても、感光体の光劣化等を十分に防止すること
ができない。
ン等のアミン系等、種々のものが知られているが、この
ような酸化防止剤と前記ヒドラゾン系化合物とを組合せ
て使用しても、感光体の光劣化等を十分に防止すること
ができない。
なお、感光体の光劣化等をより一層防止するため、前記
感光層は、フルオレン系化合物を含有していてもよい。
感光層は、フルオレン系化合物を含有していてもよい。
上記フルオレン系化合物としては、種々のものが使用し
えるが、下記一般式(2)および(3)で表されるもの
が好ましい。
えるが、下記一般式(2)および(3)で表されるもの
が好ましい。
(式中、R2、R3、R4、R5、R6およびR7は、
それぞれ同一または異なって、水素原子または低級アル
キル基を示す) (式中、R2およびR3は上記に同じ。R8およびR9
は、それぞれ同一または異なって、水素原子または低級
アルキル基を示す) 上記低級アルキル基としては、前記一般式(1)の低級
アルキル基が例示される。
それぞれ同一または異なって、水素原子または低級アル
キル基を示す) (式中、R2およびR3は上記に同じ。R8およびR9
は、それぞれ同一または異なって、水素原子または低級
アルキル基を示す) 上記低級アルキル基としては、前記一般式(1)の低級
アルキル基が例示される。
上記一般式■の化合物のうち、好ましいものとしては、
9− (N、N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、
9−[N−(4−メチルフェニル)−N−フェニルヒド
ラジノコフルオレン、9−[N、N−ジ(4−メチルフ
ェニル)ヒドラジノコフルオレン、9−[N、N−ジ(
4−エチルフェニル)ヒドラジノコフルオレン、9−
[N−(4−メチルフェニル) −N−(4−エチルフ
ェニル)ヒドラジノコフルオレン、9− [N、N−ジ
(4−ブロビルフエニル)ヒドラジノコフルオレン、9
−[N、N−ジ(4−イソプロピルフェニル)ヒドラジ
ノコフルオレン、9−[N、N−ジ(4−ブチルフェニ
ル)ヒドラジノコフルオレン、9− [N、N−ジ(4
−ペンチルフェニル)ヒドラジノコフルオレン、9−[
N、N−ジ(4−へキシルフェニル)ヒドラジノコフル
オレン、9−[N、N−ジ(3−メチルフェニル)ヒド
ラジノコフルオレン、9− [N、N−ジ(3−エチル
フェニル)ヒドラジノコフルオレン、9− [N−(3
−メチルフェニル)−N−(4−メチルフェニル)ヒド
ラジノコフルオレン、9− [N−(3−エチルフェニ
ル) −N−(4−エチルフェニル)ヒドラジノコフル
オレン、9−[N、N−ジ(4,4−メチルフェニル)
ヒドラジノ]−3,6−シメチルフルオレン、9− [
N、N−ジ(4−メチルフェニル)ヒドラジノ]−3,
6−ジニチルフルオレン、9−[N、N−ジ(4−エチ
ルフェニル)ヒドラジノ]−3,6−シメチルフルオレ
ン、9−[N、N−ジ(4−エチルフェニル)ヒドラジ
ノ]−3,6−ジニチルフルオレン等が例示される。
9− (N、N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、
9−[N−(4−メチルフェニル)−N−フェニルヒド
ラジノコフルオレン、9−[N、N−ジ(4−メチルフ
ェニル)ヒドラジノコフルオレン、9−[N、N−ジ(
4−エチルフェニル)ヒドラジノコフルオレン、9−
[N−(4−メチルフェニル) −N−(4−エチルフ
ェニル)ヒドラジノコフルオレン、9− [N、N−ジ
(4−ブロビルフエニル)ヒドラジノコフルオレン、9
−[N、N−ジ(4−イソプロピルフェニル)ヒドラジ
ノコフルオレン、9−[N、N−ジ(4−ブチルフェニ
ル)ヒドラジノコフルオレン、9− [N、N−ジ(4
−ペンチルフェニル)ヒドラジノコフルオレン、9−[
N、N−ジ(4−へキシルフェニル)ヒドラジノコフル
オレン、9−[N、N−ジ(3−メチルフェニル)ヒド
ラジノコフルオレン、9− [N、N−ジ(3−エチル
フェニル)ヒドラジノコフルオレン、9− [N−(3
−メチルフェニル)−N−(4−メチルフェニル)ヒド
ラジノコフルオレン、9− [N−(3−エチルフェニ
ル) −N−(4−エチルフェニル)ヒドラジノコフル
オレン、9−[N、N−ジ(4,4−メチルフェニル)
ヒドラジノ]−3,6−シメチルフルオレン、9− [
N、N−ジ(4−メチルフェニル)ヒドラジノ]−3,
6−ジニチルフルオレン、9−[N、N−ジ(4−エチ
ルフェニル)ヒドラジノ]−3,6−シメチルフルオレ
ン、9−[N、N−ジ(4−エチルフェニル)ヒドラジ
ノ]−3,6−ジニチルフルオレン等が例示される。
また、上記一般式(3)で表される化合物のうち、好ま
しいものとしては、9−カルバゾリルイミノフルオレン
、9−(3−メチルカルバゾリルイミノ)フルオレン、
9− (3,6−シメチルカルバゾリルイミノ)フルオ
レン、9− (3,6−シエチルカルバゾリルイミノ)
フルオレン、9−(3−エチル−6−メチルカルバゾリ
ルイミノ)フルオレン、9− (3,6−ジプロピルカ
ルバゾリルイミノ)フルオレン、9− (3,6−ジイ
ツブロピルカルバゾリルイミノ)フルオレン、9− (
3゜6−シブチルカルバゾリルイミノ)フルオレン、9
− (3,6−ジイツブチルカルバゾリルイミノ)フル
オレン、9− (3,6−シーtert−ブチルカルバ
ゾリルイミノ)フルオレン、9− (3,6−ジペンチ
ルカルバゾリルイミノ)フルオレン、9−(3,6−ジ
ヘキシルカルバゾリルイミノ)フルオレン、9− (3
,6−シメチルカルバゾリルイミノ)−3−メチルフル
オレン、9− (3,6−シメチルカルバゾリルイミノ
)−3,6−シメチルフルオレン、9− (3,6−シ
メチルカルバゾリルイミノ)−3,6−ジニチルフルオ
レン、9−(3−メチルカルバゾリルイミノ)−3−二
チルフルオレン等が例示される。
しいものとしては、9−カルバゾリルイミノフルオレン
、9−(3−メチルカルバゾリルイミノ)フルオレン、
9− (3,6−シメチルカルバゾリルイミノ)フルオ
レン、9− (3,6−シエチルカルバゾリルイミノ)
フルオレン、9−(3−エチル−6−メチルカルバゾリ
ルイミノ)フルオレン、9− (3,6−ジプロピルカ
ルバゾリルイミノ)フルオレン、9− (3,6−ジイ
ツブロピルカルバゾリルイミノ)フルオレン、9− (
3゜6−シブチルカルバゾリルイミノ)フルオレン、9
− (3,6−ジイツブチルカルバゾリルイミノ)フル
オレン、9− (3,6−シーtert−ブチルカルバ
ゾリルイミノ)フルオレン、9− (3,6−ジペンチ
ルカルバゾリルイミノ)フルオレン、9−(3,6−ジ
ヘキシルカルバゾリルイミノ)フルオレン、9− (3
,6−シメチルカルバゾリルイミノ)−3−メチルフル
オレン、9− (3,6−シメチルカルバゾリルイミノ
)−3,6−シメチルフルオレン、9− (3,6−シ
メチルカルバゾリルイミノ)−3,6−ジニチルフルオ
レン、9−(3−メチルカルバゾリルイミノ)−3−二
チルフルオレン等が例示される。
上記一般式(2)および(3)の化合物のうち、特に9
− (N、N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9
−カルバゾリルイミノフルオレンが好ましい。
− (N、N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9
−カルバゾリルイミノフルオレンが好ましい。
上記フルオレン系化合物は一種または二種以上混合して
用いられる。
用いられる。
また、上記フルオレン系化合物は、感光体の特性等に応
じて適宜量使用することができるが、前記ヒドラゾン系
化合物100重量部に対して、1〜100重量部、好ま
しくは5〜50重量部、さらに好ましくは10〜30m
m部使用する。フルオレン系化合物の量が1ffiff
i部未満であると、感光体の光安定性等が十分でなく、
100重量部を越えると、光安定性は高まるものの感光
体の感度等が十分でなくなる。
じて適宜量使用することができるが、前記ヒドラゾン系
化合物100重量部に対して、1〜100重量部、好ま
しくは5〜50重量部、さらに好ましくは10〜30m
m部使用する。フルオレン系化合物の量が1ffiff
i部未満であると、感光体の光安定性等が十分でなく、
100重量部を越えると、光安定性は高まるものの感光
体の感度等が十分でなくなる。
なお、上記一般式(2)および(3)のフルオレン系化
合物は、種々のヒドラゾン系化合物の安定化および感光
体の感度等を高めることができるが、前記一般式(1)
のヒドラゾン系化合物と組合せた場合、特に効果的であ
る。
合物は、種々のヒドラゾン系化合物の安定化および感光
体の感度等を高めることができるが、前記一般式(1)
のヒドラゾン系化合物と組合せた場合、特に効果的であ
る。
また、上記酸化防止剤と共に、紫外線吸収剤を併用する
と、紫外線等の短波長光を吸収でき、前記ヒドラゾン系
化合物の光安定化を図ることができると共に、感光体の
感度等をさらに高めることができる。
と、紫外線等の短波長光を吸収でき、前記ヒドラゾン系
化合物の光安定化を図ることができると共に、感光体の
感度等をさらに高めることができる。
上記紫外線吸収剤としては、2−ヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフェノン等の種々のものが使用し得るが、ベ
ンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましい。上記ベン
ゾトリアゾール系紫外線吸収剤のうち好ましいものとし
