JPH021490A - ３―アルケニル―１―アザビシクロ［３．２．０］ヘプト―２―エン―２―カルボン酸化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規３−アルケニル−１−アザビシクロ［３
，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸化合物お
よび医薬として許容されるその塩類に関する。

さらに詳細には、この発明は抗菌作用を有する新規３−
アルグ゛ニルー１−アザビシクロ［３，２０］−＼ブド
ー２−エンー２−カルボン酸化合物および医薬として許
容されるその塩類、そのｖ進法ならひにそれを含有する
抗菌剤に関する。

ｉなｔ）も、この発明の一つの目的は、多くの病原菌に
対して非常に有効でありかつ抗菌剤としｔ　１．ｉ−用
な新規３−アルケニル−１−アザビシクロ［３，２，０
］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸化合物および医薬
として許容されるその塩類を提供することである。

この発明のもう一つの目的は、新規３−アルケニル−１
−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−
カルボン酸化合物およびその塩類の製造法を提供するこ
とである。

この発明のさらにもう一つの目的は、有効成分として前
記３−アルケニル−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘ
プト−２−エン−２−カルボン酸化合物および医薬とし
て許容きれるその塩類を含有す゛る抗菌剤を提供するこ
とである。

目的とする３−アルケニル−１−アザビシクロ［３，２
，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸化合物は新規
であり、下記−服代で示すことができる。

［式中、Ｒ１はカルボキシ基または保護されたカルボキ
シ基、Ｒ２はヒドロキシ（低級）アルキル基または保護
されたヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒ３およびＲ４
はそれぞれ水素または低級アルキル基、Ｒ５は適当な置
換基で置換されてイテもよい脂肪族複素環基を意味する
コ および医薬として許容されるその塩類 １］的化合物（Ｉ）および後記中間化合物には、不斉戻
素原子および／または二重結合に起因する光学異性体お
よび／または幾何異性体のような立体異性体対１個以上
が存在することがあるが、そのような異性体もこの発明
の範囲内に包含されるものとする。

目的化合物（１）の好適な塩類は常用の無毒性の医薬と
して許容される塩類であり、無機塩基との塩、その例と
して、例えばナトリウム塩、カリウｌ、塩等のアルカリ
金属塩、例えばカルシウム塩、ングネシウム塩等のアル
カリ土類金属塩、アンモ゛−ウド塩、有機塩基塩、その
例として、例えばトリノ−ルアミン塩、ピリジン塩、ピ
コリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノールアミン
塩、ジシクロベキシルアミン塩、Ｎ、Ｎ’　−ジベンジ
ルエチレンジアミン塩等の有機アミン塩のような塩↓（
との塩；例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩
等の無機酸付加塩、例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオ
ロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルボン酸
塩、ベンゼンスルボン酸塩等の有機酸付加塩のような酸
との塩；例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミ
ン酸等の塩基性アミノ酸または酸性アミノ酸との塩；分
子内第四級塩等が挙げられる。

この発明の目的化合物（Ｉ）および医薬として許賽され
るその塩類は、下記反応式で示される製造法によって製
造することができる。

製造法１ （Ｉ［） またはその塩類 またはその塩類 聚」Ｕ礼主 （Ｉ−ａ） またはその塩類 （Ｉ−ｂ） またはその塩類 製造法４ （Ｉ−ｅ） またはその塩類 （Ｉ−ｆ） またはその塩類 製造法３ （Ｉ−ｃ） またはその塩類 （Ｉ−ｄ） またはその塩類 製造法５ Ｃ１−ｆ”） またはその塩類 （Ｉ−ｇ） またはその塩類 製造法６ 製造法７ またはヒドロキシ基に おけるその反応性誘導 体またはその塩類 ＣＩ−ｈ） またはその塩類 またはその塩類 （Ｉ−Ｄ またはその塩類 ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ
前と同じ意味であり、Ｒは保Ｎきれたカルボキシ基、Ｒ
２は保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒｂは
ヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒは適当な置換基で置
換されていてもよい、保護されたイミノ部分を有する脂
肪族複素環基、Ｒζは適当な置換基で置換きれていても
よい、イミノ部分を有する脂肪族複素環基、Ｒ５は適当
な置換基で置換されていてもよい、低級アルカンイミド
イルイミノ部分を有する脂肪族複素環基、Ｒ３は保護さ
れたヒドロキシ、保護きれたヒドロキン（低級）アルキ
ル、保護された低級アルキルアミノ、または保護された
イミノで置換された脂肪族複素環基、Ｒ５はヒドロキシ
、ヒドロキシ（低級）アルキノ呟低級アルキルアミノま
たはイミノで置換きれた脂肪族複素環基、Ｒ６はアリー
ル基または低級アルコキシ基を意味するコ製進法１およ
び６で使用きれる原料化合物（ＩＩ）才」よび（Ｉ［［
）は新規であり、例えば下記に示す方法によって製造す
ることができる。

、星辺五 （Ｖ） （■） またはその塩類 基因１ （■） またはその塩類 （ＩＸ） またはその塩類 亙盈盃 （ＩＸ） またはヒドロキシ基に おけるその反応性誘導 体またはその塩類 またはその塩類 方法Ｅ またはその塩類 またはその塩類 方法Ｄ （■） またはその塩類 またはその塩類 方法Ｆ またはその塩類 またはその塩類 方法Ｇ またはその塩類 方法Ｉ またはその塩類 （ＩＩＩ） またはその塩類 方法Ｈ （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６はそ
れぞれ前と同し意味であり、Ｒ７は保護きれたカルボキ
シ基、Ｌは脱離基、 Ｘは酸残基を意味する） この明細書の記載において、この発明の範囲内に包含さ
れる種々の定義の好適な例および説明を以Ｆ詳細に述べ
る。

「低級、とは、特に指示がなければ、炭素原子１個ない
し６個を意味するものとする。

好適な「保護されたカルボキシ基」としてはエステ曇し
化きれたカルボキシ基が挙げられ、「ニス！タル化きれ
たカルボキシ基」については下記のものを参照すればよ
い。

エステル化されたカルボキシ基のエステル部分の好適な
例としては、例えばメチルエステル、エチルエステル、
プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエス
テル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペ
ンチルエステル、ヘキシルエステル等の低級アルキルエ
ステルが挙げられ、それらは適当な置換基少なくとも１
個を有していてもよく、その例としては、例えばアセト
キシメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエステ
ル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキ
サノイルオキシメチルニスデル、１−（または２−）ア
セトキシエチルエステル、１−（または２−または３−
）アセトキシプロピルエステル、１−（または２−また
は３−または４−）アセトキシブチルエステル、１−（
または２−）プロピオニルオキシエチルエステル、ｌ−
（または２−または３−）プロピオニルオキシプロビル
エステル、１−（または２−）ブチリルオキシエチルエ
ステル、１−（または２−）（ツブチリルオキシエチル
エステル、１−（または２−）ピバロイルオキシエチル
エステル、１−（または２−）ヘキサノイルオキシエチ
ルニスデル、イソブチリルオキシメチルエステル、２−
エチルブチリルオキシメチルエステル、３．３−ジメチ
ルブチリルオキシメチルエステル、１−（または２−）
ペンタノイルオキシエテルエステル等の低級アルカノイ
ルオキシ（低級）アルキルエステル、例えば２−メシル
エチルエステル等の低級アルカンスルホニル（低級）ア
ルキルエステル、例λば２−ヨードエチルエステル、２
．２．２トリタロロエチルエステル等のモノ（またはジ
またはトリ）ハロ（低級）アルキルエステル；例えばメ
トキシカルボニルオキシメチルエステルエトキシカルボ
ニルオキシメチルエステルア１！キシカルボニルオキシ
メチルエステル、第三級ブトキシカルボニルオキシメチ
ルエステル（または２−）メトキシカルボニルオキシエ
チルエステル ル」キシエチルエステル、１−（または２−）イソプ１
１ボキシカルポニルオキシエチルエステル等の低級アル
コキシカルボニルオキシ（低級）アルキルエスデＬ，フ
タリジリデン（低級）アリールエステル呟　または例え
ば（５−メチル−２−オキソ−１．３−ジオキソ−ルー
４−イル）メチルエステル、（５−エチル−２−才キソ
ー１．３−ジオキソ−ルー４−イル）メチルエステル、
（５−ブロビル−２−才キソー１．３−ジオキソ−ルー
４−イル）エチルエステル等の（５−低級アルキルー２
−才キソー１．３−ジオキソ−ルー４−イｊＬ−）（低
級）アルキルエステル；例えばビニルニスデル、アリル
エステル等の低級アルケニルニスデル；イ列えばエチニ
ルエステル、プロピニルエステル等の低級アルキニルエ
ステル；例えばベンジルエステル、４−メトキシベンジ
ルエステル、４−ニトロベンジルエステル、フェネチル
エステル、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル
、ビス（メトキシフェニル）メチルエステル、３、４−
ジメトキシベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３．５
ージ第三級ブチルベンジルエステル等の適当な置換基少
なくとも１個を有していてもよいアル（低級）アルキル
エステル；例えばフェニルエステル、４−クロロフェニ
ルエステル、トリルエステル、第三級ブチルフェニルエ
ステル、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニ
ルエステル等の適当な置換基少なくとも１個を有してい
てもよいアリールエステル：フタリジルエステル等のよ
うなものが挙げられる。

このような意味における保護されたカルボキシ基のさら
に好ましい例としては　Ｒ１またはＲ１についてはＣ２
−Ｃ４アルケニルオキシカルボニル基およびフェニル（
またはニトロフェニル＞（Ｃ１−Ｃ　　）アルコキシカ
ルボニル基、およびＲ７についてはＣ１−Ｃ４アルコキ
シカルボニル基が挙げられ、最も好ましいものとしては
Ｒ１またはＲ１についてはアリルオキシカルボニル基、
およびＲ７についてはメトキシカルボニル基が挙げられ
る。

好適な「ヒドロキシ（低級）アルキル基」としては、ヒ
ドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ル、１−（ヒドロキシメチル）エチル、１−ヒドロキシ
−１−メチルエチル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペ
ンチル、ヒドロキシヘキシル等のような、ヒドロキシで
置換された直鎖または分枝鎖低級アルキル基が挙げられ
、それらの中でさらに好ましい例としてヒドロキシＣＣ
１−Ｃ４）アルキル基が挙げられ、最も好ましいｔ）の
としては１−ヒドロキシエチル基が挙げられる。

好適な１保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、と
しては、後述のイミノ保護基の説明で述へるような常用
のヒドロキシ保護基、好ましくは１氏級アルケニルオキ
シカルボニル基およびフェニル（またはニトロフェニル
）（低級）アルコキシカルボニル基；およびきらに１列
えばベンジル、ペンスヒドリル、トリチル等のモノ−ま
たはジーまたはトリフェニル（低級）アルキル基のよう
なＣ６’１０アル（低級）アルキル基等；例えばトノメ
チルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルツメチル
シリル、第三級ブチルジメチルシリル、ジイソプロピル
メチルシリル等のトリ（低級）アルキルシリル基、例え
ばトリフェニルシリル等のトリ（Ｃ６−Ｃ１ｏ）アリー
ルシリル基、トリス［（Ｃ６−Ｃ１ｏ）アル（低級）ア
リールシリル基、その例として例えばトリベンジルシリ
ル等のトリス〔フェニル（低級）アリールシリル基メチ
ル 基が保護された前記ヒドロキシ（低級）アルキル基が挙
げられる。

このような意味における１保護されたヒドロキン（低級
）アルキル基」のさらに好ましい例としては、（フェニ
ル（マたはニトロフェニル）　（Ｃ１−Ｃ）アルコキシ
）カルボニルオキシ（Ｃ１−Ｃ４）アルキル基、Ｃ２−
Ｃ４アルケニルオキシカルボニルオキシ（Ｃ１−Ｃ４）
アルキル基および（トノ（Ｃ１−Ｃ４）アルキルシリル
）オキシ（ＣＩＣ４）アルキル基が挙げられ、最も好ま
しいものとしては、１−トリメチルシリルオキシエチル
基および１−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル
基が挙げられる。

好適な１低級アルキル基、としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチル、ペン
チル、ヘキシル等の直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げ
られ、それらの中でさらに好ましい例としてはＣ１−Ｃ
４アルキル基が挙げられ、最も好ましいものとしてはメ
チル基が挙げられる。

ｒ適当な置換基で置換されていてもよい脂肪族複素環基
」の好適な「脂肪族複素環基」部分とは、酸素原子、イ
才つ原子、窒素原子等のようなヘテ１］原子少なくとも
１個を含む飽和単環式または多環式複素環基を意味する
。

適当な置換基で置換されていてもよい好ましい脂肪族複
素環基としては、 例えばアゼチジニル、ピロリジニル、イミダゾリジニル
、ピペリジニル、ピラゾリジニル、ビベランニル等の窒
素原子１個ないし４個を含む飽和３員ないし８員、きら
に好ましくは４員ないし６員複素単環基； 例えばモルホリニル等の酸素原子１個ないし２個および
窒素原子１個ないし３個を含む飽和３員ないし８員、さ
らに好ましくは５員または６員複素単環基； 例えばチアゾリジニル等のイ才つ原子１個ないし２個お
よび窒素原子１個ないし３個を含む飽和３員ないし８員
、さらに好ましくは５員または６員複素単環基等が挙げ
られる。

前記脂肪族複素環基は、 ヒドロキシ基； ヒドロキシ基が、保護されたヒドロキシ（低級）アルキ
ル基の説明で述べたような常用のヒドロキシ保護基で保
護されている保護されたヒドロギア基さらに好ましくは
例えば第三級プチルジメナルシリルオキシ等のトリ（Ｃ
１−Ｃ４）アルキルシリルオキシ基； 前記のようなヒドロキシ（低級）アルキル基または保護
されたヒドロキシ（低級）アルキル基、さらに好ましく
は例えばヒドロキシメチル等のヒドロキシ（Ｃ１−Ｃ４
）アルキル基または例えば第二級ブチルジメチルシリル
オキシメチル等のトＪ（Ｃ１−Ｃ４）アルキルシリルオ
キシ（ＣＩＣ４）アルキル基； 例えば塩素、臭素、沃素またはフッ素、好ましくはフッ
素のようなハロゲン； 後記低級アルコキシ基、さらに好ましくは例えばメトキ
シ等の０１−０４アルフキシ基；１ｉｉｉ記低級アルキ
ル基、さらに好ましくは例えばメチル等のｃｌ−ｃ４ア
ルキル基； 低級アルコキシ部分および低級アルキル部分がそれぞれ
前記低級アルコキシ基および前記低級アルキル基と同じ
である低級アルコキシ（低級）アルキル基、さらに好ま
しくは例えばメトキシメチル等のＣ１−Ｃ４アルコキシ
Ｃ１−Ｃ４アルキル基； イミノ基； ？ミノ基が後述のような常用のイミノ保護基によって保
護きれている保護されたイミノ基、さらに好ましくはず
列えばアリル才キシ力ルポニルイミ７等のＣ２−Ｃ，ア
ルケニルオキシカルボニルイミノ基； 低級アルキル部分が前記低級アルキル基と同じものであ
る低級アルキルアミノ基、さらに好ましくは例えばメチ
ルアミノ等のＣ１−Ｃ４アルキルアミノ基： 後述のイミノ保護基のような常用のアミノ保護基でアミ
ノが保護されている前記低級アルキルアミノ基である保
護された低級アルキルアミノ基、さらに好ましくは例え
ばＮ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ等の
Ｎ−（Ｃ２−Ｃ４アルクニルオキシカルボニル）−Ｎ−
（Ｃ１−Ｃ４）アルキルアミノ基； 低級アルキル部分が前記低級アルキル基と同じであるモ
ノ（またはジ）（低級）アルキルカルバモイルオキシ基
、さらに好ましくは例えばメチルカルバをイルオキシ、
ジメチルカルバモイルオキシ等のモノ（またはジ）（Ｃ
，−Ｃ４）アルキルカルバモイルオキシ基； 低級アルキリデン基、さらに好ましくは例えばメチレン
等の０ｌ−Ｃ４アルキリデン基；等のような適当な置換
基１個以上、好ましくは１個または２個で置換きれてい
てもよい。

さらにまた前記脂肪族１ｉ素環基はその環内にイミノ部
分を有する場合には、そのイミノ部分は、前記低級アル
キル基； ホルムイミドイル、アセトイミドイル、プロピオンイミ
ドイル、ブチルイミドイル、イソバレルイミドイル、ペ
ンタンイミドイル、ヘキサンイミドイル等のような直鎖
または分枝鎖状の低級アルカンイミドイル基、きらに好
ましくは例えばホルムイミドイル、アセトイミドイル等
のＣ１−Ｃ４アルカンイミドイル基； 後記イミノ保護基、好ましくは低級アルケニル」キシカ
ルボニル基、さらに好ましくは例えばアリルオキシカル
ボニル オキシカルボニル基； 等のような適当な置換基によってｔ換されていてもよい
。

「適当な置換基で置換されていてもよい脂肪族複素環基
」の好ましい例としては、 例えばピロリジン−２−イル、ピロリジン−３−イル等
のピロリジニル基； １−（低級）アルケニルオキシ力ルポニルビロノジニル
基のようなＮが保護されたピロリジニル基、好ましくは
例えばｌ−アリルオキシカルボニルピロリジン−２−イ
ル、１−アリルオキシカルボニルピロリジン−３−イル
等の１−（Ｃ２Ｃ，）アルケニルオキシカルボニルピロ
リジニル基； １−（低級）アルカンイミドイルピロリジニル基、好ま
しくは例えば１−ホルムイミドイルピロリジン−２−イ
ル、１−アセトイミドイルピロリジン−２−イル等の１
−（Ｃ１−Ｃ４）アルカンイミドイルピロリジニル基； 例えば４−ヒドロキシピロリジン−２−イル等のヒドロ
キシピロリジニル基； １−（低級アルケニルオキシカルボニル）（ヒドロキシ
）ピロリジニル基のようなＮが保護されたヒドロキシピ
ロリジニル基、好ましくは例えばｌ−アリルオキシカル
ボニル−４−ヒドロキシピロリジン−２−イル等の１−
（Ｃ２−Ｃ４）アルケニルオキシカポニル）（ヒドロキ
シ）ピロリジニル基； １−（低級アルケニルオキシカルボニル）［トリ（低級
）アルキルシリルオキシ］ピロリジニル基のようなＮが
保護された（保護されたヒドロキシ）ピロリジニル基、
好ましくは例えば１−アリル〕ｊキシカルボニルー４−
第三級プチルジメチル〉リルオキンビロリジンー２−イ
ル等の１−（Ｃ２−Ｃ４アルケニルオキシカルボニル）
［ト）ＣＣ１−Ｃ４）アルキルシリルオキシュビロリン
ニル基； 低級アルコキシピロリジニル基、好ましくは例えは４−
メトキシピロリジン−２−イル等のＣ１−０４アルコキ
シピロリジニル基； １−（低級アルケニルオキシカルボニル）（低級アルコ
キシ）ピロリジニル基のようなＮが保護された（低級ア
ルコキシ）ピロリジニル基、好ましくは１列えば１−ア
リルオキシカルボニル−４−メトキ／ピロリジン−２−
イル等の１−（ｃ２Ｃアルケニルオキシカルボニル）（
Ｃ１−Ｃ４アルコキン）ピロリジニル基； ［シ（低級）アルキルカルバモイルオキシ］ビロりンニ
ル基、好ましくは例えば４−（ジメチルカルバモイルオ
キシ）ピロリジン−２−イル等の［ジ（Ｃ１−Ｃ４）ア
ルキルカルバモイルオキシ］ピロリジニル基； １−（低級アルケニルオキシカルボニル）ロジ（低級）
アルキルカルバモイルオキシ］ピロリジー、ル基のよう
なＮが保護された［ジ（低級）アルキルカルバモイルオ
キシコピロリジニル基、好ましくはイ列えば１−アリル
オキシカルボニル−４−（ンメチルカルバモイルオキシ
）ピロリジン−２（ル等のｔ−（Ｃ２−Ｃ４アルケニル
オキシカルボニル）　［シ（ＣＩＣ４）アルキルカルバ
モイルオキシ （１ｆ．級アルキルカルバモイルオキシ）ピロリジニル
基、好ましくは例えば４−（メチルカルバモイルオキシ
）ピロリジン−２−イル等の（ＣＩ０４′アルキルカル
バモイルオキシ）ピロリジニル基； １−（低級アルケニルオキシカルボニル）（低級アルキ
ルカルバモイルオキシ）ピロリジニル基のようなＮが保
護きれた（低級アルキルカルバモイルオキシ）ピロリジ
ニル基、好ましくは例えば１−アリルオキシカルボニル
−４−（メチルカルバモイルオキシ）ピロリジン−２−
イル等の１−（Ｃ−Ｃ　アルケニルオキシカルボニル）
　（　Ｃ１一Ｃ　　アルキルカルバモイルオキシ）ピロ
リジニル仄； （コ（氏級アルキルアミノ）ピロリジニル基、好ましく
は例えば４−（メチルアミン）ピロリジン−２　−　、
（ル等の（Ｃ１−Ｃ４アルキルアミノ）ピロリジニル基
； １−（イ氏級アルケニルオキシカルボニル）［Ｎ−ＵＰ
；’９ｔ）アルケニルオキシカルボニル（低級）アルキ
ルアミノコピロリジニル基のようなＮが保護された（保
護された低級アルキルアミノ）ピロリジニル基、好まし
くは例えば１−アリル、ｊキンカルボニル− ルボ−、ルーＮ−メチルアミノ）ピロリジン−２−イル
等の１−（Ｃ２−Ｃ４アルケニルオキシカルボニル）［
Ｎ−（Ｃ２−Ｃ４）アルケニルオキシカルボニル−Ｎ−
（Ｃ１−Ｃ４）アルキルアミノピロリジニル 例えば４−フルオロピロリジン−２−イル等の１−（イ
氏級アルケニルオキシカルボニル）ハロビ【７リンニル
基のようなＮが保護されたハロピロノ／ニル基、好まし
くは例えば１−アリルオキシカルボニル−４−フルオロ
ピロリジン−２−イル等の１−（Ｃ２−Ｃ４アルケニル
オキシカルボニル）フルオロピロリジニル基； 〔低級アルコキシ（低級）アルキルコピロリジニル基、
好ましくは例えば４−（メトキシメチル）ピロリジン−
２−イル等の［Ｃ１−Ｃ４アルコキシ（　Ｃ１−Ｃ４）
アルキルコビロリジニル基；１−（イ氏級アルケニル才
キンカルポニル）［イ氏級アルコキシ（低級）アルキル
］ピロリジニル基のようなＮが保護された［低級アルコ
キシ（低級）アルキルコビロリジニル基、好ましくは例
えは１−アリルオキシカルボニル−４−（メトキシメチ
ル）ピロリジン−２−イル等の１　−　（　Ｃ２Ｃ　ア
ルケニルオキシカルボニル）［Ｃｌ−Ｃ４アルコキシ（
Ｃ１−Ｃ４）アルキル］ピロリジニル基； ハロピロリジニル基； ［ヒドロキシ（低級）アルキルコビロリジニル基、好ま
しくは例えば５−（ヒドロキシメチル）ピロリジン−２
−イル等の［ヒドロキシ（ＣＩＣ４）アルキルコビロリ
ジニル基； １−（低級アルケニルオキシカルボニル）［ヒドロキシ
（低級）アルキルコビロリジニル基のようなＮが保護さ
れた［ヒドロキシ（低級）アルキルコビロリブニル基、
好ましくは例えば１−アリルオキシカルボニル−５−（
ヒドロキンメチル）ビロリン°ンー２−イル等の１（Ｃ
２−Ｃ４アルケニルオキシカルボニル）［ヒドロキシ（
ＣＩＣ４）アルキルコビロリジニル基； ［ｊ氏級アルキルアミノ（イ氏級）アルカノイル］ピロ
リジニル基、好ましくは例えば１−（メチルアミノアセ
チル）ピロリジン−２−イル等の１−［（Ｃ１−Ｃ４）
アルキルアミノ（Ｃ１−Ｃ４）アルカノイル］ピロリジ
ニル基； １−［Ｎ−（低級）アルケニルオキシカルボニル−Ｎ−
（低級）アルキルアミノ（低級）アルカノイル］ピロリ
ジニル基のような［保護された（低級）アルキルアミノ
（低級）アルカノイルコピ［１リンニル基、好ましくは
例えば１−（Ｎ−アノルオキン力ルボニルーＮ−メチル
アミノアセチル）ピロリジン−２−イル等の１−（Ｎ−
（Ｃ２−Ｃ）アルケニルオキシカルボニル− Ｃ　〉アルキルアミノ（　Ｃ１−Ｃ４）アルカノイルト
コビロリジニル基； （低級アルキル）（イミノ）ピロリジニル基、好ましく
は例えば１−メチル−５−イミノピロリノン−２ーイル
等の１−［（Ｃ１−Ｃ４）アルキルコイミノピロリジニ
ル基； １−（低級アルキル）（低級アルケニルオキシカルボニ
ルイミノ）プロリジニル基のような（低１扱アルキル）
（保護されたイミノ）ピロリジニル基、好ましくは例え
は１−メチル−５−（アリルオキシカルボニルイミノ）
ピロリジン−２−イル等の１−（Ｃ　　−Ｃ　　アルキ
ル）（Ｃ２−Ｃ４アルケニルオキシ力ルポニルイミノ）
ピロリジニル基； 例えばピペリジン−２−イル等のピペリジニル基； １−　（＜ｒｈ級アルケニルオキシカルボニル）ビペノ
ノ゛ニル基のようなＮが保護されたピペリジニル基、好
ましくはず列えば１−アリルオキシカルボニルピペリジ
ン−２−イル等の１−（　Ｃ２−Ｃ４）アルウニルオキ
シカルボニルビベリジニル基；例えばアゼデシン−３−
イル等のアゼチジニル基； １−（イ氏級アルケニルオキシカルボニル）アゼナシニ
ル基のようなＮが保護されたアゼチジニル基、好ましく
は例えば１−アリルオキシ力ルポニルアビテジン−３−
イル等の１−（Ｃ２−Ｃ４）アルケニルオキシカルボニ
ルアゼチジニル基；イ列えばモルホリン−３−イル等の
モルホリニル基： ４−（イ氏級）アルケニルオキシカルボニルモルホリニ
ル基のようなＮが保護されたモルホリニル基、好ましく
はず列えば４−アリルオキシカルボニルモルホリン−３
−イル等の４−（Ｃ２−Ｃ４）アルケニルオキシカルボ
ニルモルホリニル基７低級アルキリデンピロリジニル基
、好ましくはｆ列えば４−メチレンピロリジン−２−イ
ル等のＣ１−Ｃ４アルキリデンピロリジニル基；１−（
低級）アルケニルオキシカルボニル）（低級アルキリデ
ン）ピロリジニル基のような保護きれた（低級アルキリ
デン）ピロリジニル基、１７ましくはイ列えば１−アリ
ルオキシカルボニル−４−メチレンピロリジン−２−イ
ル等の１−（Ｃ２−Ｃ４アルケニルオキシカルボニル（
ＣＩ−Ｃ４アルキリデン）ピロリジニル基が挙げられる
。

１適当な置換基で置換されていてもよい、イミノ部分を
有する脂肪族複素環基」とは、脂肪族複素環がイミノ部
分少なくとも１個を有する上記１適当な置換基で置換さ
れていてもよい脂肪族複素環基」を意味する。

１適当な置換基で置換されていてもよい、保護されたイ
ミノ部分を有する脂肪族複素環基」とは、脂肪族複素環
が保：４きれたイミノ部分少なくと＋＋　１個を有する
上記１適当な置換基で置換されていてもよい脂肪族複素
環基」を意味する。

１適当な置換基で置換されていてもよい、低級アルカン
イミドイルイミノ部分を有する脂肪族複素環基、とは、
脂肪族複素環が低級アルカンイミドイル部分少なくとも
１個を有する上記１適当なｊｌ置換基置換諮れていても
よい脂肪族複素環基」を意味する。

１保護きれたヒドロキシ、保護きれたヒドロキン（低級
）アルキル、保護きれた低級アルキルアミノまたは保護
されたイミノで置換された脂肪族複素環基、・とは、脂
肪族複素環が保護きれたヒドロキ／、保護されたヒドロ
キシ（低級）アルキル、保護された低級アルキルアミノ
または保護きれたイミノを置換基として有する上記１適
当な置換基で置換されていてもよい脂肪族複素環基、を
意味する。

「ヒドロキシ、ヒドロキシ（低級）アルキル、低級アル
キルアミノまたはイミノで置換された脂肪族複素環基」
とは、脂肪族複素環がヒドロキン、ヒドロキシ（低級）
アルキル、低級アルキル゛／ミノまたはイミノを置換基
として有する上記「適当な置換基で置換きれていてもよ
い脂肪族複素環基を意味する。

好適な１低級アルコキシ基ノとしては、メトキ／、」、
トキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、イン
ブトキシ、ベチルオキシ、インペンナルオキシ、ヘキシ
ルオキシ等のような直鎖または分枝鎖アルコキシ基が挙
げられ、それらの中で々ｆましいものとしてはＣ１−０
４アルコキシ基が挙げられ、最も好ましいものとしては
メトキシ基が挙げられる。

好適な１酸残基」としてはアジ化物、例えば塩素、臭素
、フッ素または沃素のようなハロゲン等のような無４５
！酸残基、例えばベンゼンスルホニルオキン、トシルオ
キシ、メタンスルホニルオキシ、アセトキシ等のアシル
オキシ基等のような有［Ｆ残基が挙げられ、それらの中
でごらに好ましいものとしてはハロゲンが挙げられ、最
も好ましいものとしては沃素が挙げられる。

好適な１アリール基」としては、フェニル、トノル、午
シリル、クメニル、メシチル、ナフチル等のようなＣ６
’１０アリール基が挙げられ、それらの中で芒らに好ま
しいものとしてはフェニル基が挙げられる。

好適な１脱離基」としては、前記酸残基が挙げらυ、そ
れらの中で許らに好ましい例としては低級アルカノイル
オキシ基が挙げられ、最も好ましいものとしてはアセト
キシ基が挙げられる。

イミノ保護基の好適な例としては、カルボン酸、炭酸、
スルホン酸およびカルバミン酸から誘導されたカルバモ
イル基、脂肪族アシル基、芳香族ア／ル基、複素環アシ
ル基ならびに芳香族基または複素環基によって置換きれ
た脂肪族アシル基が挙げられる。

脂肪族アシル基としては、飽和または不飽和の非環式ま
たは環式のもの、例えばホルミル、アセナル、グロビオ
ニノ呟　ブチリル、イソブチリル、バレリル、インバレ
リル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アルカノイル
基のようなアルカノイル基、例えばメシル、エチルスル
ホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル
、プチルメルホニル、イソブチルスルホニル、ペンチル
スルボ！、ル、ヘキシルスルホニル等の低級アルキルス
ルホニル基のようなアルキルスルホニル基、カルバモイ
ル基、例えばメチル力ルバモイ４．エチルカルバモイル
等のＮ−アルキルカルバモイル基、例えばメトキシカル
ボニル、エトキシカルボ−、ル、プロポキシカルボニル
、ブトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニル等の
低級アルコキノカメレボニル基のようなアルコキシカル
ボニル基、イ列えばビニルオキシカルボニル、アルコキ
シカルボニル等の低級アルケニルオキシカルボニル基の
ようなアルケニルオキシカルボニル基、例えばアクリロ
イル、メタクリロイｊ呟　クロトノイル等の低級アルケ
ノイル基のようなアルケノイル基、１列えばシクロプロ
パンカルボニル、シクロベンクン力ルボニＪｌｚ，シク
ロヘキサンカルボニル等のノクロ（低級）アルカンカル
ボニル基のようなンクロアルカン力ルポニル基等がその
例として挙げられる。

万香族アシル基としては、例えばベンゾイル、トルオイ
ル、キシロイル等のアロイル基、例えばＮ−フェニルカ
ルバモイノし、Ｎ−トリルカルバモイル ルカルバをイル基、例えばベンゼンスルホニル、トンＩ
し等のアレーンスルホニル基等が挙げられる。

複素環アシル基としては、例えばフロイル、テノイル、
二ロチノイル、インニコチノイル、チアソリルカルポニ
ル、チアジアゾリルカルボニルテトラゾリルカルボニル
等の複素環カルボニル基等が挙げられる。

芳香族基によって置換きれた脂肪族アシル基としては、
例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル、フェ
ニルヘキサノイル等のフェニル（低級）アルカメイル基
のようなアラルカッイル基、例えばベンジルオキシカル
ボニル、フェネチルオキシカルボニル等のフェニルＣ低
級）アルコキシカルボニル ＬＪピオニル等のフェノキシ（低級）アルカノイル基の
ようなアリールオキジアルカノイル基等が挙げられる。

複素環基で置換きれた脂肪族アシル基としては、例えば
チエニルアセチル、イミダゾリルアセチル、フリルアセ
チル、テトラゾリルアセチＪ呟ナアゾリルアセチル、チ
アジアゾリルアセチル、ナエールプロビオニル、チアジ
アゾリルプロピオニル等の複素環（低級）アルカノイル
基のような複素環アルカノイル基等が挙げられる。

これらのアシル基はさらに、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の低級アルキル基、例えば塩素、臭素、沃素、フッ素の
ようなハロゲン、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、インプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ等の低級アルコキシ基、例えばメチルチオ、
エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチル
チオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ等の低級アルキルチ
オ基、ニトロ基、例えばメチルアミン、エテルアミン、
プロピルアミノ、イソプロピルアミン等の低級アルキル
アミノ、例えばＮ−アリルオキン力ルボニルーＮーメチ
ルアミン等の保護された低級アルキルアミノ基等のよう
な適当な置換基１個以上で置換されていてもよく、その
ような置換基を有する好ましいアシル基としては、例え
はクロロアセチル、ブロモアセチル、ジクロロアセチル
、トリフルオロアセチル等のモノ（またはシよたはトリ
）ハロアルカノイル基、例えばクロロメトキシカルボニ
ル ル 等のモノ（またはジまたはトリ）ハロアルコキシカルボ
ニル基、イ列えばニトロベンジルオキシカルボニル、ク
ロロベンジルオキシカルボニルキシヘンシルオキシカル
ボニル等のニトロ−（またはハローまた低級アルコキシ
−）アラルコキシカルボニル基、イ列えばフルオロメチ
ルスルホニル、ジフルオロメチルスルホニル、トリフル
オロメチルスルホニル、トリクロロメチルスルホニル等
のモノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アル七ルス
ルホニル基等が挙げられる。

このような意味におけるイミノ保護基のさらに好，ｔし
い例としては（Ｃ２−Ｃ４）アルケニルオキシカルボニ
ル基、フェニル（またはニトロフエー．ル）（Ｃ１−Ｃ
４）アルフキジカルボニルｃ　　−ｃ　　アルキルアミ
ノ（Ｃ１−Ｃ４）アルカメイル基およびＮ−（Ｃ２−Ｃ
４）アルケニルオキシカルボニル−Ｎ−（Ｃ１−Ｃ４）
アルキルアミン（Ｃ１−Ｃ４）アルカノイル基が挙げら
れ、最も好ましいものとしてはアリルオキシカルボニル
基、（メチルアミン）アセチル基およびＮ−アリルオキ
シカルボニル− ル基が挙げられる。

この発明の目的化合物（Ｉ）の製造法を以下詳細に説明
する。

（１）製造法１ 化合物（Ｉ）またはその塩類は、化合物（ＩＩ＞または
その塩類を環化することにより製造することができる。

化合物（Ｉ［）の好適な塩類としては、化合物（Ｉ）の
塩類と同しものが挙げられる。

この反応はジオキサン、ヘキサメチルホスホルアミド、
ベンゼン、トルエン、キシレン、ジメチルスルホキシド
、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリジン等のような
反応に悪影響を及ぼきない慣用の溶媒中、またはそれら
の混合物中化合物（Ｉ［）を加熱することにより行うの
が好ましい。

この反応はまたヒドロキノンの存在下に行うこともでき
る。

この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は加温
下ないし加熱下に行われる。

（２）製造法２ 化合物（１−ｂ）またはその塩類は、化合物（１−ａ）
またはその塩類をＲ１のカルボキシ保護基の脱離反応に
付すことにより製造することができる。

化合物（Ｉ−ａ）および（１−ｂ）の好適な塩類として
は化合物（１）の塩類と同じものが挙げられる。

この反応は通常、加水分解、還元等のような常法によっ
て行われる。

（ｉ）加水分解 加水分解は酸または塩基の存在下に行うのが好ましい。

好適な塩基としては例えば水酸化ナトリウノ１、水酸化
カリウム等のアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化マグ
ネシウム、水酸化力ルシウ１、等のアルカリ土類金属水
酸化物、例えば水素化すｌ・リウム、水素化カリウム等
のアルカリ金属水素化物、例えば水素化カルシウム等の
アルカリ土類金属水素化物、例えばナトリウムエトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウム第三級ブトキシド
゛９のアルカリ金属アルコキシド、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルかり金属次酸塩、例えば炭酸
マグネシウム、炭酸力ルンウム等のアルカリ土類金属炭
酸塩、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
のアルカリ金属炭酸水素塩等が挙げられる。

