JP2573222B2

JP2573222B2 - 有機感光体

Info

Publication number: JP2573222B2
Application number: JP62107784A
Authority: JP
Inventors: 亨中沢; 成昭武藤; 真洋堤; 武史吉田
Original assignee: 三田工業株式会社
Priority date: 1987-04-30
Filing date: 1987-04-30
Publication date: 1997-01-22
Anticipated expiration: 2012-01-22
Also published as: JPS63271453A

Description

【発明の詳細な説明】＜産業上の利用分野＞本発明は、有機感光体に関し、より詳しくは、電子写
真用感光体として好適な有機感光体に関する。

＜従来の技術と発明が解決しようとする問題点＞近年、電子写真用感光体として、加工性がよく製造コ
ストの面で有利であると共に、機能設計の自由度が大き
な有機感光体が使用されている。なかでも、光照射によ
り電荷を発生させる電荷発生材料と、発生した電荷を輸
送する電荷輸送材料とにより、各機能を分離して高感度
化等を図るため、機能分離型の有機感光体が知られてい
る。また、上記電荷輸送材料としてヒドラゾン系化合物
を含有する感光体が知られている（特開昭61−270764号
公報および特開昭61−270766号公報参照）。

しかしながら、上記ヒドラゾン系化合物は、太陽光や
白色螢光灯等の光、特に、約430nm以下の短波長光ある
いは熱に対して安定でなく、光照射等により上記ヒドラ
ゾン系化合物が異性化したり二量化するため、メインテ
ナンス時等において、前記ヒドラゾン系化合物を含有す
る感光体に光が当ると、感光体の感度が低下すると共
に、感光体の表面電位および残留電位が高くなり、複写
画像部にカブリが生じ、画像品質が悪くなるという問題
がある。この問題はとくに、単層型の感光層において顕
著である。

＜発明の目的＞本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、ヒ
ドラゾン系化合物を含有するにも拘らず、光や熱等に対
して安定で、光が当っても感度等が低下することなく、
画像品質に優れた単層型の感光層を有する有機感光体を
提供することを目的とする。

＜問題点を解決するための手段および作用＞上記目的を達成するため、本発明の有機感光体は、電
荷発生材料として、下記一般式（４）で表されるペリレ
ン化合物を含有し、かつ電荷輸送材料として、下記一般
式（１）で表されるヒドラゾン化合物を含有するととも
に、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を含有する、単
層型の感光層を備えたことを特徴とするものである。

（式中、R¹⁰、R¹¹、R¹²、およびR¹³は、それぞれ同一ま
たは異なって、低級アルキル基または低級アルコキシル
基を示す。）（式中、R¹は水素原子または低級アルキル基を示す。）上記構成の有機感光体は、電荷発生材料である、上記
一般式（４）で表されるペリレン化合物と、電荷輸送材
料である、上記一般式（１）で表されるヒドラゾン化合
物とを混在させた、単層型の感光層を有するため、感度
および表面電位が高く、しかも残留電位の小さな正帯電
性に優れたものとなる。また上記単層型の感光層は、ヒ
ドラゾン化合物の光劣化を生じさせる短波長光を吸収す
るベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤をも含有するた
め、光照射されても、ヒドラゾン化合物が光劣化するの
が抑制され、感光層が安定化する。

以下に本発明を詳細に説明する。

上記ヒドラゾン化合物としては、前述したように下記
一般式（１）で表されるものが使用される。

（式中、R¹は水素原子または低級アルキル基を示す）上記一般式（１）における低級アルキル基としては、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、プチル、イ
ソプチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭
素数１〜６のアルキル基が例示される。

上記一般式（１）で表されるヒドラゾン化合物として
は、３−カルバゾリルアルデヒド N,N−ジフェニルヒ
ドラゾン、Ｎ−メチル−３−カルバゾリルアルデヒド
N,N−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ−エチル−３−カルバ
ゾリルアルデヒド N,N−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ−
プロピル−３−カルバゾリルアルデヒド N,N−ジフェ
ニルヒドラゾン、Ｎ−イソプロピル−３−カルバゾリル
アルデヒド N,N−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ−ブチル
−３−カルバゾリルアルデヒド N,N−ジフェニルヒド
ラゾン、Ｎ−イソブチル−３−カルバゾリルアルデヒド
N,N−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ−tert−ブチル−３
−カルバゾリルアルデヒド N,N−ジフェニルヒドラゾ
ン、Ｎ−ペンチル−３−カルバゾリルアルデヒド N,N
−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ−ヘキシル−３−カルバゾ
リルアルデヒド N,N−ジフェニルヒドラゾンが例示さ
れる。上記ヒドラゾン化合物のうち、炭素数１〜３のア
ルキル基を有するもの、特に、Ｎ−メチル−３−カルバ
ゾリルアルデヒド N,N−ジフェニルヒドラゾンが好ま
しい。上記ヒドラゾン化合物は一種または二種以上混合
して用いられる。