ては、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2− (2−ヒドロキシ−5−エチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキ
シ−5−プロピルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−5−イソプロピルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2− (2−ヒドロキシ−5−ブチルフ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−
5−イソブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−5−1θrt−ブチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−ペンチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキ
シ−5−ヘキシルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2− (2−ヒドロキシ−3゜5−ジエ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロ
キシ−3−メチル−5−エチルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2− (2−ヒドロキシ−3,5−ジプロピル
フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ
−3,5−ジブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
− (2−ヒドロキシ−3,5−ジイソブチルフェニル
)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3゜5
−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
、2−(2−ヒドロキシ−3−tort−プチル−5−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2− (2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2
− (2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2 (2−ヒドロキ
シ−3−メチル−5−tert−ブチルフェニル)−5
−クロロベンゾトリアゾール、2− (2−ヒドロキシ
−3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロ
ロベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3−t
ert−ブチル−5−メチルフェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール等が例示される。上記紫外線吸収剤は
一種または二種以上混合して用いられる。
キシベンゾフェノン等の種々のものが使用し得るが、ベ
ンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましい。上記ベン
ゾトリアゾール系紫外線吸収剤のうち好ましいものとし
ては、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2− (2−ヒドロキシ−5−エチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキ
シ−5−プロピルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−5−イソプロピルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2− (2−ヒドロキシ−5−ブチルフ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−
5−イソブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−5−1θrt−ブチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−ペンチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキ
シ−5−ヘキシルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2− (2−ヒドロキシ−3゜5−ジエ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロ
キシ−3−メチル−5−エチルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2− (2−ヒドロキシ−3,5−ジプロピル
フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ
−3,5−ジブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
− (2−ヒドロキシ−3,5−ジイソブチルフェニル
)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3゜5
−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
、2−(2−ヒドロキシ−3−tort−プチル−5−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2− (2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2
− (2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2 (2−ヒドロキ
シ−3−メチル−5−tert−ブチルフェニル)−5
−クロロベンゾトリアゾール、2− (2−ヒドロキシ
−3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロ
ロベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3−t
ert−ブチル−5−メチルフェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール等が例示される。上記紫外線吸収剤は
一種または二種以上混合して用いられる。
また、上記紫外線吸収剤は、感光体の特性、ヒドラゾン
系化合物の光安定化等に応じて適宜量使用されるが、前
記ヒドラゾン系化合物100重量部に対して、20〜7
5重量部、特に30〜70重量部使用するのが好ましい
。紫外線吸収剤の量が20重量部未満であると光安定化
等の効果が顕著に現れず、75重量部を越えると紫外線
吸収剤が再結晶化し、感光体の特性が低下する。
系化合物の光安定化等に応じて適宜量使用されるが、前
記ヒドラゾン系化合物100重量部に対して、20〜7
5重量部、特に30〜70重量部使用するのが好ましい
。紫外線吸収剤の量が20重量部未満であると光安定化
等の効果が顕著に現れず、75重量部を越えると紫外線
吸収剤が再結晶化し、感光体の特性が低下する。
また、感光体の光劣化を防止し、光による電気的特性の
変化をなくすため、上記感光層は、さらにハロゲン化キ
ノン類を含有するのが好ましい。
変化をなくすため、上記感光層は、さらにハロゲン化キ
ノン類を含有するのが好ましい。
上記ハロゲン化キノン類のキノン類としては、ベンゾキ
ノン、1,2−ナフトキノン、1,4−ナフトキノン、
アントラキノン等が例示される。ハロゲン化キノン類と
しては、種々のものが使用し得るが、ハロゲン化ベンゾ
キノンおよびハロゲン化ナフトキノンが好ましい。上記
ハロゲン化ベンゾキノンのうち好ましいものとしては、
2−クロロ−1,4−ベンゾキノン、2.5−ジクロロ
−1,4−ベンゾキノン、2,6−ジクロロ−1゜4−
ベンゾキノン、2.5−ジフルオロ−1,4−ペンゾキ
ノン、2,6−ジフルオロ−1,4−ベンゾキノン、2
.5−ジブロモ−1,4−ベンゾキノン、2.6−ジプ
ロモー1,4−ベンゾキノン、2−クロロ−5−ブロモ
−1,4−ベンゾキノン、2,5−ショート−1,4−
ベンゾキノン、2.6−ジヨードー1.4−ベンゾキノ
ン等が例示される。
ノン、1,2−ナフトキノン、1,4−ナフトキノン、
アントラキノン等が例示される。ハロゲン化キノン類と
しては、種々のものが使用し得るが、ハロゲン化ベンゾ
キノンおよびハロゲン化ナフトキノンが好ましい。上記
ハロゲン化ベンゾキノンのうち好ましいものとしては、
2−クロロ−1,4−ベンゾキノン、2.5−ジクロロ
−1,4−ベンゾキノン、2,6−ジクロロ−1゜4−
ベンゾキノン、2.5−ジフルオロ−1,4−ペンゾキ
ノン、2,6−ジフルオロ−1,4−ベンゾキノン、2
.5−ジブロモ−1,4−ベンゾキノン、2.6−ジプ
ロモー1,4−ベンゾキノン、2−クロロ−5−ブロモ
−1,4−ベンゾキノン、2,5−ショート−1,4−
ベンゾキノン、2.6−ジヨードー1.4−ベンゾキノ
ン等が例示される。