好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロと７ｊン酸
、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸等の有機酸および例えば塩酸、臭化水素酸
、硫酸、燐酸等の無Ｊａ酸が挙げられる。トリフルオロ
酢酸を使用する酸性加水分解は通常、例えばフェノール
、アニソール等の陽イオン捕捉剤の添加によって促進さ
れる。

ヒドロキシ保護基がトリ（低級）アルキルシリル基であ
る場合には、加水分解を例えばフッ化トノノテルアンモ
ニウム等のハロゲン化トリ（低級）アルキルアンモニウ
ムの存在下に行うことができる。

この反応は通常、水、ジクロロメタン、例えばメタノー
ル、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトン等のような反応に悪影響を及ぼさ
ない常用の溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる
。液状の塩基または酸も溶媒として使用することができ
る。

反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応を行うことができる。

（讐）還元 、−の脱離反応に適用できる還元方法としては、例えば
亜鉛、亜鉛アマルガム等の金属または例えば塩化第一ク
ロム、酢酸第一クロム等のクロム化合物塩と、例えば酢
酸、プロピオン酸、塩酸、硫酸等の有機酸または無′ａ
酸との組合わせ；および例えばパラジウム海綿、パラジ
ウム黒、酸化パラジウム、パラジウム−炭素、コロイド
パラジウム、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−
炭酸バリウム、水酸化パラジウム−炭素等のパラジウム
触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッ
ケル等のニッケル触媒、例えば白金板、白金海綿、白金
黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の白金触媒等の
ような慣用の金属触媒の存在下における接触還元常法が
挙げられる。

接触還元を適用する場合には、中性付近の条件で反応を
行うのが好ましい。

この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパツール等のアルコール、ジオキサン、子トラヒド
ロフラン、酢酸、例えば燐酸塩緩ｉ！ｌｉ７７々、酢酸
塩綴衝液等の綴ｆｉ溶液のような反応に悪影響を及ぼさ
ない常用の溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる
。

１ノ応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし
加温下に反応が行われる。

カルボキシ保護基がアリル基である場合には、保護基は
パラジウム化合物を使用する水素化分解によって脱保護
される。

この反応に使用される好適なパラジウム化合物としては
、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム−ｆｆ素、塩化
パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パ
ラジウム（０）、ビス（ジベン・シリデンアセトン）バ
ラジウＡ　＜　ｏ　）、ジ［１゜２−ビス（ジフェニル
ホスフィノ）エタンコバランラム（０）、テトラキス（
亜燐酸トリフェニル〉パラジウム（０）、テトラキス（
亜燐酸トリエチル）パラジウム（０）のようなパラジウ
ム−配位子錯体等が挙げられる。

反応は、例えばモルホリン、Ｎ−メチルアニリン等のア
ミン、例えばジメドン、酢酸ベンゾイル、２−メチル−
３−オキソ吉草酸等の活性メチレン化合物、例えばシア
ン化α−テトラヒドロビジニルオキシベンジル等のシア
ノヒドリン化合物、例えばギ酸、酢酸、ギ酸アンモニウ
ム、酢酸ナトリウム等の低級アルカン酸またはその塩、
Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド等のような、反応中発生
するアリル基の捕集剤の存在下に行うのが好ましい。

この反応は例えばブチルアミン、トリエチルアミン等の
低級アルキルアミン、ピリジン等のような塩基の存在下
に行うことができる。

この反応にパラジウム−配位子錯体を使用する場合には
、例えばトリフェニルホスフィン、亜燐酸トリフェニル
、亜燐酸トリエチル等の対応する配（ｑ子の存在下に反
応を行うのが好ましい。

この反応は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、ジオキサン、テトラヒドロプラン、アセトニト
リル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン
、酢酸エチル等のような反応に悪影響を及ぼさない常用
の溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる。

脱離反応は、脱離すべきカルボキシ保護基の種類によっ
て選択することができる。

この製造法においては　Ｒ２のヒドロキシ保護基および
／またはイミノ保護基および／またはＲ５のヒドロキシ
保護基が反応中同時に脱離する場合もその範囲内に包含
される。

（３）製造法３ 化合物（Ｉ−ｄ）またはその塩類は、化合物（Ｉ−ｃ）
またはその塩類をＲ２のヒドロキシ保護基の脱離反応に
付すことにより製造することができる。

化合物（Ｉ−ｃ）および（Ｉ−ｄ）の好適な塩類として
は、化合物（Ｉ）の塩類と同じものが挙げられる。

この反応は通常、加水分解、還元等のような常法によっ
て行われる。

加水分解法および還元法ならびに例えば反応温度、溶媒
等の反応条件は、製造法２の化合物（１−ａ）のカルボ
キシ保護基の脱離反応で説明した方法、条件と実質的に
同じであり、従って前記説明を参照すればよい。

ヒドロキシ保護基がトリ（低級）アルキルシリル基であ
る場合には、この保護基の脱離はまた、１列えばフッ化
テトラブチルアンモニウム等のフッ化テトラ（低級）ア
ルキルアンモニウムの存在下に行うこともできる。

この製造法においては、Ｒ１のカルボキシ保護基および
／またはイミノ基および／またはＲ５のヒドロキシ保護
基が反応中同時に脱離する場合もその範囲内に包含され
る。

（４）製造法４ 化合物（１−ｆ＞またはその塩類は、化合物（Ｉ　−ｅ
）またはその塩類をＲ５のイミノ保護基の脱離反応に付
すことにより製造することができる。

化合物（１−ａ）の好適な塩類としては、化合物（１）
について掲げた塩類のような塩基との塩類が挙げられる
。

化合物（Ｉ−ｆ）の好適な塩類としては、化合物＜１）
の塩類と同じものが挙げられる。

この反応は通常、加水分解、還元等のような常法によっ
て行われる。

加水分解法および還元法、ならびに例えば反応温度、溶
媒等の反応条件は、製造法２の化合物（１−ａ）のカル
ボキシ保護基の脱離反応で説明した、Ｉｊ法、条件と実
質的に同じであり、従ってそれらについてその説明を参
照すればよい。

この製造法においては　Ｒ１および／またはＲ２のカル
ボキシ保護基および／またはヒドロキシ保護基、および
／またはＲ５のヒドロキシ保護基が反応中間時に脱離す
る場合もその範囲内に包含される。

（５）製造法５ １ヒ合物（Ｉ−ｇ）またはその塩類は、化合物（１−ｆ
）またはその塩類を低級アルカンイミドイル化剤と反応
させることにより製造することができる。

化合物（１−ｇ）の好適な塩類としては、化合物（１）
の塩類と同じものが挙げられる。

好適な低級アルカンイミドイル化剤としては、前記低級
アルカンイミドイル基を化合物（Ｉ−ｆ）に導入しうる
常用のものが挙げられ、好ましい導入剤としては例えば
ホルムイミド酸メチル、ホルムイミド酸エチル、アセト
イミド酸メチル、アセトイミド酸エチル、プロピオンイ
ミド酸エチル、ブチルイミド酸エチル、インバレルイミ
ド酸エチル、ペンタンイミド酸エチル、ヘキサンイミド
酸ニブル等の）低級アルカンイミド酸（低級）アルキル
、例えば塩化ホルムイミドイル、臭化ホルム（ミドイル
、塩化アセトイミドイル、臭化アセトイミドイル、塩化
プロピオンイミドイル、塩化ブチルイミドイル、塩化イ
ンバレルイミドイル、塩化ペンタンイミドイル、塩化ヘ
キサンイミドイル等のハロゲン化（低級）アルカンイミ
ドイル等またはそれらの酸付加塩が挙げられる。

この反応は通常、テトラヒドロフラン、ジオキリ°ン、
水、メタノール、エタノール、例えば燐酸塩暖衝液等の
緩衝溶液等のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶
媒中、またはそれらの混合物中で行われる。

この反応は製造法２の説明で挙げたような有機塩基また
は無機塩基の存在下に行うことができる。

反応温度は特に限定きれないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。

（６）製造法６ 化合物（Ｉ）またはその塩類は、化合物（ＩＩＩ）また
はヒドロキン基におけるその反応性誘導体またはその塩
類を脱水することにより製造することができる。

化合物（ＩＩＩ）の好適な塩類としては、化合物（Ｉ）
の塩類と同しものが挙げられる。

化合物（Ｉ）のヒドロキシ基における好適な反応ｉ生誘
導体としては、例えば塩化物、臭化物、沃化物等のハロ
ゲン化物、例えばメタンスルホン酸エステル、ベンゼン
スルホン酸エステル、トルエンスルホン酸エステル等の
スルホン酸エステル等が挙げられるが、それらの中でさ
らに好ましい例はスルホン酸エステルである。

この脱水は、例えば、化合物（ＩＩＩ＞またはヒドロキ
シ基におけるその反応性誘導体またはその塩類を塩基と
反応させることにより行うことができる。

この反応に使用される塩基としては、例えばトノメチル
アミン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピ
リジン、ピコリン、ルチジン、Ｎ−メチルピロリジン、
Ｎ−メチルモルホリン、１．５−ジアザビシクロ［４，
３，０］ノン−５−エン、１．４−ジアザビシクロ［２
，２，２コオクタン、１．５−ジアザビクシ口［５，４
，Ｏコランデセン−５等のような有機塩基が挙げられる
。

この反応は通常、水、ジクロロメタン、例えばメタノー
ル、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトン等のような反応に悪影響を及ぼ汐
ない常用の溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる
。液状の塩基も溶媒として使用することができる。

反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応を行うことができる。

（７）製造法７ 化合物（Ｉ−ｉ）またはその塩類は、化合物（１−ｈ）
またはその塩類を、Ｒ６のヒドロキシ保護基、アミノ保
護基またはイミノ保護基の脱離反応に付すことにより製
造することができる。

１ヒ合物（１−ｈ）および（Ｉ−ｉ）の好適な塩類とし
ては、ｆヒ合物（Ｉ）の塩類と同じものが挙げられる。

この反応は通常、加水分解、還元等のような常法に従っ
て行うことができる。

加水分解法および還元法、ならびに例えば反応温度、溶
媒等の反応条件は、製造法２の化合物（１−ａ）のカル
ボキシ保護基の脱離反応で説明した方法、条件と実質的
に同じであり、従ってその説明を参照すればよい。

新規原料化合物（Ｉ［［＞またはその塩類の製造法を以
ｒ詳細に説明する。

（Ａ）方法Ａ １ヒ合物（■）またはその塩類は、化合物（Ｖ）を化合
物（Ｖｌ）またはその塩類と反応させることにより製造
することができる。

化合物（Ｖｌ）および（■〉の好適な塩類としては、化
介物（１）の塩類と同じ酸付加塩が挙げられる。

化合物（ＶＩ）またはその塩類は、公知化合物から常法
によって、またはこの明細書の製造例に記載した方法に
よって製造することができる。

この反応は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化マグネシウム
、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、例
えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金
属水素化物、例えば水素化カルシウム等のアルカリ土類
金属水素化物、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムメトキシド、カリウム第三級ブトキシド等のアルカリ
金属アルコキシド、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等のアルカリ金属次酸塩、例えば炭酸マグネシウム、
炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、例えは炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素２Ｊリウム等のアルカリ金
属炭酸水素塩等のような塩基の存在下に行うことができ
る。

この反応はエノール化剤の存在下に行うのが好よしい、
好適なエノール化剤としてはトリハロ（低級）アルカン
スルホン酸トリ（低級）アルキルシリル、好ましくは例
えばトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル等
のトリハロ（Ｃ１Ｃ４）アルカンスルホン酸トリ（Ｃ１
−Ｃ４）アルキルシリル、ハロゲンを有していてもよい
低級アルキルスルホン酸第−スズのようなスズ化合物、
好ましくは例えばトリフルオロメタンスルホン酸第−ス
ズ等のポリハロ（Ｃ１−Ｃ４）アルキルスルホン酸第−
スズ等が挙げられる。

この反応は通常、水、ジクロロメタン、例えばメタノー
ル、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトン等のような反応に悪影響を及ぼき
ない常用の溶媒中、またはそｒｔらの混合物中で行われ
る。液状の塩基も溶媒として使用することができる。

反応温度は特に限定きれないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。

（Ｂ）　　ｉＬＢ 化合物（［Ｘ）またはその塩類は、化合物（■）または
その塩類を化合物（■）またはその反応性等価物と反応
きせることにより製造することができる。

化合物（ＩＸ）の好適な塩類としては、化合物（Ｉ）の
塩類と同じものが挙げられる。

化合物（■）の好適な例としては、前記エステル化され
たカルボキシ基を形成することができる。

常用のカルボキシ保護基によって保護されていてもよい
グリオキシル酸が挙げられる。

化合物（■）の好適な反応性等個物としてはその水化物
が挙げられる。

この反応は反応中に生成する水の共沸除去により行うの
が好ましい。水の共沸除去は例えば共沸、へ留等の常法
によって行うことができる。

この反応は通常、水、ジクロロメタン、例えばメタノー
ル、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キレシン
等のような反応に悪影響と及ぼさない常用の溶媒中、ま
たはそれらの混合物中で行われる。

反応温度は特に限定されないが、通常は加温下ないし加
熱下に反応が行われる。

（Ｃ）　　フΣｊグし３≧ 化合物（Ｉ［＞またはその塩類は、化合物（ＩＸ）また
はヒドロキシ基におけるその反応性誘導体またはその塩
類を化合物（Ｘ）と反応きせることにより製造すること
ができる。

化合物（ＩＸ）のヒドロキシ基における好適な反応性誘
導体としては、例えば塩化物、臭化物、沃化物等のハロ
ゲン化物、例えばメタンスルホン酸エステル、ヘンゼン
スルホン酸エステル、トルエンスルホン酸エステル等の
スルホン酸エステル等が挙げられるが、それらの中で芒
らに好ましいものはハロゲン化物である。

化合物（Ｘ）の好ましい例としては、トリフェニルホス
フィン、例えば亜燐酸トリエチル等の亜燐酸トリ（低級
）アルキル等が挙げられる。

この反応は、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、例えは炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸
マグネシウム、炭酸力ルシウｌ、等のアルカリ土類金属
炭酸塩、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、
Ｎ、Ｎ−ジイソプロピル−Ｎ−エチルアミン等のトリ（
低級）アルキルアミン、例えばピリジン、ピコリン、ル
チジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノピリジンのようなＮ、
Ｎ−ジ（低級）アルキルアミノピリジン等のピリジン化
合物、キノリン、イミダゾール、例えばＮ−メチルモル
ホリン等のＮ−低級アルキルモルホリン、例えばＮ−エ
チルピペリジン等のＮ−低級アルキルビペリジン、例え
ばＮ、Ｎ−ジメチル・＼ンジルアミン等のＮ、Ｎ−ジ（
低級）アルキルヘンシルアミン等のような無機塩基また
は有機塩基の存在下に行うことができる。

この反応は通常、ジオキサン、アセトニトリル、り「１
０ホルム、ジクロロメタン、ヘキサメチルホスホルアミ
ド、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル
、ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ−’、；メチルホルム
アミド、ピリジン等のような反応に悪影響を及ぼさない
常用の溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる。

この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。

（Ｄ）亙因旦 化合物（ＩＸａ）またはその塩類は、化合物（■）また
はその塩類を化合物（■ａ）またはその塩類と反応させ
ることにより製造することができる。

化合物（ＩＸａ）の好適な塩類としては、化合物（Ｉ）
の塩類と同じものが挙げられる。

化合物（■ａ）の好適な塩類としては、化合物（Ｉ−ｅ
）の塩類と同じものが挙げられる。

化合物（■８）の好適な例としては、カルボキシ基が前
記のような常用のカルボキン保護基で保護されていても
よいハロゲン化オキサリルが挙げられる。

この反応は方法Ｃで述へたような塩基の存在下に行うこ
とができる。

この反応は通常、ジオキサン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、ジクロロメタン、ヘキサメチルホスホルアミド
、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
、ピリジン等のような反応に悪影響を及ぼきない常用の
溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる。

この反応の反応温度は特に限定きれないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。

（Ｅ）亙迭Ｊ 化合物（ｆｆ）またはその塩類は、化合物（ＩＸａ）ま
たはその塩類を化合物（Ｘ）と反応きせることにより製
造することができる。

この反応は通常、ジオキサン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、ジクロロメタン、ヘキサメチルホスホルアミド
、ジクロロエタン、テトラヒドロプラン、酢酸エチル、
ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
、ピリジン、ベンゼン、トルエン、キシレン等のような
反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中、またはそれら
の混合物中で行われる。

この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は加温
下ないし加熱下に反応が行われる。

（Ｆ）亙蒸ヱ 化合物（ＸＩ［［）またはその塩類は化合物（ＸＩ）ま
たはその塩類を化合物（ＸＩ［）またはその塩類と反応
させることにより製造することができる。

化合物（Ｘ　Ｉ　）および（ＸＩ［［＞の好適な塩類と
じては、化合物（１）の塩類と同じものが挙げられる。

化合物（ＸＩ［）の好適な塩類としては、化合物（Ｉ）
の塩類と同じような酸との塩類が挙げられる。

この反応はアルカリ金属ジ（低級）アルキルアミド、好
ましくは例えばリチウムジイソプロピルアミド等のリチ
ウムジ（Ｃ１−Ｃ４）アルキルアミド、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、
例えば水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアル
カリ土類金属水酸化物、例えば水素化ナトリウム、水素
化カリウ１．等のアルカリ金属水素化物、例えば水素化
カル／ラム等のアルカリ土類金属水素化物、例えばナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第
三級ブトキシド等のアルカリ金属アルフキンド、例えば
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩
、例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカ
リ土類金属炭酸塩、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩等のような塩基
の存在下に行うのが好ましい。

この反応は通常、水、ジクロロメタン、例えばメタノー
ル、エタノール等のアルコール、ヘキサン、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、アセトン、ベンゼン、トルエン
、キシレン等のような反応に悪影響を及ぼきない常用の
溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる。

反応温度は特に限定きれないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。

化合物（ＸＩ）は例えば米国特許第４．３４８．３２０
に示されているような常法に従って製造することができ
る。

（Ｇ）亙因ｌ 化合物（Ｉ［［）またはその塩類は、化合物（ＸＩ［［
）またはその塩類を環化することにより製造することが
できる。

この反応は化合物（ＸＩ［［）を、ジオキサン、ヘキサ
メチルホスホルアミド、ベンゼン、トルエン、キシレン
、ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジン等のような反応に悪影響を及ぼさない慣用
の溶媒中、またはそれらの１侃合物中加熱することによ
り行うのが好ましい。

この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は加温
下ないし加熱下に反応が行われる。

（Ｈ）　　Ｊ名Ｎ（ 化合物（ＸＶ）は化合物（ＸＩＶ）を化合物（ＸＩ［［
）と反応させることにより製造することができる。

この反応は通常、ジオキサン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、ジクロロメタン、ヘキサン、・＼キナメチルホ
スホルアミド、ジクロロエタン、アトラヒドロフラン、
酢酸エチル、ジメチルスルホキッド、Ｎ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ピリジン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等のヨウナ反応に悪影響を及ぼきない慣用の溶媒中、
またはそれらの混合物中で行われる。

この反応の反応温度は特に限定されないが、通盾は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。

（Ｉ）ｉＬＩ 化合物〈■）またはその塩類は、化合物（ＸＶ）を化合
物（ＸＩ［）またはその塩類と反応させることにより製
造することができる。

この反応は化合物（ＸＶ）および（ＸＩＩ）を、ジオキ
サン、ヘキサメチルホスホルアミド、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ピリジン等のような反応に悪影響を及
ぼさない慣用の溶媒中、またはそれらの混合物中加熱す
ることにより行うのが好ましい。

この反応はまたヒドロキノンの存在下に行うこともでき
る。

ごの反応の反応温度は特に限定されないが通常はカロ温
下ないし加熱下に反応が行われる。

製造法１−７に従って得られる目的化合物は、例えば抽
出、沈殿、分別晶出、再結晶、クロマトグラフィー等の
常法によって単離、精製することができる。

この発明の目的化合物（Ｉ）および医薬として許容され
るその塩類は新規であり、強い抗菌作用を発揮してダラ
ム陽性菌およびダラム陰性菌を含む広汎な病原菌の生育
を阻止し、さらにまたデヒドＤペプチダーゼに対して非
常に安定であり、高い尿中排出を示し、従って種々の感
染症治療に非常に有効である。

二の発明において、Ｒ４として低級アルキル基を何する
目的化合物（Ｉ）はより有効な抗菌作用を有し、デヒド
ロペプチダーゼに対してより安定である。

こへに、目的化合物（１）の有用性を示すために、この
発明の目的化合物（Ｉ）の代表的化合物の抗菌作用試験
結果を以下に示す。

イン・ビトロ抗菌作用 区監駕 ｒン・ビ・トロ抗菌作用を下記寒天板倍々希釈法により
測定した。

試験菌株をトリプトケース・ソイ・ブロス中−夜培養し
てその１白金耳（生菌数１０６個／　ｍＱ　）を各濃度
段階の試験化合物を含むハート・インツユ−シュン寒天
（ＨＩ寒天）上に画線し、３７℃、２０時間インキュベ
ート後に最小阻止濃度（ＭＩＣ）を處／ｍＱで表わした
。

試験化合物 （５Ｒ，６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチ
ルコー７一才キソ−３−［（Ｅ）−２−（（２Ｓ）−ピ
ロリジン−２−イル）−１−メチルユテニルコー１−ア
ザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カル
ボン酸 人四塁迷 治療用として投与するために、この発明の目的化合物（
１）および医薬として許容されるその塩類は、経口投与
、非経口投与および外用投与に適した有機もしくは無機
固体状もしくは液状賦形剤のような医薬として許容され
る担体と混合して、前記化合物を有効成分として含有す
る医薬製剤の形で使用される。医薬製剤は錠剤、顆粒、
粉剤カプセルのような固体状であっても、溶液、懸濁液
、シロップ、エマルジョン、レモネード等のような液状
であってもよい。

必要に応して上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤剤および
その他乳糖、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム
、白土、しよ糖、コーンスターチ、タルク、ゼラチン、
寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ油、カカオ詣、エ
チレングリコール、を西石酸、クエン酸、フマル酸等の
ような通常使用される添加剤が含まれていてもよい。

化合物（１）の投与量は患者の年齢および状態、疾患の
種類、適用する化合物（１）の種類等によっ゛（変化す
る。一般的には１日当り１ｍｇと約４０００ｍｇとの間
の量もしくはそれ以上を患者に投与すれはよい。この発
明の目的化合物（Ｉ）は、平均１回設う１約１　ｍｇ、
　１０ｍｇ、５０ｍｇ、　１００ｍｇ、２５０ｍｇ、　
５００１１１ｇ、１０００ｍｇ、　２０００ｍｇを病原
菌感染症治療に使用すればよい。

以−ド製造例および実施例に従って、この発明をさらに
詳細に説明する。

製造例１−１） 塩化オキサリル（５，４５ｍｇ　）のジクロロメタン（
１００ｍＱ　）溶７夜に、ジメチルスルホキシド（９，
６７ｍｇ　）のジクロロメタン（１０ｍｇ　）溶液を一
７８℃で滴ドする。−７８°Ｃで１０分間攪拌後、混合
物に（２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−ヒド
ロキ〉メチルピロリジン（１０，４１ｇ）のジクロロメ
タ〉（２０ｍｇ）溶液を滴下する。−７８°Ｃで１０分
間攪拌後、混合物にトリエチルアミン（３９，６ｍＱ　
）を滴下し、この混合物を０°Ｃまで昇温せしめ、酢酸
エチル（４００ｍＱ　）と食塩水（２００ｍＱ　）とで
希釈する。４Ｎ塩酸でｐＨ５付近に調整後、有機層を分
取し、食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。

溶媒を留去して得られる１−アリルオキシカルボニル−
２−ホルミルピロリジン（８，７２ｇ）をトルａ−ン（
１００ｍＱ　）に溶解する。この溶液に３−トノフェニ
ルホスホラニリデンブタン−２−オン（１７，４ｇ　）
を加え、混合物を常温で５日間放置する。溶媒を留去し
て得る残渣を酢酸エチルに加える。生成する沈殿を濾去
し、濾液の溶媒を減圧下に留去する。残渣をシリカゲル
（３００ｍＱ　）を使用するクロマトグラフィーに付し
、ｎ−ヘキサンと飾酸エチルとの混液（９：１−６：４
、ｖ／ｖ　）で溶出して、（２Ｓ）−１−アリルオキシ
カルボニル−２−（２−メチル−３−才キソー１−ブテ
ニル）ピロリジン（９，ＯＯｇ）を得る。

ＬＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１６９０．１６７０　ｃｍ
−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３，δ）　：　１．８３　（３１
（、ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ＞、　１．５０−２．４３　（４Ｈ
，ｍ＞、　２．２７　（３）１．ｓ）、　３．３４−３
．７５（２Ｈ，ｍ＞、　４．４０−４．８０　（３Ｈ，
ｍ）、　５．００−５．４３＜２１（、ｍ）、５．５９
−６．２０　（ＬＨ，ｍ）、　６．４５　（ＬＨ，ｄｑ
。

Ｊ４．８Ｈｚ＞ 製造例１−２） 製造例１−１）と実質的に同様にして、（２８゜４Ｒ）
−１−アリノしオキシカルボニル−４−第一・吸ブチル
ジメチルシリルオキシ−２−（２−メチル−３−才キソ
ー１−ブテニル）ピロリジン（８，６６ｇ）を得る。

ＩＲ（Ｃ）Ｉ２Ｃ１２）　：　１６９０．１６６５　ｃ
ｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ３．δ）　：　０．１０　（６
Ｈ，ｓ）、　０．９０　（９Ｈ，ｓ）。

１．８３　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ）、　２．３０　（
３Ｈ，ｓ）、　１．４４−２．４０　（２ｔ（、ｍ）、
　３．５５　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　４．２０−
５．００　　（４Ｈ，ｍ＞、　　５．００−５．４３　
　（２Ｈ，ｍ）、　　５．６０−６．１３　（ＩＨ，ｍ
）、　　６．４７　（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ：１．　８Ｈｚ）
製造例２−１） （２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（２−メ
チル−３−才キソー１−ブテニル）ピロノジン（９，Ｏ
Ｏ［）およびトリエチルアミン（６，３ｍＱ　）のジク
ロロメタン（２００ｍＱ　）溶液に、トリフルオロメタ
ンスルホン酸トリメチルシリル（１１，７ｍＱ　）を−
２０℃で加える。０℃で１時間攪拌後、（３Ｒ，４Ｒ）
−４−アセトキシ−３−［（ＩＲ）−１−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシエチル］−２−アゼチジノン（１
０，９ｇ）および臭化亜ｔＱ　（１１９ｇ）の酢酸エチ
ル（７０ｍＱ、）溶液を混合物に加え、この混合物を０
°Ｃで４５分間攪拌する０反応混合物を酢酸エチル（６
００ｍＱ）と水（６００ｍ１！　）との混合物中に加え
る。炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ４に調整後、有機
層を分取し、食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲル（４ｏｏｍｕ　
）を使用するクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン
と酢酸エチルとの混液（９：１−５：５、ｖ／ｖ　）で
溶出して、（３Ｓ、４Ｒ）−４−［（Ｅ）−４−（（２
Ｓ）−１−アリルオキシカルボニルピロリジン−２−イ
ル）−３−メチル−２−才キソー３−プテールコ−３−
［（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチルシリルオキシエ
チル］−２−オキソアゼチジン（９，９６ｇ）を得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　３４２０，１７６０．１６
９５．１６７０　ｃｍ−’ＮＭＲ＜ＣＤＣｌ３．８　）
　：　０．１０　＜６Ｈ，ｓ）、　０．９０　（９Ｈ，
９）。

１．２３　（３Ｈ，ｄ、、Ｔ＝６Ｈｚ＞、　１．５０−
２．４４　（４Ｌｍ）。

１．８７　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ）、　２．６１−３
．３０　（３Ｈ，ｍ＞。

３．４０−３．７４　（２Ｈ，ｍ）、　３．８０−４．
４０　（２Ｈ，ｍ＞。

４．４７−４．８６　（３Ｈ，ｍ）、　５．０５−５．
４６　（２Ｈ，ｍ）。

５．６３−６．３０　（ＩＨ，ｍ＞、　６．０８　（Ｌ
Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　６．４８＜ＬＨ，ｄｑ、Ｊ＝１．８
Ｈｚ） 製造例２−２） 製造例２−１）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−（（２Ｓ、４Ｒ）−１−アリルオキ
シカルボニル−４−第三級ブチルジメチルシリルオキシ
ピロリシン−２−イル）−３−メチル−２−才キソー３
−ブテニルコ−３−［（Ｉ　Ｒ）１−第三級プチルジメ
チルシリルオキシエチルコー２−オキソアゼチジン（１
０，３０ｇ　）を得る。

ＬＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　３４２０−１７６０．１６
９０．１６６０　ａｍ−ＩＮＭＲくＣＤＣｌ３．Ｓ　）
　　：　０．０７　（１２Ｈ１ｓ）、　　０．８８　（
１８Ｈ１ｓ）、　　１．１９　　（３１（、ｄ、Ｊ＝６
Ｈｚ＞、　　１．８４　　（３１（、ｓ）。

１．４５−２．３０　（２Ｈ，ｍ）、　　２．６０−３
．２７　（３Ｈ，ｍ）。

３．５２　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　　３．８０−
４．９６　＜６Ｈ，ｍ＞。

４．９６−５．４０　（２Ｈ，ｍ）、　　５．４０−６
．１５　＜ＬＨ，ｍ）。

６．０７　（１１（、ｂｒ　ｓ）、　　６．３０−６．
５４　　＜ＩＨ，ｎ＋）製造例３−１） （３Ｓ、４Ｒ）−４−［（Ｅ）−４−（（２Ｓ）−１−
アリルオキシカルボニルピロリジン−２−イル）−３−
メチル−２−才キソー３−ブテニル］−３−［（ＩＲ）
−１−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル］−２
−キオソアゼチジン（９，９６ｇ　）（７）　ｌルエン
（１５ＱｍＱ）溶液に、グリオキンル酸アリル・−水化
物（３，６８ｇ）を加える。

この混合物を水の共沸除去下に４時間加熱還流する。溶
媒を留去して得られる２−［（３３，４Ｒ）−４−［（
Ｅ）−４−（（２ｓ）−１−アリルオキシカルボニルピ
ロリジン− チル−２−才キソー３−ブテニル］−３−（（ＩＲ）−
１−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル）−２−
才キソアゼチジン−１−イル］グリオキンル酸アリルの
残基をキシレンに溶解する。

溶媒を減圧下に留去後、残渣をブクロロメタン（　１５
０ｍＭ　）に溶解する。この溶液に順次２．６−ルチジ
ン（２．７５ｍＭ）および塩化チオ＝　ル（　１．　９
５ｍＭ　）を−２０°Ｃで加える。−２０°Ｃで１５分
間攪拌後、反応混む物を酢酸エチル（　５００ｍｆｔ　
）と水（　ｓｏｏｍＱ）との混合物中に５°Ｃで注ぐ。

炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ６．　５付近に調整後
、有機層を分取し、食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去する。残渣を脱気したＮ．Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（８０ｍ１２）に溶解し、この溶液
に２．６−ルチジン（　２．　７５ｍＭ　）　オよヒド
リフェニルホスフィン（１．２９ｇ）を加える。常温で
６時間放置後、反応混合物を酢酸エチル（　４００ｍＭ
　）と水（　４００ｍｆｔ　）　、！：（７）ｌＲ合物
中に注ぐ。有機層を分取し、順次水、冷ＩＮ塩酸、炭酸
水素ナトリウム水溶液および食塩水Ｃ洗浄して硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる残渣をシ
リカゲル（　２００ｍＭ　）を使用するクロマトグラフ
ィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの混液（９：
１−４：６、ｖ／　ｖ）で溶出して、２−［（３Ｓ．４
Ｒ）−４−［（Ｅ）−４−（（２Ｓ）−１−アリルオキ
シカルボニルピロリジン−２−イル）−３−メチル−２
−才キソー３−ブテニル］−３−（（ＩＲ）−１−第三
級ブチルジメチルシリルオキシエチル）−２−オキソア
ビチジンー１ーイルコー２−トリフェニルホストラニリ
デン酢酸アリル（９．７８ｇ）を得る。

ＩＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１７４０．１６９０．１
６６０　ｃｍ−’Ｎ１１Ｒ　　（ＣＤＣｌ２．　　８　
）　　：　　−０．２０−０．１０　　＜６Ｈ．ｍ）、
　　０．５００、９０　（９Ｈ．ｍ）、　０．９０−１
．３２　（３Ｈ．ｍ）、　１．５０−２、３５　（７Ｈ
．ｍ＞、　２．３５−３．１５　（３Ｈ．ｍ＞、　３．
１５−３、６５　（２Ｈ．ｍ）、　３．９２−４．７２
　（７Ｈ．ｍ）、　４．９０−５、４８　（４Ｈ，ｍ＞
、　５．５８−６．１５　（２Ｈ，ｍ＞、　６．３０−
６、７３　　（ＬＨ．ｍ）、　　７．２０−７．９５　
　＜１５８，ｍ＞製造例３−２） 製造例３−１）と実質的に同様にして、”２　−［（　
３Ｓ．４Ｒ）−４−［４−（（２Ｓ，４Ｒ）−１−アノ
ルオキシ力ルボニルー４−第三級ブチルジメチルシリル
オキシピロリジン−２−イル）−３−メチル−２−才キ
ソー３−プテニルコ−３−（（ＩＲ）−１−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）−２−才キソアゼチジ
ン−１−イルツー２−トリフェニルホスホラニリデン酢
酸アリル（　１１．３９ｇ　）を得る。

ＩＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１７４０．１６９５．１
６６０　ａｍ″″ＩＮＭＲ　（ＣＤＣ１３，８　）　’
　−０．　ｔａ−ｏ．　１２　（　１２Ｈ，ｍ）、０．
　５６−０、９５　（１８Ｈ．ｍ）、　０．９５−１．
４０　（３８，ｍ）、　、１．４０−２、３２　（５Ｈ
．ｍ＞、　２．３２−３．２２　（３Ｈ．ｍ）、　３．
２２−３、８８　（２）１．ｍ）、　３．８８−４．９
８　（８Ｈ，ｍ）、　４．９８−５、５８　＜４８．ｍ
＞、　５、５８−６．３３　（２Ｈ．ｍ）、　６．３３
−６、８０　（ＩＨ．ｍ＞、　７．３０−７．９５　（
１５Ｈ．ｍ）製造例４ ジイソプロピルアミン（７．７ｍＭ）のトラヒドロフラ
ン（　６０．　０ｍＭ　）溶液に、ｎ−ヘキサン中１．
５５Ｍｎーブチルリチウム溶液（　３２．　３ｍＭ　）
を−７８℃で滴ドする。混合物を０℃まで昇温せしめ、
０℃で３０分間攪拌し、−７８℃まで冷却して約０．５
Ｍリチウム・ノイソブロビルアミド溶液を得る．２−［
（３Ｓ。

４Ｒ）−３−（（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）−４−（（ｉＲ）−１−メチル−２
−オキソプロピル）−２−オキソアビナ〉シー１−イル
］−２ートリフエニルホスホラニリデン酢酸アリル（２
．５０ｇ）のテトラヒドロフラン（　４ｏｍＱ）溶液に
、上記で得られるリチウムジイソプロピルアミド溶液（
　９．　５０ｍＭ　）を−７８℃でｌｂ％　”Ｆする。

−７８°Ｃで３０分間攪拌後、混合物に（２Ｓ）−１−
アリルオキシカルボニル− ルピロリジン（１．３９ｇ）のテトラヒドロフラン（　
１０．　０ｍＭ　）溶液を加え、混合物を一３０°Ｃま
で４５分間かけて昇温せしめる。この混合物に塩化アン
モニウム水溶液（　ｓｏｍＱ）を加え、酢酸エチル（２
００＋ｎｌ　）で希釈する。有機層を分取して順次水、
炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得る残渣をシ
リカゲル（１５ｏｍＱ）を使用するクロマトグラフィー
に付し、ジクロロメタンとアセトンとの混液（９：１−
８：２、ｖ／ｖ　）で溶出して、２−［（３Ｓ、４Ｒ）
−４−［（ＩＲ）−４−（（２Ｓ）−１−アリルオキシ
カルボニルピロリジン−２−イル）−４−ヒドロキシ−
１−メチル−２−オキソブチルコ−３−（（ＩＲ）−１
−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル）−２−オ
キソアビテノン−１ーイル］−２−トリフェニルホスホ
ラニリデン酢酸アリル（２．３６ｇ）を得る。

ＮＭＲ　（ＣＤＣ１３，ｌ；　）　’　−０．１−０．
１７　（６Ｈ，ｍ＞、０．８７（９Ｈ．ｓ）、　Ｏ．、
９８−１．５２　（６Ｈ．ｍ＞、　１．５２−２．３２
（４Ｈ．ｍ）、　２．３２−３．１５　（５Ｈ．ｍ）、
　３．１５−４．４０（６Ｈ．ｍ）、　４．４０−４．
７６　（４）１，ｍ）、　４．９５−５．４５（４Ｈ．
ｍ）、　５．７３−６．２０　（２Ｈ．ｍ＞、　７．２
６−７、９８（１５Ｈ，ｍ） 製造例５ （２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル４−第三
級ブチルジメチルシリルオキシ−２−（２−メチル−３
−才キソー１−ブテニル）ピロルシン（９．９ｇ）のテ
トラヒドロフラン（　９９ｍＭ）’ｔＲ　ｒ＆に、テト
ラヒドロフラン中ＩＭフッ化テトラブチルアンモニウム
溶？＆（　３２．３ｍＡ　）　ヲ０℃で加よる。室温で
１時間攪拌後、反応混合物を酢酸エチル（　２００＋ｎ
Ｑ　）と水（　ｔｏｏｍｕ　）との混合物中に注ぐ。