また、上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、種々のものを使用することができる。ベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収剤のうち好ましいものとしては、２
−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−エチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−
プロピルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒ
ドロキシ−５−イゾプロピルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２（２−ヒドロキシ−５−ブチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−イソブチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキ
シ−５−tert−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−５−ペンチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ヘキシルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジエチルフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−メチル−５−
エチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒド
ロキシ−3,5−ジプロピルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ、3,5−ジブチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ
イソブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−
ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−tert−ブチ
ル−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジペンチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジヘキシ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒド
ロキシ−３−メチル−５−tert−ブチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
3,5−ジ−tert−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−tert−ブチ
ル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール等が例示される。上記紫外線吸収剤のうち、特に、
２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒド
ロキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾールが好ましい。また、上記紫
外線吸収剤は一種または二種以上混合して用いられる。

また、上記紫外線吸収剤は、感光体の特性、ヒドラゾ
ン化合物の光安定化等に応じて適宜量使用されるが、前
記ヒドラゾン化合物100重量部に対して、10〜120重量
部、特に20〜80重量部使用するのが好ましい。紫外線吸
収剤の量が10重量部未満であると光安定等の効果が顕著
に現れず、120重量部を越えると紫外線吸収剤が再結晶
化し、感光体の特性が低下する。

なお、紫外線吸収剤としては、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン等種々のものが知られている
が、かかる他の紫外線吸収剤を、一般式（１）のヒドラ
ゾン化合物と組み合わせた場合、感光体の光安定化等に
余り効果がない。

また、上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤と共
に、酸化防止剤を併用すると、さらに感光体の安定性お
よび繰返し特性を高めることができる。

上記酸化防止剤としては、ノニルフェニルホスファイ
ト、Ｎ−フェニルナフチルアミン等の種々のものが使用
しえるが、2,4−ジメチル−６−tert−ブチルフェノー
ル、2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、3,5−ジ−tert
−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、2,2′−メチレン
ビス（４−メチル−６−tert−ブチルフェノール）、2,
2′−メチレンビス（４−エチル−６−tert−ブチルフ
ェノール）、4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−tert−ブ
チルフェノール）、4,4′−ビス（2,6−ジ−tert−ブチ
ルフェノール）、4,4′−メチレンビス（６−tert−ブ
チル−Ｏ−クレゾール）、1,3,5−トリメチル−2,4,6−
トリス（3,5−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン、4,4′−ブチリデンビス（６−tert−
ブチル−ｍ−クレゾール）等のアルキルフェノール系酸
化防止剤、特に、3,5−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロ
キシトルエンが好ましい。上記酸化防止剤は、一種また
は二種以上混合して使用される。

上記酸化防止剤は、適宜量使用することができるが、
前記ヒドラゾン化合物100重量部に対して、１〜100重量
部、特に５〜30重量部使用するのが好ましい。上記酸化
防止剤が１重量部未満であると感光体の安定化等を図る
ことが困難であり、100重量部を越えると感度が低下す
る。

また、感光体の感度等を高めると共に、繰返し使用後
の表面電位および残留電位を小さくするため、前記感光
層は、さらにフルオレン化合物を含有するのが好まし
い。上記フルオレン化合物としては、種々のものが使用
しえるが、下記一般式（２）および（３）で表されるも
のが好ましい。

（式中、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶およびR⁷は、それぞれ同一
または異なって、水素原子または低級アルキル基を示
す）（式中、R²、R³、R⁸およびR⁹は、それぞれ同一または異
なって、水素原子または低級アルキル基を示す）上記低級アルキル基としては、前記一般式（１）の低
級アルキル基が例示される。

上記一般式（２）の化合物のうち、好ましいものとし
ては、９−（N,N−ジフェニルヒドラジノ）フルオレ
ン、９−［Ｎ−（４−メチルフェニル）−Ｎ−フェニル
ヒドラジノ］フルオレン、９−［N,N−ジ（４−メチル
フェニル）ヒドラジノ］フルオレン、９−［N,N−ジ
（４−エチルフェニル）ヒドラジノ］フルオレン、９−
［Ｎ−（４−メチルフェニル）−Ｎ−（４−エチルフェ
ニル）ヒドラジノ］フルオレン、９−［N,N−ジ（４−
プロピルフェニル）ヒドラジノ］フルオレン、９−［N,
N−ジ（４−イゾプロピルフェニル）ヒドラジノ］フル
オレン、９−［N,N−ジ（４−ブチルフェニル）ヒドラ
ジノ］フルオレン、９−［N,N−ジ（４−ペンチルフェ
ニル）ヒドラジノ］フルオレン、９−［N,N−ジ（４−
ヘキシルフェニル）ヒドラジノ］フルオレン、９−［N,
N−ジ（３−メチルフェニル）ヒドラジノ］フルオレ
ン、９−［N,N−ジ（３−エチルフェニル）ヒドラジ
ノ］フルオレン、９−［Ｎ−（３−メチルフェニル）−
Ｎ−（４−メチルフェニル）ヒドラジノ］フルオレン、
９−［Ｎ−（３−エチルフェニル）−Ｎ−（４−エチル
フェニル）ヒドラジノ］フルオレン、９−［N,N−ジ
（4,4−メチルフェニル）ヒドラジノ］−3,6−ジメチル
フルオレン、９−［N,N−ジ（４−メチルフェニル）ヒ
ドラジノ］−3,6−ジエチルフルオレン、９−［N,N−ジ
（４−エチルフェニル）ヒドラジノ］−3,6−ジメチル
フルオレン、９−［N,N−ジ（４−エチルフェニル）ヒ
ドラジノ］−3,6−ジエンチルフルオレン等が例示され
る。