また、ハロゲン化ナフトキノンのうち好ましいものとし
ては、2−クロロ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジ
クロロ−1,4−ナフトキノン、2.5−ジクロロ−1
,4−ナフトキノン、2゜7−ジクロロ−1,4−ナフ
トキノン、2.3−ジフルオロ−1,4−ナフトキノン
、2,3−ジブロモ−1,4−ナフトキノン、2−クロ
ロ−3−ブロモ−1,4−ナフトキノン、2.3−ショ
ート−1,4−ナフトキノン等が例示される。上記ハロ
ゲン化ベンゾキノンおよびハロゲン化ナフトキノンのう
ち、特に2,5−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン、2
.6−ジクロロ−1,4−ベンゾキノンおよび2,3−
ジクロロ−1,4−ナフトキノンが好ましい。上記ハロ
ゲン化キノン類は一種または二種以上混合して用いられ
る。
ては、2−クロロ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジ
クロロ−1,4−ナフトキノン、2.5−ジクロロ−1
,4−ナフトキノン、2゜7−ジクロロ−1,4−ナフ
トキノン、2.3−ジフルオロ−1,4−ナフトキノン
、2,3−ジブロモ−1,4−ナフトキノン、2−クロ
ロ−3−ブロモ−1,4−ナフトキノン、2.3−ショ
ート−1,4−ナフトキノン等が例示される。上記ハロ
ゲン化ベンゾキノンおよびハロゲン化ナフトキノンのう
ち、特に2,5−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン、2
.6−ジクロロ−1,4−ベンゾキノンおよび2,3−
ジクロロ−1,4−ナフトキノンが好ましい。上記ハロ
ゲン化キノン類は一種または二種以上混合して用いられ
る。
また、ハロゲン化キノン類は、適宜m使用し得るが、前
記ヒドラゾン系化合物100重量部に対して、5〜50
重量部、特に、10〜40重量部使用するのが好ましい
。使用量が5mm部未満であると感光体の光劣化を十分
に防止することができず、50重量部を越えると感度が
低下する。
記ヒドラゾン系化合物100重量部に対して、5〜50
重量部、特に、10〜40重量部使用するのが好ましい
。使用量が5mm部未満であると感光体の光劣化を十分
に防止することができず、50重量部を越えると感度が
低下する。
なお、上記のヒドラゾン系化合物などは、感光特性等を
阻害しない範囲で、他の電荷輸送材料等と併用してもよ
い。上記他の電荷輸送材料としては、例えば、テトラシ
アノエチレン、2,4.7−ドリニトロー9−フルオレ
ノン等のフルオレノン系化合物、2,4.8−)リニト
ロチオキサントン、ジニトロアントラセン等のニトロ化
化合物、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水
マレイン酸、2.5−ジ(4−ジメチルアミノフェニル
) −1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾ
ール系化合物、9− (4−ジエチルアミノスチリル)
アントラセン等のスチリル系化合物、ポリビニルカルバ
ゾール等のカルバゾール系化合物、1−フェニル−3−
(p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾ
リン系化合物、インドール系化合物、オキサゾール系化
合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物
、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピ
ラゾール系化合物、トリアゾール系化合物等の含窒素環
式化合物、縮合多環族化合物等が例示される。
阻害しない範囲で、他の電荷輸送材料等と併用してもよ
い。上記他の電荷輸送材料としては、例えば、テトラシ
アノエチレン、2,4.7−ドリニトロー9−フルオレ
ノン等のフルオレノン系化合物、2,4.8−)リニト
ロチオキサントン、ジニトロアントラセン等のニトロ化
化合物、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水
マレイン酸、2.5−ジ(4−ジメチルアミノフェニル
) −1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾ
ール系化合物、9− (4−ジエチルアミノスチリル)
アントラセン等のスチリル系化合物、ポリビニルカルバ
ゾール等のカルバゾール系化合物、1−フェニル−3−
(p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾ
リン系化合物、インドール系化合物、オキサゾール系化
合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物
、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピ
ラゾール系化合物、トリアゾール系化合物等の含窒素環
式化合物、縮合多環族化合物等が例示される。
また、光照射による電荷の発生と発生した電荷の輸送と
に機能を分離して感光層の感度などを高めるため、上記
ヒドラゾン系化合物等は、電荷発生材料および結着樹脂
と共に使用され、導電性支持基板上に、上記電荷発生材
料とヒドラゾン系化合物等の電荷輸送材料とが結着樹脂
中に分散された単層型の感光層が形成された感光体や、
導電性支持基板上に、上記電荷発生材料を含有する電荷
発生層と前記ヒドラゾン系化合物等の電荷輸送材料を含
有する電荷輸送層とが積層された複層型の感光層を有す
る感光体が構成される。
に機能を分離して感光層の感度などを高めるため、上記
ヒドラゾン系化合物等は、電荷発生材料および結着樹脂
と共に使用され、導電性支持基板上に、上記電荷発生材
料とヒドラゾン系化合物等の電荷輸送材料とが結着樹脂
中に分散された単層型の感光層が形成された感光体や、
導電性支持基板上に、上記電荷発生材料を含有する電荷
発生層と前記ヒドラゾン系化合物等の電荷輸送材料を含
有する電荷輸送層とが積層された複層型の感光層を有す
る感光体が構成される。
上記電荷発生材料としては、例えば、セレン、セレン−
テルル、アモルファスシリコン、ピリリウム塩、アゾ系
顔料、ジスアゾ系顔料、アンサンスロン系顔料、フタロ
シアニン系顔料、インジゴ系顔料、トリフェニルメタン
系顔料、スレン系顔料、トルイジン系顔料、ピラゾリン
系顔料、キナクリドン系顔料等、種々のものが使用し得
るが、感度に優れ、表面電位が高く、しかも残留電位が
低い感光体を得るため、ペリレン系化合物、特に下記一
般式(4)で表されるペリレン系化合物と組合せて使用
するのが好ましい。
テルル、アモルファスシリコン、ピリリウム塩、アゾ系
顔料、ジスアゾ系顔料、アンサンスロン系顔料、フタロ
シアニン系顔料、インジゴ系顔料、トリフェニルメタン
系顔料、スレン系顔料、トルイジン系顔料、ピラゾリン
系顔料、キナクリドン系顔料等、種々のものが使用し得
るが、感度に優れ、表面電位が高く、しかも残留電位が
低い感光体を得るため、ペリレン系化合物、特に下記一
般式(4)で表されるペリレン系化合物と組合せて使用
するのが好ましい。
(式中、RIG、R11%R12およびRI3は、それ
ぞれ同一または異なって、低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基を示す) 上記低級アルキル基としては、前記一般式(1)と同様
の低級アルキル基が例示される。また、上記一般式(4
)における低級アルコキシ基としては、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、インブ
トキシ、tart−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基が例示され
る。
ぞれ同一または異なって、低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基を示す) 上記低級アルキル基としては、前記一般式(1)と同様
の低級アルキル基が例示される。また、上記一般式(4
)における低級アルコキシ基としては、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、インブ
トキシ、tart−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基が例示され
る。
上記一般式(1)で表されるペリレン系化合物としては
、N、N−−ジ(3,5−ジメチルフェニル)ペリレン
−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N、
N−−ジ(3−メチル−5−エチルフェニル)ペリレン
−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N、
N”−ジ(3,5−ジエチルフェニル)ペリレン−3,
4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N、N−−
ジ(3,5−ジプロピルフェニル)ペリレン−3,4,
9,lG−テトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ(
3゜5−ジイソプロピルフェニル)ペリレン−3,4゜
9.10−テトラカルボキシジイミド、N、N−一ジ(
3,5−ジブチルフェニル)ペリレン−3゜4、 9.