水層を分取して酢酸エチルで抽出する。有機届を合わせ
てＩＮ塩酸（　２５ｍＭ　）で２回、次いで次酸水素ナ
トリウム飽和水溶液、水および食塩水で順次洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去４る。残渣をシリ
カゲル（　１ｏｏｍＱ）を使用するり［７マトグラフイ
ーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルと（７）ｉ’［＆
（１：１−１：２、ｖ／ｖ　）で溶出して、（２Ｓ．４
Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−４−ヒドロキシ−
２−（２−メチル−３−オキソ−１−ブテニル）ピロリ
ジン（５．６５ｇ）を得る。

ＩＲ　　（ニー））　　：　　３４００．　　１６７０
　　ｃｍ−ＩＮＭＲ　（ＣＤＣｌ２，δ）　７　１．６
０−２．４５　（２Ｈ．ｍ）、　１．８２（３Ｈ．ｓ）
、　　２．２８　＜３８，ｓ）、　　３．０５　（ＩＨ
，ｂｒ　ｓ）。

３、　４０−３、８０　（２）１，ｍ）、　　４．４０
−４．６５　（３１，ｍ＞。

４、８５　（ＩＨ．ｄｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）、　　５．０５
−５．４５　（２Ｈ．ｍ＞。

５、６０−６．１５　（ＩＨ，ｍ）、　　６．４５　（
ＩＨ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）製造例６−１〉 （２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル４−ｅド
ロキシ−２−（２−メチル−３−才キソー１−ブテニル
）ピロリジン（３．０ｇ）のヨードメタン（１ｓｍＱ）
溶液に、酸化銀（Ｌｏｇ）を加え、混合物を常温で２日
間放置する。生成する沈殿を濾去し、濾液の溶媒を減圧
下に留去する。残渣を〉リカゲル（　６０ｍＭ　）を使
用するクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸
エチルとの混液（６：４、ｖ／ｖ　）で溶出して、（２
Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−４−メトキ
シ−２（２−メチル−３−才キソー１−ブテニル）ピロ
リジン（３．２３ｇ）を得る。

ＩＲ　　（ニー））　　　’　　　１６６５．　　　１
７００　　ａｍ−’ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ２．ｌ；　）　
：１８２　（３Ｈ，ｄ．Ｊ＝ＩＨｚ）、　２−　２６（
３Ｈ．ｓ）、　１．５−２．６０　（２Ｈ．ｍ）、　３
．３２　（３Ｈ．ｓ）。

３、２０−４．１３　（３Ｈ．ｍ＞、　４．２８−４．
９０　（３Ｈ，ｍ）。

４、９２−５．４０　（２Ｈ，ｍ＞、　５．５０−６．
１０　（ＬＨ，ｍ）。

６、４２　（ＬＨ．ｄｑ，Ｊ＝１．　　８Ｈｚ）製造例
６−２〉 （２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−４−ヒ
ドロキシ−２−（２−メチル−３−オキ７−１−ブテニ
ル）ピロリジン（１．３５ｇ）およびインンアン酸メチ
ル（　０．　３１ｍＭ　）の混合物に、ビリソン１滴を
加える。この混合物を常温で２日間放置する。混合物の
溶媒を留去して得られる残Ｉｈをシリカゲル（　ｅｏｍ
Ｑ）を使用するクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサ
ンと酢酸エチルとの混液（１；１、ｖ／ｖ　）で溶出し
て、（２５，４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル− バ七イルオキシ）−２−（　２−メチル−３−オキ’／
−１−ブテニル）ピロリジン（１．６０ｇ）を得る。

ＬＲ　　にート）　　　：　　３３５０，　　　１７０
０。

ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ２．　８　’）　：　１．８３（３
Ｈ．ｓ）、　　１．４５−２．５５（３Ｈ．ｍ）、　　
３．５０−３．９Ｌ（４Ｈ．ｍ）、　　４．９５−５．
４０１６６５　ｃｎ＋７’ ＜３８，ｄ，Ｊ＝ｌＨｚ＞、　　２．３０（２Ｈ．ｍ）
、　　２．６５−２．９０（２Ｈ．ｍ）、　　４．３５
−４．９２（３Ｈ．ｍ）、　　５．５７−６、２０（Ｉ
Ｉ（、ｍ）、　　６．４０　（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ＝１．　
８Ｈｚ＞製造例６−３〉 ホスゲン＜２．　ｓｍａ　＞のトルエン（１５ｍＱ）溶
液に、順次トリエチルアミン（１，４ＳｍＱ）および（
２Ｓ。

４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−４−ヒドロキシ
−２−（２−メチル−３−オキソ−１−プテニル）ピロ
リジン（２，５０ｇ）のトルエン（１０ｍＱ　）溶液を
０°Ｃで加える。０°Ｃで２時間攪拌後、混合物の溶媒
を減圧下に留去し、残渣をトルエン（１５ｍＱ＞中に取
る。溶媒を留去して得る残渣をテトラヒドロフラン（５
ｍ１１）に溶解する。この溶液をンメテルア５ン（０，
８９ｇ）（７）水（ｓｏｍＱ）とテトラヒドロフラン（
ｓｏｍＱ）との混合物溶液に攪拌下０°Ｃで滴下し、さ
らに０℃で１０分間攪拌を統ける。

ＩＮ塩酸でｐＨ７に調整後、混合物を酢酸エチル（２０
０ｍＱ　）で希釈する。有機層を分取し、食塩水で洗浄
して硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する。残渣
をシリカゲル（１００ｍＡ　）を使用するクロマトグラ
フィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの混液（６
：　４．　ｖ／ｖ）で溶出して、（２Ｓ、４Ｒ）−１−
アリルオキシカルボニル−４−（’：；メチルカルバモ
イルオキシ−メチル−３−才キソー１−ブテニル）ピロ
リジン（２．６５ｇ）を得る。

ＩＲ　　（＞ト）　　　’　　１７００．　　　１６６
５　　ａｍ−１ＨＭＲ　　（ＣＤＣｌ２．　８　）　　
：　　１．８６　　（３Ｈ．ｄ．Ｊ＝ｌＨｚ＞、　　２
．３０（３Ｈ．ｓ）、　１．６５−２．６５　（２Ｈ，
ｍ）、　２．９０　（６Ｈ，ｓ）３、５０−３．９５　
（２Ｈ，ｍ＞、　４．４０−４．９５　（３Ｈ．ｍ）。

４、９８−５．４２　（３Ｈ．ｍ＞、　５．６０−６．
１２　（ＬＨ，ｍ＞。

６、４２　（ＬＨ．ｄｑ．Ｊ：１．　８Ｈｚ）製造例７ （２Ｓ．４Ｒ）−２−カルボキシ−４−ヒドロキシピロ
リジン（３００ｇ）のテトラヒドロフラン（　１．５１
２）と水（１．５１２）との混液中懸ｌ蜀液に、０°Ｃ
で、４Ｎ＊．酸化ナトリウム水溶液でｐＨ９付近に３Ａ
整しながら、クロロギ酸アリル（　２９２ｍＱ　）のテ
トラヒドロフラン（３００ｍＱ）溶液を滴下する。ｐＨ
９て０°Ｃで１時間攪拌後、水石を塩化ナトリウムで飽
和し、混合物を酢酸エチル（１りで希釈する。水石を分
取し、酢酸エチル（１１）で洗浄する。１２Ｎ塩酸でｐ
Ｈ２付近に調整後、エマルジョン３酢酸エチル（１１）
で２回抽出する．抽出液を合わせて硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧下に留去して、（２Ｓ，４Ｒ）−１
−アリルオキンカルボニルー２ーカルボキシ−４−ヒド
ロキシピロリジン（　４２６．２ｇ　）を得る。

ＮＭＲ　（ＣＤＣＩ３＋ＤＭＳＯ−ｄ６．　Ｓ　＞　：
　２．０５−２．６０　（２Ｈ．ｍ＞。

３、６３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ：３１（ｚ）、　４．３０−
４．７３　＜４Ｈ，ｍ）。

５、０１−６．２５　（４Ｈ．ｍ） 製造例８ （２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−（４２
６ｇ）のメタノール（３１２）溶液に、３６Ｎ硫酸（　
４ＳｍＱ）を１０℃で加え、混合物を２時間加熱還流す
る。常温に冷却後、この混合物にトリエチルアミン（　
ｔ３ｏｍＱ）を加え、混合物の溶媒を減圧下に留去する
。残渣を酢酸エチル（３りに溶解し、溶液を食塩水で洗
浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、（
２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル− ル−４−ヒドロキシピロリジン（　３８５．６ｇ　）を
得る。

ＮＭＲ　（ＣＤＣ１３，Ｓ　）　’　１．　ｓｏ．−ｚ
．　６０　（　３Ｈ，ｍ＞　、３．６０（２Ｈ．ｄ．Ｊ
＝３Ｈｚ）、　　３．７５　（３Ｈ．ｓ）、　　４．３
７−４．８３（４Ｈ，ｍ）、　　５．１０−５．５０　
（２Ｈ，ｍ）、　　５．６０−６．２７（ＩＨ．１１１
） 製造例９ （２Ｓ，４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−ノンン
（２１０．２ｇ　）お、よびトリエチルアミン（　１５
０．２１）のジクロロメタン（２１２）溶液に、塩化メ
タンスルホニル（　７０．　７ｍＱ　）を０℃で滴下す
る。０℃で１時間攪拌後、反応混合物を食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して
，（２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル− ホニルオキシピロリジン（２８１８ｇ）を得る。

ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ２，δ）　：　１．９５−３．００
　（２Ｈ．ｍ）、　３．０２（３Ｈ，ｓ）、　３．６４
−３、９５　（５）１，ｍ＞、　４．３７−４．７７（
３Ｈ．ｍ）、　５．１０−５．５０　（３Ｈ，ｍ）、　
５．５５−６．２７（ＬＨ，ｍ） 製ｊ己Ｉ籾 （２Ｓ、４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル２−メト
キシカルボニル− ル才キンビロリジン（２８１ｇ）のエタノール（　０．
９１２）およびテトラヒドロフラン（０．６４’）の混
合物溶液に、水素化ホウ素ナトリウム（６９．２ｇ）を
５°Ｃで加え、この混合物を２０−２７℃で３．５時間
攪１！する。−６０°Ｃに冷却後、反応混合物を１２Ｎ
塩酸ｔ：　１５２．　４ｍＱ　）、水（２．５に）およ
び酢酸エチル（２．５Ｐ）の混合物中に０°Ｃで加える
。有機層を分取し−〔水層を酢酸エチル（２Ｐ）で抽出
する。有機層Ｊ，よび抽出液を合わせて食塩水（　ｓｏ
ｏｍＱ）で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を留去しで、（２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキシカル
ボニル−２−ヒドロキシメチル−４−メタンスルホニ、
ルオキンビロリジン（ｚｚｓ．９ｇ）を得る。

ＮＭＲ　（ＣＤＣ１３，８　＞　’　２．　００−２．
　６０　（３Ｈ．ｍ＞　、３．　０３（３Ｈ，ｓ）、　
３．２５−４．３０　（５Ｈ，ｍ）、　４．５３−４．
７３（２Ｈ．ｍ）、　５．１３−５．５０　＜３Ｈ．ｍ
）、　５．７３−６．２７（１）１．ｍ） 製造例１１ （２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−２−ヒ
ドロキシメチル−４−メタンスルホニルオキンビロリシ
ン（２０．０ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチル；１、ルムアミド
（　２００ｍＱ　）溶液に、塩化アンモニウム（５．７
４ｇ）およびアジ化ナトリウム（６．９８ｇ）を加える
。この混合物を７５°Ｃに８時間加熱する。

冷後、混合物を酢酸エチル（１りおよび炭酸水素ナトリ
ウム水溶液（１りで希釈する。有ｍ層を分取し、食塩水
で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に
留去して、（２　Ｓ．４　Ｒ）−１−アリルオキン力ル
ポニルー４ーアンド−２−ヒドロキシメチルビロリジン
を得る。

ＩＲ　　（ニー））　　　’　　２１２０．　　　１７
００　　ｃｍ−１製造例１２ 製造例１１で得られた（２　Ｓ，４　Ｒ）−　１−アリ
ルオキン力ルポニル−４−アシド−２−ヒドロキシメチ
ルピロリジンのテトラヒドロフラン（１２０ｍＱ）溶液
に、トリフェニルホスフィン（２２．５ｇ）を加え、、
二の混合物を常温で４時間放置する。混合物に２８％水
酸化アンモニウム（９．５ｍＱ）を加えてこの混合物を
常温で１２時間放置する。溶媒を留去し℃１する残渣を
トルエンに溶解し、再度トルエンと減圧下に留去する。

残渣を水（　２００ｍ１１　）とテトラヒドロフラン（
　２００ｍＱ　）との混合物に取る。混合物にクロロギ
酸アリル（９，１ｍＱ）を攪拌下Ｏ℃で、炭酸ナトリウ
ム水溶液でｐＨ８．５付近に調整しなから滴下する。０
°Ｃでさらに２時間攪拌後、このｌ捏合物を酢酸エチル
（ＩＰ）で希釈する。有機層を分取し、食塩水で洗浄し
て硫酸マグネシウムＣ乾燥し、溶媒を減圧下に留去する
。残渣をシリカウル（　３５０ｍＱ　）を使用するクロ
マトグラフィーに（・ｔし、ｎ−ヘキサンと酢酸エチル
との混液（７：　３−１　：　９、ｖ／ｖ　）で溶出し
て、（２Ｓ，４３）−１−アリルオキシカルボニル−４
−（アリルオキシカルボニルアミノ）−２−ヒドロキシ
メチルピロリジン（　１１．１８ｇ　）を得る。

ＩＲ　　（スノヲール）　　：　　３３００，　　１７
００　　ａｍ−１ＨＭＲ　（ＣＤＣ１３．８　）　’　
１．５０−２．６５　（２Ｈ−ｍ＞、２．６５−４、３
９　　（７）１．ｍ＞、　　４．４０−４．６３　　（
４Ｈ，ｍ＞、　　４．９５−５、４０　　（４Ｈ．ｍ）
、　　５．６０−６．３０　　（３）１，ｍ＞製造例１
３ （２Ｓ．４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−４−（
アリルオキシカルボニルアミノ）−２−ヒドロキシメチ
ルピロリジン（８．７３ｇ）のＮ，Ｎジメチルホルムア
ミド（　４０ｍ１１　）溶液に、イミダソール（ｓ．７
ｇｇ）および塩化第三級ブチルジメチルンリル（５．ｌ
Ｏｇ）を加える。この混合物を常温Ｃ’１２時間放置す
る。混合物を酢酸エチル（２００ｍＱ）で希釈して順次
水および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して
溶媒を留去する。残渣をノリ力ゲル（　１ｏｏｍＱ）を
使用するクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢
酸エチルとの混ｄ（　７　：　３、ｖ／ｖ　）で溶出し
て、（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−４
−（アリルオキシカルボニルアミノ）−２−第三級ブチ
ルジメチル〉リルオキシメチルビロリジン（　１０．９
７ｇ　）　ヲ得る。

ＩＲ　　（ニー））　　　；　　３３３０，　　　１７
００　　ａｍ−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．　ｌ；　）　：
　０．１１　（６Ｈ，ｓ）、　０．９０　（９）１．ｓ
）。

１．５０−２．６５　　（２）１．ｍ）、　　３．１３
−４．３８　　（６Ｈ，ｍ）。

４．４０−４．７０　（４Ｈ，ｍ）、　　５．００−５
．４３　（４Ｈ，ｍ＞。

５．５５−６．６０　　（３Ｈ，ｍ） 贋造例１４ （２Ｓ、４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−４−（
アリルオキシカルボニルアミノ）−２−第三級プチルジ
メチルシリルオキシメチルピロリ／ン（０，９７ｇ）の
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（５，０ｇ　）溶液に、
水素化ナトリウム（０，０９９ｇ）をＯ′Ｃで加える。

常温で１時間攪拌後、混合物を０°Ｃに冷却する。混合
物に沃化メチル（ｏ、　３１ｍＱ）と加λ、この混合物
を０°Ｃでさらに４時間攪拌する。反応混合物を水（５
Ｑｍｌｌ　）および酢酸エチル（５ＱｍＱ　）で希釈す
る。有機層を分取し、食塩水で洸６＋シて硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去して、（２Ｓ、４Ｓ）−１−
アリルオキシカルボニル−４−（Ｎ−アリルオキシカル
ボニル−Ｎ−メチルアミン）−２＝第三級プチルジメチ
ルシリルオキシメチルビロリジン（１，０１ｇ）を得る
。

ＩＲ（ニー））　　　：　　１７００　０ｍ−’ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ２．８）　ｉ　０．０５　（６Ｈ，ｓ）、　
０．９０　（９Ｈ，ｓ）。

１．５０−２．３０　　（２Ｈ，ｍ＞、　　２．８５　
　（３Ｈ，ｓ）、　　２．７５−４．２２　　（５Ｈ，
ｍ＞、　　４．４０−４．９０　　（５Ｈ，ｍ）、５．
００−５．４０　（４Ｈ，ｍ＞、　　５．６０−６．１
５　（２Ｈ，ｍ）製造例１５ （２３，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル４−（Ｎ
−アリルオキシカルボニル−Ｎ−メチルアミン）−２＝
第三級プチルジメチルシリルオキシメチルビロリジン（
３，７３ｇ）の酢酸エチル（ＬＯＯｍｌｌ　）　（Ｂ液
に、１２Ｎ塩酸（０，８２ｍＱ　）を常温で加えろ。常
温で３０分間攪拌後、混合物に炭酸水素ナトリウム（１
，９０ｇ）および冷水（１００ｍＱ　）を加える。有機
層を分取し、食塩水で洗浄して硫酸マグネ／ラムで乾燥
後、溶媒を留去する。残渣をンリカゲル（１ｏｏｍＩｌ
）を使用するクロマトグラソイ−に付し、ｎ−ヘキサン
と酢酸エチルとの混？（！、　（７：　３−２　：　８
、ｖ／ｖ　）で溶出して、（２Ｓ。

４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−−アリルオキシ
カルボニル−Ｎ−メチルアミン）２−ヒドロキシメチル
ピロリジン（２．０４ｇ’）を得る。

ＩＲ　　（ニー））　　　：　　３４３０．　　　１６
８０　　ａｍ−１ＨＭＲ　（ＣＤＣｌ２，Ｓ　）　’　
１．　４８−２．　３５　（２）１，ｍ）　、２．８６
（３Ｈ．ｓ）、　　２．８０−４．３０　　（６Ｈ，ｍ
）、　　４．４０−５．００（５Ｈ．ｍ）、　５．００
−５．４３　（４Ｈ，ｍ）、　５．６７−６、１６（２
Ｈ．ｍ） （以下余白） 製造例１６ 製造例１−１〉と実質的に同様にして、（２Ｓ。

４　Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−４−（Ｎーア
リルオオキカルボニルーＮ−メチルアミノ）２−ヒドロ
キシメチルピロリジン（２．０４ｇ）から、（２Ｓ，４
Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−４−（Ｎ−アリル
オキシカルボニル−Ｎ−メチルアミン）−２−（２−メ
チル−３−才キソー１−ブテニル）ピロリジン（２．０
２ｇ）を得る。

ＩＲ　　＜ニート）　　：　　１７００　　ｃｍ−１Ｈ
ＭＲ　（ＣＤＣ１３，ｌ；　）　’　１．　８２　（３
Ｈ．ｄｊ＝ＩＨｚ＞、　２．　３０（３Ｈ，ｓ）、　１
．５０−２．７０　（２Ｈ，ｍ）、　２．８７　（３Ｈ
，ｓ）。

３、１０−４．０５　（２Ｈ．ｍ＞、　　４．４０−４
．９６　（６）１．ｍ＞。

５、００−５．３８　（４Ｈ．ｍ）、　　５．５０−６
．１５　（２Ｈ．ｍ＞＝６、４４　　（ＬＨ．ｄｑ，Ｊ
＝１，　　８Ｈｚ）製造例１７ Ｆ−プロペンジエチルアミン試薬（２．９ｍＱ）のンク
ｏロメタン（　ｔ４ｍＱ）溶液を、（　２　Ｓ．４　Ｒ
　）１−アリルオキシカルボニル−４−ヒドロキシ２−
（２−メチル−３−才キソー１−ブテニル）ピロリジン
（３，５ｇ）のジクロロメタン溶液に０−５°Ｃで滴下
する。１２時間攪拌後、反応混合物を飽和炭酸水素ナト
リウム水ｍ　？ｌＲ（５０ｍ１！　）と氷片との混合物
中に攪拌下に注ぐ。混合物をジクロロメタンで抽出する
。有機層を順次水および食塩７にで洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。油状物をシ
リカゲルを使用するカラムクロ゛７トグラフイーにより
１青製して、（２Ｓ）−７−アリルオキシカルボニル−
４−フルオロ−２−（２−メチル−３−才キソー１−ブ
テニル）ピロリジン（３，４ｇ）を得る。

ＩＲ（ニート）　　　：　　１６７０　　ａｍ−１ＨＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ２．δ）　：　１．７０−２．８０　（２
Ｈ，ｍ）、　１．８５＜３８．ｓ）、　２．３０　（３
Ｈ，ｓ＞、　３．２５−４．０５　（２Ｈ，ｍ）。

４．４５−４．７０　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ）、
　４．７０−６．１５（５Ｈ，ｍ＞、　　６．５０−６
．７０　　（１）（、ｍ＞１９Ｆ　　ＮＭＲ（ＣＦ３Ｃ
ＯｚＨ）　　’　　　　９２−　Ｏｐｐｍ　（ｍ）製造
例１８ １−ベンジル−２−第三級ブチルジメチルシリルオキシ
メチル−５−ヒドロキシメチルピロリジン（ｌｏｇ）の
テトラヒドロフラン（１ｏｏｍＱ）溶液に、水素化ナト
リウム（２，３ｇ）を０°Ｃで少量ずつ加える。混合物
を同温で３０分間攪拌する。次いで沃化メチルを混合物
に加える。室温で１時間攪拌後、これに水と酢酸エチル
とを加える。水石を分取し、酢酸エチルで２回洗浄する
。有機層を合わせて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水
および食塩水で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧下に留去して、１−ベンジル−２第三級ブ
チルジメチルシリルオキシメチル−５−メトキシメチル
ピロリジン（９，９９ｇ）を得る。

ＩＲ＜ニート）　　　：　　　１４９５．　　１４７０
　　ａｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ２．８）　：　０．０８
　（６１，ｓ＞、　０．９８　（９８，ｓ＞。

１．３０−２．２０　（４Ｈ，ｍ）、　２．７０−３．
７０　（６Ｈ，ｍ）３．３５　（３Ｈ，ｓ）、　３．９
６　（２Ｈ，ｓ）、　７．３６　（５）１．ｓ）製造例
１９ 製造例２４と実質的に同様にして、１−アリルオキシカ
ルボニル−２−第三級ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル−５−メトキシメチルピロリジンを収率９９％で得る
。

ＩＲ（ニート）　　：　１７０５　ｃｍ−１ＨＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ２．Ｓ　　）　　７．　０．０５　　（６Ｈ，ｓ
）、　　　０．９０　　（９Ｈ，ｓ）。

１．７０−２．２０　　（４Ｈ，ｍ）、　　３．１０−
４゜２０　（６Ｈ，ｍ）。

３．３２　（３Ｈ，ｓ）、　　４．５７　（２Ｈ，ｄ、
Ｊ＝５Ｈｚ＞、　　５．０６−５．４７　　（２Ｈ，ｍ
）、　　５．７０−６．２０　　（ＬＨ，ｍ）製造例２
０ １−アリルオキシカルボニル−２−第三級ブチルシ゛メ
チルシリルオキシメチル−５−メトキシメチルピロリジ
ン（９，６７ｇ）のテトラヒドロフラン（９７ｍＱ　）
溶液に、フッ化テトラブチルアンモニウムのテトラヒド
ロフラン（３１ｍａ　）溶液を０℃で滴ドする。混合物
の温度を室温まで上昇せしめ、１時間攪拌する。混合物
を水および酢酸エチル中に７＋ぎ、水層を分取して酢酸
エチルで２回抽出する。有機層を合わせ、ＩＮ塩酸で２
回、戻酸水素月トリウム飽和水溶液、水および食塩水で
順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下
に留去して、１−アリルオキシカルボニル−２ヒドロキ
シメチル−５−メトキシメチルピロリジン（５，６０ｇ
）を得る。

ＩＲ（ニー））　　’　　３４００．　　１６８０　　
ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８）　：　１．５０−２
．３０　（４Ｈ，ｍ）、　３．３２（３Ｈ，ｓ）、　　
３．２０−４．４０　　（７Ｈ，ｍ＞、　　４．６０　
　（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６Ｈｚ）、　　５．１０−５．４５　　（２Ｈ，ｍ
）、　　５．７０−６．２０（ＩＨ，ｍ） 製造例２１ 製造例２５と実質的に同様にして、１−アリルオキンカ
ルボニル−５−メトキシメチル−２−（２−メチル−３
−才キソー１−ブテニル）ピロリジンを収率５８．８％
で得る。

ＩＲ（ニー））　　’　　１７００．　　１６７０　　
ａｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３＝　８　）　’　１．６０
−２．３０　（４Ｈ１ｍ）、１．８０＜３Ｈ，ｓ）、　
２．２６　（３Ｈ，ｓ）、　３．３５　（３Ｈ，ｓ）、
　３．４８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　４．１０　（
ＩＨ，ｍ）、　４．４６−４．８０（３Ｈ，ｍ）、　　
５．０３−５．４０　　＜２Ｈ，ｍ＞、　　５．６０−
６．１５（ＬＨ，ｍ＞、　６．５２　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ）製造例２２ 水素化アルミニウムリチウム（１０，２５ｇ　）のテト
ラヒドロフラン（ｓｓｏｍｘ　）中部濁液に、１−ベン
ジル−２，５−ビス（エトキシカルボニル）ビ【１リジ
ン（５５ｇ）ノテトラヒドｏ７ラン（１００ｍ１１　）
溶液を滴下する。反応混合物を０℃で３０分間攪拌し、
室温まで昇温せしめ、次いで同温で１時間攪拌する。次
いで過剰の水素化アルミニウムリチウムが分解するまで
注意して水を加える。沈殿を濾去後、濾液の溶媒を減圧
下に留去して、１−ペンシル−２，５−ビス（ヒドロキ
シメチル）ピロリＳノン（３８，５２ｇ　）を粗生成物
として得る。

ＩＲ（ニー））　　　’　　３３００　　ｃｍ−ＩＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ１３，８）　’　１．７３−１．８５　（４
Ｈ１ｍ）、２．１０（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　３．００　
（２）１．ｍ）、　３．３０−３．４５　（４Ｈ。

ｍ）、　３．−７８　（２Ｈ，ｓ）、　７．２８　（５
Ｈ，ｓ＞製造例２３ １−ヘンシル−２，５−ビス（ヒドロキシメチル）ピロ
リジン（３０ｇ）およびイミダゾール（２７，８ｇ）（
７）ジメチルホルムアミド（３００ｍｆ１　）溶液に、
塩化第三級ブチルジメチルシリル（２０，４ｇ）を少量
ずつ室温で加える。室温で１時間攪拌後、水（０，９１
２）および酢酸エチル（ｔ、４ｉを混合物に加える。振
とう後、水層を分取して酢酸エチル０゛２回抽出する。

有機層を合わせて水で３回および食塩水で洗浄して硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去する。残渣
をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィーに付
し、ヘキサンと酢酸エチルの混液（８：２−７：３、ｖ
／ｖ　）で溶出して、１−ヘンシル−５−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシメチルピ
ロリジン（１６，８ｇ）を得る。

ＩＲに−ト）　　：　　３４００　　ｃｍ−１ＨＭＲ（
ＣＤＣｌ２．８　）　：　０．１０　（６８，ｓ）、　
０．９８　（９Ｈ，ｓ）。

１．８０−２．００　（４Ｈ，ｍ）、　２．８３　（Ｌ
Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　３．０６（２Ｈ，ｍ＞、　　３．４
０　　（２Ｈ，ｓ）、　　３．４５　　（２Ｈ，ｓ）、
　　３．９０＜２Ｈ，ｓ）、　　７．３７　　（５Ｈ，
ｓ）製造例２４ １−ベンジル−５−第三級ブチルジメチルシリルオキシ
メチル−２−ヒドロキシメチルピロリジン（６，３ｇ）
のメタ／　−ル（６３ｍＡ　）溶液に、水酸化パラジウ
ム−炭素（６３０ｍｇ）を窒素ガス雰囲気中で加える。

装置を真空にして窒素ガスを除き、次いで水素ガスを充
満させ、混合物を水素雰囲気中１９ミリモルの水素を吸
収するまで攪拌する。水酸化パラジウム−炭素を濾去し
、溶媒を減圧下に留去して、５−第三級ブチルジメチル
シリルオキシメチル−２−ヒドロキシメチルピロリジン
（４，０＆）を得る。この残渣のテトラヒドロフラン（
６０ｍＱ　）および水（３０ｍ１１　）溶液に、炭酸水
素ナトリウム（４，１０ｇ）、次いでりｏｏギ酸アリル
（１、４２ｍＱ　）を室温で加える。２時間攪拌後、炭
酸水素ナトリウｌい（２，１ｇ）および塩化アリルオキ
シカルボニル（１４２ｍＱ）を加える。１時間攪拌後、
酢酸エチル（１００ｍＱ　）および水（５０ｍａ　）を
加え、水層を分取して酢酸エチルで２回抽出する。有４
５１層を合わけてＩＮ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣をシリカゲル
を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン
と酢酸エチルの混液（９：１−４：１、ｖ／ｖ）で溶出
して、１−アリルオキシカルボニル−５−第三級ブチル
ジメチルシリルオキジメチル−２−ヒドロキンメチルピ
ロリジン（４，９１ｇ）を得る。

ＩＲ（ニー））　　　’　　３４００．　　１６９０　
　ａｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ２．Ｓ　　）　　：　　０
．０８　　（６Ｈ，ｓ）、　　０．９０　　（９Ｈ，ｓ
）１．６０−２．３０　（４Ｈ，ｍ）、　３．３０−４
．５０　（７Ｈ，ｍ＞。

４．５８　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　５．１０−５
．５０　（２Ｈ，ｍ）。

５．７０−６．２０　（ＩＨ，ｍ） １産±擾 １−アリルオキシカルボニル−５−第三級ブチルジメチ
ルシリルオキシメチル−２−ヒドロキシメチルピロリジ
ン（４，９ｇ）のジメチルスルホキシＦ　（４９ｍＱ　
）およびトリエチルアミン（７，２５ｍＱ　）溶液に、
反応温度を２５°Ｃに保ちなから三酸化イオウピリジン
コンプレックス（８，２９ｇ）を少量ずつ加える。１時
間攪拌後、混合物を水冷水（２４５ｍＱ＞中に加え、適
当な時間攪拌し、酢酸エチルとヘキサンとの混合物（１
：　１、ｖ／ｖ）で３回抽出する。有機層を合わせて水
で２回、ＩＮ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水
および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶
媒を減圧下に留去する。残渣にトルエン（３ｏｍＩｌ）
および３−トリフェニルホスホラニリデンブタン−２−
オン（５，９ｇ）を室温で加える。混合物を７０°Ｃで
６時間攪拌し、溶媒を減圧下に留去する。残渣にヘキサ
ンを加え、混合物を１時間攪拌する。沈殿を濾去し、濾
液の溶媒を減圧下に留去する。残渣をシリカゲルを使用
するカラムクロマトグラフィーに付して、１−アリルオ
キシカルボニル−５−第三級ブチルジメチルシリルオキ
シメチル−２−（２−ノナルー３−オキソ−１−ブテニ
ル）ピロリジン（４，４９ｇ）を得る。

ＩＲ＜ニート）　　：　　１７００．　　１６７０　　
ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ２．８）：　０．０６　（３
Ｈ，ｓ）、　０．０９　（３Ｈ，ｓ）。

０．９３　（９Ｈ，ｓ）、　１．８２　（３Ｈ，ｓ）、
　１．８２−２．２０＜４８．ｍ）、　２．３０　（３
Ｈ，ｓ）、　３．７３　（２）１．ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞。

３．７０−４．２０　（２Ｈ，ｍ）、　４．４０−４．
８０　（２Ｈ，ｍ）。

５．０６−５．４３　（２Ｈ，ｍ＞、　５．６０−６．
１３　（ＬＨ，ｍ）６．５０　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈ
ｚ）製造例２６ 水素化アルミニウムリチウム（１６，２ｇ　）のテトラ
ヒドロフラン（１り）中部濁液に、１−ヘンシル−４−
メトキシカルボニル−２−オキソビロリ／ン（５０ｇ）
を還流下１時間かけて加え、混合物を２時間還流する。

水（１５，５ｍＱ　）とテトラヒドロフラン（５０ｍＡ
　）との混合物を上記混合物に還流下に加える。冷後、
不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮して、１−ベンジル−
３−ヒドロキシメチルビＬ７リジン（４３，４５ｇ　）
を得る。

ＩＲにニート）　　：　　３３５０−３０５０　　ｃｍ
−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．　Ｓ　）　：　１．１−
１．９　＜ＬＨ，ｍ）、　１９−２．０（ＬＨ，ｍ＞、
　２．０−２．６　（５Ｈ，ｍ）、　３．１−３．４　
（２Ｈ，ｍ）。

３．５０　　（２Ｌｓ）、　　４．３−４．６　　（Ｌ
Ｈ，ｍ）、　　７．２３（５Ｈ，ｓ＞ ＭＳ　：　１９１　（Ｍ”）、　　１１４　（Ｍ”−７
７）、　　１００　（Ｍ”−９１＞製−ｍ（ａｌυ イミダゾール（３０，０ｇ）を１−ベンジル−３−ヒド
ロキシメチルビロリジン（４３，４５ｇ　）および塩化
第三級ブチルジメチルシリル（４８，５ｇ）のジメチル
ホルムアミド（１ｓｏｍＱ）溶液に水冷下に加える。混
合物を同温で２時間攪拌し、常温で１５時間攪拌する。

混合物を水（６００ｍ１ｌ　）中に注ぎ、酢酸エチル２
００ｍＱで１回、ｔｏｏｍｕで１回抽出して、抽出液を
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去してシ
ロップ状物を得る。シロップ状物をシリカゲル（５００
ｇ）を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、メタ
ノールとジクロロメタンとの混液（５：９５、ｖ／ｖ　
）で溶出して、１−ベンシル−３−第三級プチルジメチ
ル第三級ブチルジメチルシリルオキシメチルピロリジン
る。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．Ｓ　　）　　：　　０．０３　　
（６Ｈ，ｓ）、　　　０．８５　　（９Ｈ，ｓ）。

１．２−１．９　（１８，ｍ）、　１．９−２．１　（
ＬＨ，ｍ＞、　２．１−２．９（５Ｈ，ｍ）、　３．７
７　（２Ｈ，ｄ、Ｊ−６Ｈｚ）、　３．５３　（２）１
．ｓ）。

７．２２　（５Ｈ，ｓ＞ 聚亘血訃 １−ヘンシル−３−第三級ブチルジメチルシリルオキシ
メチルピロリジン（６０，１０ｇ）およびクロロギ酸ア
リル（２５，２７ｍＱ　）のトルエフ　（６００ｍＱ　
）溶液を６０°Ｃに１時間加熱する。混合物を減圧濃縮
してシロップ状物を得る。シロップ状物をシリカゲル（
５００ｇ）を使用するｐラムクロマトグラフィーに付し
、酢酸エチルとヘキサンとの混液（１：９−３ニア、ｖ
／ｖ　）で溶出して、１−アリルオキシカルボニル−３
−第三級ブテルジメチルシノルオキシメチルビロリジン
（３０，００ｇ　）　ヲ（’４る。

ＩＲ（ニー））　　　’　　１７１０−１７００　　ｃ
ｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３，ｌ；　）　’　０．０３　
（６Ｈ１ｓ）、１−９０　（９Ｈ９ｓ）。

１．５−２．５　（２Ｈ，ｍ）、　３．０−３．７　（
７Ｈ，ｍ）、　４．５−４．７（２Ｈ，ｍ＞、　５．０
−５．４　（２Ｈ，ｍ＞、　５．７−６．２　（ＬＨ，
ｍ）製造例２９ １−アリルオキシカルボニル−３−第三級ブチルレメチ
ルシリルオキシメチルピロリジン（２９，９５＆）の濃
塩酸（１ｇｍＱ）およびメタノール（１５０ｍＱ　）の
混合物溶液を常温で１時間攪拌する。メタノール中２８
％ナトリウムメトキシド（３５ｍ１１　）を混合物に加
える。不溶物を濾去し、？ＪＩ１．液を減圧濃縮してシ
し−１７ブ状物を得る。シロップ状物をシリカゲル（４
００ｇ）を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、
酢酸エチルで溶出して、１−アリルオキン力ルポニル−
３−ヒドロキシメチルピロリジン（１９，０１ｇ　）を
得る。