また、上記一般式（３）で表される化合物のうち、好
ましいものとしては、９−カルバゾリルイミノフルオレ
ン、９−（３−メチルカルバゾリルイミノ）フルオレ
ン、９−（3,6−ジメチルカルバゾリルイミノ）フルオ
レン、９−（3,6−ジエチルカルバゾリルイミノ）フル
オレン、９−（３−エチル−６−メチルカルバゾリルイ
ミノ）フルオレン、９−（3,6−ジプロピルカルバゾリ
ルイミノ）フルオレン、９−（3,6−ジイソプロピルカ
ルバゾリルイミノ）フルオレン、９−（3,6−ジブチル
カルバゾリルイミノ）フルオレン、９−（3,6−ジイソ
プチルカルバゾリルイミノ）フルオレン、９−（3,6−
ジ−tert−ブチルカルバゾリルイミノ）フルオレン、９
−（3,6−ジペンチルカルバゾリルイミノ）フルオレ
ン、９−（3,6−ジヘキシルカルバゾリルイミノ）フル
オレン、９−（3,6−ジメチルカルバゾリルイミノ）−
３−メチルフルオレン、９−（3,6−ジメチルカルバゾ
リルイミノ）−3,6−ジメチルフルオレン、９−（3,6−
ジメチルカルバゾリルイミノ）−3,6−ジエチルフルオ
レン、９−（３−メチルカルバゾリルイミノ）−３−エ
チルフルオレン等が例示される。

上記一般式（２）および（３）の化合物のうち、特に
９−（N,N−ジフェニルヒドラジノ）フルオレン、９−
カルバゾリルイミノフルオレンが好ましい。上記フルオ
レン化合物は一種または二種以上混合して用いられる。

また、上記フルオレン化合物は、感光体の特性等に応
じて適宜量使用することができるが、前記ヒドラゾン化
合物100重量部に対して、１〜100重量部、好ましくは５
〜50重量部、さらに好ましくは10〜30重量部使用する。
フルオレン化合物の量が１重量部未満であると、感光体
の光安定性等をさらに高めることが困難であり、100重
量部を越えると、光安定性は高まるものの感光体の感度
等が十分でなくなる。

また、感光体の光劣化を防止し、光照射等による電気
的特性の変化をなくすため、上記感光層は、さらにハロ
ゲン化キノン類を含有するのが好ましい。上記ハロゲン
化キノン類のキノン類としては、ベンゾキノン、1,2−
ナフトキノン、1,4−ナフトキノン、アントラキノン等
が例示される。上記ハロゲン化キノン類としては、種々
のものが使用しえるが、ハロゲン化ベンゾキノンおよび
ハロゲン化ナフトキノンが好ましい。上記ハロゲン化ベ
ンゾキノンのうち好ましいものとしては、２−クロロ−
1,4−ベンゾキノン、2,5−ジクロロ−1,4−ベンゾキノ
ン、2,6−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン、2,5−ジフル
オロ−1,4−ベンゾキノン、2,6−ジフルオロ−1,4−ベ
ンゾキノン、2,5−ジブロモ−1,4−ベンゾキノン、2,6
−ジブロモ−1,4−ベンゾキノン、２−クロロ−５−プ
ロモ−1,4−ベンゾキノン、2,5−ジヨード−1,4−ベン
ゾキノン、2,6−ジヨード−1,4−ベンゾキノン等が例示
される。