10−テトラカルボキシジイミド、NIN′−ジ(3,
5−ジ−tert−ブチルフェニル)ペリレン−3,4
,9,10−テトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ
(3,5−ジエチルフェニル)ペリレン−3,4,9,
lローテトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ(3,
5−ジェキシフェニル)ペリレン−3,4,9,10−
テトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ(3−メチル
−5−メトキシフェニル)ペリレン−3,4,9゜10
−テトラカルボキシジイミド、N、N’−ジ(3−メチ
ル−5−エトキシフェニル)ペリレン−3,4,9,t
o−テトラカルボキシジイミド、N、N″−ジ(3−エ
チル−5−メトキシフェニル)ペリレン−3,4,9,
10−テトラカルボキシジイミド、N、N”−ジ(3−
プロピル−5−メトキシフェニル)ペリレン−3,4,
9,10−テトラカルボキシジイミド、N、N″−ジ(
3゜5−ジメトキシフェニル)ペリレン−3,4,9゜
lO−テトラカルボキシジイミド、N、N”−ジ(3,
5−ジェトキシフェニル)ペリレン−3゜4、 9.
to−テトラカルボキシジイミド、NIN′−ジ(3,
5−ジプロポキシフェニル)ペリレン−3,4,9,1
0−テトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ(3,5
−ジイソプロポキシフェニル)ペリレン−3,4,9,
10−テトラカルボキシジイミド、N、N”−ジ(3,
5−ジブトキシフェニル)ペリレン−3,4,9,to
−テトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ(3,5−
ジベンチルオキシフェニル)ペリレン−3,4゜9、I
O−テトラカルボキシジイミド、N、N”−ジ(3,5
−ジヘキシルオキシフェニル)ペリレン−3,4,9,
10−テトラカルボキシジイミド等が例示される。、上
記ペリレン系化合物のうち、炭素数が1〜3のアルキル
基またはアルコキシ基を有するもの、特に、N、N−−
ジ(3,5−ジメチルフェニル)ペリレン−3,4,9
,10−テトラカルボキシジイミドが好ましい。なお、
上記電荷発生材料は一種または二種以上混合して用いら
れる。
、N、N−−ジ(3,5−ジメチルフェニル)ペリレン
−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N、
N−−ジ(3−メチル−5−エチルフェニル)ペリレン
−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N、
N”−ジ(3,5−ジエチルフェニル)ペリレン−3,
4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N、N−−
ジ(3,5−ジプロピルフェニル)ペリレン−3,4,
9,lG−テトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ(
3゜5−ジイソプロピルフェニル)ペリレン−3,4゜
9.10−テトラカルボキシジイミド、N、N−一ジ(
3,5−ジブチルフェニル)ペリレン−3゜4、 9.
10−テトラカルボキシジイミド、NIN′−ジ(3,
5−ジ−tert−ブチルフェニル)ペリレン−3,4
,9,10−テトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ
(3,5−ジエチルフェニル)ペリレン−3,4,9,
lローテトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ(3,
5−ジェキシフェニル)ペリレン−3,4,9,10−
テトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ(3−メチル
−5−メトキシフェニル)ペリレン−3,4,9゜10
−テトラカルボキシジイミド、N、N’−ジ(3−メチ
ル−5−エトキシフェニル)ペリレン−3,4,9,t
o−テトラカルボキシジイミド、N、N″−ジ(3−エ
チル−5−メトキシフェニル)ペリレン−3,4,9,
10−テトラカルボキシジイミド、N、N”−ジ(3−
プロピル−5−メトキシフェニル)ペリレン−3,4,
9,10−テトラカルボキシジイミド、N、N″−ジ(
3゜5−ジメトキシフェニル)ペリレン−3,4,9゜
lO−テトラカルボキシジイミド、N、N”−ジ(3,
5−ジェトキシフェニル)ペリレン−3゜4、 9.