ＩＲ（ニー））　　　：　　３４５０−３２００．　　
１７１０−１６５０　　ｃｍ−１ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，
Ｓ＞　’　１．５−２−９　（４１（１ｍ）　、３、Ｏ
−３，８（６Ｈ，ｍ）、　４．４−４．７　（２）１．
ｍ＞、　５．０−５．４　＜２Ｈ，ｍ＞。

５．７−６．２　（ＬＨ，ｍ＞ ＭＳ　；　１８５　（Ｍ”） 製造例３０ ンメチルスルホキシド（１３，０３ｍＱ　）のジクロロ
メタン（２５ｍＱ　）溶液を塩化オキザリル（９，ｘｍ
ｌの／゛ジクロロメタン　１００ｍｍ　）溶液に、攪拌
下−６５℃以ドの温度で滴下する。混合物を同温で３０
分間攪拌４−る。１−アリルオキシカルボニル−３−ヒ
トＵキ／メチルピロリジン（１７，０ｇ）のジクロロメ
タン溶液を混７合物に同温で加える。混合物を一６５°
Ｃ以下の温度で３０分間攪拌し、次いでトリエチルアミ
ン（３８，５ｍｌ！　）を−６５℃以下の温度で滴下す
る。次いで冷却浴を取除き、反応混合物の温度を室温ま
で上昇せしめ、水（２５０ｍｍ　）で２回、ＩＮ塩酸（
１５０ｍｍ　）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１５
０ｍ１ｌ　）および食塩水（１５０ｍｍ　）で順次洗浄
して硫酸マグネジウドで乾燥し、減圧濃縮してシロップ
状物を得る。シロップ状物をシリカゲル（２００ｇ）を
使用するカラムクロマトグラフィーに付し、メタノール
とジクロロメタンとの混液（１：９９、ｖ／ｖ）で溶出
して、１−アリルオキシカルボニル−３−ホルミルピロ
リジン（１３，５０ｇ　）を得る。

ＩＲ（ニー））　　　：　　１７３０−１６７５　　ａ
ｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３，８＞　’　１．７−２．５
　（２）１１ｍ＞、２．９−４．９（７Ｈ，ｍ）、　４
．５−４．７　（２Ｈ，ｍ）、　５．１−５．４　（２
Ｈ，ｍ＞。

５．７−６．２　（ＬＨ，ｍ）、　９．６５　（ＩＨ，
ｓ）製造例３１ １−アリルオキシカルボニル−３−ホルミルピロリジン
（１３，４５ｇ　）および３−トリフェニルホス、トラ
ニリデンブタンー２−オン（２５，６０ｇ）の７クロロ
メタン（１５ｍ１ｌ　）溶液を２０時間還流する。

＋ｌａ合物を減圧濃縮してシロップ状物を得る。シロッ
プ状物をシリカゲル（２００ｇ）を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、酢酸エチルとヘキサンとの混液
（４：　６、ｖ／ｖ）で溶出して、１−アリルオキシカ
ルボニル−３−（２−メゾルー３−才キソー１−ブテニ
ル）ピロリジン（１６，５２ｇ）を得る。

ＩＲ（ニー））　　　：　　１７１０−１６５０　　ｃ
ｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８）　：　１．８２　（３
Ｈ，ｓ）、　２．２８　（３Ｈ，ｓ）。

４．５−４．７　（２Ｈ，ｍ）、　　５．０−５．４　
　（２Ｈ，ｍ＞、　　５．７−６．１（ＬＨ，ｍ） ＭＳ　　：　　２３７　　（Ｍ”）、　　　２２２　　
（Ｍ”−１５）、　　　１９６　　（Ｍ”−４１）製造
例３２ 製造例３４と実質的に同様にして、（２Ｒ）−１−アリ
ルオキシカルボニル−２−メトキシカルボ−ニルピロリ
ジン（３，６０ｇ）を、３−トリフェニルホスホラニリ
デンブタン−２−才ン（６，１８ｇ）と反応させて、（
２Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（２−メチ
ル−３−才キソー１−ブテニル）ピロリジン（２，８６
ｇ）を得る。

ＬＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１６９０，１６７０　ｃｍ
−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３，Ｓ　＞　’　１．８３　（３
）！、ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ）、　ｔ、　５０−２．４３　（
４８，ｍ＞、　２．２７　（３Ｈ，ｓ）、　３．３４−
３．７５（２）１．ｍ）、　４．４０−４．８０　（３
）１．ｍ＞、　５．００−５．４３（２）１．ｍ）、　
５．５９−６．２０　＜ＬＨ，ｍ＞、　６．４５　（Ｉ
Ｈ，ｄｑ。

Ｊ”１．８Ｈｚ） 製造例３３ ２−カルボキシピペリジン（５０ｇ）のテトラヒト【１
フラン（２００ｍｍ　）および水（、２００ｍ１１　）
溶液を２０２≦水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ９，５付
近に調整する。この溶液にクロロギ酸アリル（４５ｍｊ
ｌ　）を、２０′３≦水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ９
，５付近に調整しなから５°Ｃで滴下する。０°Ｃで３
０分間攪拌後、混合物を酢酸エチルで洗浄する。酢酸エ
チル（２００ｍｍ　）を加えた後、混合物を濃塩酸（３
０ｍ１１　）とＩＮ塩酸とでｐｌ（２，０付近に調整す
る。混合物を酢酸エチル（２００ｍｍ　）で抽出し、食
塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留
去して得る１−アリルオキシカルボニル−２−カルボキ
シビぺり７コン（８８，７ｇ）の油状物をメタノール（
４４０ｍｍ　）に溶解する。この溶液に硫酸（６８ｇｍ
３）を滴下し、混合物を２時間還流する。混合物にトリ
エチルアミン（、２９，５ｍｌ　）を２０℃で滴下する
。溶媒を留去して得られる残渣を酢酸エチル（４００ｍ
ｌ！　）と水（１００ｍｍ　）との混合物中に加える。

有機層を分取して、水、ＩＮ塩酸、食塩水、５％炭酸水
素ナトノウム水溶液および食塩水で順次洗浄して硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去して、１−アノルオ
キシ力ルボニルー２−メトキシカルボニルピペリジン（
９２，５ｇ）を得る。

ＩＲ（ニー））　　　：　　１７４０．　　１７００　
　ａｍ″″ＩＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．ｌ；　）　’　１．
０５−２．４０　（６Ｈ９ｍ＞、３．００（ＬＨ，ｍ）
、　３．７２　（３Ｈ，ｓ）、　４．５０　（ＬＨ，ｂ
ｒ、ｄ。

Ｊ４３Ｈｚ）、　４．５８　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞
、　４．８８　（ＬＨ。

ｂｒ、ｓ）、　５．０５−５．４０　（２Ｈ，ｍ）、　
５．６８−６．１７（ＩＨ，ｍ） 製造例３４ １−アリルオキシカルボニル− ルボニルピペリジン（１０ｇ）のトルエン（　ｓｏｍｕ
　）溶液に、水素化ジイソブチルアルミニウム（トルエ
ン中ＩＭ溶液）　（　５７ｆｆｌｌｌ　）を−７０℃で
滴下する。

−７０″Ｃで３０分間攪拌後、反応混合物を濃塩酸（２
５ｍＭ　）と水（　１００ｍＭ　）との混合物中に５℃
で注ぐ。

５°Ｃで１５分間攪拌後、有機層を分取し、順次ＩＮ塩
酸（　２０ｍＭ　）、２５％酒石酸カリウムナトリウム
（　ｚｏｍｕ　）および食塩水（　２０ｍＭ　）で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥して濾過する。濾液を４Ｑ
ｍＱ容まＣ７６縮する。この溶液に３−トリフェニルホ
スホジーリデンプタン−２−オン（１６．１ｇ）を加え
、ｉＬＪ合物を７０℃で５時間攪拌する。常温に冷却後
、生成する沈殿を濾去する．混液の溶媒を留去して得る
残渣を酢酸エチルに加える。生成する沈殿を濾去し、濾
液の溶媒を減圧下に留去する。残渣を，リカゲル（　３
００ｍＭ　）を使用するクロマトグラソイ−に付し、ｎ
−ヘキサンと酢酸エチルとの混液（１０：　１−５　：
　１、ｖ／ｖ）で溶出して、１−アリルオキシカルボニ
ル−２−（　２−メチル−３−」キン−１−ブテニル）
ピペリジン（１０．９ｇ）を得る。

ＬＲ　（ＣＨＣＬ３）　：　１６８０　ａｍＮＭＲ　（
ＣＤＣ１３．ｌ；　）　’　１．　８８　（３Ｈ．ｂｒ
　ｓ）、２．　３４　（３Ｈ−ｓ＞、　２．８０−３．
２０　（ＩＨ．ｍ）、　４．００−４．２５　（ＬＨ．
ｍ＞。

４、５０−４．６５　　（２Ｈ，ｍ＞、　　５．０５−
５．３８　　（３Ｈ，ｍ＞。

５、７０−６．１１　　（ＬＨ，ｍ）、　　６．７４　
　（ＩＨ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ＞製造例３５ ジメチルホルムアミド（４．２ｍＱ）およびテトラヒド
ロフラン（　１０ｍＭ　）の混合物に、オキシ塩化ｙＩ
（　ａ．ｚ＋ｎａ　）を５℃で加える．５℃で３０分間
攪拌後、混合物に順次テトラヒドロフラン（　６０１Ｔ
ｌｌｌ　）お上びＮ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−メ
チルグノンン（８．７ｇ）を加える．混合物を５℃で３
０分間攪拌する（溶液Ａ）、（２Ｓ）−１−アリルオキ
シカルボニル−２−（　２−メチル−３−才キソー１−
ブテニル）ピロリジン（１０．０ｇ）のテトラヒ）゛ロ
フラン（　１６０ｍＭ　）溶液に、順次トリフェニルホ
スフィン（５．５ｇ）、５．５−ジメチル−１、３−シ
クロヘキサンジオン（ジメドン）（５．８＆）、酢酸（
４．８ｍλ）およびテトラキス（トリフェニルホスフィ
ン）パラジウム（０）（２．４ｇ）を加える．常温で３
０分間攪拌後、混合物を酢酸エチルＣ　１００ｍＭ　）
と水（　ｔｏｏｍｉ　）との混合物中ニ加よる。ＩＮ塩
酸でｐＨ２付近に調整後、水層を分取し、酢酸エチルで
洗浄してテトラヒドロフラン（　２００ｍＭ　）をこれ
に加える。２０％水酸化ナトリウｌ、水溶液でｐＨ８．
　５付近に調整後、混合物に上記溶液Ａを滴下する．５
°Ｃで１時間攪拌後、混合物を酢酸エチルで抽出する。

有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を
留去して得られる残渣をシリカゲル（　３００ｍＭ　）
を使用するクロマドウグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン
と酢酸エチルとの混液（５：５−３ニア、ｖ／ｖ　）で
溶出して、（２Ｓ）−１−（Ｎ−アリルオキシカルボニ
ル−Ｎ−メチルアミノアセチル）−２−（２−ノナルー
３−オキソ−１−ブテニル）ピロリジン（３．４＆）を
得る。

ＮＭＲ　（ＣＤＣ１３，８　）　’　１．　９０　（３
８−ｂｒ．　ｓ）、２．　３０　（３Ｈ。

ｓ）、　　３．０５　　（３Ｈ．Ｓ）、　　３．５−４
．１　　（４Ｈ．ｍ）、　　４．５８（２Ｈ，ｂｒ．ｄ
．Ｊ＝５Ｈｚ）、　　４．７−５．０　　＜ＩＨ．ｍ）
、　　５．１−５、４　　＜２８．ｍ）、　　５．７−
６、２　　（ＬＨ．ｍ）、　　６．３−６．６（ＬＨ，
ｍ） 製造例３６ １−ヘンスヒドリルー３ーヒドロキシメチルアビナンン
（４．３ｇ）の濃塩酸（２．７ｍＢ含有メタノール（　
ｓｏｍｉ　）溶液を、１０％パラジウム−炭素のｒＬ在
下６０ボンド／インチ２の圧力下に水素添加する。触媒
を濾去後、濾液の溶曝を留去し、残渣を水に溶解してジ
エチルエーテル（１００ｍＭ　）で抽出Ｊ−ろ。水溶液
を１０％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ６８に調整し、
酢酸エチルで抽出する。水溶液にテトラヒドロフラン（
３０ｍＱ　）を加え、溶液を〇−５℃に冷却する。クロ
ロギ酸アリル（ｘ、ａ５ｍＱ）のテトラヒドロフラン（
５ｍｕ）溶ン夜をこれに、ｐＨ７，５−８，０に保ちな
がら滴下する。１時間攪拌後、酢酸エチル（３０ｍＱ　
）を加え、有機層を分取して乾・煙し、溶媒を留去する
。残渣をシリカゲルを使用Ｊ“るクロマトグラフィーに
付し、クロロホルム中３−５％メタノール溶液で溶出し
て、１−アリルオキ〉カルボ、ニル−３−ヒドロキシメ
チルアゼチジン（０，９７ｇ）を得る。

ＩＲ（二Ｊ）　　　：　　１６８０　　ｃｍ−１ＨＭＲ
（ＣＤＣ１３，８）　’　２．２０−２．４０　（ＬＨ
ｌｍ）　、２．５０−２．９０　（１１（、ｍ）、　３
．６３−４．１８　（６Ｈ，ｍ）、　４．４２−４．６
０　（２Ｈ，ｍ）、　５．０５−５．３５　（２Ｈ，ｍ
）、　５．６５−６．１０　（ＬＨ，ｍ＞ 製造例３７ １Ｘに化オキ′ナリル（６，３ｇ）のジクロロメタン（
８５眠）溶液に、ジメチルスルホキシド（３，８７ｇ）
を−６０°Ｃで加え、１５分間攪拌する０次いで１−ア
リル」キンカルボニル−３−ヒドロキ・ンメチルアゼプ
”シン（６，８ｇ）の塩化メチレン（２１ｍ１１　）溶
液をこｔＬに加え、混合物を一６０℃で３０分間攪拌す
る。

トリエチルアミン（２０ｇ）をこれに滴下する。混合物
に水（ｓｏｍＱ）を加え、有機層を分取し、水洗し〔硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、ヘンビンで共
沸蒸留して油状残渣を得る。残渣を塩化メチレン（１６
０ｍＭ　）に溶解し、３−トリフェニルホスホラニリデ
ンブタン−２−オン（１１，８ｇ　＞２これに加える。

混合物を室温で一夜攪拌する。

溶媒を留去して得られる残渣を酢酸エチルに加えた後、
粉砕し、不溶物を濾去する。濾液をシリカゲルカラムに
付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの混合物で溶出する
。主画分の溶媒を留去して、１−アリルオキシカルボニ
ル−３−（２−メチル−３＝オキソ−１−ブテニル）ア
ゼチジン（７，０６＆）を得る。

ＩＲ（ニート）　　：　　１６８０　　ｃｍ’−’ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ２．δ）　：　１．７５　（３）！、ｄ、
Ｊ＝１）１ｚ）、　２．３４（３）１．ｓ）、　　３．
４０−３．９５　（３Ｈ，ｍ＞、　　４．１７−４．６
０（４）１．ｍ）、　　５．０６−５．４０　（２Ｈ，
ｍ＞、　　５．７０−６．１３（１）１．ｍ）、　　６
．６３−６．８５　（１）（、ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）製造例
３８ （２Ｓ）−２−第三級ブチルジメチルシリルオキ・レノ
チル−１−メチル−５−ピロリジン（１６ｇ）の−テト
ラヒドロフラン（１６０ｍＭ　）溶液に、ローソンの試
薬［２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−
ジチア−２，４−ジホスフエタンー２．４−−ノスルフ
ィド］　（１４，６ｇ　）を常温で加える。窒素ガス雰
囲気中６０℃で１時間攪拌後、溶媒を留去する。残渣を
シリカゲルを使用するクロマドグシフイーに付し、アセ
トンとジクロロメタントｔｙ＞Ｑ液（１：　９．ｖ／ｖ
）で溶出して、（２Ｓ）−２＝第三級ブチルジメチルシ
リルオキシメチル−１−メチル−５−チオキソピロリジ
ン（１７，０ｇ）を得る。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８　）　：　０．０９　（６Ｈ，
ｓ）、　０．９１　（９Ｈ，ｓ＞。

１．６−２．３　（２Ｈ，ｍ）、　　２．８−３．２　
（２Ｈ，ｍ＞、　　３．２６（３Ｈ，ｓ）、　　３．５
−４．１　　（３Ｈ，ｎ＋）製造例３９ （２Ｓ）−２−第三級ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル−１−メチル−５−チオキソピロリジン（９，０ｇ）
のテトラヒドロフラン（１８０ｍ１ｌ　）溶液に、沃化
メチル（ｒｏｍａ　）を加える。窒素ガス雰囲気中常温
で１２時間攪拌後、溶媒を留去して得られる残渣を２エ
チルエーテルに加える。得られる固体ランエチルエーテ
ルで洗浄してメタノール中１０％アンモニア（１００ｍ
ｍ　）に溶解する。０℃で１時間攪拌後、溶媒を留去す
る。残渣をテトラヒドロフラン（’ｔｏｏｍａ　）に溶
解し、溶液にトリエチルアミ＞　（７，ｇｍＱ　）とり
ｏｏギ酸アリル（３，ｏｍｕ）とを加える。Ｏ′Ｃで１
時間攪拌後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルを使用す
るクロマトグラフィーに１・［し、ｎ−ヘキサンと酢酸
エチル（１：１、ｖ／ｖ）で溶出して、（２Ｓ）−５−
アリルオキシカルボニルイミノ−２−第三級ブチルジメ
チルシリルすキンメチル−１−メチルピロリジン（５，
１ｇ）を得る。

ＬＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１６７５　ｃｍ〜ＩＮＭＲ
（ＣＤＣｌ２．　８　）　　：　　０．０９　　（６Ｈ
，ｓ）、　　０．８６　　（９Ｈ，ｓ）。

１ｇ−２，３（２Ｈ，ｍ）、　　２．８−３．２　（２
Ｈ，ｍ＞、　　２．９９（３Ｈ，ｓ）、　　３．６−３
．９　　（３Ｈ，ｍ）、　　４．５０　　（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６Ｈｚ＞、　　５．０−５．４　　（２Ｈ，ｍ）、
　　５．７−６．２　（１１（、ｍ＞製造例４０ （２８）−５−アリルオキシカルボニルイミノ−２−第
三級ブチルジメチルシリルオキシメチル−１−メチルピ
ロリジン（Ｌ、Ｏｇ）のメタノール（３０ｍＱ　）溶液
に、濃塩酸（１ｍｉ）を０℃で加える。室温で１２時間
攪拌後、混合物に飽和度酸水素す１−リウム水溶液を加
え、溶媒を留去する。残渣を酢酸エチルに溶解し、順次
水および食塩水で洗浄ｒる。溶液を乾燥し、溶媒を減圧
下に留去して、（２Ｓ）−５−アリルオキシカルボニル
イミノ−２−ヒドロキシメチル−１−メチルピロリジン
（０，６５ｇ）を得る。

ＩＲに−ト）　　：　　３３００−３４００．　　１６
６０−１６８０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，８）
　　’　　：＋、ｏｔ　　（３Ｈ，ｓ）、　　２．８−
３．２　　（２Ｈ。

ｍ＞、　　３．３−３．８　　（４Ｈ，ｍ）、　　４．
４−４．６　　（２Ｈ，ｍ）。

５．０−５．５　　（２Ｈ，ｍ＞、　　５．７−６．２
　（ＩＨ，ｍ）製造例４１ 塩化オキサリル（０，５２ｍＱ　）のジクロロメタン＜
　１ＳｍＱ）　＃液に、ジメチルスルホキシド（０，６
０ｍＡ）と−７８℃で滴下する。−７８℃で１０分間攪
拌後、混合物に（２Ｓ）−５−アリルオキシカルボニル
イミノ−２−ヒドロキシメチル−１−メチルピロリジン
（０，６３ｇ）のジクロロメタン（ｔｏｍｕ　）溶液を
滴ド′Ｊろ。−７８℃で１０分間攪拌後、混合物にトリ
エチルアミン（２，ｔｍＢを滴下し、この混合物の温度
をＯ″Ｃまで上昇せしめる。混合物を水および食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒と留去する。

残渣をシリカゲルを使用するクロマト・グラフィーに付
し、アセトンとジクロロメタンとの１ｆｆｌ液（１：４
、ｖ／ｖ　）で溶出して、（２Ｓ）−５−アリルオキシ
カルボニルイミノ−２−ホルミル−１−メチルピロリジ
ン（０，４６ｇ）を得る。

ＩＲ（Ｃ）１２Ｃ１２）　：　１６５０−１６８０　ｃ
ｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３，ｆ；　）　’　３．１１　
（３Ｈ９ｓ）、４−０−４．３　（ＩＨ９ｍ＞、　　４
．４−４．７　（２Ｈ，ｍ）、　　５．０−５．４　（
２Ｈ，ｍ）。

５．７−６．２　（ＬＨ，ｍ） 製造例４２ （２Ｓ）−５−アリルオキシカルボニルイミノ−２−ホ
ルミル−１−メチルピロリジン（０，４６ｇ　）のトル
エン（２０ｍ党）溶液に、３−トリフェニルホスホラニ
リデンブタン−２−オンを加え、混合物を８０°Ｃで２
時間攪拌する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルを使用
するクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エ
チルとの混液（１：２、ｖ／ｖ　）で溶出して、（２Ｓ
）−５−アリルオキシカルボニルイミノ−１−メチル−
２−（２−メチル−３−才キソー１−ブテニル）ピロリ
ジン（０，５１）を得る。

ＬＲ（Ｃ１２Ｃ１２ン　　’　　１６７０　　ｃｍ−１
ＨＭＲ（ＣＤＣｌ２．８　＞　’　１．９０　（３Ｈ，
ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ）、　２−３２（３Ｈ，ｓ）、　２．９
７　（３ｔ（、ｓ）、　２．９−３．３　（２Ｈ，ｍ）
。

４．３−４．７　（３Ｈ，ｍ）、　５．０−５．４　（
２Ｈ，ｍ）、　５．７−６．２（１１，ｍ）、　６．３
１　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝８１（ｚ、　ＩＨｚ＞製造イ３
０４４３ （３Ｒ）−４〜ヘンンルー３−ヒドロキシメチルモルホ
リン（２，２３ｇ）および１０％０％バランラム−（湿
潤物、１．ｔｔｇ）およびエタノールの混合物を水素雰
囲気中２時間攪拌する。触媒を濾去し、濾液の溶媒を留
去する。油状残渣を酢酸エチル（５Ｑｍ１１　）および
水（５０ｍα）に加える。混合物にクロロギ酸アリル（
１，２３ｍ１１　）をｐＨ９−１０で加え１３０分間攪
拌する。有機届を分取して食塩水（５０職）で２回１５
１：浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下
に留去し、残渣をシリカゲル（４ＱｍＱ　）を使用する
クロマトグラフィーに付し、ヘキナン中酢酸エテル（５
−５０％）で溶出して、（３Ｒ）−４−アリルオキシカ
ルボニル−３−ヒドロキレメチルモルホリン（１，２２
ｇ　）　’ｅ１＊る。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８　）　：２．７５　（ＬＨ，ｂ
ｒ、ｓ）、　２．９−４．４（９Ｈ，ｍ）、　４．４−
４．７　（２Ｈ，ｍ）、　４．９−５．４　（２Ｈ，ｍ
）。

５．６−６．２　（ＩＨ，ｍ） 製造例４４ （３Ｒ）−４−アリルオキシカルボニル−ヒ１：ロキシ
メチルモルホリン（１，２２ｇ）およびトノエチルアミ
ン（２，９６ｇ）のジメチルスルホキシｔ’　（１２，
２ｍＱ　）中混合物に攪拌下、二酸化イ才つビノンンコ
ンプレックス（３，３７ｇ）を１０℃で加える。常温で
１時間攪拌後、反応混合物を水中に注さ゛、酢酸エチル
とヘキサンとで抽出する。有機層を分取して順次ＩＮ塩
酸、炭酸水素ナトリウム水ｉｆｆ液および食塩水で１５
１：浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去す
る。残渣をトルエン（２５ｍｉｌ　）に溶解し、その溶
液に３−トリフェニルホス゛トラニリデンブタン−３−
オン（２，４２ｇ）を加え、混合物を８０°Ｃで２時間
加熱する。減圧濃縮して１嘩られる残渣を酢酸エチルに
加える。生成する沈殿を濾去し、濾液を減圧濃縮する。

残渣をシリカゲル（４０ｍｍ）を使用するクロマトグラ
フィーに１・１し、ヘキサン中酢酸エチル（５−１０％
）で溶出して、（３Ｒ）−４−アリルオキシカルボニル
−３−（２−メチル−３−才キソー１−ブテニル）ピロ
リジン（９７１ｍｇ）を得る。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８）　：　１．８６　（３Ｈ，ｄ
、Ｊ＝ＩＨｚ＞、　２．３５＜３Ｈ，ｓ）、　３．１−
４．１　（６Ｌｍ）、　４．４−４．７　（２Ｈ，ｍ＞
。

４．７−５．０　（１）１．ｍ＞、　５．０−５．３　
（２Ｈ，ｍ）、　５．６−６．２（ＩＨ，ｍ）、　　６
．８８　（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ４９Ｈｚ、　　１）１ｚ）製
造例４５−１） （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−［（ＩＲ）−１
−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチルコー２−オ
キソアゼチジン（２，９０ｇ）およびＮ−エチルピペリ
ジン（１，３ｓｍｕ　）のジクロロメタン（１５ｍｍ　
）溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸）・リメチル
シリル（１，９５ｍｍ　）を−２０℃で加え、この混合
物を０°Ｃで１時間攪拌する（溶液Ａ）。

（２Ｓ、４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−４−メ
トキシ−２−（２−メチル−３−オキソ−１−ブテニル
）ピロリジン（２．７０ｇ）およびＮ−ニブルピペリジ
ン（　１．４ｓｍＱ）のジクロロメタン（　５ＱｍＱ　
）溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシ
リル（２．　９３ｍｌ　）を−２０℃で加え、この混合
物を０°Ｃで１時間攪拌する。この混合物に上記で得ら
れた溶液Ａを０℃で滴下し、この混合物を０°Ｃでさら
に１時間攪拌する。反応混合物を酢酸エチル（３００証
）と水（　３００ｍ１１　）との混合物中に加λ、混合
物を常温で２時間攪拌する。炭酸水素ナトリウム水溶液
でｐＨ６．５付近に調整し、有機層を分取して食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留
去する。残渣をシリカゲル（１２０ｍＭ）を使用するク
ロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢謙エチルと
の混液（１：１、ｖ／ｖ）で溶出して、（３Ｓ．４Ｒ）
−４−［４ｉ（２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキシカルボ
ニル−４−メトキシピロリジン−２−イル）−３−メチ
ル−２−才キソー３−ブテニル］−３−［（ＩＲ）−１
＝第三級ブチルジメチルシリルオキシエチルコー２−オ
キソアゼチジン（３．２４ｇ）を得る。

ＩＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　’　３４２０．１７６０，１
７００．１６７０　ｃｍ−ＩＮＭＲ　（ＣＤＣｌ２，　
Ｓ　）　：　０．１０　（６Ｈ．ｓ）、　０．８８　（
９）！．ｓ）。

１、２１　（３）１．ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．８５　
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝ＩＨｚ）。

１、４８−２．５２　　（２Ｈ．ｍ）、　　２．６０−
３．１５　　（３Ｈ．ｍ）。

３、３３　　（３Ｈ．ｓ）、　　３．１５−４．３５　
　（ＳＲ，ｍ）、　　４．４０−４、９５　　（３Ｈ，
ｍ）、　　４．９５−５．５０　　（２Ｈ，ｍ）、　　
５．５０−６、２５　　（１）１．ｍ）、　　６．０２
　（ＬＨ，ｂｒ．ｓ）、　　６．４１　　（ＩＨ。

ｄｑ，Ｊ＝１．８Ｈｚ） 製造例４５−２＞ （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−［（ＩＲ）−１
−第三級ブテルジメチルシリルオキシエテルコー２−オ
キソアゼチジン（１．４８ｇ）およびＮ−エチルピペリ
ジン（　０．　６９ｍｍ　）のジクロロメタン（　１０
ｍ１１　）溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸トリ
メチルシリル（１．０ｍＱ）を−２０℃で加え、この混
合物をＯ″Ｃで１時間攪拌する（溶液Ａ）。

（２Ｓ，４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−４−（
メチルカルバモイルオキシ メチル−３−才キソー１−ブテニル）ピロリジン（１．
６０ｇ）およびＮ−エテルピペリジン（１．５０ｍｍ　
）のジクロロメタン（　ｚｏｍｒｂ　）溶液に、トリフ
ルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（　２．５ｍ
Ｑ　）を−２０℃で加え、この混合物をｏｏｃで１時間
攪拌する。この混合物に上記で得られる溶液Ａを０°Ｃ
で滴下し、この混合物を０℃できらに１時間攪拌する。

この混合物を酢酸エチル（　１５０ｍＭ　）と水（１５
０ｍρ）との混合物中に加え、混合物を常温で２時間攪
拌する。炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ６，５付近に
調整後、有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣をシリ
カゲル（７５ｍＱ　）を使用Ｊ−るクロマトグラフィー
に付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの混液（７：３〜
０：１０、ｖ／ｖ　）で溶出して、（３Ｓ、４Ｒ）−４
−［：４−（（２Ｓ、４Ｒ）−１−アリルオキシカルボ
ニル− ルカルバモイルオキシ）ピロリジン−２−イル）−３−
メチル−２−才キソー３−プテニルコー３　−　［　（
　Ｉ　Ｒ　）−　１−第三級ブチルジメチルシリルオキ
シエチル］−２−オキソアゼチジン（２、００ｇ）を得
る。

ＬＲ　　（ＣＨ２Ｃ１２）　　　：　　３４５０，　　
　３４１０，　　　１７６０，　　　１７２０，　　　
１７００。

１６７０　ｃｍ”” ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ２−　８　）　：ｏ．　ｔｏ　（６
Ｈ．ｓ）、　ｏ．　９１　（９Ｈ．ｓ）。

１、２３　　＜３Ｈ．ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ＞、　　１．８７
　　（３Ｈ，ｓン．　　１．６０−２、５８　（２Ｈ．
ｍ）、　２．６８−３．３１　（６Ｈ．ｍ）、　３．４
５−４、３３　＜４８．ｍ）、　４．４２−４．９５　
（４Ｈ．ｍ）、　５．００−５、４３　　（３Ｈ，ｍ）
、　　６．０９　（ＬＨ．ｂｒ．ｓ）、　　５．６０−
６．２０（ＬＨ．ｍ）、　　６．３０−６．５２　（Ｌ
Ｈ，ｍ）製造例４５−３） 製造例４５−１）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−（（２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキ
シカルボニル−４−ジメチルカルバモイルイ″キシ）ビ
ａリジン−２−イル）−３−メチル−２−才キソー３−
ブテニル］−３−［（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチルツー２−オキソアゼチジンを収率
８１．９％で得る。

ＩＲ　　（ニー））　　　：　　３３００．　　　１７
６０．　　　１７００　　ａｍ−’ＮＭＲ　（ＣＤＣ１
３．Ｓ　）　’　０．０７　＜６Ｈ，ｓ）、０．８７　
（９Ｈ，ｓ）。

１、２１　（３Ｈ．ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．８５　（
３Ｈ．ｓ）、　１．４５−２、５６　（２Ｍ，ｍ）、　
２．９０　（６）１，ｓ）、　２．５６−３．４０＜３
Ｈ，ｍ＞、　３．５０−４．３３　（４Ｈ，ｍ）、　４
．４０−４．９７（３Ｈ．ｍ＞、　５．００−５．４０
　（３Ｈ．ｍ＞、　６．０２　（ＬＨ。

ｂｒ．ｓ）、　５．５０−６．１５　（ＬＨ．ｍ）、　
６．４０　＜ＬＨ．ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ） 製造例４５−４） 製造例４５−１）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−１（２ｓ．ａｓ）−ｔ−アリルオキ
シカルボニル−４−（Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ
−メチルアミン）ピロリジン−２−イル）−３−メチル
−２−オキソ−３−ブテニル］−３−［（ＩＲ）−１−
第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル］−２−オキ
ソアゼチジンを収率６４．０％で得る。

ＩＲ’　＜ＣＨ２Ｃ１２）　’　３４１０．　１７６０
．　１６９（ｌ　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ２，δ＞
　：　０．１０　（６Ｈ，ｓ）、　０．８９　（９Ｈ．
ｓ）。

１、２２　（３Ｈ．ｄ．Ｊ−６Ｈｚ）、　１．８３　（
３Ｈ，ｄ，Ｊ＝ＩＨｚ）。

１、６０−２．５６　（２）１，ｍ＞、　２．８８　（
３Ｈ，ｓ）、　２．５６−３、１５　（３Ｈ．ｍ）、　
３．１５−４．３１　（４Ｈ，ｍ＞、　４．３５−４、
８５　　（６）１．ｍ＞、　　４．９５−５．４０　　
（４Ｈ．ｍ）、　　５．５０−６、２０　（２Ｈ．ｍ）
、　６．１０　（ＬＨ，ｂｒ．ｓ＞、　６．２５−６．
５５（ＬＨ．＋ｎ） 製造例４５−５） 製造例４５−１）と実質的に同様にして、（３ｓ。

４Ｒ）−４−［：４−（（２Ｓ）−１−アリルオキシカ
ルボニル−４−フルオロピロリジン−２−イル）−３−
メチル−２−才キソー３−ブテニル］−３−［（ＩＲ）
−１−第三級ブチルジメチルシノルオキシエチルコー２
−オキソアゼチジンを収率６７、４％で得る。

ＬＲ　（ＣＨＣＩ　）　’　３４３０．　１７５５，　
１７００．　１６７０　ａｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ２
，δ）：０、０８　（６Ｈ．ｓ）、　０．８８　（９Ｈ
．ｓ）。

１、２０　（３Ｈ．ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．５０−２
．４０　（２Ｈ．ｍ＞。

１、８５　（３Ｈ，ｓ）、　２．５０−６．１５　（１
２Ｈ，ｍ）、　４．５７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、　
６．０２　（ＬＨ．ｂｒ．ｓ）、　６．５８（１）１．
ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ） １９Ｆ　ＮＭＲ　（Ｃ［）Ｃ１３，ＣＦ３Ｃｏ２Ｈ）　
：　−９１．５６　（ｍ）製造例４５−６＞ 製造例４５−１）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−（（２Ｒ）−１−アリルオキシカル
ボニルピロリジン−２−イル）−３−メチル−２−才キ
ソー３−ブテニル］−３−［（ＩＲ）−１−第三級プチ
ルジメチルシリルオキシエチルコー２−オキソアゼチジ
ンを収率５４．８％で得る。

ＮＭＲ　（ＣＤＣ１３，Ｓ　）　；０．　０９　（６Ｈ
，ｓ）、０．８７　（９Ｈ．ｓ）。

１、２１　（３Ｈ．ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．８４　（
３Ｈ．ｄｊ＝ＩＨｚ＞。

１．５０−２．４３　（４８，ｍ）、　　２．６２−３
．２３　（３）１．ｍ）。

３．３５−４．３０　（４Ｈ，ｍ＞、　　４．４０−４
．８５　（３Ｈ，ｍ）。

５．０５−５．４４　（２Ｈ，ｍ＞、　　５．５７−６
．９０　（２Ｈ，ｍ）。

６．４０　（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ４．　８Ｈｚ）製造例４５
−７） １−アリルオキシカルボニル−２−（２−メチル−３−
才キソー１−ブテニル）ピペリジン（９，９ｇ）、（３
Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−［（ＩＲ）−１−第
三級ブチルジメチルシリルオキシエチルコー２−オキソ
アゼチジン（１７，０＆）およびトリエチルアミン（１
６，５ｍ１１　）のジクロロメタン（１００ｍ１１　）
　溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシ
リル（ｚｓ、　６ｍＱ）を−１５℃゛Ｃ加える。０°Ｃ
で２時間攪拌後、反応混合物を酢酸エチル（２００ｍＱ
　）と水（２００１１１Ｑ　）　トノ混合物中に加える
。混合物を常温で２時間攪拌する。塩化ナトリウム（４
０ｇ）をカロえた後、有機層を分取し、炭酸水素ナトリ
ウム飽和水溶液および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカゲル（３０
０＋＋＋Ｒ）を使用するクロマトグラフィーに付し、ｎ
−ヘキサンと酢酸エチルとの混液（５：１−７：３、ｖ
／ｖ　）で溶出して、（３Ｓ、４Ｒ）−４−［４−（１
−アリルオキシカルボニルピペリジン−２−イル）−３
−メチル−２−オキソ−３−プテニルコ−３−［（ＩＲ
）−１−第三級ブチルジメチルシリルオキシエテル］−
２＝オキソアゼチジン（１３，４８ｇ）を得る。

ＩＲ（ＣＨＣｌ　＞　　　’　　３４３０．　　１７６
０．　　１７００．　　１６８０　　ｃｍ−１ＮＭＲ（
ＣＨＣＩ３．８　）　：　０．１２　（６Ｈ，ｓ）、　
０．９１　（９Ｈ，ｓ）。

１．２５　（３８，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．９０　（
３Ｈ，ｂｒ、ｓ）、　２．８−３．１　（３Ｈ，ｍ）、
　３．９−４．３　（４Ｈ，ｍ）、　４．５８　（２Ｈ
。