また、ハロゲン化ナフトキノンのうち好ましいものと
しては、２−クロロ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロ
ロ−1,4−ナフトキノン、2,5−ジクロロ−1,4−ナフト
キノン、2,7−ジクロロ−1,4−ナフトキノン、,2,3−ジ
フルオロ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジブロモ−1,4−
ナフトキノン、２−クロロ−３−ブロモ−1,4−ナフト
キノン、2,3−ジヨード−1,4−ナフトキノン等が例示さ
れる。上記ハロゲン化ベンゾキノンおよびハロゲン化ナ
フトキノンのうち、特に2,5−ジクロロ−1,4−ベンゾキ
ノン、2,6−ジクロロ−1,4−ベンゾキノンおよび2,3−
ジクロロ−1,4−ナフトキノンが好ましい。上記ハロゲ
ン化キノン類は一種または二種以上混合して用いられ
る。また、ハロゲン化キノン類は、適宜量使用し得る
が、前記ヒドラゾン化合物100重量部に対して５〜50重
量部、特に10〜40重量部使用するのが好ましい。使用量
が５重量部未満であると感光体の光劣化をさらに防止す
ることが困難であり、50重量部を越えると感度が低下す
る。

なお、上記のヒドラゾン化合物などは、感光特性等を
阻害しない範囲で、他の電荷輸送材料等と併用してもよ
い。上記他の電荷輸送材料としては、例えば、テトラシ
アノエチレン、2,4,7−トリニトロ−９−フロオレノン
等のフルオレノン系化合物、2,4,8−トリニトロチオキ
サントン、ジニトロアントラセン等のニトロ化化合物、
無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン
酸、2,5−ジ（４−ジメチルアミノフェニル）−1,3,4−
オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、９
−（４−ジエチルアミノスチリル）アントラセン等のス
チリル系化合物、ポリビニルカルバゾール等のカルバゾ
ール系化合物、１−フェニル−３−（ｐ−ジメチルアミ
ノフェニル）ピラゾリン等のピラゾリン系化合物、イン
ドール系化合物、オキサゾール系化合物、イソオキサゾ
ール系化合物、チアゾール系化合物、チアジアゾール系
化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物、
トリアゾール系化合物等の含窒素環式化合物、縮合多環
族化合物等が例示される。

電荷発生材料としては、感度の優れ、表面電位が高
く、しかも残留電位が低い単層型の感光層を有する感光
体を得るため、前述したように、下記一般式（４）で表
されるペリレン化合物が単独で、あるいは他の電荷発生
材料と組合せて使用される。

（式中、R¹⁰、R¹¹、R¹²およびR¹³は、それぞれ同一また
は異なって、低級アルキル基または低級アルコキシ基を
示す）上記低級アルキル基としては、前記一般式（１）と同
様の低級アルキル基が例示される。また、上記一般式
（４）における低級アルコキシ基としては、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イ
ソブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基が例示され
る。

上記一般式（４）で表されるペリレン系化合物として
は、N,N′−ジ（3,5−ジメチルフェニル）ペリレン−3,
4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ（３−
メチル−５−エチルフェニル）ペリレン−3,4,9,10−テ
トラカルボキシジイミド、N,N′−ジ（3,5−ジエチルフ
ェニル）ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミ
ド、N,N′−ジ（3,5−ジプロピルフェニル）ペリレン−
3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ（3,5
−ジイソプロピルフェニル）ペリレン−3,4,9,10−テト
ラカルボキシジイミド、N,N′−ジ（3,5−ジブチルフェ
ニル）ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミ
ド、N,N′−ジ（3,5−ジ−tert−ブチルフェニル）ペリ
レン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−
ジ（3,5−ジペンチルフェニル）ペリレン−3,4,9,10−
テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ（3,5−ジヘキシ
ルフェニル）ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジ
イミド、N,N′−ジ（３−メチル−５−メトキシフェニ
ル）ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、
N,N′−ジ（３−メチル−５−エトキシフェニル）ペリ
レン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−
ジ（３−エチル−５−メトキシフェニル）ペリレン−3,
4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ（３−
プロピル−５−メトキシフェニル）ペリレン−3,4,9,10
−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ（3,5−ジメト
キシフェニル）ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシ
ジイミド、N,N′−ジ（3,5−ジエトキシフェニル）ペリ
レン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−
ジ（3,5−ジプロポキシフェニル）ペリレン−3,4,9,10
−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ（3,5−ジイソ
プロポキシフェニル）ペリレン−3,4,9,10−テトラカル
ボキシジイミド、N,N′−ジ（3,5−ジプトキシフェニ
ル）ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、
N,N′−ジ（3,5−ジペンチルオキシフェニル）ペリレン
−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ
（3,5−ジヘキシルオキシフェニル）ペリレン−3,4,9,1
0−テトラカルボキシジイミド等が例示される。上記ペ
リレン系化合物のうち、炭素数が１〜３のアルキル基ま
たはアルコキシ基を有するもの、特に、N,N′−ジ（3,5
−ジメチルフェニル）ペリレン−3,4,9,10−テトラカル
ボキシジイミドが好ましい。なお、上記ペリレン化合物
は一種または二種以上混合して用いられる。上記ペリレ
ン化合物と組合せて使用してもよい他の電荷発生材料と
しては、例えば、セレン、セレン−テルル、アモルファ
スシリコン、ピリリウム塩、アゾ系顔料、ジスアゾ系顔
料、アンサンスロン系顔料、フタロシアニン系顔料、イ
ンジコ系顔料、トリフェニルメタン系顔料、スレン系顔
料、トルイジン系顔料、ピラゾリン系顔料、キナクリド
ン系顔料等、種々のものがあげられる。