to−テトラカルボキシジイミド、NIN′−ジ(3,
5−ジプロポキシフェニル)ペリレン−3,4,9,1
0−テトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ(3,5
−ジイソプロポキシフェニル)ペリレン−3,4,9,
10−テトラカルボキシジイミド、N、N”−ジ(3,
5−ジブトキシフェニル)ペリレン−3,4,9,to
−テトラカルボキシジイミド、N、N−−ジ(3,5−
ジベンチルオキシフェニル)ペリレン−3,4゜9、I
O−テトラカルボキシジイミド、N、N”−ジ(3,5
−ジヘキシルオキシフェニル)ペリレン−3,4,9,
10−テトラカルボキシジイミド等が例示される。、上
記ペリレン系化合物のうち、炭素数が1〜3のアルキル
基またはアルコキシ基を有するもの、特に、N、N−−
ジ(3,5−ジメチルフェニル)ペリレン−3,4,9
,10−テトラカルボキシジイミドが好ましい。なお、
上記電荷発生材料は一種または二種以上混合して用いら
れる。
また、上記結着樹脂としては、種々のもの、例えば、ス
チレン系重合体、アクリル系重合体、スチレン−アクリ
ル系共重合体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、塩素化ポリエチレン、ボリブ′ロピレン、アイ
オノマー等のオレフィン系重合体、ポリ塩化ビニル、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アルキ
ッド樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート、ボリアリレート、ポリスルホン、ジ
アリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、
ポリビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂、フェノ
ール樹脂、キシリレン樹脂や、エポキシアクリレート等
の光硬化型樹脂等、各種の重合体が使用できるが、感光
体の感度を高め、上記ヒドラゾン系化合物等との相溶性
、感光体の耐摩耗性および繰返し特性に優れると共に結
着樹脂を溶解する溶剤の選択幅が広いポリ(4,4−−
シクロへキシリデンジフェニル)カーボネートが好まし
い。上記ポリ(4,4−−シクロへキシリデンジフェニ
ル)カーボネートを用いると、従来、溶液安定性等の点
から、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン等の塩素系
溶剤しか使用できなかったビスフェノールA型ポリカー
ボネートと異なり、テトラヒドロフラン、メチルエチル
ケトン等のケトン系等の溶剤も使用することができるの
で、安全衛生上も好ましく、取扱いが容易である。なお
、上記ポリ(4,4−−シクロへキシリデンジフェニル
)カーボネートとしては、種々のもの、例えば、重合度
50〜5000程度のものが使用し得る。また、上記結
着樹脂は一種または二種以上混合して用いられる。
チレン系重合体、アクリル系重合体、スチレン−アクリ
ル系共重合体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、塩素化ポリエチレン、ボリブ′ロピレン、アイ
オノマー等のオレフィン系重合体、ポリ塩化ビニル、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アルキ
ッド樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート、ボリアリレート、ポリスルホン、ジ
アリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、
ポリビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂、フェノ
ール樹脂、キシリレン樹脂や、エポキシアクリレート等
の光硬化型樹脂等、各種の重合体が使用できるが、感光
体の感度を高め、上記ヒドラゾン系化合物等との相溶性
、感光体の耐摩耗性および繰返し特性に優れると共に結
着樹脂を溶解する溶剤の選択幅が広いポリ(4,4−−
シクロへキシリデンジフェニル)カーボネートが好まし
い。上記ポリ(4,4−−シクロへキシリデンジフェニ
ル)カーボネートを用いると、従来、溶液安定性等の点
から、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン等の塩素系
溶剤しか使用できなかったビスフェノールA型ポリカー
ボネートと異なり、テトラヒドロフラン、メチルエチル
ケトン等のケトン系等の溶剤も使用することができるの
で、安全衛生上も好ましく、取扱いが容易である。なお
、上記ポリ(4,4−−シクロへキシリデンジフェニル
)カーボネートとしては、種々のもの、例えば、重合度
50〜5000程度のものが使用し得る。また、上記結
着樹脂は一種または二種以上混合して用いられる。
なお、上記結着樹脂のうち、キシリレン樹脂は、感光体
の光劣化を防止する上で有用であると共に、前記ポリカ
ーボネートとの相溶性に優れ、繰返し使用により感度、
表面電位および残留電位の変化が少ない。従って、前記
キシリレン樹脂は、ポリカーボネートと併用するのが好
ましい。上記キシリレン樹脂は、種々の割合で使用する
ことができるが、ポリカーボネート樹脂100重量部に
対して、10〜50重量部、特に20〜40重量部使用
するのが好ましい。キシリレン樹脂の使用量が10重量
部未満であると上記効果が十分でなく、50重量部を越
えると感光層の機械的強度が低下する。
の光劣化を防止する上で有用であると共に、前記ポリカ
ーボネートとの相溶性に優れ、繰返し使用により感度、
表面電位および残留電位の変化が少ない。従って、前記
キシリレン樹脂は、ポリカーボネートと併用するのが好
ましい。上記キシリレン樹脂は、種々の割合で使用する
ことができるが、ポリカーボネート樹脂100重量部に
対して、10〜50重量部、特に20〜40重量部使用
するのが好ましい。キシリレン樹脂の使用量が10重量
部未満であると上記効果が十分でなく、50重量部を越
えると感光層の機械的強度が低下する。
また、前記感光層は、ターフェニル、アセナフチレン等
、従来公知の増感剤を含有していてもよい。
、従来公知の増感剤を含有していてもよい。
また、前記一般式(1)のヒドラゾン系化合物、前記酸
化防止剤、一般式(4)のペリレン系化合物および結着
樹脂を組合せたものは、複層型感光体としても有用であ
るが、単層型感光体として特に優れた感光特性等を示す
。より詳細には、上記の単層型の感光体は、前記材料の
分散液を調製し、導電性基板に塗布し、乾燥させるだけ
で感光体を得ることができるため、生産性がよい。また
、上記単層型感光体にあっては、正帯電させることがで
きるだけでなく、感光体の静電潜像を現像するトナーと
して、一般に負帯電するものが得られ易いため、トナー
材料の選択幅が広く、種々のトナー材料を使用すること
ができるという利点がある。一方、上記単層型め感光体
にあっては、感度が十分でなく、感光層を構成する材料
を厳密に選択しなければならず、感光層の材料の選択幅
が狭い。また、上記単層型感光体は、コロナ帯電時の表
面電位が低く、しかも残留電位が大きいだけでなく、表
面電位が繰返し使用により低下するので、繰返 ゛し特
性が十分でなく、有機感光体として十分な特性を示さな
いという欠点がある。しかしながら、前記一般式(1)
のヒドラゾン系化合物、酸化防止剤および一般式(4)
のペリレン系化合物を組合せて単層型の感光層を構成す
ると、正帯電性に優れると共に、感度および表面電位が
高く、しかも残留電位が小さく、繰返し特性に優れた安
価な単層型有機感光体が得られる。
化防止剤、一般式(4)のペリレン系化合物および結着
樹脂を組合せたものは、複層型感光体としても有用であ
るが、単層型感光体として特に優れた感光特性等を示す
。より詳細には、上記の単層型の感光体は、前記材料の
分散液を調製し、導電性基板に塗布し、乾燥させるだけ
で感光体を得ることができるため、生産性がよい。また
、上記単層型感光体にあっては、正帯電させることがで
きるだけでなく、感光体の静電潜像を現像するトナーと
して、一般に負帯電するものが得られ易いため、トナー
材料の選択幅が広く、種々のトナー材料を使用すること
ができるという利点がある。一方、上記単層型め感光体
にあっては、感度が十分でなく、感光層を構成する材料
を厳密に選択しなければならず、感光層の材料の選択幅
が狭い。また、上記単層型感光体は、コロナ帯電時の表
面電位が低く、しかも残留電位が大きいだけでなく、表
面電位が繰返し使用により低下するので、繰返 ゛し特
性が十分でなく、有機感光体として十分な特性を示さな
いという欠点がある。しかしながら、前記一般式(1)
のヒドラゾン系化合物、酸化防止剤および一般式(4)
のペリレン系化合物を組合せて単層型の感光層を構成す
ると、正帯電性に優れると共に、感度および表面電位が
高く、しかも残留電位が小さく、繰返し特性に優れた安
価な単層型有機感光体が得られる。
前記ヒドラゾン系化合物と前記電荷発生材料と上記結着
樹脂とを用いて単層型感光層を形成する場合、上記材料
の使用割合は、所望する有機感光体の特性等に応じて、
適宜選択することができるが、結着樹脂100重量部に
対して、ヒドラゾン系化合物40〜110重量部、好ま
しくは、60〜90重量部、電荷発生材料2〜20重量
部、好ましくは、5〜10重量部使用される。ヒドラゾ
ン系化合物および電荷発生材料が上記使用量よりも少な
いと、感光体の感度が十分でないばかりか、残留電位が
大きくなる。また上記範囲を越えると感光体の耐摩耗性
等が十分でなくなる。
樹脂とを用いて単層型感光層を形成する場合、上記材料
の使用割合は、所望する有機感光体の特性等に応じて、
適宜選択することができるが、結着樹脂100重量部に
対して、ヒドラゾン系化合物40〜110重量部、好ま
しくは、60〜90重量部、電荷発生材料2〜20重量
部、好ましくは、5〜10重量部使用される。ヒドラゾ
ン系化合物および電荷発生材料が上記使用量よりも少な
いと、感光体の感度が十分でないばかりか、残留電位が
大きくなる。また上記範囲を越えると感光体の耐摩耗性
等が十分でなくなる。
なお、単層型感光層を有する感光体において、上記ペリ
レン系化合物を多量に使用すると、通常、正帯電性が十
分でなくなり、少量であると感度等が低下するが、上記
特定のペリレン系化合物と組合せることによりペリレン
系化合物の量が少量であっても感度および表面電位が高
く、しかも残留電位の小さな正帯電性に優れた有機感光
体を得ることができる。
レン系化合物を多量に使用すると、通常、正帯電性が十
分でなくなり、少量であると感度等が低下するが、上記
特定のペリレン系化合物と組合せることによりペリレン
系化合物の量が少量であっても感度および表面電位が高
く、しかも残留電位の小さな正帯電性に優れた有機感光
体を得ることができる。
なお、上記ペリレン系化合物は短波長側に分光感度を有
する場合がある。従って、青色領域の色再現性が必要と
される用途においては、種々の分光増感剤を使用するの
が好ましく、特に、フタロシアニン系化合物を使用する
のが好ましい。
する場合がある。従って、青色領域の色再現性が必要と
される用途においては、種々の分光増感剤を使用するの
が好ましく、特に、フタロシアニン系化合物を使用する
のが好ましい。
上記フタロシアニン系化合物としては、種々のものが使
用しえるが、メタルフリーフタロシアニンが好ましい。
用しえるが、メタルフリーフタロシアニンが好ましい。
上記メタルフリーフタロシアニンは、適宜の粒径を有し
ていてもよいが、平均粒径0.1771以下のものが好
ましい。メタルフリーフタロシアニンの平均粒径が0.