ｂｒ、ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　５．１−５．４　（３Ｈ，
ｍ）、　５．７−６．１（ＬＨ，ｍ）、　６．１０　（
１８，ｂｒ、ｓ）、　６．７５　（１）１．ｂｒ、ｄ。

、Ｃ９Ｈｚ） 製造例４５−８＞ 製造例４５−１）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−（（２Ｓ）−１−（Ｎ−アリルオキ
シカルボニル−Ｎ−メチルアミノアセチル）ピロリジン
−２−イル）−３−メチル−２−オキソ−３−ブテニル
］−３−［（ＩＲ）−１−第三級プチルジメデルシリル
オキシエチルコー２−オキソアゼチジンを収率７３．４
％で得る。

ＩＲ（ＣＨＣｌ３）　＝３４３０．１７６０．１７００
．１６６５　ｃｍ−ＩＮＭＲ（ＣＤＣ１３，ｌ；　）　
’　０．０８　（６Ｈ１ｓ）、０．８９　（９Ｈ９ｓ）
。

１．１３　（３８，ｄ、に６Ｈｚ）、　　１．８０　（
３Ｈ，ｂｒ、ｓ）、　　２．８７（３Ｈ，ｂｒ、ｓ）、
　　２．６−３．１　　（３Ｈ１ｍ）、　　３．４−４
．２（６Ｈ，ｍ）、　　４．４−４．９　（３Ｈ，ｍ）
、　　５．０−５．４　（２Ｌｍ）。

５．６−６．１　　（ＬＨ，ｍ＞、　　６．４−６．８
　　（ＩＨ，ｍ＞製造例４５−９） 製造例４５−１＞と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−（１−アリルオキシカルボニルアゼ
デシン−３−イル）−３−メチル−２−才キソー３−ブ
テニル］−３−［（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチル
シリルオキシエチル］−２−オキソアゼチジンを収率３
７．２％で得る。

ＩＲ（スジタール）　　：　　１７６０．　１７０６．
　１６７５　　ａｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３，８）　：
Ｏ−０７（６１（、ｓ）、０．８７　（９）１．ｓ）。

１．２２　（３Ｈ，ｄ、、Ｃ６Ｈｚ＞、　１．７３　（
３Ｈ，ｓ）、　２．６４−３．１５　（３Ｈ，ｍ＞、　
３．４０−４．６２　（９Ｈ，ｍ）、　５．０５−５．
４０　（２Ｌｍ）、　５．６０−６．１８　（２Ｈ，ｍ
）、　６．６０−６．８８　　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ
＞製造例４５−１０＞ 製造例４５−１）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４　Ｒ）−４−［４−（１−アリルオキシカルボニル−
５−メトキシメチルピロリジン−２−イル）＝３−メチ
ル−２−才キソー３−ブテニルコーａ−［（ＩＲ）−を
−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル］−２−オ
キソアゼチジンを収率６８．４％で得る。

ＩＲ（ＣＨＣＩ　）　：３４２０．１７５０．１６８５
．１６６０　ａｍ−１ＮＭＲ（ＣＨＣＩ３．δ）　：　
０．０７　（６Ｈ，ｓ）、　０．８８　（９Ｈ，ｓ）。

１．２２　（３）１．ｄ、Ｊ：６Ｈｚ）、　　１．５０
−２．４０　（４Ｈ，ｍ）。

１．８３　（３Ｈ，ｓ）、　　２．６５−３．２０　（
３Ｈ，ｍ）、　　３．３６（３）１．ｓ）、　　３．５
０　　＜２Ｌｄ、Ｊ＝４）％ｚ）、　　３．７０−４．
５０（３Ｈ，ｍ＞、　　４．５０−５．４５　（３Ｈ，
ｍ）、　　５．６０−６．３０（２Ｈ，ｍ）、　　６．
５３　（１）１．ｄ、Ｊ：８Ｈｚ）製造例４５−１１） 製造例４５−１）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４　Ｒ）−４−［４−（１−アリルオキシカルボニル−
５−第三級ブチルジメチルシリルオキシメチルピロリジ
ンー２−イル）−３−メチル−２−才キソー３−ブテニ
ル］−３−［（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル］−２−オキソアゼチジンを収率６６．
９％で得る。

Ｉ ＩＲ（ＣＤＣ１３）　’　３４３０．１７６０．１７０
０．１６７５　ａｍＮＭＲ（ＣＤＣ１３，８）　’　０
．０８　（１２Ｈ，ｓ）、　０−９０　（１８Ｈ１ｓ）
、　１．２２　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．８３
　（３Ｈ，ｓ）。

１．５０−２．４０　（４Ｈ，ｍ）、　２．７０−３．
３０　（３Ｈ，ｍ＞。

３．６０−４．３０　（６Ｈ，ｍ）、　４．４６−４．
８０　（２Ｈ，ｍ＞。

５．０６−５．４０　（２Ｈ，ｍ）、　５．５０−６．
３５　（ｌＨ，ｍ）。

６．１０　（１）１．ｂｒ、ｓ）、　６．４５　（ＬＨ
，ｄ、Ｊ：８Ｈｚ）聚童」ｌヒ」幻 製造例４５−１＞と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４　Ｒ）−４−［４−（１−アリルオキシカルボニルピ
ロリジン−３−イル）−３−メチル−２−才キソー３−
ブテニルコ−３−［（ＩＲ）−を−第三級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル］−２−オキソアゼチジンを収率
７１．５％で得る。

ＩＲ（Ｃ）１２Ｃ１２）　’　Ｈ６０−１７５０，１６
９５−１６８５ａｍ−ＩＮＭＲ（ＣＤＣｌ３．５）　：
　０．０８　（６Ｈ，ｓ）、　０．８７　＜９Ｈ，ｓ）
。

１．２０　　（３８，ｄ、Ｊ＝６）１ｚ）、　　１．８
３　（３）１．ｓ）、　　４．５−４．７（２Ｈ，ｍ＞
、　５．１−５．４　（２Ｈ，ｍ）、　５．７−６．１
　（ＬＨ，ｍ＞。

６．１２　　（ＬＨ，ｂｒ　　ｓ）、　　６．４３　　
（ＬＨ，ｂｒ、ｄ、Ｃ３Ｈｚ）製造例ａｓ−１３＞ 製造例４５−１）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−（（２Ｓ）−５−アリルオキンカル
ボニルイミノ−１−メチルピロリジン−２−イル）−３
−メチル−２−オキソ−３−ブテニル］−３−［（ＩＲ
）−１−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル］−
２−オキソアゼチジンを収率６２．０％で得る。

ＩＲ（Ｃ）＋２ｃ１２）　’　３４００．１７６０，１
７３５．１６８５　ｃｍ−ＩＮＭＲ（ＣＤＣｌ３．　５
　）　　：　　０．０９　　＜６８．ｓ）、　　（１，
８９（９８，ｓ＞。

１．２１　　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、　　１．８８
　　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝１１（Ｚ）。

２．０２　（３８，ｓ）、　　２．８９　（３Ｈ，ｓ）
、　　３．８−４．３　（２Ｂ。

ｍ）、　　４．５−４．７　（２Ｈ，ｍ）、　　５．０
−５．４　（２Ｈ，ｍ）。

５．７−６．４　　（３Ｈ，ｍ） 製造例４５−１４） 製造例４５−１）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−（（３Ｒ）−４−アリルオキン力ル
ポニルモルホリン−３−イル）−３−メチル−２−才キ
ソー３−ブテニル］−３−［（ＩＲ）−１−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシエテルコー２−オキソアゼチジ
ンを収率９１．２％で得る。

〜Ｉ ＬＲ（ＣＤＣ１３）　’　３４３０．１７５５．１６９
０．１６７５　ａｍＮＭＲ＜ＣＤＣｌ３．６”　）コ０
．０７　＜６Ｈ，ｓ）、　０．９０　（９Ｈ，ｓ）。

１．２３　　（３Ｂ、ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、１．９０　　
（３Ｂ、ｄ、Ｊ−ＩＨｚ）。

２．６−４．４　（１１Ｈ，ｍ＞、　　４．４−４．７
　（２Ｈ，ｍ＞、　　４．７−５．０　　（ＬＨ，ｍ）
、　　５．０−５．４　　（２Ｈ，ｍ）、　　５．６−
６．２（２８，ｍ＞、　　６．９０　（１１（、ｄｑ、
Ｊ＝９Ｈｚ、　　ＩＨｚ＞製造例４６−１） 製造例１５と実質的に同様にして、（３Ｓ、４　Ｒ）−
４−４４−（（２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−
４−フルオロピロリジン−２−イル）−３−メチル−２
−才キソー３−プテニルコ−３−［（ＩＲ）−１−ヒド
ロキシエチルコー２−オキソアゼチジンを定量的に得る
。

ＩＲ（ＣＤＣ１３）　　　：　　３４５０．　　３４２
０．　　１７６０．　　１７００゜１６６５　ａｍ’ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，Ｓ　）　’　１．３０　（３）！
、ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、　１．８５（３）１．ｓ）、　１
．９５−２．３５　（２Ｈ，ｍ＞、　２．５０−６．１
５（１３Ｈ，ｍ＞、　４．５８　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ
ｚ＞、　６．５８　（ＬＨ。

ｂｒ　ｓ）、　　６．６３　（１）１．ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ
）１９Ｆ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３．ＣＦ３Ｃｏ２Ｈ）　ニ
ー９１．５６価）製造例４６−２） 製造例１５と実質的に同様にして、（３Ｓ、４　Ｒ）−
４−［４−（（２Ｒ）−１−アリルオキシカルボニルピ
ロリジン−２−イル）−３−メチル−２オキソ−３−ブ
テニル］−３−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエテルコー
２−オキソアゼチジンを定量的に得る。

ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，ｌ；　　）　　　’　　１．３２
　　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　　１．８５（３Ｂ
、ｓ）、　　１．５−２．４　　（４Ｈ，ｍ）、　　２
．７−２．９　　＜１）１．ｍ）。

２．９−３．２　（２Ｈ，ｍ）、　３．４−３．７　（
２Ｈ，ｍ）、　３．７−４．０（ＬＨ，ｍ＞、　４．０
−４．３　（ＩＨ，ｍ＞、　４．４−４．８　（３Ｈ，
ｍ）。

５．１−５．４　（２Ｈ，ｍ）、　５．６−６．２　（
ＬＨ，ｍ）、　６．５０（ＬＨ，ｂｒ、ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ
） 製造例４６−３） 製造例１５と実質的に同様にして、（３Ｓ、４　Ｒ）４
−［４−（１−アリルオキシカルボニル−５−メトキシ
メチルピロリジン−２−イル）−３−メチル−２−才キ
ソー３−ブテニル］−３−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシ
エチルコー２−オキソアビテジンを収率９９．３％で得
る。

ＩＲ（Ｃ）ＩｃＩ３）　；　３４５０．３４２５．１７
６０．１６９０゜１６７０　ｃｍ’ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ）　：　１．３０　（３Ｈ，ｄ
、Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．８３＜３８．ｓ）；　１．５０
−２．４０　（４Ｈ，ｍ）、　２．７０−３．３０（３
Ｈ，ｍ）、　　３．３６　　（３Ｈ，ｓ）、　　３．５
０　　（２Ｈ，ｄ、、Ｃ４Ｈｚ＞。

３．７０−４．４０　（３Ｈ，ｍ＞、　４．４０−４．
８０　（３Ｈ，ｍ＞。

５．０５−５．４０　　（２Ｈ，ｍ＞、　　５．６５−
６．１５　　（１）１．ｍ）。

６．８５　（ＬＨ，ｂｒ、ｓ）、　６．５７　（ＩＨ，
ｄ、、Ｃ７Ｈｚ＞製造例４６−４） （３ｓ、ａＲ）−４−［（Ｅ）−４−（（２ｓ）＝１−
アリルオキシカルボニルピロリジン−２−イル）−３−
メチル−２−才キソー３−ブテニル］−３−（、（ＩＲ
）−１−第三級プチルジメチルシリルオキシエチルコー
２−オキソアゼチジン（３３，９０ｇ　）　＋７）アセ
トニトリル（６８ｍＱ　）溶液に、三ツ・／化ホウ素・
エーテル付加化合物（１９，７４１１ｔＱ　）を５−１
０°Ｃで加える。０°Ｃで３０分間攪拌後、反応混合物
を酢酸エチル（１７０ｍＱ　）、水（１４０戚）および
炭酸水素ナトリウム（１３，４８ｇ　）の混合物中に加
える。３０分間攪拌後、有機層を分取する。水層全酢酸
エチル（７０ｍ１１　）で抽出する。有機層部分を合わ
せ、食塩水（１００ｍＱ　）で洗浄して硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去して、（３Ｓ、４Ｒ
）−４−［（Ｅ）−４−（（２Ｓ）−１−アリルオキシ
カルボニルピロリジン−２−イル）−３−メチル−２−
才キソー３−ブテニル］−３−［（ＩＲ）−１−ヒドロ
キシエチル］−２−才キソアゼチジンを得る。

１Ｒ（ＣＤＣ１３）　：　３４２０．１？５５．１６８
０．１６６０　ａｍＮＭＲ（ＣＤＣ１３，８＞　’　ｔ
、３ｏ　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．５−２．３
（４Ｈ，ｍ＞、　１．８３　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ＞
、　２．８２　（１）１．ｄｄ。

Ｊ＝３．７．５Ｈｚ＞、　２．９−３．２　＜２Ｈ，ｍ
）、　３．２−３．７（３Ｈ，ｍ）、　　　３．７−４
．３　　（２Ｈ，ｍ）、　　　４．４−４．８　　（３
Ｈ，ｍ＞。

５．０−５．４　（２）１．ｍ）、　５．５−６．１　
（ＬＬｍ）、　６．５０（ＬＨ，ｄｑ、Ｊ＝１．　８Ｈ
ｚ）、　　６．５３　（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）製造例４６−
５） 製造例４６−４）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−（（３Ｒ）−４−アリルオキ〉カル
ボニルモルホリン− ル−２−才キソー３−ブテニルコ−３−［（ＩＲ）−１
−ヒドロキシエチルツー２−オキソアゼチジンを定量的
に得る。

ＩＲ　（ＣＤＣ１３）　：　３５００，　３４２０，　
１７６０．　１６９０。

１６７０　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＣＤＣ１３．Ｓ　＞　’　１．３３　（３Ｈ
９ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９０（３）１．ｄ，Ｊ＝ＩＨ
ｚ）、　２．６−４．４　（１１Ｈ．ｍ＞、　４．４−
４．７（２Ｈ．ｍ）、　４．７−５．０　（ＩＨ．ｍ）
、　５．１−５．４　（２Ｈ．ｍ＞。

５、６−６、２　（ＩＨ，ｍ）、　６．３５　（ＩＨ．
ｂｒ　ｓ）、　６．９３（ＩＨ，ｄｑ．Ｊ＝９）１ｚ．
　１）１ｚ）製造例４７−１＞ 製造例３−１）と実質的に同様にして、２−［（３Ｓ．
４Ｒ）−４−［４−（（２Ｓ．４Ｒ）−１−アノルオキ
シカルボニル−４−メトキシピロリジン２−イル）−３
−メチル−２−オキソ−３−ブデニルコ−３−（（ＩＲ
）−ｔ−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチル）−
２−オキソアセチノン−１ーイル］−２−トリフェニル
ホスホラニＪ　’ｔン酢酸アリルを収率４４．０％で得
る。

Ｌ’Ｒ　（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１７４０，１７００　
ｃｍ−１ＨＭＲ　（ＣＤＣｌ２，　Ｓ　）　：　０．８
０　（９Ｈ．ｓ）、　３．３０　（３Ｈ，ｓ）。

７、１０−８．００　（１５Ｈ，ｍ） 製造例４７−２） 製造例３−１）と実質的に同様にして、２−［（３Ｓ，
４Ｒ）−４−［４−（（２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキ
シカルボニル−４−（ジメチルカルバモｆルオキシ）ピ
ロリジン−２−イル）−３−メチル−２−才キソー３−
プテニルコ−３−［（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−才キソアゼチジン−１−
イルコー２ートリフェニルホスホラニリデン酢酸アリル
を収率５６、５％で得る。

ＩＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　：１７４０．１７００　ａｍ
−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．６　）　：　２．８９　（６
Ｈ，ｓ）、　７．２０−７．９５（１５Ｈ，ｍ） 製造例４８−１） （３Ｓ、４Ｒ）−４−［４−（（２Ｓ、４Ｒ）−１−ア
リルオキシカルボニル− ルハモイルオキシ）ピロリジン−２−イル）−３−メチ
ル−２−才キソー３−ブテニル］−３−［（ＩＲ）−１
−第三級ブチルジメチルシリルオキンエチルコー２−オ
キソアゼチジン（０．３３ｇ）およびトリエチルアミン
（　ｏ．　ｘ７ｍＱ）のジクロロメタン（１０ｍＭ）溶
液に、塩化アリルオキサリル（０．１３ｇ）を−・２０
℃で加え、この混合物を一２０℃で３０分間攪拌する。

反応混合物を水（　５０ｍＭ　）と酢酸工１ル（　ｓｏ
ｍｕ　）との混合物中に加える。有機層を分取して順次
、水、炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して、２−
［（３Ｓ，４Ｒ）−４−［４−（（２Ｓ．４Ｒ）−１−
アリルオキシカルボニル− ピロリジン−２−イル）−３−メチル−２−オキソ−３
−ブテニル］−３−（（　ｔＲ）−１−第三級ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）−２−オキソアセチレン−
１−イルコグリオキシル酸アリル（０．２６ｇ）を得る
。

ＩＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１８００，　１７５０．
　１７００　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＣＤＣ１３，δ）　：
　０．０２　（３Ｈ．ｓ）、　０．０８　（３）１．ｓ
）。

０、８４　（９）１．ｓ＞、　１．２２　（３Ｈ．ｄ．
３４Ｈｚ）、　１．８４（３Ｈ．ｄ．Ｊ＝ＩＨｚ）、　
１．７０−２．６０　（２８，ｍ）、　２．８９（６）
１．９）、　２．７３−３．２４　（２Ｈ．ｍ）、　３
．５０−３．８２（３Ｈ．ｍ）、　４．１８−４．４０
　（ＬＨ，ｍ＞、　４．４５−４．９５（６Ｈ．ｍ＞、
　５．００−５．５０　（５Ｈ．ｍ＞、　５．６０−６
．１７（２８，ｍ）、　６．３５−６．５８　（ＬＨ．
ｍ＞製造例４８−２） 製造例４８−１＞と実質的に同様にして、２−［（３Ｓ
，４Ｒ）−４−［　４−（　１−アリルオキシカルボニ
ルピロリジン−３−イル）−３−メチル−２−才キソー
３−ブテニル］−３−（（ＩＲ）−１−第三級ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）−２−才キソアゼチジン−
１−イル］グリオキシル酸アリルを収率９７．７％で得
る。

ＬＲ　　（ニー））　　　：　　　１８０５−１７９５
．　　　１７５５−１７４５。

１７１０−１６６５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　　（ＣＤＣ１３，Ｓ　）　　’　　０．０３　
　（３Ｈ．ｓ）、　０．０６　　（３Ｈ．ｓ）。

０、８５　（９Ｈ．ｓ）、　　１．２５　（３Ｈ，ｄ．
Ｊ＝６Ｈｚ）、　　１．８３（３Ｈ．ｓ）、　　６、５
０　　（ＬＨ．ｂｒ．ｄＪ＝８Ｈｚ）製造例４９ 製造例４６−４）で得られた（３Ｓ．４Ｒ）−４−［　
（Ｅ）−４−（（２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル
ピロリジン−２−イル）−３−メチル−２−オキソ−３
−ブテニルコ−３−［（ＩＲ）−１−ヒドロキンエチル
ツー２−オキソアゼチジンおよびピリジン（　１８．　
８８ｍ１１　）のジクロロメタン（　２５０ｍＭ　）溶
液に、塩化トリメチルシリル（９、２６ｍＭ　）を−７
０℃で加える。反応混合物を一５０℃で１０分間攪拌す
る。反応混合物に塩化アリルオキサリル（　１２．　５
４ｍＭ　）を−５０℃で加え、この混合物を一２０℃で
３０分間攪拌する。反応混合物を酢酸エテル（１５０ｍ
Ｍ）、ヘキサン（　３００ｍ１１　）および水（　２５
Ｑｍｌｌ　）　（７）混合物中に加える。有機層を分取
して順次水、炭酸水素ナトリウム水／８液および食塩水
で＆浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し
て、２−［（３Ｓ．４Ｒ）−４−［（Ｅ）−４−（（２
Ｓ）−ｔ−アリルオキシカルボニルピロリジン−２−イ
ル）−３−メチル−２−オキソ−３−ブテニル］−３−
＋（ＩＲ）−１−トリメチルシリルオキンエチル）−２
−才キソアゼチジン−１−イル］グリオキシル酸アリル
を得る。

１Ｒ　（ＣＤＣ１３）　’　１８００．１７５０．１６
８０　ｃｍＮＭＲ　　（ＣＤＣ１３．Ｓ　　）　　’　
　０，ＩＱ　　（９１（、Ｓ）、　１　２５　　（３ｔ
（、ｄ。

Ｊ：６Ｈｚ）、　１．６−２．３　（４Ｈ．ｍ）、　１
．９　（３Ｈ，ｄ。

Ｊ：ＩＨｚ）、　　１．８−２．２　　（２Ｈ，ｍ＞、
　　３．４−３．８　　（３Ｈ，ｍ）。

４、２−４．４　　（ＬＨ．ｍ＞、　　４．４−４．９
　　（６１，ｍ）、　　５．０−５．６（４Ｈ．ｍ）、
　５．６−６、１　（２Ｈ．ｍ＞、　６．３−６．７　
（ＬＨ．ｍ＞製造例５０ （３ｓ．ａＲ）−ａ−［（ＩＲ）−を−第三級ブチル〉
°メチルシリルオキシエチルツー４−力ルポキシメチル
−２−オキソアゼチジン（　３０２．６ｍｇ）のりメチ
ルホルムアミド（　ｔｏｍｃ　）溶液に、炭酸カリウム
（１６０ｍｇ）を０℃で加える。１０分後にｉ１合物に
沃化メチル（　６８．８４　）を滴下する。Ｏ″Ｃｅｌ
、５時間攪拌後、反応混合物を酢酸エチル（１００ｍＱ
　）と水（３ｏｍＱ）との混合物中に注ぐ。有機層を分
取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。

溶媒を留去して、（３Ｓ、４Ｒ）−３−［（ＩＲ）−１
−第三級ブチルジメチルシリルオキンエチル］−４−メ
トキシカルボニルメチル−２−オキソアゼチジン（２８
５，５ｍｇ　）を得る。

ＩＲ（スジョール）　　：　　１７６０−１７４０　　
ａｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８　）　：　０．０６　
（６Ｈ，ｓ）、　０．８７　＜９Ｈ，ｓ）。

１．２１　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．５０−２
．９０　（３Ｈ，ｍ）。

３．７１　（３Ｈ，ｓ）、　３．８４−４．３２　（２
Ｈ，ｍ）、　５．９８−６．２０　（ＬＨ，ｍ） 製造例５１ 臭化メチルトリフェニルホスホニウム＜６９０ｍｇ）の
テトラヒドロフラン（２ｍＱ）溶液に、ヘキサン中ｎ−
ブチルリチウム（１，５９Ｎ、　１．２１ｍｕ　）を室
温で滴下し、混合物を１時間攪拌する。反応混合物を（
３Ｓ、４Ｒ）−３−［（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメ
チルシリルオキシエチル−４−メトキンカルボニルメチ
ル−２−オキソアゼチジン（２３３ｍｇ　）のテトラヒ
ドロフラン（ｇｍｌ＋）溶液に一７８°Ｃで滴下する。

反応混合物を室温まで温度上ｙ１せしめ、１時間攪拌し
、次いで酢酸エチル（５０ｍＱ　）と燐酸塩緩衝液（２
ｏｍＲ）との混合物中に注ぐ。４７機層を分取して食塩
水で洗浄し、硫酸マダイ、／ラムで乾燥する。溶媒を留
去して得られる残ｌ査を〉リカゲル（ｚｏｍａ　）をイ
吏用するクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出
して、（３Ｓ。

４Ｒ）−３−［（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチル〉
リルオキシエチル］−４−（３−トリフェニルホスホラ
ニリデン−２−オキソプロピル）−２−オキソアゼチジ
ン（１５７ｍｇ）　ヲ得る。

ＩＲ（スジクール）　　：　　１７６０−１７４５　　
ａｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８　）　７０．０６　（
６Ｈ，ｓ＞、　０．８７　＜９Ｈ，ｓ）。

１．２３　　（３Ｈ，ｄＪ＝６Ｈｚ＞、　　２．３７−
２．９４　　（３Ｈ，ｍ）。

３．８４−４．３３　（２Ｈ，ｍ）、　６．３５−６．
４８　＜ＬＨ，ｍ）７．３０−７．８０　　（１６）１
．ｍ）製造例５２ （３Ｓ、４　Ｒ）−３−［（Ｉ　Ｒ）−１−第三級ノナ
ルンメチルシリルオキシエチル］−４”−（３−トリフ
ェニルホスホラニリデン−２−オキソプロピル）−２−
オキソアゼチジン（５７２ｍｇ）および（２３）−１−
アリルオキシカルボニル−２−ホルミルピロリジン（２
０１，５ｍｇ　）のトルエン（５ｍＱ　’）溶液を３時
間加熱還流する。溶媒を留去して得られる残渣を酢酸エ
チル中に加える。生成する沈殿を濾去して酢酸エチルで
洗浄する。濾液と洗液とを合わせて溶媒を減圧下に留去
する。残渣をノリ力ゲル（５０ｍＱ　）を使用するクロ
マトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの
混液（２：１−１：１−１：３、ｖ／ｖ　）で溶出し。

て、（３Ｓ、４Ｒ）−４−［（Ｅ）−４−（（２Ｓ）−
１−アリルオキシカルボニルピロリジン−２−イル）−
２−才キソー３−ブテニル］−３−［（ＩＲ）−１−第
三級ブチルジメチルシリルオキシエチル］−２−オキソ
アゼチジン（２９７，７ｍｇ）を得る。

ＩＲ（スジ９−ル）　　’　　１７６０−１７４０．　
１７１０−１６７０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２゜
ｆ；　）　：０．０８　（６Ｈ，ｓ）、　０．８７　（
９Ｈ，ｓ）。

１．２３　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　　１．６４−
２．２０　（４Ｈ，ｍ＞。

２．６５−２．８０　（３Ｈ，ｍ）、　　３．３８−３
．６０　（２Ｈ，ｍ）。

３．８２−４．３０　（２Ｈ，ｍ）、　　４．４０−４
．６４　（３Ｈ，ｍ）。

５．０６−５．４１　　（２Ｈ，ｍ＞、　　５．６４−
６．２３　（３Ｈ，ｍ）。

６．７６　（ＩＨ，ｄｄＪ−１５，９Ｈｚ＞繋造例５３ 製造例４６−４）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［（Ｅ）−４−（（２Ｓ）−１−７ノルオ
キシカルポニルビロリジンー２−イル）−２−才キソー
３−ブテニルコーＬ−［（ｘＲ）−１−第三級ブチルジ
メチルシリルオキシエチル］−２−オキソアゼチジン（
４，５ｇ）から、（３ｓ。

４Ｒ）−４−［（Ｅ）−４−（（２Ｓ）−１−７リルオ
キシカルボニルビロリジンー ２−才キソー３−プテニルコー３−口（ＩＲ）−１−ヒ
ドロキシエチルツー２−オキソアゼチジン（１．８３ｇ
）を得る。

ＩＲ　　（ｚジｉ−ル）　　：　　３４５０−３１００
．　　１７６０−１７３０．　　１６９０−１６７０　
ｃｎ＋７１ ＮＭＲ（ＣＨＣＩ３．　ｌ；　）　：　１．３４　（３
Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．５１−２．３０　　（５
８，ｍ）、　　２．７３−３．０３　（３８，ｍ）、　
　３．３９−３．６０　　（２）１．ｍ＞、　　３．７
７−４．３０　（２Ｈ，ｍ）、　　４．４０−４．６４
　　（３Ｈ，ｍ）、　　５．０７−５．４２　（２Ｈ，
ｍ）、　　５．６０−６．３０　　（３Ｈ，ｍ）、　　
６．７６　　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ４５．　９Ｈｚ）製造例
５４ 製造例４９と実質的に同様にして、（３Ｓ、４　Ｒ）４
−［（Ｅ）−４−（（２Ｓ）−１−アリルオキシカルボ
ニルピロリジン− キソー３−ブテニルコ−３−［（ＩＲ）−１−ヒドロキ
シエチル］−２−オキソアゼチジン（１８２ｇ）から、
２−［（３Ｓ，４Ｒ）−４−［（Ｅ）−４−（（２３−
）−１−アリルオキシカルボニルピロリジン−２−イル
）−２−才キソー３−ブテニル］−３−（（ＩＲ）−１
−トリメチルシリルオキシエチル）−２−才キソアゼチ
ジン−１−イル］グリオキシル酸アリル（２．１７ｇ）
を得る。

ＩＲ　　（Ｘジｉ−ル）　：　　１８００．　　１７６
０−１７４０．　　１７１０−１６７０　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＣＤＣ１３，Ｓ　）　’　０．０９　（９Ｈ
，ｓ＞、１−　２３　（３１（、ｄ。

Ｊ＝６Ｈｚ）、　　１．７０−２．３０　　（４Ｈ．ｍ
）、　　２．７６−３．６０（５Ｈ．ｍ）、　　４．１
８−４．８３　　（６８，ｍ）、　　５．０３−５．５
０（４Ｈ．ｍ）、　　５．７０−６．２０　　（４Ｈ．
ｍ）、　　６．７６　（ＬＨ．ｄｄ。

Ｊ＝１５．９Ｈｚ） 製造例５５ （　２３）−２−カルボキシピロリジン（４０ｇ）の水
（　２００ｍＱ）およびテトラヒドロフラン（２００ｍ
Ｑ）の混合物中懸ｌ蜀液に、クロロギ酸アリル（　４４
ｍｃ　）のテトラヒドロフラン（　４ｏｍＱ）溶液を、
４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ９付近に調整しなが
ら加える。ｐＨ９、０゛Ｃで１時間攪拌後、水層を塩化
すトリウムで飽和させ、混合物を酢酸エチル（２００ｍ
Ｑ　）で希釈する。水層を分取して酢酸エチルで洸すす
る。６Ｎ塩酸でｐＨ２付近に調整後、混合物を酢酸エチ
ル（　２００ｍＱ　）で２回抽出する。抽出液を合わせ
て硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧ドに留去して
，（２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−カルボ
キシピロリジン（７２．４９ｇ）を得る。

ＩＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　’　３１００，１７６０．１
７００　ａｍ−’製ｇ亜 （２３）−１−アリルオキシカルボニル−２−カルボキ
シピロリジン（７２．４ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド（　２５０ｍＱ　）溶液に、炭酸カリウム（　５
７．６ｇ　）　オヨび沃化１　ｆル（　４３．２ｍＱ　
）を攪拌ド０°Ｃで加える。この混合物の温度を常温ま
で上昇せしめ、さらに１時間攪拌する。反応混合物を酢
酸エチル（１．２１と水（０．６１との混合物中に加え
る。有機層を分取して順次水（１ｅ）で３回、食塩水（
１２）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去して、（２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−
メトキシカルボニルピロリジン（６６、２１ｇ）を得る
。

ＩＲ　（ＣＨＣＩ　）　’　１７４０．　１６９０　ｃ
ｍ−’ＮＭＲ　（ＣＨＣＩ３．８）　：　１．８０−２
．３６　（４Ｈ，ｍ）、　３．４５−３、７５　（５１
（、ｍ）、　４．３０−４．４２　（１）ｔ，ｍ）、　
４．５３４、６２　（２Ｈ．ｍ）、　５．１０−５．３
７　（２８，ｍ）、　５．８５−５、９７　（ＩＨ，ｍ
＞ 製造例５７ （２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−メトキシカル
ボニルピロリジン（２、Ｏｇ）のエタノール（　３０ｍ
Ｑ　）溶液に、水素化ホウ素ナトリウム（　１．０６ｇ
　）を２０℃で加え、この混合物を２０−２５℃で１８
時間攪拌する。反応混合物を食塩水（１００ｍＡ）と酢
酸エチル（　１ｏｏｍＱ）との混合物中に加える。

有機層を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して
溶媒を留去する。残渣をシリカゲル（５０ｍＱ　）を使
用するクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタンとア
セトンとの混？＆（２０：ｔ、Ｖ／Ｖ　）Ｃ溶出して，
（２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−ヒドロキ
シメチルピロリジン（　７６９．２ｍｇ）を得る。

ＩＲ　　にート）　　：　　３４００，　　１６７０　
　ａｍ”−１ＨＭＲ　　（ＣＤＣ１３，Ｅ　　）　　’
　　１．４５−２．２０　　＜４Ｈ．ｍ）、　３．２０
３、８０　（４Ｈ．ｍ）、　３．８０−４．４６　（２
Ｈ，ｍ）、　４．５０−４、７５　　（２８，ｍ）、　
　５．１０−５．５２　　（２Ｈ，ｍ）、　　５．７０
−６、２０　（ＬＨ．ｍ） 製造例５８ 水素化ホウ素ナトリウノ−（５ｇ）のエタノール（５０
ｍＱ　）中Ｑｊ　ｆＱ液に、（２Ｓ、４Ｒ）−１−アリ
ルオキノカルボニル−２−メトキシカルボニル−４−ｅ
ドロキシピロリジン（１０ｇ）のエタノール（ｌｏｍｌ
ｌ　）溶液を５℃で加え、この混合物を４０℃で４時間
攪拌する。０°Ｃに冷却後、反応混合物を冷アセトン（
２０ｍＱ　）に１０°Ｃで滴下する。混合物の溶媒を減
圧下に留去し、残渣を酢酸エチル（２００ｍｍ　）で２
回抽出する。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して溶媒を留去し、シリカゲル（１２０ｍｍ　
）を使用するクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン
と酢酸エチルとの混液（１；　１　、ｖ／ｖ）で溶出し
て、（２３，４Ｒ）−１−アノルオキシ力ルボニル−４
−ヒドロキシ−２−ヒドロキシメチルピロリジン（４，
４５ｇ）を得る。

ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，Ｓ　）　＝１．４０−２．２５　
（２Ｈ１ｍ）、３．３０−４．５０　（８Ｈ，ｍ）、　
４．５７　（２Ｈ，ｍ）、　５．００−５．４５＜２Ｈ
，ｍ＞、　５．６０−６．１５　（ＩＨ，ｍ）製造例５
９ （２Ｓ、４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル４−ヒド
ロキシ−２−ヒドロキシメチルピロノ〉ン（１，０ｇ　
）のジクロロメタン（１５ｍ１ｌ　）溶液に、トリエチ
ルアミン（０，７ｍＱ）、塩化第三級フブールシメチル
シリル（Ｑ、５７ｇ）および１．８−ジアザビンクロ［
５，４，Ｏ］−７−ウンデセン（０，１５＆）を加える
。この混合物を常温で５時間放置する。混合物を酢酸エ
チル（１５０ｍｍ　）で希釈し、順次塩化アンモニウム
水溶液および食塩水で洗浄し、ｇｌｉ酸マグネンウムで
乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカゲル（４０ｍＱ
　）を使用するクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサ
ンと酢酸エチルとの混液（３：１、ｖ／ｖ）で溶出して
、（２８，４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−２−
第三級ｊチルジメチルシリルオキシメチル−４−ヒドロ
キノピロリジン（０，６２ｇ）を得る。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８）　：　０．０　＜６Ｈ，ｓ＞
、　０．８５　（９Ｈ，ｓ）。

１．６５−２．４０　（２）１．ｍ＞、　３．３０−４
．２５　（４Ｈ，ｍ）。

４．３０−４．６５　（２Ｈ，ｍ＞、　５．００−５．
４０　（２８，ｍ＞。

５．６５−６．１５　　（ＩＨ，ｍ） 製造例６０ 塩化オキサリル（０，１８賊）のジクロロメタン（１０
ｍＱ　）溶液に、ジメチルスルホキシド、（０，３ｍＡ
＞のジクロロメタン（２ｍｌ溶液を一６０℃で滴下する
。−７０℃で３０分間攪拌後、混合物に（２Ｓ、４　Ｒ
）１−アリルオキン力ルボニルー２−第三級ブチル／メ
チルシリルオキシメチル−４−ヒドロキシピロリジン（
０，６ｇ）のジクロロメタン（５ｍΩ）ｌ８液を一６０
℃で滴下する。−７０°Ｃで３０分間攪拌後、１１２合
物にトリエチルアミン（１３ｍＱ）を滴下し、この混合
物の温度を０°Ｃまで上昇せしめ、酢酸エチル（１ｓｏ
ｍｃ　）および食塩水で名訳する。１０％塩酸でｐＨ３
付近に調整後、有ｍ層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカ
ゲル（ｓｏｍＱ）を使用するクロマトグラフィーに付し
、ヘキサ２９１５％酢酸エチルで溶出して（２３）−１
−アリルオキシカルボニル−２−第三級プチルンメチル
シリルオキシメチル−４−オキソピロリジン（０，５４
ｇ＞を得る。

ＩＲ（ニーｊ）　　　’　　　１７６３．　　１７０５
　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３＝　８　）　’　０．
０　（６Ｈ１ｓ）、ｏ、　８３　（９Ｈ，ｓ）。