また、上記結着樹脂としては、種々のもの、例えば、
スチレン系重合体、アクリル系重合体、スチレン−アク
リル系共重合体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル
共重合体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレン、アイ
オノマー等のオレフィン系重合体、ポリ塩化ビニル、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アルキ
ッド樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ジ
アリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、
ポリビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂、フェノ
ール樹脂、キシリレン樹脂や、エポキシアクリレート等
の光硬化型樹脂等、各種の重合体が使用できるが、感光
体の感度を高め、上記ヒドラゾン系化合物等との相溶
性、感光体の耐摩耗性および繰返し特性に優れると共に
結着樹脂を溶解する溶剤の選択幅が広いポリ（4,4′−
シクロヘキシリデンジフェニル）カーボネートが好まし
い。上記ポリ（4,4′−シクロヘキシリデンジフェニ
ル）カーボネートを用いると、従来、溶液安定性等の点
から、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン等の塩素系
溶剤しか使用できなかったビスフェノールＡ型ポリカー
ボネートと異なり、テトラヒドロフラン、メチルエチル
ケトン等のケトン系等の溶剤も使用することができるの
で、安全衛生上も好ましく、取扱いが容易である。な
お、上記ポリ（4,4′−シクロヘキシリデンジフェニ
ル）カーボネートとしては、種々のもの、例えば、重合
度50〜5000程度のものが使用し得る。また、上記結着樹
脂は一種または二種以上混合して用いられる。

なお、上記結着樹脂のうち、キシリレン樹脂は、前記
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤と同様に、感光体の
安定化等に大きく寄与する。すなわち、上記キシリレン
樹脂は、感光体の光劣化を防止する上で有用であると共
に、前記ポリカーボネートとの相溶性に優れ、繰返し使
用により感度、表面電位および残留電位の変化が少な
い。従って、前記キシリレン樹脂は、ポリカーボネート
と併用するのが好ましい。上記キシリレン樹脂は、種々
の割合で使用することができるが、ポリカーボネート樹
脂100重量部に対して、10〜50重量部、特に20〜40重量
部使用するのが好ましい。キシリレン樹脂の使用量が10
重量部未満であると上記効果が十分でなく、50重量部を
越えると感光層の機械的強度が低下する。

また、前記感光層は、ターフェニル、アセナフチレン
等、従来公知の増感剤を含有していてもよい。

上記の各成分を含む単層型の感光層を備えた、本発明
の有機感光体は特に優れた感光特性等を示す。より詳細
には、上記の単層型の感光体は、上記材料の分散液を調
製し、導電性基板に塗布し、乾燥させるだけで感光体を
得ることができるため、生産性がよい。また、上記単層
型感光体にあっては、正帯電させることができるだけで
なく、感光体の静電潜像を現像するトナーとして、一般
に負帯電するものが得られ易いため、トナー材料の選択
幅が広く、種々のトナー材料を使用することができると
いう利点がある。一般に単層型の感光体にあっては、感
度が十分でなく、感光層を構成する材料を厳密に選択し
なければならず、感光層の材料の選択幅が狭い。また、
上記単層型感光体は、コロナ帯電時の表面電位が低く、
しかも残留電位が大きいだけでなく、表面電位が繰返し
使用により低下するので、繰返し特性が十分でなく、有
機感光体として十分な特性を示さないという欠点があ
る。しかしながら、前記一般式（１）のヒドラゾン化合
物、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤および一般式
（４）のペリレン化合物を組合せて単層型の感光層を構
成した、本発明の有機感光体は、正帯電性に優れると共
に、感度および表面電位が高く、しかも残留電位が小さ
く、繰返し特性に優れた安価なものとなる。

前記ヒドラゾン化合物とペリレン化合物と結着樹脂と
を用いて単層型感光層を形成する場合、上記材料の使用
割合は、所望する有機感光体の特性等に応じて適宜選択
することができるが、結着樹脂100重量部に対して、ヒ
ドラゾン化合物40〜110重量部、好ましくは、60〜90重
量部、ペリレン化合物２〜20重量部、好ましくは、５〜
10重量部使用される。ヒドラゾン化合物およびペリレン
化合物が上記使用料よりも少ないと、感光体の感度が十
分でないばかりか、残留電位が大きくなる。また上記範
囲を越えると感光体の耐摩耗性等が十分でなくなる。

なお、単層型感光層を有する感光体において、上記ペ
リレン化合物を多量に使用すると、通常、正帯電性が十
分でなくなり、少量であると感度等が低下するが、上記
特定のヒドラゾン化合物と組合せることによりペリレン
化合物の量が少量であっても感度および表面電位が高
く、しかも残留電位の小さな正帯電性に優れた有機感光
体を得ることができる。