1μmを越えると感光体の感度が低下する。なお、上記
平均粒径は、光散乱法(装置名:ダイナミック光散乱光
度計)により求めたものである。
ていてもよいが、平均粒径0.1771以下のものが好
ましい。メタルフリーフタロシアニンの平均粒径が0.
1μmを越えると感光体の感度が低下する。なお、上記
平均粒径は、光散乱法(装置名:ダイナミック光散乱光
度計)により求めたものである。
また、メタルフリーフタロシアニンは適宜量使用するこ
とができるが、上記結着樹脂100重量部に対して0.
2〜1重量部添加するのが好ましい。添加量が0.2重
量部未満であると青色再現性が十分でなく、1重量部を
越えるとメタルフリーフタロシアニンが赤色領域に分光
感度を有するため、赤色再現性が十分でなくなる。
とができるが、上記結着樹脂100重量部に対して0.
2〜1重量部添加するのが好ましい。添加量が0.2重
量部未満であると青色再現性が十分でなく、1重量部を
越えるとメタルフリーフタロシアニンが赤色領域に分光
感度を有するため、赤色再現性が十分でなくなる。
なお、上記メタルフリーフタロシアニンのうち、β型メ
タルフリーフタロシアニン、特に、平均粒径0.005
〜0.05μmを有するものが好ましい。上記β型メタ
ルフリーフタロシアニンの平均粒径が0.005μ烏未
満であると分散性が十分でなく、0.05μ量を越える
と感光体の感度が低下する。
タルフリーフタロシアニン、特に、平均粒径0.005
〜0.05μmを有するものが好ましい。上記β型メタ
ルフリーフタロシアニンの平均粒径が0.005μ烏未
満であると分散性が十分でなく、0.05μ量を越える
と感光体の感度が低下する。
また、上記メタルフリーフタロシアニンを含有する感光
体の安定性を高めるため、上記メタルフリーフタロシア
ニンと共に、アルミニウムフタロシアニン、チタニルフ
タロシアニン等のフタロシアニン系顔料、特に銅フタロ
シアニンを併用するのが好ましい。また、銅フタロシア
ニンは、適宜量使用することができるが、上記メタルフ
リーフタロシアニンに対して1〜10重量%、特に3〜
10重量%使用するのが好ましい。銅フタロシアニンの
量が1重量%未満であると前記メタルフリーフタロシア
ニンを安定化するのに十分でなく、10重量%を越える
と表面電位が低下する。なお、上記銅フタロシアニンの
量が多くなるにつれてメタルフリーフタロシアニンの安
定化効果が高まると共に、感光体の残留電位も低下する
。
体の安定性を高めるため、上記メタルフリーフタロシア
ニンと共に、アルミニウムフタロシアニン、チタニルフ
タロシアニン等のフタロシアニン系顔料、特に銅フタロ
シアニンを併用するのが好ましい。また、銅フタロシア
ニンは、適宜量使用することができるが、上記メタルフ
リーフタロシアニンに対して1〜10重量%、特に3〜
10重量%使用するのが好ましい。銅フタロシアニンの
量が1重量%未満であると前記メタルフリーフタロシア
ニンを安定化するのに十分でなく、10重量%を越える
と表面電位が低下する。なお、上記銅フタロシアニンの
量が多くなるにつれてメタルフリーフタロシアニンの安
定化効果が高まると共に、感光体の残留電位も低下する
。
また、上記銅フタロシアニンは、前記β型メタルフリー
フタロシアニンと組合せて使用するのがより一層好まし
く、この場合、銅フタロシアニンとして平均粒径0.0
01μm以下のものを使用するのが好ましい。特に、銅
フタロシアニンの量を少なくして安定かつ残留電位の小
さな有機感光体を得るため、上記銅フタロシアニンをメ
タルフリーフタロシアニンと共に共沈させたものが好ま
しい。上記の共沈は、常法により行なうことができ、例
えば、銅フタロシアニンの製造時において銅フタロシア
ニンとメタルフリーフタロシアニンとの硫酸溶液を水中
等に滴下することにより行なうことができる。上記の共
沈により得られたフタロシアニンは、銅フタロシアニン
が微粒子となると共に、感光体の熱履歴による電気特性
の劣化が殆どなくなるだけでなく、残留電位が小さく色
再現性等に優れる感光体が得られる。なお、上記共沈法
によるフタロシアニンにおいては、少量にて青色再現性
を高めるため、銅フタロシアニンとしては平均粒径0.
001μ−以下のものが好ましい。
フタロシアニンと組合せて使用するのがより一層好まし
く、この場合、銅フタロシアニンとして平均粒径0.0
01μm以下のものを使用するのが好ましい。特に、銅
フタロシアニンの量を少なくして安定かつ残留電位の小
さな有機感光体を得るため、上記銅フタロシアニンをメ
タルフリーフタロシアニンと共に共沈させたものが好ま
しい。上記の共沈は、常法により行なうことができ、例
えば、銅フタロシアニンの製造時において銅フタロシア
ニンとメタルフリーフタロシアニンとの硫酸溶液を水中
等に滴下することにより行なうことができる。上記の共
沈により得られたフタロシアニンは、銅フタロシアニン
が微粒子となると共に、感光体の熱履歴による電気特性
の劣化が殆どなくなるだけでなく、残留電位が小さく色
再現性等に優れる感光体が得られる。なお、上記共沈法
によるフタロシアニンにおいては、少量にて青色再現性
を高めるため、銅フタロシアニンとしては平均粒径0.