２．２０−２．８７　　（２）ｔ、ｍ）、　　３．４０
−４．５０　　（４）１．ｍ）。

４．５０−４．７０　（２Ｈ，ｍ）、　　５．０５−５
．４０　（２Ｈ，ｍ）。

５．６０−６．１５　　（ＬＨ，ｍ） 製造例６１ 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（７，２９ｇ＞の
テトラヒドロフラン（２０ｍＱ　）中部濁液に、カリウ
ｌ、第三級ブトキシド０．５Ｍ溶液（４０，ａｍＱ）を
０°Ｃで加える。０℃で２時間攪拌後、この混合物に（
２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（第三級ブ
チルジメチルシリルオキジメチル）−４−オキソピロリ
ジン（３゜２０ｇ）のテトラヒドロフシン（ｌｏｍｌｌ
）溶液を１０℃で加える。常温で１０分間攪拌後、反応
混合物を水（１ｓｏｍＱ）および酢酸エチル（ｔｓｏｍ
Ｑ）で希釈する。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリ
カゲル（５Ｑｍ１１．）を使用するクロマトグラフィー
に付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの混液（１：　９
−１　：　５．　ｖ／ｖ）で溶出して、（２Ｓ）−１−
アリルオキシカルボニル−２−（第三級ブチルジメチル
シリルオキシメチル−４−メチレンピロリジン（２，８
９ｇ）を得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　：１６９０　ｃｍ−１ＨＭＲ（
ＣＤＣｌ２．Ｓ　　）　　：　　０１０５　　（６Ｈ，
ｓ）、　　０．８９　　（９Ｈ，ｓ）。

２．４３−２．７３　（２Ｈ，ｍ＞、　３．３０−４．
２５　（５）１．ｍ）。

４．４０−４．６４　（２Ｈ，ｍ＞、　　４．８０−５
．０５　（２Ｈ，ｍ）。

５．０５−５．４２　（２Ｈ，ｍ）、　　５．７０−６
．１６　（ＬＨ，ｍ＞製造例６２ （２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（第三級
ブチルジメチルシリルオキシメチル）−４−メチレンピ
ロリジン（２，８８ｇ）の酢酸エチル（１ｏｏｍＱ）溶
液に、６Ｎ塩酸（３ｍＱ）を常温で加える。常温で１時
間攪拌後、混合物に炭酸カリウム（２，５４ｇ）および
食塩水（３０ｍＱ　）を攪拌下に加える。有機層を分取
して順次炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣
をシリカゲル（４０ｆｆＩＱ）を使用するクロマトグラ
フィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの混液（３
：１、ｖ／ｖ）で溶出して、（２Ｓ）−１−アリルオキ
シカルボニル−２−ヒドロキシメチル−４−メチレンピ
ロリジン（１７８ｇ）を得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　３４００．１６８０　ａｍ
−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３，Ｓ　）　’　２．１５−２．
９０　（２）１１ｍ）、２．６８（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）、
　　３．６１　　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　　３．
９０−４．３４（３Ｈ，ｍ）、　　４．４５−４．７０
　　（２Ｈ，ｍ）、　　４．８６−５．０６（２Ｈ，ｍ
）、　　５．０６−５．４１　　（２）！、ｍ＞、　　
５．６８−６．１６（ＬＨ，ｍ） 製造例６３ 製造例１−１）と実質的に同様にして、（２Ｓ）＝１−
アリルオキシカルボニル−２−（２−メチル−３−オキ
ツブテニル）−４−メチレンピロリジンを収率８４．０
％で得る。

ＩＲ（フィルム）　　’　　１７００　　ｃｍ−１ＨＭ
Ｒ（ＣＤＣ１３，Ｓ　）　：１．８９　（３Ｈ，ｄ、Ｊ
＝ＩＨｚ＞、　２．２９（３Ｂ、ｓ）、　２．１１−’
３．１５　（２Ｈ，ｍＬ　３．９８−４．２１（２Ｈ，
ｍ）、　４．４６−４．６７　（２Ｈ，ｍ）、　４．６
７−５．４０（５Ｈ，ｍ）、　５．６５−６．１１　（
ＩＨ，ｍ＞、　６．３７　（ＩＨ。

ｄｑ、ｃｌ、　　８）１ｚ） 製ｊ目生り 製造例２−１）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−（（２３）−１−アリルオキン力ル
ポニル−４−メチレンピロリジン−２−イル）−３−メ
チル−２−才キソー３−ブテニルコ−３−［（ＩＲ）−
１−第三級ブチルジメチルジノルオキシエチル］−２−
オキソアゼチジンを収率７８．０％で得る。

ＩＲ（Ｃ）１２Ｃ１２）　’　３４２０，１７６０．１
７００　ａｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ２．８　　）　　：
　０．０９　　（６８，ｓ）、　　ｏ、８９　　（９Ｈ
９ｓ）。

１．２３　（３）！、ｄ、Ｃ６Ｈｚ）、　１．８９　（
３１，ｄ、Ｊ：ＩＨｚ）。

２．０５−２．５０　（ＩＨ，ｍ）、　２．５３−３．
２８　（４Ｈ，ｍ＞。

３．８４−４．３３　（４Ｈ，ｍ）、　４．４０−４．
６４　（２Ｈ，ｍ）４．６６−５．４５　（５Ｈ，ｍ）
、　５．６０−６．１３　（ＩＨ，ｍ）。

６．００　　（ＩＨ，ｂｒ　　ｓ）、　　６．３６　　
（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ＝１．　８Ｈｚ＞１且亘ｊ （２Ｓ、４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−４−ヒ
ドロキシ−２−（２−メチル−３−才キソー１−ブテニ
ル）ピロリジン（０，３３ｇ）、トリソエニルホスフィ
ン（０，５２ｇ　）および安息香酸（０，２４ｇ）のテ
トラヒドロフラン（４ｍＱ）溶液に、アソシカルボン酸
ジエチル（０，３１１１１２）を常温て゛加える。常温
で１時間攪拌後、溶媒を留去する。残渣にｎ−ヘキサン
と酢酸エチルとの混液（２：　１．　ｖ／ｖ）を加え、
析出した酸化トリフニー゛−ルホスフィンを濾去する。

濾液の溶媒を留去し、残渣をシリカゲル（８０ｍ１＋　
）を使用するクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン
と酢酸エチルとの混液（８：　２−７　：　３．　ｖ／
ｖ）で溶出して、（２Ｓ、４Ｓ）−１−アリルオキシカ
ルボニル−４−ヘンゾイルオキン−２−（２−メチル−
３＝オキソ−１−ブテニル）ピロリジン（０，４２ｇ）
を得る。

ＭＲ （ＣＤＣｌ２．８　　）　　：　　１．８３　　（３Ｈ
，ｓ）、　　２．１８　　＜３Ｈ，ｓ）。

３．８４　　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝３Ｈ２）、　　４．５９
　　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）。

４．７３−５．００　＜ＩＨ，ｍ＞、　５．０２−５．
３９　（２Ｈ，ｍ）。

５．４７−５．６５　（ＬＨ，ｍ）、　　６．５６−６
．７８　　（ＬＨ，ｍ）。

７．１６−７．７０　（５Ｈ，ｍ） ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１７２０．１７００．１６
７０　ｃｍ−１製造例６６ （２Ｓ、４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−４−ヘ
ンゾイルオキシ−２−（２−メチル−３−才キソー１−
ブテニル）ピロリジン（０，２３ｇ）のメタノール（５
ｍＱ）溶液に、メタノール中２８％−ナトリウムメトキ
シド（０，１３ｍＱ　）を０℃で加え、この混合物を同
温で１時間攪拌する。この溶液に酢酸（０，０４ｍＱ　
）を加え、混合物を食塩水と酢酸エチルとの混合物中に
注ぐ。有機届を分取して食塩水で３回洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカゲル
（２ＱｍＱ　）を使用するクロマ、トゲラフイーに付し
、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの混液（１：　１、ｖ／
ｖ）で溶出して、（２Ｓ、４Ｓ）−１−アリルオキシカ
ルボニル−４−ヒドロキシ−２−（２−メチル−３−才
キソー１−ブテニル）ピロリジン（０，１４ｇ　）　ヲ
得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　：　１７００．１６７０　ｃｍ
−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１３−８＞　’　１−８２　（３Ｈ
１ｓ）、２．３０　（３Ｈ，ｓ）。

２．２３−２．４７　（２Ｈ，ｍ）、　　３．５４−３
．７２　（２Ｈ，ｍ）。

４．５５−４．７７　（４Ｈ，ｍ＞、　　５．１５−５
．３５　（２Ｌｒｎ＞。

５．７２−６．０７　（ＩＨ，ｍ）、　　６．７７−６
．８２　（ＩＨ，ｍ）製造例６７ （２３，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−４−ヒ
ドロキシ−２−（２−メチル−３−才キソー１−ブテニ
ル）ピロリジン（４，００ｇ）のＮ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｏｍｕ　）　溶液に、イ
ミダゾール（２，７０Ｋ）および塩化第三級ブチルジメ
チルシリル（４ｙ８０　ｇ　）を加える。この混合物を
常温で２時間放置する。混合物を酢酸エチル（２００ｍ
ｕ　）で希釈し、順次水および食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して溶媒を留去する。残渣をシリカゲ
ル（１００ｍＱ　）を使用するクロマトグラフィーに付
し、ｎ−ヘキサンと酢酸エテルとの混液（９；１−８：
２、ｖ／ｖ　）で溶出して、（２Ｓ。

４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−４−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシ−２−（２−メチル−３−才キ
ソー１−ブテニル）ピロリジン（３，６７ｇ）を得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　：１６８５，１６６０　ＣｍＣ
ｍ−１Ｎ　（ＣＤＣ１３，８＞　’　０−０５　（６Ｈ
，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　ｏ、　８９（９Ｈ，ｓ）、１．
７０−１．９１　　（４Ｈ，ｍ）、２．１７−２．４３
（４Ｈ，ｍ＞、　　３．３５−３．７２　（２Ｈ，ｍ）
、　　４．４０−４．８９＜４Ｈ，ｍ＞、　　５．０４
−５．３９　　（２Ｈ，ｍ＞、　　５．７４−６．０４
（１）１．ｍ＞、　　６．７６　（１）１．ｄ、Ｊ＝８
）１ｚ）製造例６８ 製造例２−１）と実質的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−（（２Ｓ、４Ｓ）−１−アリルオキ
シカルボニル−４−（第三級プチルジメテルシリルオキ
シ）ピロリジン−２−イル）−３−メチル−２−才キソ
ー３−プテニルコ−３−［（ＩＲ）−１−第三級プチル
ジメチルシリルオキノエチルコー２−オキソアゼチジン
を収率９７゜２％で得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１７６０．１７００，１６
７０　ｃｍ−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．　Ｓ　）　：　０
．０７　（６Ｈ，ｓ）、　０．０９　（６Ｈ，ｓ）。

０．８７　（９Ｈ，ｓ＞、　０．９０　（９Ｈ，ｓ）、
　Ｌ、−２０（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６１（ｚ）、　１．５８−２．２８　＜５）１．ｍ
＞、　２．６９−２．９２＜２１４．＋＋＋）、　　３
．０５−３．３２　　（ＩＬｍ）、　　３．４１−３．
７７（２Ｈ，ｍ）、　３．９３−４．０６　（１）１．
ｍ）、　４．１３−４．２９（ＩＨ，ｍ）、　　４．３
９−４．５２　（ＩＨ，ｍ）、　　４．５２−４．６８
（２Ｈ，ｍ＞、　　４．７１−４．９３　（ＬＨ，ｍ）
、　　５．０５−５．２０（２Ｈ，ｍ）、　　５．７４
−６．１８　　（２ｔ（、ｍ）、　　６．６９−６．８
８（ＬＨ，ｍ） 製造例６９ （２Ｓ、４Ｓ＞１−アリルオキシカルボニル−４−ヒド
ロキシ−２−（２−メチル−３−才キソー１−ブテニル
）ピロリジン（４００ｇ）のヨードメタン（２０ｍＱ　
）溶液に、酸化銀（２０ｇ）を加え、混合物を常温で２
日間放置する。生成する沈殿を濾去し、濾液の溶媒を′
ｅ、圧下に留去する。残渣をシリカゲル（５ｏｍａ　）
を使用するクロマトグラノィーに付し、ｎ−ヘキサンと
酢酸エチルとの混／＆（６：４、ｖ／ｖ　）で溶出して
、（２Ｓ、４５）−１−アリルオキシカルボニル−４−
メトキシ−２−（２−メチル−３−才キソー１−ブテニ
ル）ピロリジン（２，３１ｇ）を得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　：１６９０，１６６０　ａｍ−
１ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，８＞　　’　　１．７３−２．
１２　　（４Ｈ，ｍ）、　　２．１７−２．４２　（４
Ｈ，ｍ）、　３．３２　（３Ｈ，ｓ）、　３．５１−３
．７５（２Ｈ，ｍ）、　　３．９６−４．０５　（ＬＨ
，ｍ）、　　４．４２−４．９２（３Ｈ，ｍ）、　　５
．０８−５．４２　（２Ｈ，ｍ＞、　　５．７１−６．
０３（ＬＨ，ｍ）、　　６．６７　（１Ｂ、ｄ、Ｊ＝８
Ｈｚ）製３ｊ！ｔ（Ｍ２Ｏ 製造例２−１）と実施的に同様にして、（３Ｓ。

４Ｒ）−４−［４−（（２Ｓ、４Ｓ）−１−アリルオキ
シカルボニル−４−メトキシピロリジン−２−イル）−
３−メチル−２−オキソ−３−プテニルコ−３−［（Ｉ
Ｒ）−１−第三級プチルジメテルシリルオキシエチルコ
ー２−オキソアゼチジンを収率７０．４％で得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　、’　１７５５，１６９５．１
６６０　ａｍ−１ＢＭＲ（ＣＤＣｌ２．８　　）　　：
　　０．０５　　（６Ｈ，ｓ）、　　０．８５　　（９
Ｈ，ｓ）。

１．２０　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６）１ｚ）、　１．６２−
２．４１　（５Ｈ，ｍ＞。

２．７３−３．１７　（３Ｈ，ｍ）、　３．３２　（３
Ｈ，ｓ）、　３．４８３．７９　（２Ｈ，ｍ＞、　３．
８９−４．２８　（３Ｈ，ｍ）、　４．４９−４．６６
　（２Ｈ，ｍ＞、　４．６６−４．８６　（ＩＨ，ｍ）
、　５．０６−５．３９　（２Ｈ，ｍ＞、　５．７７−
６．００　（ＩＨ，ｍ）、　６．００−６．１９　（Ｌ
Ｈ，ｍ）、　６．６６　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ＞犬遍
例１−１） ２−［（３Ｓ、４Ｒ）−４−［（Ｅ）−４−（（２Ｓ）
−１−アリルオキシカルボニルピロリジン−２−イル）
−３−メチル−２−オキソ−３−プテニル］−３−（（
ＩＲ）−１−第三級ブチルンメチルシリルオキシエチル
）−２＝才キソアビチジン−１−イル］−２−トリフェ
ニルホスホ７ニリデン酢酸アリル（９，７８ｇ）を脱気
したキシレン（１５０ｍＱ　）に溶解し、溶液を１５０
℃に１０時間加熱する。混合物の溶媒を留去して得られ
る残渣をンリカゲル（２５０ｍＱ　）を使用するクロマ
トグラフィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの混
ｌ夜（２：　８−７　：　３、ｖ／ｖ　）で溶出して、
（５Ｒ１６Ｓ）−３−［（Ｅ）−２１（２Ｓ）−１−ア
」ルオキシ力ルポニルビロリジン−２−イル）−１−メ
チルエチニルコ−６−［（ＩＲ）−１−第二級ブチルジ
メチルシリルオキシエチル］−７−オキソ−１−アザビ
ンクロ［３，２，０］ヘプト−２−カルボン酸アリル（
５，３６ｇ）を得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１７７５．１６９０　ａｍ
−１ＢＭＲ（ＣＤＣｌ２．８）　：　０．０６　（６Ｈ
，ｓ）、　０．８７　（９Ｈ，ｓ）。

１．２３　＜３８．ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、　１．４０−２
．３０　（４Ｈ，ｍ）。

１．８８　（３）１．ｂｒ　ｓ）、　２．７７−３．１
５　（３Ｈ，ｍ）、　３．２４−３．６６　（２Ｈ，ｍ
＞、　３．８５−４．２９　（２Ｈ，ｍ）、　４．４０
−４．９０　（５１（、ｍ）、　５．００−５．６０　
（５Ｈ，ｍ）、　５．６０−６．２０　（２Ｈ，ｍ＞ 求１凌Ｉｌｌ二υ シリルオキシビロリシンー２−イル）−１−メチルエチ
ニル］−６−［（ＩＲ）−１−第三級プチルンメチルシ
リル才キジエチルコー７−才キソー１−アザビシクロ［
３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル
（６，１１ｇ）を収率７７．８％で得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１７７０．１６９０　ｃｍ
−１ＢＭＲ（ＣＤＣ１３，ｆ；　）　’　０．０９　（
１２Ｈ１ｓ）、０．９０　（１８Ｈ９ｓ）、　１．２５
　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６１４ｚ）、　１．４２−２．３０
　（２Ｈ。

ｍ）、　１．９０　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ）、　２．
８２−３．２６　（３Ｈ。

ｍ）、　３．４８　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、　３．
９３−４．４７　（３Ｈ。

ｍ）、　４．４７−４．９３　（５Ｈ，ｍ）、　５．０
５−５．５５　（５Ｈ，ｍ）。

５．６８−６．２２　（２Ｈ，ｍ） 塞Ｊ１４１主 実施例１−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ９ａｓ）
−３−［２−ｆ（２ｓ、４Ｒ）−ｘ−アリルオキン力ル
ポニルー４＝第三級ブチルジメチル２−［（３Ｓ、４Ｒ
）−４−［（ＩＲ）−４−Ｔ（２Ｓ）−１−アリルオキ
シカルボニルピロリジン−２−イル）−４−ヒドロキシ
−１−メチル−２−オキツブチル］−３−（（ＩＲ）−
１−第三２吸ブチルジメチルシリルオキシエチル）−２
オキソアゼチジン−１−イルツー２−トリフェニルホス
ホラニリデン酢酸アリル（２，３６ｇ）の脱気したトル
エン（１２０ｍＱ　）溶液を８時間加熱還流する。冷後
、トルエンを留去して得られる（４Ｓ。

５Ｒ，６Ｓ）−３−［２−（（２Ｓ＞１−アリルオキシ
カルボニルピロリジン− ヒドロキシエチルコー６−［（ＩＲ）−１−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル］−４＝メチル−７＝オ
キソ−１−アザビシクロ［３．２０コヘプ＋−−　２−
エン−２−カルボン酸アリルの１１ｉ１をジクロロメタ
ン（　９０．　ＯｍＱ　）中に加える。混合物にトリエ
チルアミン（　１．　０２ｍＱ　）および塩化メタンス
ルホニル（　０．　５２ｍＱ　）を攪拌下５℃で滴下し
、５゛Ｃで３０分間攪拌を続ける。この混合物に１、８
−ジアザビクシ口［５．４．Ｏコーテ−ウンデセン（　
３．　３６ｍＱ　）を加え、この混合物を４０℃付近に
加温ｒる。４０°Ｃで２時間攪拌後、混合物を酢酸工ｙ
−ルで希釈して順次塩化アンモニウム水溶液、水および
食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を
留去して得られる残渣をシリカゲル（１５０ｍＱ）を使
用するクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸
エチルとの混液（９：１−４：　ｌ　、　ｖ／ｖ）で溶
出して、（４Ｓ．５Ｒ．６Ｓ）−３−［（Ｅ）−２−（
（２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニルピロリジン−２
−イル）エテニルコ−６−［（ＩＲ）−１−第三級ブチ
ルジメチルシノルオキシエチルコー４−メチル−７−オ
キソ−１−アザビシクロ［３．２．０コヘプト−２−エ
ン−２−カルボン酸アリル（１．１２ｇ）を得る。

ＩＲ　　（ＣＨ２Ｃ１２）　　　’　　　Ｌ７７０．　
　１７１０．　　１６９０　　ｃｍ−１ＢＭＲ　　（Ｃ
ＤＣｌ２，　δ　）　　：　　０．１２　　（６Ｈ，ｓ
）、　　０．９１　　（９Ｈ．ｓ）。

Ｌ．１９　（３）！．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）、　１．２９　
（３Ｈ，ｄ．Ｊ：６Ｈｚ）。

１、６４−２．３２　（４Ｈ．ｍ＞、　３．０７−３．
６２　（２Ｂ，ｍ）。

３、９５−４．３２　（２Ｈ，ｍ＞、　４．３２−４．
６４　（３Ｈ，ｍ＞。

４、６４−４．７９　（２Ｈ．ｍ＞、　５．０４−５。

５７　（４Ｈ．ｍ）。

５、６５−６．１８　（３８，ｍ）、７．１２　（ＩＨ
，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）実施例３−１〉 （５Ｒ，６Ｓ）−３−［（Ｅ）−２−（（２Ｓ）ｌ−ア
リルオキシカルボニルピロリジン−イル）−１−メチル
エチニルコ−６−［　（　Ｉ　Ｒ）−１−第三級ブチル
ジメチルシリルオキシエチル］−７−オキソ−１−アザ
ビシクロ［３．２．０］・〜、シト−２−エン−２−カ
ルボン酸アリル（５．３６＆）のテトラヒドロフラン（
　６ｏｍＱ）溶液に、酢酸（５６ｍρ）およびテトラヒ
ドロフラン中ＩＭフッ化テトラブチルアンモニウム溶液
（　４９ｍＱ　）をＯ″Ｃで加える。常温で７時間、５
℃で１４時間放置後、反応混合物を酢酸エチル（　２０
０ｍＱ　）と水（　２００ｍＱ）との混合物中に加える
。次酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７付近に調整後、有
機届を分取して順次水および食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる残渣をシ
リカゲル（　ｔｓｏｍＱ）を使用するクロマトグラフィ
ーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの混合物（８：
２−３ニア、ｖ／ｖ　）で溶出して、（５Ｒ，６Ｓ）−
３　、−　［　（　Ｅ　）　−　２　−　１　（　２　
Ｓ　）　−　１−アリルオキシカルボニルピロリジン− ルエチニル］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル
］ー７＝オキソ−１−アザビジクロロ３。

２　０コヘブト−２−エン−２−カルボン酸アリル（２
．８２ｇ）を得る。

ＬＲ　＜ＣＨ２Ｃ１２）　’　３６００．　１７８０．
　１６９０　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＣＤＣ１３，Ｓ　）　
’　１．３２　（３１（、ｄ，Ｊ＝７）１ｚ）、１．４
７−２、２８　（４Ｈ．ｍ＞、　１８６　（３Ｈ，ｂｒ
　ｓ）、　２．８０−３．２３（３Ｈ．ｍ）、　３．２
３−３．６０　（２Ｈ．ｍ）、　３．８５−４．３０（
２Ｈ．ｍ）、　４．３６−４．８４　（５Ｈ，ｍ）、　
５．０３−５．５０（５）１，ｍ）、　５．６０−６．
２０　（２８，ｍ＞実施例３−２） 実施例３−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ１６３）
−３−［２−（２Ｓ、４Ｒ）−１−アリル、１−キレカ
ルボニル−４−第三級ブチルジメチルシノルオキシビロ
リジン−２−イル）−１−メチル上テニルコ−６−［（
ＩＲ）−１−第三級ブチル／メテルシリルオキシエテル
コー７−オキソー１アザビシクロ［３，２，０コヘブト
−２−エン−２カルボン酸アリル（６，１０ｇ）をフッ
化テトラブチルアンモニウムと反応させて、（５Ｒ，６
５）−３〜［２−１（２Ｓ、４Ｒ）−１−アリルオキシ
カルボニル− ル）−１−メチルエテニルコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒ
ドロキシエチルコー７＝オキソ−１−アザビンクロ［３
．２．０］ヘプト−２−工ン−２−カルボン酸アリル（
２．７２ｇ）を得る。

ＩＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　：３７００，１７７０，１６
９０　ａｍ−１ＨＭＲ　　（ＣＤＣｌ２．ｆ；　　）　
　’　　１．３３　　（３Ｈ．ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、　Ｌ
．９０（３８，ｄ，Ｊ：１）１ｚ）、　１．５３−２、
４０　（４Ｈ，ｍ）、　２．８４−３、２６　（３Ｈ，
ｍ）、　３．４７−３．６５　（２Ｈ．ｍ＞、　３．９
２−４、３０　（２Ｈ．ｍ）、　４．３０−５．００　
（６Ｈ．ｍ）、　５．００−５、６０　（５Ｈ，ｍ）、
　５．６０−６．２２　（２Ｈ，ｍ）実施例３−３〉 実施例３−１）と実質的に同様にして、［　（４　Ｓ。

５Ｒ，６Ｓ）−３−（（Ｅ）−２−（２Ｓ）−１−アリ
ルオキシカルボニルピロリジン−２−イル）エチニル−
６−［（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチルシリルオキ
シエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシク
ロ［３．２．Ｏコへブト２−エン−２−カルボン酸アリ
ル（１．１２ｇ）を反応させて、（４Ｓ．５Ｒ．６Ｓ）
−３−［（Ｅ）２−（（２５）−１−アリルオキシカル
ボニルピロリジン−２−イル）エチニル］−６−［（Ｉ
Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキ
ソ−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン
−２−カルボン酸アリル（　６５０ｍｇ　）　ヲ４％る
。

ＩＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　：１７７０，１７１０．１６
９０　ａｍ−’ＮＭＲ　（ＣＤＣ１３．８　）　’　１
．２２　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３７（３Ｈ
．ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ＞、　１．５５−２．５０　（４Ｈ．
ｍ）、　２．２９（ＩＨ．ｂｒ　ｓ）、　３．２３　（
ＬＨ．ｄｄ．Ｊ＝３．　６Ｈｚ）、　３、３３−３、６
５　（３Ｈ，ｍ）、　４．０５−４．３３　（２Ｈ，ｍ
）、　４。３３−４、６６　（３Ｈ，ｍ）、　４．６６
−４．８５　（２Ｈ．ｍ）、　５．０５５、６５　（４
Ｈ．ｍ）、　５．６５−６．２５　（３Ｈ，ｍ）、　７
．１６（ＩＨ，ｄ．Ｊ＝１６Ｈｚ） ７←Ｌ二〇 （５Ｒ，６Ｓ）−３−［（Ｅ）−２−（（２３）−１−
アリルオキシカルボニルピロリジン−２−イル）−１−
メチルエテニルコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエ
チル］−７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０コ
ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル（２．８２ｇ
）のテトラヒドロフラン（　２ｓｍＱ）とエタノール（
１４ｍＱ）との混合物溶液ニ、順次トリフェニルホスフ
ィン（０．５１ｇ）、５、５−ジメチル−１．３−シク
ロヘキサンジオン（ジメドン）　（　１．７９ｇ　）お
よびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム
（０　）（　２２０ｍｇ）を加える。常温で１時間攪拌
して得られる沈殿を濾取し、テトラヒドロフラン（　４
０ｍ１１　）で洗浄して水（　１５０ｍＱ　）に溶解す
る。溶液を酢酸エチル（５０ｍＱ　）で２回洗浄して減
圧濃縮し、凍結乾燥して、（５Ｒ，６Ｓ）−６−［（Ｉ
Ｒ）−１−ヒドロキンエチルコー７−オキソー３−［（
Ｅ）−２−（（２Ｓ）−ピロリジン−２−イル）−１−
メチルエチニルツー１−アザビシクロ［３、２、０］］
ヘゾトー２−エンー２−カルボン酸１．５２ｇ）を得る
。

ＬＲ（スジ１−ル）　　’　　３２５０．　１７６０．
　１５８０　　ｃｍ−１ＨＭＲ（Ｄ２０，８　　）　　
；　Ｌ、２５　　＜３Ｈ９ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．５
０−２．３７（４Ｈ，ｍ）、　　１．８８　　（３Ｈ，
ｄ、Ｊ＝１）１ｚ）、　　２．６０−３．５３＜５８．
ｍ）、　　３．９５−４．５９　（３Ｈ，ｍ）、　　５
．４５　（１）１．ｄｑ。

Ｊ＝１．９Ｈｚ） （以下余白） 実施例４−２） 実施例４−１）と実質的に同様にして、（ＳＲ，６Ｓ）
−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−３−［２
−（（２３，４Ｒ）−４−ヒドロキシピロリジン−２−
イル）−１−メチルエテニルコー７一才キソー１−アザ
ビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボ
ン＃（１，７５ｇ）を収率８９．６％で得る。

ＩＲ（スジョール）　　：　　３２５０．　１７６０．
　１５９０　　ｃｍ−１ＨＭＲ（Ｄ２０．８　）　：１
．２７　（３Ｈ１ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９３　（３Ｈ
−ｄ、ＪＪＨｚ＞、　１．５５−２．４５　（２Ｈ，ｍ
＞、　２．６５−３．７０（５Ｈ，ｍ＞、　３．９５−
４．３８　（２Ｈ，ｍ）、　４．３８−４．９９（２Ｈ
，ｍ＞、　　５．３０−５．５６　　（ＩＨ，ｍ＞実施
例４−３〉 衷ｑ二Ω 実施例４−１）と実質的に同様にして、（４Ｓ。

５Ｒ，６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエテル
コー４−メチル−７−オキンー３−　［（Ｅ）−２−（
（２３）−ピロリジン−２−イル）エテＪニル］−１−
アザビシクロ［３，２，０コヘプト−２−０Ｌンー２−
カルボン酸（３８０ｍｇ　）を収率８２．１％で得る。

Ｔ、Ｒ（メン９−ル）　　：　　３３００．　１７５０
　　ｃｍ−１ＨＭＲ（Ｄ２０，８　）　’　１．００　
（３）＋９ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、１．１５　（３Ｈ１ｄ、
Ｊ−６Ｈｚ＞、　１．５０−２．４０　（４Ｈ，ｍ）、
　３．００−３．５０（４Ｈ，ｍ）、　３．９０−４．
２５　（３Ｈ，ｍ）、　５．８３　（ＬＨ，ｄｄ。

Ｊ＝８．１６Ｈｚ）、　７．０９　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１
６Ｈｚ）（５Ｒ，６！３）−６−［（ＩＲ）−１−ヒド
ロキシエチル］−７−オキソ−３−［（Ｅ）−２−［（
２Ｓ）−ピロリジン−２−イル）−１−メチルエチニル
ツー１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン
−２−カルボン酸（０，４４ｇ）の水（３ＱｍＱ　）溶
液を炭酸カリウム水溶液によりＯ′ＣでｐＨ８，５に調
整し、アセトイミド酸エチル・塩酸塩（５，４ｇ）を、
炭酸カリウム水溶液の添加によりｐＨ８，５付近に調整
しながら少量ずつ加える。ｐＨ８，５で１５分間攪拌後
、反応混合物を酢酸エチルとデトラヒドロフランとの混
合物（９：　１　、ｖ／ｖ、ｒ５ｏｍｌで洗浄し、減圧
濃縮する。残渣を非イオン吸着樹脂１ダイヤイオンＨＰ
２０Ｊ（商標、三菱化成工業社製）　（ｓｏｍＱ）を使
用するクロマトグ７ノイーに付し、順次水（２００ｍＱ
　）および５％イソ／ロビルアルコール水溶７夜（ｚｏ
ｏｍｕ　）で溶出する。所望の化合物を含む両分を集め
、凍結乾燥して、（５Ｒ，６Ｓ）−３−［（Ｅ）−２−
（（２Ｓ）−１−アセトイミドイルピロリジン−２−イ
ル）−１−メチルエテニルコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒ
ドロキンエチルコー７一才キソー１−アザビンクロ［３
，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸（２４１
ｍｇ）を得る。

ＬＲ（スフ３−ル）　　：　　３２００．　１７６０．
　１６７０．　１５９０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄ２０．
８）　：　１．２７　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　１
．４５−２．４５（１０Ｈ，ｍ＞、　２．６０−３．８
０　（５Ｈ，ｍ＞、　３．９３−４．９０（３Ｈ，ｍ＞
、　５．２３−５．６０　（ＩＨ，ｍ）実施例５−２） ５Ｒ，６ｓ）−３−［（Ｅ）−２−（（ｚｓ）−１−ア
セトイミドイルピロリジン−２−イル）エテニルコ−６
−［（ＩＲ）−１−ヒドロキジエチルコー４−メチル−
７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−
２−エン−２−カルボン酸（２３７ｍｇ）を収率８３．
６％で得る。

ＬＲ（Ｘンａ−ル）　’　　３３００．　１７４０．　
１５９０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄ２０．δ）　：１．１
５　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７）１ｚ）、　１．３１　（３Ｈ
。

ｄ、Ｊ：６Ｈｚ）、　１．７３−２．５０　（４Ｈ，ｍ
）。

４．４１　（２Ｈ，ｍ）、　５．７０−６．１５　（Ｉ
Ｈ，ｍ＞、　６．７５−７．５０　　（ＩＨ，ｍ） （以下余白） 実施例５−１〉と実質的に同様にして、（４Ｓ。

実施例６−１） ルオキシ力ルボニルー４−メトキシピロリジン−２−イ
ル）−１−メチルエチニル］−６−ロ（ＩＲ）−１−第
三級ブチルジメチルシリルオキシエチル］−７−オキソ
−１−アザビシクロ［３，２゜０］ヘプト−２−エン−
２−カルボン酸アリルを収率８６．１％で得る。

ＩＲ（ニート）　　：　　１７８０．　　１７００　　
ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．　８　）　　：　　０．
１０　　（６Ｈ，ｓ＞、　　０．９０　　＜９８．ｓ）
１．２５　　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２）、　　１．８８
　　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ）。

１．５５−２．４５　　＜２Ｈ，ｍ）、　　２．８０−
４．３５　　（８８，ｍ＞。

３．３１　　（３Ｈ，ｓ）、　　４．４４−４．９０　
　（５Ｈ，ｍ＞、　　５．００−５．５８　（５）１．
ｍ）、　５．６０−６．１８　（２Ｈ，ｍ）（Ｐｈ：ｐ
ｈｅｎｙｌ） 実施例１−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ９６ｓ）
−３−［２−（（２ｓ、４Ｒ）−ｔ−アリ４．３２　（
２Ｈ，ｍ）、　　４．４５−４．８６　　（５Ｈ，ｍ＞
、　　５．０３−５．５４　　（６Ｈ，ｍ）、　　５．
６０−６．１８　　（２Ｈ，ｍ）実施例７−１） 実施例１−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ１６Ｓ）
−３−［２−（（２Ｓ、４Ｒ）−１−アリルオキン力ル
ボニル−４−（ジメチルカルバモイルオキシ）ピロリジ
ン−２−イル）−１−メチル−Ｌテニル］−６−［（Ｉ
Ｒ）−１−第三級プチルノメチルシリルオキシエチル］
−７−オキソ−１−アゾビシクロ［３，２，０コヘブト
ー２−エン−２−カルボン酸アリルを収率５６．３％で
得る。

ＩＲ（ＣＩ４２Ｃ１２）　’　１７８０．１７００　ａ
ｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１，、８）　：　０．ＬＯ（６Ｈ
，ｓ）、　０．９０　（９Ｈ，ｓ＞。

１．２５　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　１．４３−２
．６０　（２Ｈ，ｍ）。

１．９１　（３Ｈ，ｄ、Ｊ：ＩＨｚ）、　２．８９　（
６Ｈ，ｓ）、　２．７４−３．２５　（３Ｈ，ｍ＞、　
３．４４−３．９０　（２Ｈ，ｍ＞、　３．９０−製造
例４９で得られた２−［（３Ｓ、４Ｒ）−４−［（Ｅ）
−４−（（２３）−１−アリルオキシカルボニルピロリ
ジン−２−イル）−３−メチル２−才キソー３−ブテニ
ル］−３−（（ＩＲ）−１−トリメチルシリルオキシエ
チル）−２−オキソアゼテノン−１−イル］グリオキシ
ル酸アリルのトルエン（３９ｍＱ）溶液に、亜燐酸トリ
エチル（４３，７８ｍＱ　）を加える。この混合物を窒
素ガス雰囲気中７０−８０℃に２時間加熱する。反応混
合物にトルエン（３５０ｍＱ　）およびヒドロキノン（
１２，０＆）を室温で加える。窒素ガス雰囲気中９時間
還流後、反応混合物を順次炭酸カリウム水溶液および食
塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留
去して、（５Ｒ，６Ｓ）−３−［（Ｅ）−２−（（２Ｓ
）−１−アリルオキシカルボニルピロリジン−２−イル
）−１−メチルエテニルコーａ−［（ｘＲ）−ｔ−トリ
メチルシリルオキシエチルコー７−才キソー１−アザビ
シクロ［３，２，０コヘプト−２−エン−２−カルボン
酸７１Ｊルを粗製油状物として得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１７６５．１７１５．１６
８０　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８　）　’　０．
１３　（９Ｈ１ｓ）、１．２６　（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６）１ｚ）、　　１．５−２．３　　（４Ｈ，ｍ）
、　　１．９０　（３Ｈ，ｓ）。

２．８−３．２　（３Ｈ，ｍ＞、　　３．２−３．６　
　（２８，ｍ＞、　　３．８−４．３（２Ｈ，ｍ＞、　
　４．４−４．８　　（５Ｈ，ｍ＞、　　５．０−５゜
５　　（５Ｈ，ｍ＞。