なお、上記ペリレン化合物は短波長側に分光感度を有
する場合がある。従って、青色領域の色再現性が必要と
される用途においては、種々の分光増感剤を使用するの
が好ましく、特に、フタロシアニン系化合物を使用する
のが好ましい。

上記フタロシアニン系化合物としては、種々のものが
使用しえるが、メタルフリーフタロシアニンが好まし
い。上記メタルフリーフタロシアニンは、適宜の粒径を
有していてもよいが、平均粒径0.1μｍ以下のものが好
ましい。メタルフリーフタロシアニンの平均粒径が0.1
μｍを越えると感光体の感度が低下する。なお、上記平
均粒径は、光散乱法（装置名：ダイナミック光散乱光度
計）により求めたものである。

また、メタルフリーフタロシアニンは適宜量使用する
ことができるが、上記結着樹脂100重量部に対して0.2〜
１重量部添加するのが好ましい。添加量が0.2重量部未
満であると青色再現性が十分でなく、１重量部を越える
とメタルフリーフタロシアニンが赤色領域に分光感度を
有するため、赤色再現性が十分でなくなる。

なお、上記メタルフリーフタロシアニンのうち、β型
メタルフリーフタロシアニン、特に、平均粒径0.005〜
0.05μｍを有するものが好ましい。上記β型メタルフリ
ーフタロシアニンの平均粒径が0.005μｍ未満であると
分散性が十分でなく、0.05μｍを越えると感光体の感度
が低下する。

また、上記メタルフリーフタロシアニンを含有する感
光体の安定性を高めるため、上記メタルフリーフタロシ
アニンと共に、アルミニウムフタロシアニン、チタニル
フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、特に銅フタ
ロシアニンを併用するのが好ましい。また、銅フタロシ
アニンは、適宜量使用することができるが、上記メタル
フリーフタロシアニンに対して１〜10重量％、特に３〜
10重量％使用するのが好ましい。銅フタロシアニンの量
が１重量％未満であると前記メタルフリーフタロシアニ
ンを安定化するのに十分でなく、10重量％を越えると表
面電位が低下する。なお、上記銅フタロシアニンの量が
多くなるにつれてメタルフリーフタロシアニンの安定化
効果が高まると共に、感光体の残留電位も低下する。

また、上記銅フタロシアニンは、前記β型メタルフリ
ーフタロシアニンと組合せて使用するのがより一層好ま
しく、この場合、銅フタロシアニンとして平均粒径0.00
1μｍ以下のものを使用するのが好ましい。特に、銅フ
タロシアニンの量を少なくして安定かつ残留電位の小さ
な有機感光体を得るため、上記銅フタロシアニンをメタ
ルフリーフタロシアニンと共に共沈させたものが好まし
い。上記の共沈は、常法により行なうことができ、例え
ば、銅フタロシアニンの製造時において銅フタロシアニ
ンとメタルフリーフタロシアニンとの硫酸溶液を水中等
に滴下することにより行なうことができる。上記の共沈
により得られたフタロシアニンは、銅フタロシアニンが
微粒子となると共に、感光体の熱履歴による電気特性の
劣化が殆どなくなるだけでなく、残留電位が小さく色再
現性等に優れる感光体が得られる。なお、上記共沈法に
よるフタロシアニンにおいては、少量にて青色再現性を
高めるため、銅フタロシアニンとしては平均粒径0.001
μｍ以下のものが好ましい。

上記導電性基板は、シート状やドラム状のいずれであ
ってもよく、基板自体が導電性を有するか、基板の表面
が導電性を有し、使用に際し十分な機械的強度を有する
ものが好ましい。上記導電性基板としては、導電性を有
する種々の材料が使用でき、例えば、アルミニウム、
銅、錫、白金、金、銀、バナジウム、モリブデン、クロ
ム、カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、イン
ジウム、ステンレス鋼、真鍮の金属単体や、上記金属が
蒸着またはラミネートされたプラスチック材料、ヨウ化
アルミニウム、酸化錫、酸化インジウム等で被覆された
ガラス等が例示される。上記導電性基板のうち、アルミ
ニウムが好ましく、特に、アルミニウムの結晶粒が表面
に存在せず、複写画像等において黒点やピンホール等が
発生するのを防止すると共に、上記ヒドラゾン系化合物
等を含有する感光層と基板との密着性をよくするため、
アルマイト処理されたアルミニウム、中でもアルマイト
処理層の膜厚が５〜12μｍであり、表面粗さが1.5s以下
のアルマイト処理されたアルミニウムが好ましい。