001μ−以下のものが好ましい。
上記導電性基板は、シート状やドラム状のいずれであっ
てもよく、基板自体が導電性を有するか、基板の表面が
等電性を有し、使用に際し十分な機械的強度を有するも
のが好ましい。上記導電性基板としては、導電性を有す
る種々の材料が使用でき、例えば、アルミニウム、銅、
錫、白金、金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、
カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、インジウ
ム、ステンレス鋼、真鍮の金属単体や、上記金属が蒸着
またはラミネートされたプラスチック材料、ヨウ化アル
ミニウム、酸化錫、酸化インジウム等で被覆されたガラ
ス等が例示される。上記導電性基板のうち、アルミニウ
ムが好ましく、特に、アルミニウムの結晶粒が表面に存
在せず、腹写画像等において黒点やピンホール等が発生
するのを防止すると共に、上記ヒドラゾン系化合物等を
含有する感光層と基板との密着性をよくするため、アル
マイト処理されたアルミニウム、中でもアルマイト処理
層の膜厚が5〜12μ思であり、表面粗さが1.5S以
下のアルマイト処理されたアルミニウムが好ましい。
てもよく、基板自体が導電性を有するか、基板の表面が
等電性を有し、使用に際し十分な機械的強度を有するも
のが好ましい。上記導電性基板としては、導電性を有す
る種々の材料が使用でき、例えば、アルミニウム、銅、
錫、白金、金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、
カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、インジウ
ム、ステンレス鋼、真鍮の金属単体や、上記金属が蒸着
またはラミネートされたプラスチック材料、ヨウ化アル
ミニウム、酸化錫、酸化インジウム等で被覆されたガラ
ス等が例示される。上記導電性基板のうち、アルミニウ
ムが好ましく、特に、アルミニウムの結晶粒が表面に存
在せず、腹写画像等において黒点やピンホール等が発生
するのを防止すると共に、上記ヒドラゾン系化合物等を
含有する感光層と基板との密着性をよくするため、アル
マイト処理されたアルミニウム、中でもアルマイト処理
層の膜厚が5〜12μ思であり、表面粗さが1.5S以
下のアルマイト処理されたアルミニウムが好ましい。
上記のヒドラゾン系化合物、酸化防止剤、電荷発生材料
および結着樹脂等を用いて単層型の感光層を有する感光
体を形成する場合、感光層は、適宜の厚みを有していて
もよいが、3〜50μm1特に、5〜20μmの厚みを
有するものが好ましく、上記ヒドラゾン系化合物等の分
散液を調整し、導電性基板に塗布すると共に、溶媒を除
去することにより形成される。また、前記複層型の感光
層を有する感光体は、前記電荷発生材料と結着樹脂等か
らなる厚み約1〜5μmの電荷発生層と、前記酸化防止
剤、フルオレン系化合物等と結着樹脂とからなる厚み5
〜50μ騰、特に、10〜20μ朧の電荷輸送層とを導
電性基板上に順次形成することにより得られる。なお、
複層型感光層の電荷発生層は、結着樹脂を用いることな
く、電荷発生材料を蒸着、スパッタリング等の手段によ
り形成してもよい。
および結着樹脂等を用いて単層型の感光層を有する感光
体を形成する場合、感光層は、適宜の厚みを有していて
もよいが、3〜50μm1特に、5〜20μmの厚みを
有するものが好ましく、上記ヒドラゾン系化合物等の分
散液を調整し、導電性基板に塗布すると共に、溶媒を除
去することにより形成される。また、前記複層型の感光
層を有する感光体は、前記電荷発生材料と結着樹脂等か
らなる厚み約1〜5μmの電荷発生層と、前記酸化防止
剤、フルオレン系化合物等と結着樹脂とからなる厚み5
〜50μ騰、特に、10〜20μ朧の電荷輸送層とを導
電性基板上に順次形成することにより得られる。なお、
複層型感光層の電荷発生層は、結着樹脂を用いることな
く、電荷発生材料を蒸着、スパッタリング等の手段によ
り形成してもよい。
また、上記ヒドラゾン系化合物等の分散液の調製に際し
ては、使用される結着樹脂等の種類に応じて種々の有機
溶剤を使用することができる。上記溶剤としては、n−
ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化
水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等
のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等、種々の溶剤が例示され、一種または二種以上
混合して用いられる。なお、上記分散液を調製する際、
分散性、塗工性等をよくするため、界面活性剤、レベリ
ング剤等を併用してもよい。
ては、使用される結着樹脂等の種類に応じて種々の有機
溶剤を使用することができる。上記溶剤としては、n−
ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化
水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等
のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等、種々の溶剤が例示され、一種または二種以上
混合して用いられる。なお、上記分散液を調製する際、
分散性、塗工性等をよくするため、界面活性剤、レベリ
ング剤等を併用してもよい。
また、上記分散液は、従来慣用の方法、例えば、ボール
ミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトライター
、超音波分散器等を用いて調製することができ、得られ
た分散液を前記導電性基板に塗布し、加熱して溶剤を除
去することにより、本発明の有機感光体を得ることがで
きる。
ミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトライター
、超音波分散器等を用いて調製することができ、得られ
た分散液を前記導電性基板に塗布し、加熱して溶剤を除
去することにより、本発明の有機感光体を得ることがで
きる。
本発明の有機感光体の感光層は、ヒドラゾン系化合物を
用いているにも拘らず、感光層が特定の酸化防止剤を含
有しているので、ヒドラゾン系化合物ひいては感光層が
安定化する。すなわち、本発明の有機感光体は、光や熱
等に対して安定で、光が当っても感度等が低下したり、
感光体の表面電位および残留電位が高くなることがない
だけでなく、鮮明な複写画像が得られ画像品質に優れる
。
用いているにも拘らず、感光層が特定の酸化防止剤を含
有しているので、ヒドラゾン系化合物ひいては感光層が
安定化する。すなわち、本発明の有機感光体は、光や熱
等に対して安定で、光が当っても感度等が低下したり、
感光体の表面電位および残留電位が高くなることがない
だけでなく、鮮明な複写画像が得られ画像品質に優れる
。
従って、本発明の有機感光体は、複写機、レーザプリン
ター等、種々の用途に使用される感光体としてを用であ
る。
ター等、種々の用途に使用される感光体としてを用であ
る。
〈実施例〉
以下に、実施例に基づき、この発明をより詳細に説明す
る。
る。
実施例I
N、N−−ジ(3,5−ジメチルフェニル)ペリレン−
3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド8重量部
、N−、エチル−3−カルバゾリルアルデヒド N、N
−ジフェニルヒドラゾン75重量部、3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(住人化学社製
商品名スミライザーBHT)5重量部、メタルフリーフ
タロシアニン(BASF社製商品名へりオゲンブルー7
800)0.6重量部、ポリ(4,4”−シクロへキシ
リデンジフェニル)カーボネート(三菱瓦斯化学社製商
品名ポリカーボネートZ)100重量部および所定量の
テトラヒドロフランを用い、超音波分散器にて分散液を
調製すると共に、アルマイト処理されたアルミニウム板
上に塗布し、厚み約20μmの感光層を有する単層型有
機感光体を作製した。
3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド8重量部
、N−、エチル−3−カルバゾリルアルデヒド N、N
−ジフェニルヒドラゾン75重量部、3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(住人化学社製
商品名スミライザーBHT)5重量部、メタルフリーフ
タロシアニン(BASF社製商品名へりオゲンブルー7
800)0.6重量部、ポリ(4,4”−シクロへキシ
リデンジフェニル)カーボネート(三菱瓦斯化学社製商
品名ポリカーボネートZ)100重量部および所定量の
テトラヒドロフランを用い、超音波分散器にて分散液を
調製すると共に、アルマイト処理されたアルミニウム板
上に塗布し、厚み約20μmの感光層を有する単層型有