５．６−６．２　（２Ｈ，ｍ＞ ス１（Ｍ７二社 ２−［（３Ｓ、４Ｒ）−４−［４−＋（２Ｓ、４Ｒ）−
１−アリルオキシカルボニル−４−（ジメチルカルバモ
イルオキシ）ピロリジン−２−イル）−３−メチル−２
−オキソ−３−プテニルコ３１（ＩＲ）−１−第三級ブ
チルジメチルジノルオキシエチル）−２−才キソアゼチ
ジン−１−イルコグリオキシル酸アリル（０，４４ｇ）
のトＪＬ、　：ｘ：　”ｙ　（１５ｍＡ　）溶液に、亜
燐酸トリエチル（０，６１ｍＱ　）を加え、この混合物
を窒素ガス雰囲気中９０″Ｃに１５時間加熱する。溶媒
を減圧下に留去後、残渣にキンレｙ　（２０ｍ１ｌ　）
とヒドロキノン（２０ｍｇ　）とを加え、この混合物を
窒素ガス雰囲気中１０時間加熱、還流する。溶媒を留去
して得られる残渣をシノカゲル（５０ｍ１１　）を使用
するクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エ
チルとの混液（８：２　１：１、ｖ／ｖ）で溶出して、
（５Ｒ，６Ｓ）３−［２−（（２Ｓ、４Ｒ）−１−アリ
ルオキシカルボニル−４−（ジメチルカルバモイルオキ
シル］−ａ−［　（　Ｉ　Ｒ）−１−第三級ブチルジメ
チルシリル才キシエチルコー７−才キソー１−アザビン
クロ［３．２．Ｏ］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸
アリル（０．２６ｇ）を得る。

ＬＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１７８０，１７００　ａ
ｍ−’ＮＭＲ　（Ｃ（）Ｃ１３，Ｓ　）　’　Ｏ．　ｔ
ｏ　（６ＬＳ）、　０．９０　（９Ｒ．ｓ）。

１、２５　（３８，ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ）、　１、４３−２
．６０　（２Ｈ．ｍ＞。

１、９１　（３Ｈ．ｄ．Ｊ＝ｌ）Ｉｚ）、　２．８９　
＜６８，ｓ）、　２．７４−３、２５　（３）１．ｍ）
、　３．４４−３．９０　（２Ｈ，ｍ）、　３．９０−
４、３２　（２１（、ｍ）、　４．４５−４．８６　（
５Ｈ．ｍ）、　５．０３−５、５４　（６Ｈ．ｍ＞、　
５．６０−６．１８　（２Ｈ．ｍ＞実施例７−３） 実施例７−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ。

６Ｓ）−３−［２−（１−アリルオキシカルボニルピロ
リジン−３−イル）−１−メチルエチニルコ−６−［（
ＩＲ）−１−第三級プチルジメチルシリル才キシエチル
コー７−才キソー１−アザビンクロ［３．２．Ｏ］ヘプ
ト−２−エン−２−カルボン酸アリルを収率５３、０％
で得る。

ＩＲ　　（ニー））　　　：　　１７８０−１７７０．
　　　１７１０−１６９５　　ａｍ−１ＨＭＲ　（ＣＤ
Ｃｌ２．　８　）　：　０．８０　（６Ｈ．ｓ）、　０
．９０　（９Ｈ，ｓ）。

１、２１　（３Ｈ，ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ＞、　１．８０　（
３８，ｓ）、　４．５−４．８（４Ｈ．ｍ）、　５．１
−５．５　（４Ｈ．ｍ）、　５．８−６．２　（２Ｈ．
ｍ）因」」例７−４） Ｏ３＋＝ Ｊ：１４Ｈｚ） 実施例７−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ１６Ｓ）
−３−［（Ｅ）−２−（（２Ｓ）−１−アリルオキシカ
ルボニルピロリジン−２−イル）エテニルコ−６−［（
ＩＲ）−ｔ−トリメチルシリル才キシエチルコー７一才
キソー１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エ
ン−２−カルボン酸アリルを収率９５．０％で得る。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　１７８０．　１７１５−
１７００　　ａｍ−’ＮＭＲ＜ＣＤＣｌ３．Ｓ　　）　
　’　　０．１４　　＜９ｔ（、ｓ）、　１．２７　　
（３Ｈ１ｄ。

Ｊ＝０．７Ｈｚ＞、　１．６０−２．２０　（４８，ｍ
）、　２．８４−３．１７（３Ｈ，ｍ＞、　３．３７−
３．５７　（２Ｈ，ｍ）、　３．９２−４．２６（２Ｍ
、ｍ）、　　４．３７−４．８１　　＜５Ｈ，ｍ＞、　
　５．０６−５．５３（４Ｈ，ｍ）、　５．６１−６．
２０　（３Ｈ，ｍ）、　７．１１　（ＬＨ，ｄ。

製造例４８−１）および実施例７−２）と実質的に同様
にして、（５Ｒ，６Ｓ）−３−［：２−（（２Ｓ。

４Ｒ）−１−アリルオキシカルボニル−４−メチルカル
バモイルオキシ）ピロリジン−２−イル）１−メチルエ
テニルコ−６−［（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチル
シリルオキシエチル］−７−オキソ−１−アザビシクロ
［３，２，０コヘブトー２−エン−２−カルボン酸アリ
ルを収率９０．４％で得る。

ＩＲ（ニート）　　　’　　１７８０．　　１７１０　
　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ３．８　＞　：　０．９５
　（６Ｈ，ｓ）、　０．８９　（９Ｈ，ｓ）。

１．２４　（３８，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　１．８９　（
３Ｈ，ｓ）、　１．６０−２．４７　（２Ｈ，ｍ＞、　
２．７７−３．２０　（３Ｈ，ｍ＞、　３．５１−３．
７４　（２Ｈ，ｍ）、　３．９０−４．３４　（２Ｈ，
ｍ）、　４．４０−４．８８　（６Ｈ，ｍ）、　５．０
０−５．４９　（６Ｈ，ｍ）、　５．６５−６．１９　
（２Ｈ，ｍ） 因Ｊ１礼ｊ二づ蔓 製造例４８−１）および実施例７−２）と実質的に同様
にして、（５Ｒ，６Ｓ）−３−［２−（（２３゜４３）
−１−アリルオキシカルボニル−４−（Ｎ−アリルオキ
・ンカルポニＪレーＮ−メチルアミノ）ピロリジン−２
−イル）−１−メチルエチニル］−６−［（ＩＲ）−１
−第三級ブチルジメチルシノルオキシエチルコー７−オ
キソー１−アザビシクＬ１［３，２，０コヘブト−２−
エン−２−カルボン酸アリルを収率４５．３％で得る。

ＩＲに−ト）　　　：　　１７８０．　　１７００　　
ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ２．Ｓ　　）　　：　　０．
１０　　（６Ｈ，ｓ）、　　０．９０　　（９Ｈ，ｓ）
。

１．２３　（３）１．ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．８７　
（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝１）１ｚ）。

１．６０−２．５０　　（２Ｈ，ｍ）、　　２．８３　
　（３８，ｓ）、　　２．７５−４．３０　（７Ｈ，ｍ
）、　　４．４０−４．９０　（８Ｈ，ｍ）、　　５．
０３−５．５０　　（７）１．ｍ）、　　５．６１−６
．１６　（３Ｈ，ｍ）実施例８−３） 製造例４８−１＞および実施例７−２）と実質的に同様
にして、（５Ｒ，６Ｓ）−３−［２−（１−アノルオキ
シ力ルポニル−５−（第三級ブチルジメチルシリルオキ
シメチル）ピロリジン−２−イル）−１−メチルエテニ
ルコ−６−［（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル］−７−オキソ−１−アザビシクロ［３
，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリルを
収率６３，１％で得る。

ＩＲ（ＣＨＣＩ　　ン　：　　１７７０．　１６９０　
　ａｍ−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．Ｓ　）　’　０．０７
　（１２Ｈ１ｓ）、０．９０　（１８Ｈ９ｓ）、　１．
２５　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．５０−２．５
０　（４Ｈ。

ｍ＞、　１．８５　（３Ｈ，ｓ）、　２．８０−３．３
０　（３Ｈ，ｍ＞。

３．４０−４．３５　（６Ｈ，ｍ）、　４．４５−４．
８０　（４Ｂ、ｍ）。

４．９８−５．５０　（５Ｈ，ｍ）、　　５．６０−６
．２０　（２１，ｍ＞実施例８−４〉 −［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルコー７＝オキソ−
１−アザビシクロ［３，２，０コヘプト−２−ニンー２
−カルボン酸アリル（２，５６ｇ　）　ｆｃ得：６＝Ｎ
ｔ′ＩＲ（ＣＤＣｌ２．　Ｅ　）　：　１．３２　（３
Ｈ，ｄ、Ｊ＝７）、　１．８８　（３８゜ｓ＞、　　１
．６−２．３　（４Ｈ，ｍ）、　２．８−３．２　（３
Ｈ，ｍ＞。

３．３−３．６　＜２Ｈ，ｍ）、　４．０−４．３　（
２Ｈ，ｍ）、　　４．４−４．８（５Ｈ，ｍ）、　　５
．１−５．５　　（５Ｈ，ｍ）、　　５．７−６．２　
　（２Ｈ，ｍ）叉３ｉｆｆｉ　（＃Ｉ　８二髪 製造例４９および実施例７−１）ならびにｔｏ−１〉と
実質的に同様にして、（ＳＲ，６Ｓ）−３−［２−（（
２Ｒ）−１−アリルオキシカルボニルビロノンン−２−
イル）−１−メチルエテニルコー６製造例４８−１）お
よび実施例７−２）と実質的に同様にして、（５Ｒ，６
Ｓ）−３−［２−（１−アノルオキシカルボニルビペリ
ジン−２−イル）−１−メチルエチニル］−６−［（Ｉ
Ｒ）−１−第二級ブチルジメチルシリルオキシエチル］
−７−２キソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト
−２−ニンー２−カルボン酸アリルを収率５８．６％で
得る。

ＩＲ（Ｃ）ＩＣＩ　）　：　１７７０．１７２０．１６
８０　ａｍ−１ＮＭＲ（ＣＨＣＩ３．８）　：　０．１
２　（６８，ｓ）、　０．９２　（９Ｈ，ｓ）。

１．２８　　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　　１．５−
２．０　　（６Ｈ，ｍ）、　　１．８８（３Ｈ，ｂｒ、
ｓ）、　　２．７−３．２　　（３Ｈ，ｍ）、　　３．
９−４．３（４８，ｍ）、　　４．５−４．７　　（４
１（、ｍ）、　　５．０−５．５　　（５Ｈ，ｍ）。

５．７−６．１　　（３Ｈ，ｍ＞ 実施例８−６） 製造例４８−１＞および実施例７−２）と実質的に同様
にして、製造例４５−８）で製造した化合物から、（５
Ｒ，６Ｓ）−３−［２−＋（２３）−１−（Ｎ−アリル
オキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノアヒチル）ピロリ
ジン−２−イル）−１−メチルエテニルコ−６−［（Ｉ
Ｒ）−ｒ−第三級ブチルジメチルシリル才キシエチルコ
ー７−才キソー１−アザビシクロ［３，２，０コヘプト
−２−エン−２−カルボン酸アリル（３，４６ｇ）を得
る。

ＩＲ（ＣＨＣＩ　）　：　１７７５．１７００．１６５
０　ａｍ−’ＮＭＲ（ＣＨＣＩ３．δ）　：　０．０８
　（６Ｈ，ｓ）、　０．８８　（９Ｈ，ｓ）。

１．８８　　（３８，ｂｒ、ｓ）、　　３．００　（３
Ｈ，ｓ）、　　２．８−３．１（３Ｈ，ｍ＞、　　３．
４−３．７　　（２１（、ｍ）、　　３．９−４．３　
　（４Ｈ，ｍ）。

４．５−４．８　　（５Ｈ，ｍ＞、　　５．０−５．５
　　（５Ｈ，ｍ）、　　５．６−６．１（２Ｈ，ｍ） 製造例８−７） 製造例４８−１＞および実施例７−２）と実質的に同様
にして、（５Ｒ，６Ｓ）−３−［２−（１−アノルオキ
シ力ルポニＪレアゼチジン−３−イル）−１−メチルエ
テニルコ−６−［（ＩＲ）−１−第一・級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル］−７−オキソ−１−アザビシク
ロ［３，２，０コヘブト−２−ニンー２−カルボン酸ア
リルを収率７１．５％で得る。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　１７７５．　１７２０．
　１７０５．　１６８５　　ｃｍ−ＩＮＭＲ（ＣＨＣＩ
３、δ）　：　０．０８　（６）（、ｓ）、０．８８　
（９Ｈ，ｓ）。

１．２２　（６）１．ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　１．７４
　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ＞。

２．８３−３．１８　（３Ｈ，ｍ）、　３．３１−３．
８６　（３）１．ｍ）。

３．９６−４．３５　（４Ｈ，ｍ）、　　４．４５−４
．７７　（４Ｈ，ｍ）。

５．０８−５．４８　（４Ｈ，ｍ＞、　５．６０−６．
１８　（３Ｈ，ｍ）火１ｆ４１８二む （３１（、＋ｎ）、　　４．４−４．７　　＜４１（、
ｍ＞、　　５．０−５．４　　（４Ｈ，ｍ）。

５．６−６．２　＜２８．ｍ） 実施例９−１） 製造例４８−１）および実施例７−２）と実質的に同様
にして、（５Ｒ，６Ｓ）−３−［２−（（２５）−５−
アリルオキシカルボニルイミノ−ルピロリジン−２−イ
ル）−１−メチルエチニル］−６−［（ＩＲ）−１−第
三級ブチルジメチルシリル才キシエチルコー７−才キソ
ー１−アザビシクロ［３．２．Ｏコヘプトー２−エン−
２−カルボン謙アリルを収率９０．３％で得る。

ＩＲ　（Ｃ）１２Ｃ１２＞　’　１７７５．　１７２０
．　１６７５　ａｍ−１ＨＭＲ　　（ＣＤＣ１３，Ｓ　
　）　　：　０．０８　　（６Ｈ．ｓ）、　０．８９　
　（９）１，ｓ）。

１、８１　（３１（、ｄ．Ｊ＝１）１ｚ）、　２．８１
　（３Ｈ．ｓ）、　２．８−３．２製造例４９および実
施例７−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ．６Ｓ）−
３−［２−（（２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−
４−フルオロビロノンンー２ーイル）−１−メチルエチ
ニル］−６［（ＩＲ）−１−トリメチルシリルオキシエ
チル］ー７＝オキソ−１−アザビシクロ［３．２．Ｏコ
へ７’　ｌ−　−　２−エン−２−カルボン酸アリルを
定量的に得る。

ＬＲ　（Ｃｌ（ＣＩ　）　：　１７７０．　１６９０　
ｃｍ−１実施例９−２） 製造例４９および実施例７−１）と実質的に同様にして
、（５Ｒ，６Ｓ）−３−（２−アリルオキシカルボニル
−５−メトキシメチルピロリジン−２−イル）−１−メ
チルエチニルコ−６−［（ＩＲ）−１−トリメチルシリ
ルオキシエチル］−７−オキソ−１−アザビシクロ［３
．２．０コヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリルを
定量的に得る。

ＬＲ　　（ヌジョール）　　：　　３４２０．　　１７
６０．　　１６９０　　ａｍ−１製造例４９および実施
例７−１〉と実質的に同様にして、（５Ｒ，６Ｓ）−３
−［２−（（３Ｒ）−４−アリルオキシカルボニルモル
ホリン−３−イル）−１−メチルエチニル］−６−［（
ＩＲ）−１−トリメチルシリルオキシエチル］−７−オ
キソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エ
ン−２−カルボン酸アリルを収率６２．６％で得る。

ＬＲ（ＣＨＣＩ　）　’　１７７０．１７１０．１６９
０　ｃｍ−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．Ｓ　）　；ｏ、　０
６　（９Ｈ９ｓ）、１．１８　（３Ｈ１ｄ。

Ｊ＝６Ｈｚ＞、　１．８０　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ）
、　２．７−４．２（１１Ｈ，ｍ）、　４．３−４．８
　（５Ｈ，ｍ＞、　４．８−５．４　（４８゜ｍ＞、　
５．５−６．１　（３Ｈ，ｍ＞（以下余白） 実施例１０−１＞ 実施例７−１〉で得られた（５Ｒ，６Ｓ）−３−［（Ｅ
）−２−（（２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニルピロ
リジン−２−イル）−１−メチルエチニル］−６−［（
ＩＲ）−１−トリメチルシリルオキシエチルコー７−才
キソー１−アザビシクロ［３，２，Ｏコヘブトー２−エ
ン−２−カルボン酸アリルの酢酸エチル（７３ｍＱ　）
溶液に、酢酸＜　１２．５ｍＱ　）、およびテトラヒド
ロフラン中ＩＭフッ化テトラゾチルアンモニウム溶液（
５１，１ｍＱ　）を０℃で加える。Ｏ″Ｃで３０分間攪
拌後、反応混合物を酢酸工５−　ル（３００ｍ１２　）
と水（ｔ７ｓｍｎ　）との混合物中に加える。有機層を
分取して、順次水、食塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液
および食塩水で洗浄する。

１１機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去４−
る。残渣をシリカゲル（３１５ｍＱ　）を使用するクロ
マトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの
混液（９：１−２：５、ｖ／ｖ　）で溶出して、（５Ｒ
，６Ｓ）−３−［（Ｅ）−２−（（２Ｓ）−１−アリル
オキシカルボニルピロリジン−２−イル）−１−メチル
エチニル］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルコ
ーク−オキソ−１ア１アピンク口［３，２，０３ヘプト
−２−エン−２−カルボン酸アリル（２０，４０ｇ）を
得る。

ＬＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　’　３６００．１７８０．１６
９０　ａｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）　：　１．３
２　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、　１．５−２．３（４
Ｈ，ｍ＞、　１．８６　（３Ｈ，ｂｒ、ｓ）、　２．８
−３．２　（３Ｈ，ｍ＞。

３．２−３．６　（２Ｈ，ｍ）、　３゜８−４．３　（
２８，ｍ）、　４．３−４．８（５Ｈ，ｍ）、　５．０
−５．５　（５Ｈ，ｍ）、　５．６−６．２　（２Ｈ，
ｍ）実施例１Ｏ−２） 実施例３−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ１６Ｓ）
−３−［２−（（２Ｓ、４Ｒ）−１−アリルオキシカル
ボニル− ２−イル）−１−メチルエチニル］−６−［（ＩＲ）−
１−ヒドロキシエチルコー７一才キソー１−アザビシク
ロ［３．２．０１ヘプト−２−エン−２−カルボン酸ア
リルを収率６７、６％で得る。

ＩＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　’　３３５０．１７６０．１
６９０　ｃｍ−１ＨＭＲ　　（ＣＤＣｌ２．　　８　）
　　：　　１．３２　　（３Ｈ，ｄ．Ｊ：６Ｈｚ）、　
　　１８８（３Ｈ．ｄ，Ｊ＝ＩＨｚ）、　１．５５−２
．４３　（３８，ｍ）、　２．８５−４、３０　（８Ｈ
，ｍ＞、　３．３２　（３Ｈ．ｓ）、　４．４５−４．
９０（５８，ｍ＞、　　５．０４−５、６０　　（５Ｈ
，ｍ＞、　　５．６０−６．１９（２Ｈ．ｍ＞ 実施例１０−３＞ 実施例１Ｏ−４） 実施例３−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ１６３）
−３−［２−（（２Ｓ、４Ｒ）−１−アリルオキシカル
ボニル−４−（メチルカルバモイル７ノニル］−６−［
（ＩＲ）−ｔ−ヒドロキシエチルローフ−オキソ−１−
アザビシクロ［３．２．Ｏコヘ／トー２−エン−２−カ
ルボン酸アリルを収率５０５％で得る。

ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ２．８　＞　’　１．３２　（３Ｈ
７ｄ．Ｊ＝６）１ｚ）、１．８７（３）１，ｄＪ＝ＩＨ
ｚ＞、　１．６０−２．５０　（３Ｈ，ｍ）、　２．７
６−３、２８　（６Ｈ．ｍ）、　３．３８−３．８６　
（２Ｈ，ｍ＞、　３．９２−４、３０　（２）１，ｍ＞
、　４．３７−４．９２　（６Ｈ．ｍ＞、　４．９５−
５、４７　（６Ｈ．ｍ＞、　５．６１−６．４２　（２
Ｈ．ｍ＞実施例３−１〉と実質的に同様にして、（５Ｒ
。

６Ｓ）−３−［２−（（２Ｓ．４Ｒ）−１−アリルオキ
〉カルボニル−４−（ジメチルカルバモイルオキシ）ピ
ロリジン−２−イル）−１−メチルエチニル］−６−［
（ＩＲ）−１−ヒドロキジエテルコー７一才キソー１−
アザビシクロ［３．２。

０コヘブト−２−エン−２−カルボン酸アリルを収率７
５．６％で得る。

ＩＲ　（Ｃ）Ｉ２Ｃ１２）　：　３３７０，　１７４０
．　１７００　ｃｍ−１ＨＭＲ　（ＣＤＣ１３，８　）
　’　１．３４　（３Ｈ，ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９０
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝ＩＨｚ＞、　１．６０−２．６５　（
３Ｈ．ｍ）、　２．９０（６Ｈ，ｓ）、　２．８５−３
．２４　（３Ｈ．ｍ＞、　３．４２−３．８５（２Ｈ．
ｍ＞、　３．９０−４．３５　（２Ｈ，ｍ）、　４．４
３−４．８６（５Ｈ．ｍ）、５．００−５．４９　　（
６Ｈ，ｍ）、５．５８−６．２０（２Ｈ．ｍ） 一１！施例１０−５） （３）１，ｓ）、　　２．７５−３．４０　（４Ｈ，ｍ
＞、　　３．５５−４．３３（３）１，ｍ）、　　４．
３６−４．９２　（８Ｈ．ｍ）、　　４．９８−５．５
６（７Ｈ，ｍ＞、　　５．６０−６．１９　（３Ｈ，ｍ
）衷遣ｊｕ見二の 大晦例３−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ。

６３）−３−［２−（（２Ｓ．４Ｓ）−１−アリル−１
キンカルボニル−４−（Ｎ−アリルオキシカルボニル−
Ｎ−メチルアミノ）ピロリジン−２ーイル）−１−メチ
ルエチニル］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル
ローフ−オキソ−１−アゾビンクロ［３．２．０］ヘプ
ト−２−エン−２−カルボン酸アリルを収率５５．０％
で得る。

ＬＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　’　１７７０−　１６９０　
ｃｍ−１ＨＭＲ　（ＣＤＣ１３，ｆ；　）　’　１．　
３３　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、１．８７（３）１．
ｄ．Ｊ＝Ｌ）ｌｚ）、　１．６０−２．４８　（３８，
ｍ）、　２．８５実施例３−１）と実質的に同様にして
、（５Ｒ。

６Ｓ）−３−［２−（（２３）−１−アリルオキシカル
ボニル−４−フルオロピロリジン−２−イル）−１−メ
チルエチニルコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチ
ルコー７−才キソー１−アザビシクロ［３．２．０コヘ
ブト−２−エン−２−カルボン酸アリルを収率５７．２
％で得る。

ＩＲ　（ＣＨＣＬ３）　’　３４３０．　１７７０．　
１６９０　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＣＤＣ１ｓ，ｆ；　）　
’　１３０　（３１（、ｄ，Ｊ＝７）１ｚ）、１．　９
０（３Ｈ．ｓ）、　１．６０−２．３０　（２Ｈ．ｍ）
、　２．７０−３．２２（３Ｈ，ｍ）、　　３．３０−
６．２０　（１４Ｈ，ｍ＞、　　４．５８　（２Ｈｄ、
Ｊ：５Ｈｚ＞、４．７０　　（２Ｈ，ｄｊ＝５Ｈｚ＞。

１９　ＦＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．ＣＦ３Ｃｏ２Ｈ）　：　
−９１，９ｐｐｍ　（ｍ）実施例１Ｏ−７） 実施例１０−８） 実施例３−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ９６５）
−３−、［２−（１−アリルオキシカルボニル−５−メ
トキシメチルピロリジン−２−イル）−１−メチルエチ
ニル］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキンエチル］−７
−オキソ−１−アザビシクｕ［３，２，０］ヘプト−２
−エン−２−カルボン酸アリルを収率６０．８％で得る
。

ＩＲ（スンヨール）　　：　　３４００．　１７７０．
　１７２０．　１６９０　　ａｍ−’実施例３−１）と
実質的に同様にして、（５Ｒ１６５）−３−［２−（１
−アリルオキシカルボニル−５−ヒドロキシメチルピロ
リジン−２−イル）−１−メチルエチニル］−ｆｉ−［
（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−７−オキソ−１−
アザビンクロ［３，２，０］ヘプ）・−２−エン−２−
カルボン酸アリルを収率５０．２％で得る。

ＬＲ（ＣＨＣＩ３）　：　３４００．１７７５．１７２
０．１６７０　ｃｍ〕で施例３−１）と実質的に同様に
して、（５Ｒ１６５）−３−［２−（１−アリルオキシ
カルボニルピロリジン−３−イル）−１−メチルエテニ
ルコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−７−
オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０コヘプト−２−
エン−２−カルボン酸アリルを収率６８．２％で得る。

ＬＲに−ド）　　　：　　３４５０−３２５０．　　１
７８０−１７６５．　　１７１０１６７５　ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８　）　：　１．３１　（３Ｈ，
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．８３（３Ｈ，ｓ＞ 実施例１０−１０＞ ルビペリノン−２−イル）−１−メチルエテニルコ−６
−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルコー７−才キソー
１−アザビシクロ［３，２，０コヘプト−２−エン−２
−カルボン酸アリルを収率３７．６％で得る。

ＩＲ（ＣＨＣＩ　）　：　３４００．１７７０．１７２
０．１６９０　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８　）　
’　１．３５　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　ｔ、　５
−２．１（６８，ｍ）、　　１．８８　　（３Ｈ，ｂｒ
、ｓ）、　　２．７−３．３　　（３Ｈ，ｍ＞。

３．９−４．３　（４Ｈ，ｍ＞、　４．５−４．８　（
４Ｈ，ｍ）、　５．０−５．５（５Ｈ，ｍ）、　５．７
−６．２　（３Ｈ，ｍ＞火１１シＡ二１０ 実施例３−１）と実施的に同様にして、（５Ｒ９６５）
−３−［２−（１−アリルオキシ力ルポニ実施例３−１
）と実質的に同様にして、（５Ｒ９６３）−３−［２−
（（２Ｓ）−１−（Ｎ−アリルレオキン力ルポニル−Ｎ
−メチルアミノアセデル）ピロリジン−２−イル）−１
−メチルエテニルコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシ
エチルコー７−才キソー１−アザビシクロ［３，２，０
コヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリルを収率３３
．２％で得る。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．Ｓ　）　’　１，３４　（３Ｈ１
ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、１−９０＜３８．ｂｒ、ｓ）、　　
３．０１　　（３）１．ｓ）、　　２．８−３．２　　
（３Ｈ，ｍ）。

３．３−３．７　（２Ｈ，ｍ）、　３．９−４．３　（
４Ｈ，ｍ）、　４．５−４．８（５Ｈ，ｍ）、　　５．
１−５．５　　（５Ｈ，ｍ）、　　５．６−６．１　　
（２Ｈ，ｍ）実施例１Ｏ−１２） −７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト
−２−エン−２−カルボン酸アリルを収率４３．０％で
得る。

ＩＲ（Ｘジａ４＞　　’　　１７６５．　１７００　　
ａｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ２．Ｓ　）　’　１３３　（
３Ｈ３ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、１．７４（３Ｈ，ｓ）、　　
２．８８−３．２３　　＜２Ｈ，ｍ）、　　３．２０−
３．８５（３Ｈ，ｍ）、　３．９５−４．３７　（５Ｈ
，ｍ＞、　４．４２−４．８０（４Ｈ，ｍ）、　５．０
６−５．４０　（４Ｈ，ｍ＞、　５．６２−６．１８（
３Ｈ，ｍ） 実施例１０−１３） 実施例３−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ９６５）
−３−［２−（１−アリルオキシカルボニルアゼチジン
−３−イル）−１−メチルエチニル］−６−［（ＩＲ）
−１−ヒドロキシエチル］実施例３−１）と実質的に同
様にして、（５Ｒ１６Ｓ）−３−［２−（（２Ｓ）−５
−アリルオキシカルボニルイミノ− −イル）−１−メチルエテニルコ−６−［（ＩＲ）−１
−ヒドロキシエチル］−７−オキソ−１−アヂピンクロ
［３．２．Ｏ］ヘプト−２−エン−２−力ルボ／酸アリ
ルを収率２６．８％で得る。

ＩＲ　（ＣＨ２Ｃ１２）　’　ｔｇｏｏ，　１７３０．
１６８０　ａｍ−１ＨＭＲ　（ＣＤＣｌ２．８）　：　
１．３５　（３Ｈ．ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．９２（３
Ｈ．ｄ，Ｊ＝ＬＨｚ）、　２．９７　（３Ｈ，ｓ）、　
２．８−３．４　（５Ｈ。

ｍ＞、　４．ｏ−４．ｓ　（７Ｈ．ｍ）、　５．１−５
．６　（５Ｈ，ｍ）。

５、７−６、２　（２Ｈ，ｍ） 実施例１０−１４） Ｉ ＩＲ　　（ＣＨＣＬ３）　　　’　　３４００，　　　
１７７０．　　　Ｌ７２０．　　　１６９０　　ａｍＮ
ＭＲ　（ＣＤＣｌ２，δ）　：　１．３３　（３）１，
ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ＞、　１．９０（３８，ｄ，Ｊ＝ＩＨｚ
）、　　２．３０　（ＬＨ，ｂｒ．ｓ）、　　２．８−
４．４（１１）１，ｍ）、　　４．４−４．９　（５Ｈ
．ｍ）、　　５．０−５．５　（４）１。

ｍ＞、　　５．６−６、２　（３Ｈ，ｍ）衷」己ｌ二上
υ 実施例３−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ。

６Ｓ）−３−［２−（（３Ｒ）−４−アリルオキ７力ル
ボニルモルホリ．シー３ーイル）−１−メチルエテニル
コ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキ／エチル］−７−オ
キソ−１−アザビシクロ［３２　０コヘプト−２−エン
−２−カルボン酸アリルを収率９０．８％で得る。

実施例３−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ。

６Ｓ）−３−［（Ｅ）−２−（（２Ｓ）−１−アノルオ
キシ力ルポニルビロリジン−２−イル）エテニルコ−６
−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−７−オキソ−
１−アザビシクロ［３．２．０コヘプト−２−エン−２
−カルボン酸アリルを収率７３、０％で得る。

ＩＲ　　（スジシール）　　：　　３３５０−３１００
．　　１７９０−１６６５。

１７４５　ｃｍ　’ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，Ｓ　）　’　１．３５　（３Ｍ、
ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、　１．７０−２．２７　（５Ｈ，ｍ
＞、　　２．９２−３．２１　　（３Ｈ，ｍ）、　　３
．３７−３．６０　　（２Ｈ，ｍ＞、　　３．９７−４
．３５　　（２Ｈ，ｍ）、　　４．３５−４．８３　　
（５Ｈ，ｍ＞、　　５．００−５．５４　　（４Ｈ，ｍ
）、　　５．６１−６．２３　（３Ｈ，ｍ＞、　　７．
１１　　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ＞実施例１１１１− １）Ｎ　（Ｃ２０−８）　’　１．２７　（３Ｈ１ｄ、
Ｊ＝６Ｈｚ＞、１．９０　（３Ｈ１ｄｊ＝ＩＨｚ）、１
．６３−２．６４　　（２Ｈ，ｍ）、２．６４−３．６
５（５Ｈ，ｍ）、　　３．３５　（３Ｈ，ｓ）、　　３
．９２−４．８０　（４Ｈ，ｍ）。

５．４２　（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ＝１．　８Ｈｚ）実施例１
１−２＞ 実施例４−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ７Ｓ）−
６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル３−［２−（（
２Ｓ、４Ｒ）−４−メトキシピノノン−２−イル）−１
−メチルエテニルコ一オキソー１−アザビシクロ［３，
２，０］ヘプト２−エン−２−カルボン酸を収率６７．
１％で得実施例４−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ
１６５）−６−［（Ｉ　Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］
−３−［２−（（２Ｓ、４Ｒ）−４−（メチルカルバモ
イルオキジ）ピロリジン−２−イル）−１−メチルエテ
ニルコ−７−才キソー１−アザビシクｃ７［３，２，０
］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸を収率８１，７％
で得る。

ＩＲ（スジヲール）　　：　　３３５０．　１７６０．
　１７１０　　ｃｍ−１ＭＭＲ（Ｃ２０，８）　：１．
２８　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　１．９５　（３Ｈ
。

ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ＞、　　２．７２　　（３）！、ｓ）、
　　１．６０−３．２５　　（４Ｈ。

ｍ）、　　３．２５−３．９２　　（３）１．ｍ）、　
　４．００二４．４５　　（２Ｈ，ｍ＞。

４．４５−５．０５　（ＬＨ，ｍ）、　　５．２０−５
．７０　　（２Ｈ，ｍ）実施例１ｌ−３） （５）１．ｍ＞、　　２．９２　（６Ｈ，ｓ）、　　３
．９６−５．１０　　（３Ｈ，ｍ）。

５．１９−６．５９　　（２Ｈ，ｍ） 実施例１１−４＞ 実施例４−１〉と実質的に同様にして、（５Ｒ１６３）
−３−［２ｉ（２Ｓ、４Ｒ）−４−（ジメテル・カルバ
モイルオキシ）ピロリジン−２−イル）−１−メチルエ
チニル］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルコー
７−才キソー１−アザビンクロ［３，２，ｏ］ヘプト−
２−エン−２−カルボン酸を収率６６．４％で得る。

ＬＲ（ス九−ル）　　７　３３５０．　１７６０．　１
６９０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｃ２０，＋！ｉ’）　’　
１．２８　（３）１．ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９４　（
３Ｈ９ｄ、Ｊ＝１）１ｚ）、　　１．８０−２．６５　
　（２Ｈ，ｍ）、　　２．６５−３．８７（５Ｒ，６Ｓ
）−３−［２ｉ（２Ｓ、４Ｓ）−１−アリルオキシカル
ボニル−４−（Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−メチ
ルアミン）ピロリジン−２−イル）−１−メチルエチニ
ルコ−６−［、（Ｉ　Ｒ）　−１−ヒドロキシエテルコ
ー７−才キソー１−アザビシクロ［３，２，０コヘプト
−２−エン−２−カルボン酸アリル（０，４９５ｇ）の
テトラヒトｏ７ラン（５ｍｍ）とエタノール（２，５ｍ
ｍ　）　トの混合物溶液に、順次トリフェニルホスフィ
ン（９６ｍｇ）、ジメドン（０，３８ｇ）、酢酸（５４
，７縛）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）
バ７ノウｌ、（０）　（８５ｍｇ）を加える。常温で１
時間１異けして得られる沈殿を濾取し、酢酸エチルで洸
ｌ争して水（７ｏｍｎ　）に溶解する。溶液を酢酸エチ
ル（３０ｍ１！　）で３回洗浄し、減圧濃縮する。残渣
を非（Ｊン吸若樹脂１ダイヤイオンＨＰ−２０Ｊ　（７
０ｍＱ　）を使用するクロマトグラフィーに付し、イソ
プロピルアルコール水溶液（３％−２０％）で溶出する
。所望の化合物を含む画分を集め、凍結乾燥して、（５
Ｒ，６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシメチルコ
ー３−［２−（（２Ｓ、４Ｓ）−４−（メチルアミン）
ピロリジン−２−イル）−１−メチルエテニルコ−７−
才キソー１−アザピンク「コ［３，２，０コヘプト−２
−エン−２−カルボン酸（１３５ｍｇ）を得る。

ＩＲ（スｈ−ル）　　’　　３３５０．　１７６０．　
１５８０　　ｃｍ−１Ｎ１１Ｒ（Ｄ２０．Ｅ　）　’　
２．２５　＜３Ｈ−ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．６０−２．
５３（２Ｈ，ｍ＞、　１．９０　（３Ｈ，ｄ、Ｊ−ＩＨ
ｚ＞、　２．５５−４．８５（９Ｈ，ｍ＞、　２．７５
　（３）１．ｓ）、　５．４４　（ＬＨ，ｄｑ。

Ｊ＝１．８Ｈｚ） 実施例１ｌ−５） （５Ｒ，６Ｓ）−３−［２−（（２Ｓ）−１−アリルオ
キシカルボニル−４−フルオロピロリジン−２−イル）
−１−メチルエチニル］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロ
キシエチルコー７−才キソー１−アザビシクロ［３，２
，０コヘブトー２−エン−２−カルボン酸アリル（１，
７ｇ）、モルホリン（６９４ｎ　）　オよヒドリフェニ
ルホスフィン（１９９ｍｇ）のテトラヒドロフラン（３
ｏｍｒｉ　）およびエタノール（１０ｍ１１）溶液に、
テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ｏ
）　（２６３ｍｇ）を室温で加える。１時間攪拌後、沈
殿を濾取して順次ジクロロメタンで３回およびアセトン
で２回洗浄し、減圧乾燥して、（５Ｒ，６Ｓ）−３−［
２−＋（２Ｓ）−４−フルオロピロリジン−２−イル）
−１−メチルエチニルコ−６−［（ＩＲ）−１−にドロ
キシエチルコー７−才キソー１−アザビシクロ［３，２
，０コヘプト−２−エン−２−カルボン酸（２４８ｍｇ
）を得る。