単層型の感光層を有する感光体を形成する場合、感光
層は、適宜の厚みを有していてもよいが、３〜50μｍ、
特に、５〜20μｍの厚みを有するものが好ましく、前記
一般式（４）のペリレン化合物、一般式（１）のヒドラ
ゾン化合物、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、およ
び結着樹脂等の各成分を含む分散液を調整し、導電性基
板に塗布すると共に、溶媒を除去することにより形成さ
れる。

また、上記分散液の調製に際しては、使用される結着
樹脂等の種類に応じて種々の有機溶剤を使用することが
できる。上記溶剤としては、ｎ−ヘキサン、オクタン、
シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン、
ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等、種々の溶
剤が例示され、一種または二種以上混合して用いられ
る。なお、上記分散液を調製する際、分散性、塗工性等
をよくするため、界面活性剤、レベリング剤等を併用し
てもよい。

また、上記分散液は、従来慣用の方法、例えば、ボー
ルミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトライタ
ー、超音波分散器等を用いて調製することができ、得ら
れた分散液を前記導電性基板に塗布し、加熱して溶剤を
除去することにより、本発明の有機感光体を得ることが
できる。

本発明の有機感光体は、電荷発生材料である一般式
（４）のペリレン化合物と、電荷輸送材料である一般式
（１）のヒドラゾン化合物とを混在させた、単層型の感
光層を有するため、感度および表面電位が高く、しかも
残留電位の小さな正帯電性に優れたものである。また上
記単層型の感光層は、ヒドラゾン化合物の光劣化を生じ
させる短波長光を吸収するベンゾトリアゾール系紫外線
吸収剤をも含有するため、光照射されても、ヒドラゾン
化合物が光劣化するのが抑制され、感光層が安定化す
る。従って本発明の有機感光体は、光や熱等に対して安
定で、光が当たっても感度等が低下したり、感光体の表
面電位および残留電位が高くなることがないだけでな
く、鮮明な複写画像が得られ画像品質に優れるため、複
写機、レーザプリンター等、種々の用途に使用される感
光体として有用である。

＜実施例＞以下に、実施例に基づき、この発明をより詳細に説明
する。

実施例１ N,N′−ジ（3,5−ジメチルフェニル）ペリレン−3,4,
9,10−テトラカルボキシジイミド８重量部、Ｎ−エチル
−３−カルバゾリルアルデヒド N,N−ジフェニルヒド
ラゾン75重量部、２−（２−ヒドロキシ−３−tert−ブ
チル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール（アデカア−ガス社製商品名マークLA−36）10重
量部、メタルフリーフタロシアニン（BASF社製商品名ヘ
リオゲンブル−7800）0.6重量部、ポリ（4,4′−シクロ
ヘキシリデンジフェニル）カーボネート（三菱瓦斯化学
社製商品名ポリカーボネートＺ）100重量部および所定
量のテトラヒドロフランを用い、超音波分散器にて分散
液を調製すると共に、アルマイト処理されたアルミニウ
ム板上に塗布し、厚み約20μｍの感光層を有する単層型
有機感光体を作製した。

実施例２実施例１の２−（２−ヒドロキシ−３−tert−ブチル
−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル10重量部に代えて、２−（２−ヒドロキシ−３−tert
−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール50重量部を用い、上記実施例１と同様にして
有機感光体を作製した。

実施例３実施例１の２−（２−ヒドロキシ−３−tert−ブチル
−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル10重量部に代えて、２−（２−ヒドロキシ−３−tert
−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール100重量部を用い、上記実施例１と同様にし
て有機感光体を作製した。

実施例４実施例２の２−（２−ヒドロキシ−３−tert−ブチル
−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ルに代えて、２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−
ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（日
本チバガイギー社製商品名チヌピン327）を用い、上記
実施例１と同様にして有機感光体を作製した。

実施例５実施例２の材料に加えて、酸化防止剤としての3,5−
ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（住友化学
社製商品名スミライザーBHT）10重量部を用い、上記実
施例１と同様にして有機感光体を作製した。

比較例１実施例１の材料において、２−（２−ヒドロキシ−３
−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾールを用いず、上記実施例と同様にして有
機感光体を作製した。

比較例２実施例１の２−（２−ヒドロキシ−３−tert−ブチル
−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ルに代えて、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノンを用い、上記実施例１と同様にして有機感光体を作
製した。

比較例３実施例１の２−（２−ヒドロキシ−３−tert−ブチル
−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル10重量部に代えて、実施例５の3,5−ジ−tert−ブチ
ル−４−ヒドロキシトルエン20重量部を用い、上記実施
例１と同様にして有機感光体を得た。

そして、下記の特性について、以下の方法により調べ
た。

（ａ）感光特性および表面電位等上記の電子写真用感光体の帯電特性、感光特性等を調
べるため、静電複写紙試験装置（川口電機社製、SP−42
8型）を用いて、＋6.0KVの条件でコロナ放電を行なうこ
とにより、前記各実施例および比較例の有機感光体を正
に帯電させた。