機感光体を作製した。
実施例2
実施例1の3.5−ジ−tart−ブチル−4−ヒドロ
キシトルエンを20重量部用い、上記実施例1と同様に
して有機感光体を作製した。
キシトルエンを20重量部用い、上記実施例1と同様に
して有機感光体を作製した。
実施例3
実施例1の3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシトルエンを70重量部用い、上記実施例1と同様に
して有機感光体を作製した。
キシトルエンを70重量部用い、上記実施例1と同様に
して有機感光体を作製した。
比較例
実施例1の材料において、3,5−ジ−tert −ブ
チル−4−ヒドロキシトルエンを用いず、上記実施例1
と同様にして有機感光体を作製した。
チル−4−ヒドロキシトルエンを用いず、上記実施例1
と同様にして有機感光体を作製した。
そして、下記の特性について、以下の方法により調べた
。
。
(a)感光特性および表面電位等
上記の電子写真用感光体の帯電特性、感光特性等を調べ
るため、静電複写紙試験装置(川口電機社製、5P−4
28型)を用イテ、+8.OKVの条件でコロナ放電を
行なうことにより、前記各実施例および比較例の有機感
光体を正に帯電させた。
るため、静電複写紙試験装置(川口電機社製、5P−4
28型)を用イテ、+8.OKVの条件でコロナ放電を
行なうことにより、前記各実施例および比較例の有機感
光体を正に帯電させた。
なお、各感光体の表面電位V s、p、 mを測定する
と共に、タングステンランプを用いて、感光体表面の照
度が10ルツクスとなるように調整してタングステンラ
ンプにより露光し、上記表面電位v s、p、がl/2
となるまでの時間を求め、半減露光ff1E1/2(μ
J/−)を算出した。また、露光後、0.15秒経過後
の表面電位を残留電位V r、p。
と共に、タングステンランプを用いて、感光体表面の照
度が10ルツクスとなるように調整してタングステンラ
ンプにより露光し、上記表面電位v s、p、がl/2
となるまでの時間を求め、半減露光ff1E1/2(μ
J/−)を算出した。また、露光後、0.15秒経過後
の表面電位を残留電位V r、p。
(V)とした。
(b)光劣化性
1000ルツクスの白色螢光灯で、上記各有機感光体を
5分間照射した後、上記(a)と同様にして感光特性お
よび表面電位等を測定し、当初の感光体の感光特性およ
び表面電位等との差異を、それぞtLΔVs、p、、Δ
E l/2およびΔV r、p、として表示した。
5分間照射した後、上記(a)と同様にして感光特性お
よび表面電位等を測定し、当初の感光体の感光特性およ
び表面電位等との差異を、それぞtLΔVs、p、、Δ
E l/2およびΔV r、p、として表示した。
(e)繰返し特性
複写機(三田工業社製DC−111型機)に、上記有機
感光体を装着し、乾式トナーを用いて、10枚複写する
と共に、当初の表面電位と10枚複写した後の感光体の
表面電位を上記(a)と同様にして測定した。
感光体を装着し、乾式トナーを用いて、10枚複写する
と共に、当初の表面電位と10枚複写した後の感光体の
表面電位を上記(a)と同様にして測定した。
(D)総合評価
上記種々の特性の総合評価を行ない、有機感光体として
の特性に優れるものを01劣るものを×として評価した
。
の特性に優れるものを01劣るものを×として評価した
。
上記実施例および比較例で得られた各有機感光体の帯電
特性、感光特性および光劣化性等の結果を次表に示す。
特性、感光特性および光劣化性等の結果を次表に示す。
(以下、余白)
表から明らかなように、本発明の有機感光体は、いずれ
も感度が良好で、光照射により感光特性等が劣化するこ
となく、繰返し使用しても表面電位が大きく変化せず安
定である。また、残留電位が蓄積せず、繰返し特性に優
れていることが判明した。これに対して、比較例の感光
体は、光劣化が生じ、光照射により感度が低下するだけ
でなく、表面電位および残留電位高くなり、また、繰返
し特性が十分でなかった。
も感度が良好で、光照射により感光特性等が劣化するこ
となく、繰返し使用しても表面電位が大きく変化せず安
定である。また、残留電位が蓄積せず、繰返し特性に優
れていることが判明した。これに対して、比較例の感光
体は、光劣化が生じ、光照射により感度が低下するだけ
でなく、表面電位および残留電位高くなり、また、繰返
し特性が十分でなかった。
〈発明の効果〉
以上のように、本発明の有機感光体によれば、ヒドラゾ
ン系化合物を用いているにも拘らず、感光層がアルキル
フェノール系酸化防止剤を含有しているので、ヒドラゾ
ン系化合物ひいては感光層が光や熱等に対して安定化す
る。従って、有機感光体に光が当っても感度等が低下し
たり、感光体の表面電位および残留電位が高くなること
がないだけでなく、鮮明な複写画像が得られ画像品質に
優れるという特有の効果を奏する。
ン系化合物を用いているにも拘らず、感光層がアルキル
フェノール系酸化防止剤を含有しているので、ヒドラゾ
ン系化合物ひいては感光層が光や熱等に対して安定化す
る。従って、有機感光体に光が当っても感度等が低下し
たり、感光体の表面電位および残留電位が高くなること
がないだけでなく、鮮明な複写画像が得られ画像品質に
優れるという特有の効果を奏する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、電荷輸送材料としてヒドラゾン系化合物を含有する
感光層を有する感光体において、上記感光層が、アルキ
ルフェノール系酸化防止剤を含有することを特徴とする
有機感光体。 2、アルキルフェノール系酸化防止剤が、3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシトルエンである上記
特許請求の範囲第1項記載の有機感光体。 3、ヒドラゾン系化合物が下記一般式(1)で表される
ものである上記特許請求の範囲第1項記載の有機感光体
。 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、R^1は水素原子または低級アルキル基を示す
) 4、ヒドラゾン系化合物が、N−メチル−3−カルバゾ
リルアルデヒドN,N−ジフェニルヒドラゾンである上
記特許請求の範囲第1項または第3項記載の有機感光体
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62107786A JP2542379B2 (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 有機感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62107786A JP2542379B2 (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 有機感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63271455A true JPS63271455A (ja) | 1988-11-09 |
JP2542379B2 JP2542379B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=14467988
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62107786A Expired - Lifetime JP2542379B2 (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 有機感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2542379B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS6444946A (en) * | 1987-08-13 | 1989-02-17 | Konishiroku Photo Ind | Electrophotographic sensitive body |
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JP2010181911A (ja) * | 2001-03-22 | 2010-08-19 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体およびそれを用いた電子写真装置 |
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1987
- 1987-04-30 JP JP62107786A patent/JP2542379B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2542379B2 (ja) | 1996-10-09 |
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