ＬＲ（ス九−ル）　　：　　３４００．　１７６０．　
１５９０　　ａｍ−”ＮＭＲ（Ｄ２０．　　ε　）　　
：　　１．２３　　（３Ｈ，ｄ、ＪニアＨｚ）、　　１
．８５　　（３Ｈ。

ｓ）、　１．６０−２．５５　（２）１．ｍ）、　２．
５５−５．３０　（８Ｈ，ｍ）。

２．９５　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝８Ｈｚ＞、　３．３７　（
ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝６Ｈｚ。

３１（ｚ）、　５．３０−５．９０　（２Ｈ，ｍ＞１９
Ｆ　ＮＭＲ（Ｄ２０−ＣＦ３ＣＯ２Ｈ）　’　−９１，
５ｐｐｍ　（ｍ）実施例１１−６＞ キン−１−アザビシクロ［：３．２．０コヘプト−２−
エン−２−カルボン酸を収率１８．６％で得る。

ＩＲ（ヌジョール）　　：　　３３２０．　１７６０．
　１６３０．　１５８０　　ａｍ−’ＮＭＲ（Ｄ２０．
ｌ；　）　：１．２７　（３Ｈ１ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　
１．４０−２．５０（４Ｈ，ｍ）、　１．９０　（３Ｈ
，ｓ）、　２．７５−３．２０　（２Ｈ，ｍ＞。

３．２０−５．００　（４Ｈ，ｍ＞、　３．４０　（３
Ｈ，ｓ）、　５．４３（１８，ｄＪ＝９Ｈｚ＞ ＦＡＢ　ＭＡＳＳ　：　（Ｍ＋Ｈ）”　ｍ／ｚ＝３５１
蕊直±旦二ｎ 実施例４−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ１６５）
−６−［（Ｉ　Ｒ）−１−ヒドロキシエチＪＬ］−３−
［２−（５−メトキシメチルピロリジン−２−イル）−
１−メチルエテニルコー７−オ実施例４−１）と実質的
に同様にして、（５Ｒ１６５）−３−［２−（５−ヒド
ロキシメチルピロノジン−２−イル）−１−メチルエチ
ニル］−６−［（ＩＲ＞１−ヒドロキシエチル］−７−
オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−
−Ｌ−ンー２−カルボン酸を収率６６．４％で得る。

ＬＲ（スジ９−Ａ）　　’　　３３００．　１７６０．
　１５８０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄ２０，８　＞　’　
１．２６　（３８，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．９０　＜
３８゜ｓ）、　１．６０−２．４５　（４Ｈ，ｍ＞、　
２．５０−３．３０　（２Ｈ，ｍ＞。

３．４０　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝３および６Ｈｚ）、　３
．５５−４．８０＜６８．ｍ）、　５．４５　（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ＞ＦＡＢ　ＭＳ　：　ｍ／ｚ　３３７　
（Ｍ”Ｈビ実施例１１−８＞ ＩＲ（ＫＢｒ）　’　１７５５−１７３５．１５９０−
１５６０　ｃｍ’″ＩＮＭＲ（Ｄ２０．　　δ　）　　
：　　１．２８　　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　　１
．８５　　（３Ｈ。

ｓ）、　　５．３６　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ＞ＦＡＢ
ＭＳ　：　３０７　（Ｍ“〉 友１ｆｆｒ　（’）＋Ｊ　を上二号 実施例４−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ１６３）
−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルコ−７一才キ
ソ−３−［２−ピロリジン−３−一〆ル）−１−メチル
エテニルコー１−アザビシクＬＩ［３，２，０コヘプト
−２−エン−２−カルボン酸を収率９７．３％で得る。

ｍｐ　：　１９０℃（分解） 実施例４−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ１６Ｓ）
−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル〕−７−オキ
ソ−３−［２−（（２Ｒ）−ビロノンンー２−イル）−
ニーメチルエチニル］−１−アヂビシク口［３，２，０
］ヘプト−２−工ン−２−カルボン酸を収率７３．０％
で得る。

１Ｒ（ＣＨＣＬ３）　’　３６００．Ｌ７６０，１５８
０　ｃｍＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．Ｓ　）　’　１．２３　
（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　ｔ、５ａ（３１（、ｓ）
、　２．８−３．１　（２Ｈ，ｍ＞、　３．２−３．５
　（３Ｈ，ｍ）。

４．０−４．５　（３Ｈ，ｍ）、　５．４２　（ＬＨ，
ｂｒ、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）実施例１ｌ−１０） 去１ｍ１３υに上Ｕ 実施例４−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ１６５）
−６−［（Ｉ　Ｒ）−１−ヒドロキシエチルコ−７一才
キソー３−［２−（ピペリジン−２−イル）−１−メチ
ルエチニル］−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト
−２−エン−２−カルボン酸を収率４７，２％で得る。

ＩＲ（スンヨール）　　：　　３３５０．　１７５０．
　１５８０　　ｃｍ−１ＨＭＲ（Ｄ２０．Ｅ　）　’　
１．２７　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　ｔ、　８９　
（３Ｈ１ｂｒ、ｓ＞、　１．５−２．０　（４Ｈ，ｍ）
、　２．８−３．５　（５Ｈ，ｍ）。

３．９−４．４　　（３Ｈ，ｍ）、　　５．３２　　（
ＩＨ，ｂｒ、ｄｊ＝９Ｈｚ）実施例４−１）と実質的に
同様にして、（５Ｒ１６８）−３−［２−（（２Ｓ）−
１−（Ｎ−メチルアミノアセチル）ピロリジン−２−イ
ル）−１−メチルエテニルコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒ
ドロキシエチルコー７−才キソー１−アザビシクロ［３
，２，Ｏ］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸を収率４
９１％で得る。

１Ｒ（ＣＨＣＬ３）　’　３４５０．１７７０．１６５
０　ｃｍＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８）　：　１．３０　（
３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　１．９０（３Ｈ，ｓ）、　
２．８０　（３Ｈ，ｓ）、　１．７−２．３　（４Ｈ，
ｎ＋）。

２．７−３．２　（３Ｈ，ｍ＞、　３．３−４．８　（
５）１．ｍ）、　５．３−５．７（ＬＨ，ｍ） Ｘ１旦１ヒ」幻 宋Ｊμシに１打 実施例４−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ１６５）
−３−［２−（アゼチジン−３−イル）−１−メチルエ
テニルコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキンエチルコー
７一才キソー１−アザビシクＵ［３，２，０］ヘプト−
２−エン−２−カルボン酸を収率６４．６％で得る。

ＩＲ（スジ９−ル）　　＋　　１７５０．　１６１５　
　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄ２０−１；　　）　　’　　１．
０５−１．３７　　（６Ｈ９ｍ＞、　　１．４５−１．
８８（３Ｈ，ｍ）、　　２．２２−２．７０　　＜１１
．ｍ）、　　２．７８−３．１５（ＩＨ，ｍ）、　３．
４８−４．５０　（５Ｈ，ｍ）、　５．４５−５．８５
（ＩＨ，ｍ＞ 実施例４−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ６３）−
６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルコ−３−４２−
（（２３＞−５−イミノ−１−メチルピロリジン−２−
イル）−１−メチルエテニルコ−７−才キソー１−アザ
ビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボ
ン酸を収率６０．４％で得る。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　１７５０　　ｃｍ−１Ｈ
ＭＲ（Ｄ２０．８　　）　　’　　１２８　　（３）１
．ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　　１．９２　　（３Ｈ１ｓ）、
　２．７−３．７　（３Ｈ，ｍ）、　２．９１　（３Ｈ
，ｓ）ＭＳ　：　３３４　（Ｍ”＋１） χ１■仰ユニ１す 実施例４−１）と実質的に同様にして、（ＳＲ０６Ｓ）
−６−［（’ＩＲ）−１−とドロキシエチル］−３−［
２−（（３Ｒ）−モルホリン−３−イル）−１−メチル
エチニル］−７−オキソー１＝アザビクシロ［３，２，
０コヘプトー２−エン−２−カルボン酸を収率５０．０
％で得る。

ＮＭＲ（Ｄ２０．８　）　：１．２７　（３１，ｄ、、
Ｔ＝６Ｈｚ）、　１−９３　（３Ｈ１ｄ、にＩＨｚ）、
　２．３−４．４　（１２）１．ｍ）、　５．２５　（
ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝７Ｈｚ、　ＩＨｚ） 実施例４−１〉と実質的に同様にして、（５Ｒ２６３）
−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−７−オキ
ソ−３−［（Ｅ）−２−（（２Ｓ）−ピロリジン−２−
イル）エテニルコー１−アザビシクロ［３，２，Ｏ］ヘ
プト−２−エン−２−カルボン酸を収率６９．０％で得
る。

ＬＲ（ズジシールン　：　　３３５０−３１００．　１
７６０−１７４０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄ２０．Ｓ　　
）　　：　１．２３　　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、　
　ｔ、６０−２．４０（５）１．ｍ）、　２．８３−４
．４０　（８Ｈ，ｍ）、　５．５６−６、２０（２Ｈ，
ｍ＞、　７．２８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）害」Ｕ
江■ （５Ｒ，６３）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチ
ルコー７一才キソ−３−［（Ｅ）−２−ｆ（２Ｓ）−ピ
ロリジン−２−イル）−１−メテルエテニル］−１−ア
ザビシクロ［３，２，Ｏ］ヘプト−２−エン−２−カル
ボン酸（０，４８ｇ）の水（３０ｍＱ　）溶液を、炭酸
カリウム水溶液によりＯ″ＣでｐＨ８，５に調整し、ホ
ルムイミド酸ベンジル・塩酸塩（２，７ｇ）を、炭酸カ
リウム水溶液の添加によりｐＨ８，５付近に保ちながら
、水量ずつ加える。

ｐｌ（ｓ、　５で１５分間攪拌後、反応混合物を酢酸エ
チルで洗浄して減圧濃縮する。残渣を非イオン吸着樹Ｉ
Ｉｎ　’ダイヤイオン）ＩＰ−２０Ｊ　（５０ｍＱ　）
を使用するクロマトグラフィーに付し、順次水および３
％アセトン水溶液で溶出する。所望の化合物を含む両分
を集め、凍結乾燥して、（５Ｒ，６Ｓ）−３−［（Ｅ）
−２−（（２Ｓ）−１−ホルムイミドイルピロリジン−
２−イル）−１−メチルエテニルコ−６−［（ＩＲ）−
１−ヒドロキンエチルコー７一才キソー１−アザビシク
ロＣ３，２，０コヘプト＝２−エン−２−カルボン酸（
１７０ｍｇ）を得る。

ＩＲ（スジ９−ル）　　’　　１７５０　　ｃｍ−’Ｎ
ＭＲ（Ｃ２０，ｌ；　）　　：１．　ｔｃ＋　（３Ｈ，
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　　ｔ、　５−２．５（７）１．ｍ
）、　５．２−５．５　（ＩＨ，ｍ＞、　７．６３　（
１）１．ｂｒ、ｓ）実施例１３−１） 実施例８−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ１６３）
−３−［２−（２Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−
４−メチレンピロリジン−２−イル）−１−メチルエチ
ニル］−６−［（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチルシ
リルオキシエチル］−７−オキソ−１−アザビシクロ［
３，２，Ｏ］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル
を収率５１，７％で得る。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）　：　０．０７　（６）１．
ｓ）、　０．８７　（９Ｈ，ｓ）。

１．２４　　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９２　　
（３Ｈ，ｂｒ、ｓ）。

２．２５−２．３４　　（ＩＨ，ｍ）、　　２．７２−
３．ＩＬ　　（４Ｈ，ｍ）。

３．９３−４．２２　　＜４Ｈ，ｍ）、　　４．５５−
４．８５　　（５１（、ｍ）。

４．９８−５．１３　　（２Ｈ，ｍ）、　　５．１５−
５．４４　　（５Ｈ，ｍ＞。

５．８４−６．１０　　（２Ｈ，ｍ） 実施例１３−２） 実施例８−１）と実質的に同様にして、（５Ｒ９６Ｓ）
−３−［２−（（２Ｓ、４Ｓ）−１Ｆアリルオキシカル
ボニル−４−（第三級ブチルジメチルシリルオキシ）ピ
ロリジン−２−イル）−１−メチルエテニルコ−６−［
（ＩＲ）−１−第三級ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル］−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０コヘ
プト−２−エン−２−カルボン酸アリルを収率４４，８
％で得る。

ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２）　：　１７８０．１６９５　ｃｍ
−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３，ｌ；　　）　　’　　０．０
６　　（１２Ｈ１ｓ）、　０．８６　　（９）１．５）
−０，８８（９Ｈ，ｓ）、　１．２５　（３Ｈ，ｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ＞、　１．５６−２．３２　（５Ｈ，ｍ）、　
２．８８−３．１１　（３）１．ｍ）、　３．２８−３
．７１　　（２Ｈ，ｍ＞、　　３．９０−４．２６　　
（２Ｈ，ｍ＞、　　４．４８−４．７９　（６Ｈ，ｍ）
、　５．１０−５．４１　（４）１．ｍ）、　５．７２
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、　５．７９−６．０２　（
２Ｈ，ｍ）（３Ｈ，ｍ＞、　３．３０　（３Ｈ，ｓ）、
　３．４９−３．６８　（２Ｈ，ｍ）。

４．４６−４．８６　（６１，ｍ）、　　５．１２−５
．４９　（４Ｈ，ｍ＞。

５．６１　（ＬＨ，ｄＪ＝９Ｈｚ＞、　　５．７８−６
．０８　（２Ｈ，ｍ＞実施例１５ 製造例４６−４）および４９、ならびに実施例７−１）
と実質的に同様にして、（５Ｒ，６Ｓ）−３−［２−＋
（２Ｓ、４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−４−メ
トキシピロリジン−２−イル）−１−メチルエテニルコ
−６−［（ＩＲ）−１−トリメチルシリル才キシエチル
コー７一才キソー１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプ
ト−２−エン−２−カルボン酸アリルを収率５７．７％
で得る。

ＩＲ（Ｃ）Ｉ２Ｃ１２）　：　１７７５．１６９５　Ｃ
ｒｎ−ＩＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．ｌ；　）　’　０１ｔ３
　（９Ｈ，ｓ）、　１．３６　（３）１．ｄ。

Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．６５−２．０４　（５Ｈ，ｍ）、
　２．８４−３．１８実施例１Ｏ−１）と実質的に同様
にして、（５Ｒ９６Ｓ）−３−［２−（（２Ｓ）−１−
アリルオキシカルボニル−４−メチレンピロリジン−２
−イル）−１−メチルエテニルコ−６−［（ＩＲ）−１
−ヒドロキシエチルコー７−オキソー１−アザビンクロ
［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリ
ルを収率６１．１％で得る。

ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，ｆ；　）　’　１３２　（３Ｈ９
ｄ、Ｊ”６Ｈｚ）、　１．９１（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ
）、　２．１３−２．５０　（ＬＨ，ｍ）、　２．６６
−３．３０　（４Ｈ，ｍ）、　３．９０−４．３５　（
４８，ｍ）、　４．４０−４．９３　　（５Ｈ，ｍ＞、
　　４．９３−５．５２　　（７Ｈ，ｍ）、　　５．６
９−６．２０　　（２Ｈ，ｍ） 実施例１６ 実施例１７−１） 実施例３−１〉と実質的に同様にして、（５Ｒ６Ｓ）−
６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−３−［２−
（（２３）−４−メチレンピロノジン−２−イル）−１
−メチルエチニル］−７−オキソ−１−アザビシクロ［
３，２，Ｏ］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸を収率
２０．０％で得る。

ＩＲ（スジョール）　　：　　３３００．　１７６０　
　ｃｍ−１ＨＭＲ（Ｃ２０，ｌ；　　）　　’　　１．
２８　　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　　１．９２　
　（３Ｈ１ｄ、Ｊ＝ＩＨｚ＞、　２．１６−３．２３　
（４Ｈ，ｍ）、　３．４２　（ＬＨ。

ｄｄ、Ｊ＝６．３１（ｚ）、　３．８４−４．８０　（
５Ｈ，ｍ）、　５．００５．３２　＜２８．ｍ）、　５
．４６　（ＬＨ，ｄｑ、Ｊ＝１．９Ｈｚ）（５Ｒ，６Ｓ
）−３−［２−（（２Ｓ、４Ｓ）−１−アリルオキシカ
ルボニル−４−（第三級ブチルジメチルシリルオキシ）
ピロリジン−２−イル）−１−メチルエテニルコ−６−
［（ＩＲ）−１−第三級プテルシメチルシリル才キシエ
チルコー７−才キソー１−アザビシクロ［３，２，０］
ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル（２，８５ｇ
）のデトラヒドロフラン（ｚｏｍｅ　）溶液に、酢酸（
２，９ｍｕ　）およびテトラヒドロ７９２９１．０Ｍフ
ッ化テトラブチルアンモニウム溶液（２５，３ｍＥｉ　
）を順次常温で加える。常温で９時間攪拌後、溶液を水
（２３０ｍｍ　）と酢酸エチル（２３０ｍ駒との混合物
中に注ぐ。

有機府を分取して水（１００ｍｍ）で５回、食塩水（５
０ｍＱ　）で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して
ＩＢ媒を留去する。この残渣にテトラヒドロフラン（ｔ
ｕｎＱ）、エタノール（３，５賊）およびトリフェニル
ホスフィン（０，０８ｇ）を加える。この溶液にモルホ
リン（０，２８ｍｇ　）およびテトラキス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム（０）　（０，１１ｇ　）を
順次常温で加える。常温で１時間攪拌して得られる沈殿
を濾取し、ジクロロメタンで洗浄して水（８０ｍＧ　）
に溶解する。溶液を酢酸エチル（４ｏｍＱ）で３回洗浄
し、凍結乾燥して、（５Ｒ，６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−
１−ヒドロキシエチル］−３−［２−（（２５，４Ｓ）
−４−ヒドロキシピロリジン−２−イル）−１−メチル
エチニル］−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，
０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸（１５５ｍｇ）
を得る。

ＩＲ（スジ３−ル）　　’　　１７６０．　１５８０　
　ｃｍ−１ＮＭＲ（Ｄ２０．Ｓ　）　’　１．２８　（
３Ｈ９ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、１−８８　（３Ｈ１ｓ）、　
５．５１　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）火１ヱ１１１７二
社 （５Ｒ，６Ｓ）−３−［２−（（２Ｓ、４５）−１−ア
リルオキシカルボニル−４−メトキシピロノノン−２−
イル）−１−メチルエチニル］−６−［（ＩＲ）−１−
トリメチルシリルオキシエチル］−７＝オキソ−１−ア
ザビシクロ［３，２，Ｏコヘブトー２−エン−２−カル
ボン酸アリル（Ｌ８１＆）ノ酢酸：ｒ−チル（３，６ｍ
Ｑ　）溶液に、酢酸（０，５８戚）およびテトラヒドロ
フラン中１．０Ｍフッ化テトラブチルアンモニウム溶液
（２，４ｍＡ　）を順次１０℃以下の温度で加える。１
０℃以下の温度で３０分間攪拌後、溶液を水（１ｏｍＱ
）と酢酸エチル（２０ｍ１１　）との混液中に注ぐ。有
ｍ層を分取して水（１０ｍｇ　）で５回、食塩水（ｔｏ
ｍｉ　）で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶
媒を留去する。この残渣にテトラヒドロフラン（２２ｍ
ｇ　）、エタノール（７ｍρ）ＪＪよびトリフェニルホ
スフィン（０，１８ｇ）を加える。この溶液にモルホリ
ン（０，ｅ２ｍｎ　）およびテトラキス（トリフェニル
ホスフィン）パラジウム（ｏ　）　（０，２４ｇ　）を
順次常温で加える。常温で１５時間攪拌して得られる沈
殿を濾取し、ジクロロメタンで洗浄して水（ｚｏｏｍＱ
）に溶解する。溶液を酢酸エチル（ｓｏｍＱ）で３回洗
浄し、減圧濃縮゛する。残渣を非イオン吸着樹脂１ダイ
ヤイオンＰ−２０Ｊ　（１００ｍ１１　）を使用するク
ロマトグラフィーに１・目〜アセトニトリル水溶液（１
％−２０％）で溶出する。所望の化合物を含む画分を集
め、凍結乾燥して、（５Ｒ，６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−
１−ヒトロキシエチルコー３−［２−（（２Ｓ、４Ｓ（
−４−メトキシピロリジン−２−イル）−１−メチルエ
チニル］−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０
コヘブト−２−エン−２−カルボン＃　（３７ｍｇ　）
を得る。

ＩＲ（スジ３−ル）　　’　　１７６０．　１６００　
　ｃｒｎ−１ＮＭＲ（Ｄ２０．ε）　ｉ　１．２ｇ　（
３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６）１ｚ）、　１．９０　（３Ｈ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はカルボキシ基または保護されたカルボ
   キシ基、Ｒ＾２はヒドロキシ（低級）アルキル基または
   保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒ＾３およ
   びＲ＾４はそれぞれ水素または低級アルキル基、Ｒ＾５
   は適当な置換基で置換されていてもよい脂肪族複素環基
   を意味する］ で示される化合物および医薬として許容されるその塩類
   。 ２）Ｒ＾５が窒素原子１個ないし４個を含む飽和４員な
   いし６員複素単環基、酸素原子１個ないし２側および窒
   素原子１個ないし３個を含む飽和５員または６員複素単
   環基またはイオウ原子１個ないし２個および窒素原子１
   個ないし３個を含む飽和５員または６員複素単環基であ
   り、前記脂肪族複素環基がヒドロキシ基、保護されたヒ
   ドロキシ基、ヒドロキシ（低級）アルキル基、保護され
   たヒドロキシ（低級）アルキル基、ハロゲン、低級アル
   コキシ基、低級アルキル基、低級アルコキシ（低級）ア
   ルキル基、イミノ基、保護されたイミノ基、低級アルキ
   ルアミノ基、保護された低級アルキルアミノ基、モノ（
   またはジ）（低級）アルキルカルバモイルオキシ基、低
   級アルキリデン基、低級アルカンイミドイル基およびイ
   ミノ保護基よりなる群から選択された適当な置換基１個
   以上によって置換されていてもよい特許請求の範囲第１
   項に記載の化合物。 ３）Ｒ＾５がアゼチジニル基、保護されたアゼチジニル
   基、ピロリジニル基、保護されたピロリジニル基、ピペ
   リジニル基、保護されたピペリジニル基、モルホリニル
   基または保護されたモルホリニル基であり、それぞれが
   ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ基、ヒドロキシ（
   低級）アルキル基、保護されたヒドロキシ（低級）アル
   キル基、ハロゲン、低級アルコキシ基、低級アルキル基
   、低級アルコキシ（低級）アルキル基、イミノ基、保護
   されたイミノ基、低級アルキルアミノ基、保護された低
   級アルキルアミノ基、モノ（またはジ）（低級）アルキ
   ルカルバモイルオキシ基、低級アルキリデン基、低級ア
   ルカンイミドイル基およびイミノ保護基よりなる群から
   選択された適当な置換基１個または２個で置換されてい
   てもよい特許請求の範囲第２項に記載の化合物。 ４）Ｒ＾１がカルボキシ基またはエステル化されたカル
   ボキシ基、Ｒ＾２がヒドロキシ（低級）アルキル基、ア
   シルオキシ（低級）アルキル基、Ｃ＿６−Ｃ＿１＿０ア
   ル（低級）アルキルオキシ（低級）アルキル基、トリ（
   低級）アルキルシリルオキシ（低級）アルキル基、トリ
   （Ｃ＿６−Ｃ＿１＿０）アリールシリルオキシ（低級）
   アルキル基またはトリス［（Ｃ＿６−Ｃ＿１＿０）アル
   （低級）アルキル］シリルオキシ（低級）アルキル基、
   Ｒ＾５がアゼチジニル基、１−（低級アルケニルオキシ
   カルボニル）アゼチジニル基、ピロリジニル基、１−（
   低級アルケニルオキシカルボニル）ピロリジニル基、ピ
   ペリジニル基、１−（低級アルケニルオキシカルボニル
   ）ピペリジニル基、モルホリニル基または４−（低級ア
   ルケニルオキシカルボニル）モルホリニル基であり、Ｒ
   ＾５のそれぞれがヒドロキシ基、トリ（低級）アルキル
   シリルオキシ基、ヒドロキシ（低級）アルキル基、トリ
   （低級）アルキルシリルオキシ（低級）アルキル基、ハ
   ロゲン、低級アルコキシ基、低級アルキル基、低級アル
   コキシ（低級）アルキル基、イミノ基、低級アルケニル
   オキシカルボニルイミノ基、低級アルキルアミノ基、Ｎ
   −（低級アルケニルオキシカルボニル）−Ｎ−（低級）
   アルキルアミノ基、モノ（またはジ）（低級）アルキル
   カルバモイルオキシ基、低級アルキリデン基、低級アル
   カンイミドイル基およびアシル基よりなる群から選択さ
   れた適当な置換基１個または２個で置換されていてもよ
   い特許請求の範囲第３項に記載の化合物。 ５）Ｒ＾１がカルボキシ基、低級アルケニルオキシカル
   ボニル基またはフェニル（またはニトロフェニル）（低
   級）アルコキシカルボニル基、Ｒ＾２がヒドロキシ（低
   級）アルキル基、低級アルケニルオキシカルボニルオキ
   シ（低級）アルキル基、フェニル（またはニトロフェニ
   ル）（低級）アルコキシカルボニルオキシ（低級）アル
   キル基またはトリ（低級）アルキルシリルオキシ（低級
   ）アルキル基、Ｒ＾５がピロリジニル基、１−（低級）
   アルケニルオキシカルボニルピロリジニル基、１−（低
   級）アルカンイミドイルピロリジニル基、ヒドロキシピ
   ロリジニル基、１−（低級アルケニルオキシカルボニル
   ）（ヒドロキシ）ピロリジニル基、１−（低級アルケニ
   ルオキシカルボニル）［トリ（低級）アルキルシリルオ
   キシ］ピロリジニル基、低級アルコキシピロリジニル基
   、１−（低級アルケニルオキシカルボニル）（低級アル
   コキシ）ピロリジニル基、［ジ（低級）アルキルカルバ
   モイルオキシ］ピロリジニル基、１−（低級アルケニル
   オキシカルボニル）［ジ（低級）アルキルカルバモイル
   オキシ］ピロリジニル基、（低級アルキルカルバモイル
   オキシ）ピロリジニル基、１−（低級アルケニルオキシ
   カルボニル）（低級アルキルカルバモイルオキシ）ピロ
   リジニル基、（低級アルキルアミノ）ピロリジニル基、
   １−（低級アルケニルオキシカルボニル）［Ｎ−（低級
   ）アルケニルオキシカルボニル−Ｎ−（低級）アルキル
   アミノ］ピロリジニル基、ハロピロリジニル基、１−（
   低級アルケニルオキシカルボニル）ハロピロリジニル基
   、［低級アルコキシ（低級）アルキル］ピロリジニル基
   、１−（低級アルケニルオキシカルボニル）［低級アル
   コキシ（低級）アルキル］ピロリジニル基、［ヒドロキ
   シ（低級）アルキル］ピロリジニル基、１−（低級アル
   ケニルオキシカルボニル）［ヒドロキシ（低級）アルキ
   ル］ピロリジニル基、１−［低級アルキルアミノ（低級
   ）アルカノイル］ピロリジニル基、１−［Ｎ−（低級）
   アルケニルオキシカルボニル−Ｎ−（低級）アルキルア
   ミノ（低級）アルカノイル］ピロリジニル基、（低級ア
   ルキル）（イミノ）ピロリジニル基、１−（低級アルキ
   ル）（低級アルケニルオキシカルボニルイミノ）ピロリ
   ジニル基、ピペリジニル基、１−（低級アルケニルオキ
   シカルボニル）ピペリジニル基、アゼチジニル基、１−
   （低級アルケニルオキシカルボニル）アゼチジニル基、
   モルホリニル基、４−（低級）アルケニルオキシカルボ
   ニルモルホリニル基、低級アルキリデンピロリジニル基
   または１−（低級）アルケニルオキシカルボニル（低級
   アルキリデン）ピロリジニル基である特許請求の範囲第
   ４項に記載の化合物 ６）Ｒ＾１がカルボキシ基、Ｒ＾２がヒドロキシ（Ｃ＿
   １−Ｃ＿４）アルキル基、Ｒ＾３が水素、Ｒ＾４が水素
   またはＣ＿１−Ｃ＿４アルキル基、Ｒ＾５がピロリジニ
   ル基、ヒドロキシピロリジニル基、Ｃ＿１−Ｃ＿４アル
   コキシピロリジニル基、［ジ（Ｃ＿１−Ｃ＿４）アルキ
   ルカルバモイルオキシ］ピロリジニル基、（Ｃ＿１−Ｃ
   ＿４）アルキルカルバモイルオキシ）ピロリジニル基、
   Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキルアミノピロリジニル基、ハロピ
   ロリジニル基、［Ｃ＿１−Ｃ＿４アルコキシ（Ｃ＿１−
   Ｃ＿４）アルキル］ピロリジニル基、［ヒドロキシ（Ｃ
   ＿１−Ｃ＿４）アルキル］ピロリジニル基、１−［Ｃ＿
   １−Ｃ＿４アルキルアミノ（Ｃ＿１−Ｃ＿４）アルカノ
   イル］ピロリジニル基または１−［（Ｃ＿１−Ｃ＿４）
   アルキル］イミノピロリジニル基またはＣ＿１−Ｃ＿４
   アルキリデンピロリジニル基である特許請求の範囲第５
   項に記載の化合物。 ７）（５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシ
   エチル］−７−オキソ−３−［（Ｅ）−２−｛（２Ｓ）
   ピロリジン−２−イル｝−１−メチルエテニル］−１−
   アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カ
   ルボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
   ル］−３−［２−｛（２Ｓ，４Ｒ）−４−ヒドロキシピ
   ロリジン−２−イル｝−１−メチルエテニル］−７−オ
   キソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エ
   ン−２−カルボン酸、（５Ｒ，６Ｓ）−３−［（Ｅ）−
   ２−｛（２Ｓ）−１−アセトイミドイルピロリジン−２
   −イル｝−１−メチルエテニル］−６−［（１Ｒ）−１
   −ヒドロキシエチル］−７−オキソ−１−アザビシクロ
   ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
   ル］−３−［２−｛（２Ｓ，４Ｒ）−４−メトキシピロ
   リジン−２−イル｝−１−メチルエテニル］−７−オキ
   ソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン
   −２−カルボン酸、（５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−
   １−ヒドロキシエチル］−３−［２−｛（２Ｓ，４Ｒ）
   −４−（メチルカルバモイルオキシ）ピロリジン−２−
   イル｝−１−メチルエテニル］−７−オキソ−１−アザ
   ビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボ
   ン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−３−［２−｛（２Ｓ，４Ｒ）−４−（
   ジメチルカルバモイルオキシ）ピロリジン−２−イル｝
   −１−メチルエテニル］−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロ
   キシエチル］−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２
   ，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
   ル］−３−［２−｛（２Ｓ，４Ｓ）−４−（メチルアミ
   ノ）ピロリジン−２−イル｝−１−メチルエテニル］−
   ７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−
   ２−エン−２−カルボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−３−［２−｛（２Ｓ）−４−フルオロ
   ピロリジン−２−イル｝−１−メチルエテニル］−６−
   ［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−７−オキソ−１
   −アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−
   カルボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
   ル］−３−［２−（５−メトキシメチルピロリジン−２
   −イル）−１−メチルエテニル］−７−オキソ−１−ア
   ザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カル
   ボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−３−［２−（５−ヒドロキシメチルピ
   ロリジン−２−イル）−１−メチルエテニル］−６−［
   （１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−７−オキソ−１−
   アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カ
   ルボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
   ル］−７−オキソ−３−［２−（ピロリジン−３−イル
   ）−１−メチルエテニル］−１−アザビシクロ［３，２
   ，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
   ル］−７−オキソ−３−［２−｛（２Ｒ）−ピロリジン
   −２−イル｝−１−メチルエテニル］−１−アザビシク
   ロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
   ル］−３−［２−｛（２Ｓ）−１−（Ｎ−メチルアミノ
   アセチル）ピロリジン−２−イル｝−１−メチルエテニ
   ル］−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘ
   プト−２−エン−２−カルボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
   ル］−３−［２−｛（２Ｓ）−５−イミノ−１−メチル
   ピロリジン−２−イル｝−１−メチルエテニル］−７−
   オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−
   エン−２−カルボン酸、（５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ
   ）−１−ヒドロキシエチル］−７−オキソ−３−［（Ｅ
   ）−２−｛（２Ｓ）−ピロリジン−２−イル｝−１−エ
   テニル］−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２
   −エン−２−カルボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−３−［（Ｅ）−２−｛（２Ｓ）−１−
   ホルムイミドイルピロリジン−２−イル｝−１−メチル
   エテニル］−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］
   −７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト
   −２−エン−２−カルボン酸、 （５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
   ル］−３−［２−｛（２Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシピ
   ロリジン−２−イル｝−１−メチルエチニル］−７−オ
   キソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エ
   ン−２−カルボン酸、（５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）
   −１−ヒドロキシエチル］−３−［２−｛（２Ｓ）−４
   −メチレンピロリジン−２−イル｝−１−メチルエテニ
   ル］−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘ
   プト−２−エン−２−カルボン酸および （５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
   ル］−３−［２−｛（２Ｓ，４Ｓ）−４−メトキシピロ
   リジン−２−イル｝−１−メチルエテニル］−７−オキ
   ソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン
   −２−カルボン酸よりなる群から選択されたものである
   特許請求の範囲第６項に記載の化合物。 ８）（ａ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はカルボキシ基または保護されたカルボ
   キシ基、Ｒ＾２はヒドロキシ（低級）アルキル基または
   保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒ＾３およ
   びＲ＾４はそれぞれ水素または低級アルキル基、Ｒ＾５
   は適当な置換基で置換されていてもよい脂肪族複素環基
   、Ｒ＾６はアリール基または低級アルコキシ基を意味す
   る］ で示される化合物またはその塩類を環化して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５
   はそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩を得るか； または （ｂ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５はそれぞ
   れ前と同じ意味であり、Ｒ＾１＿ａは保護されたカルボ
   キシ基を意味する） で示される化合物またはその塩類を、Ｒ＾１＿ａのカル
   ボキシ保護基の脱離反応に付して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５はそれぞ
   れ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩類を得るか；または （ｃ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５はそれぞ
   れ前と同じ意味であり、Ｒ＾２＿ａは保護されたヒドロ
   キシ（低級）アルキル基を意味する］ で示される化合物またはその塩類を、Ｒ＾２＿ａのヒド
   ロキシ保護基の脱離反応に付して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５はそれぞ
   れ前と同じ意味であり、Ｒ＾２＿ｂはヒドロキシ（低級
   ）アルキル基を意味する］ で示される化合物またはその塩類を得るか；または （ｄ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞ
   れ前と同じ意味であり、Ｒ＾５＿ａは適当な置換基で置
   換されていてもよい、保護されたイミノ部分を有する脂
   肪族複素環基を意味する） で示される化合物またはその塩類を、Ｒ＾５＿ａのイミ
   ノ保護基の脱離反応に付して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞ
   れ前と同じ意味であり、Ｒ＾５＿ｂは適当な置換基で置
   換されていてもよい、イミノ部分を有する脂肪族複素環
   基を意味する） で示される化合物またはその塩類を得るか；または （ｅ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５
   ＿ｂはそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩類に低級アルカンイミド
   イル化剤を反応させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞ
   れ前と同じ意味であり、Ｒ＾５＿ｃは適当な置換基で置
   換されていてもよい、低級アルカンイミドイルイミノ部
   分を有する脂肪族複素環基を意味する）で示される化合
   物またはその塩類を得るか；または （ｆ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５
   はそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはヒドロキシ基におけるその反応
   性誘導体またはその塩類を脱水して、式：▲数式、化学
   式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５
   はそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩類を得るか；または （ｇ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞ
   れ前と同じ意味であり、Ｒ＾５＿ｄは保護されたヒドロ
   キシ、保護されたヒドロキシ（低級）アルキル、保護さ
   れた低級アルキルアミノまたは保護されたイミノで置換
   された脂肪族複素環基を意味する）で示される化合物ま
   たはその塩類を、Ｒ＾５＿ｄのヒドロキシ保護基、アミ
   ノ保護基またはイミノ保護基の脱離反応に付して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞ
   れ前と同じ意味であり、Ｒ＾５＿ｅはヒドロキシ、ヒド
   ロキシ（低級）アルキル、低級アルキルアミノまたはイ
   ミノで置換された脂肪族複素環基を意味する） で示される化合物またはその塩類を得ることを特徴とす
   る、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５
   はそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩類の製造法。 ９）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はカルボキシ基または保護されたカルボ
   キシ基、Ｒ＾２はヒドロキシ（低級）アルキル基または
   保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒ＾３およ
   びＲ＾４はそれぞれ水素または低級アルキル基、Ｒ＾５
   は適当な置換基で置換されていてもよい脂肪族複素環基
   を意味する］ で示される化合物および医薬として許容されるその塩類
   を有効成分として含有する抗菌剤。