なお、各感光体の表面電位Vs.p.（Ｖ）を測定すると
共に、タングステンランプを用いて、感光体表面の照度
が10ルックスとなるように調整してタングステンランプ
により露光し、上記表面電位Vs.p.が1/2となるまでの時
間を求め、半減露光量E1/2（μJ/cm²）を算出した。ま
た、露光後、0.15秒経過後の表面電位を残留電位Vr.p.
（Ｖ）とした。

（ｂ）光劣化性 1000ルックスの白色螢光灯で、上記各有機感光体を５
分間照射した後、上記（ａ）と同様にして感光特性およ
び表面電位等を測定し、当初の感光体の感光特性および
表面電位等との差異を、それぞれΔVs.p.、ΔE1/2およ
びVr.p.として表示した。

（ｃ）繰返し特性および画像特性複写機（三田工業社製DC−111型機）に、上記有機感
光体を装着し、乾式トナーを用いて、10枚複写すると共
に、当初の表面電位と10枚複写した後の感光体の表面電
位を上記（ａ）と同様にして測定した。また、上記複写
機を用い、１枚複写した後、上記（ｂ）と同様にして各
感光体に光を照射し、10枚複写した。そして１枚目の複
写画像と10枚目の複写画像とのカブリの差異を目視にて
判断した。なお、カブリが殆どないものを○、カブリの
程度が大きいもの×として評価した。

（ｄ）総合評価上記種々の特性の総合評価を行ない、有機感光体とし
ての特性に優れるものを○、劣るものを×として評価し
た。

上記実施例および比較例で得られた各有機感光体の帯
電特性、感光特性および繰返し特性等の結果を次表に示
す。

表から明らかなように、本発明の有機感光体は、いず
れも半減露光量が小さく、感度が良好であり、光照射に
より感光特性等が劣化することなく、光照射および繰返
し使用しても表面電位および残留電位の変化が少ない。
また、残留電位が蓄積せず、繰返し特性に優れており、
複写画像のカブリも殆どないことが判明した。これに対
して、比較例の感光体は、いずれも光劣化が生じ、繰返
し使用により感度が低下し、表面電位および残留電位が
高くなった。また、繰返し使用により複写画像のカブリ
が大きくなった。

＜発明の効果＞以上のように、本発明の有機感光体は、電荷発生材料
である一般式（４）のペリレン化合物と、電荷輸送材料
である一般式（１）のヒドラゾン化合物とを混在させ
た、単層型の感光層を有するため、感度および表面電位
が高く、しかも残留電位の小さな正帯電性に優れたもの
である。また上記単層型の感光層は、ヒドラゾン化合物
の光劣化を生じさせる短波長光を吸収するベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収剤をも含有するため、光照射されて
も、ヒドラゾン化合物が光劣化するのが抑制され、感光
層が安定化する。従って本発明の有機感光体は、光や熱
等に対して安定で、光が当たっても感度等が低下した
り、感光体の表面電位および残留電位が高くなることが
ないだけでなく、鮮明な複写画像が得られ画像品質に優
れるという特有の効果を奏する。

フロントページの続き (72)発明者吉田武史大阪市東区玉造１丁目２番28号三田工業株式会社内 (56)参考文献特開昭58−163947（ＪＰ，Ａ) 特開昭58−120260（ＪＰ，Ａ) 特開昭56−35140（ＪＰ，Ａ) 特開昭56−33652（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−270766（ＪＰ，Ａ) 特開昭59−113444（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】電荷発生材料として、下記一般式（４）で
表されるペリレン化合物を含有し、かつ電荷輸送材料と
して、下記一般式（１）で表されるヒドラゾン化合物を
含有するとともに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
を含有する、単層型の感光層を備えたことを特徴とする
有機感光体。（式中、R¹⁰、R¹¹、R¹²、およびR¹³は、それぞれ同一ま
たは異なって、低級アルキル基または低級アルコキシル
基を示す。）（式中、R¹は水素原子または低級アルキル基を示す。）
【請求項２】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が、２
−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾールである上記特許請
求の範囲第１項記載の有機感光体。
【請求項３】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が、２
−（２−ヒドロキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフ
ェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールである上記特
許請求の範囲第１項記載の有機感光体。
【請求項４】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が、ヒ
ドラゾン化合物100重量部に対して、20〜75重量部含有
されている上記特許請求の範囲第１項記載の有機感光
体。
【請求項５】ヒドラゾン化合物が、Ｎ−メチル−３−カ
ルバゾリルアルデヒド−N,N−ジフェニルヒドラゾンで
ある上記特許請求の範囲第１項記載の有機感光体。
【請求項６】ペリレン化合物が、N,N′−ジ（3,5−ジメ
チルフェニル）−ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキ
シジイミドである上記特許請求の範囲第１項記載の有機
感光体。