JPH02129038A - 塊状ガラスの製造方法 - Google Patents
塊状ガラスの製造方法Info
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- JPH02129038A JPH02129038A JP28341788A JP28341788A JPH02129038A JP H02129038 A JPH02129038 A JP H02129038A JP 28341788 A JP28341788 A JP 28341788A JP 28341788 A JP28341788 A JP 28341788A JP H02129038 A JPH02129038 A JP H02129038A
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- glass
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、@積回路用投影露光装置のレンズ、液晶デイ
スプレィ用TPT基板や2プリズム、ビームスプリッタ
−1分光槻等の光学部品に応用可能な石英ガラスおよび
光学的特性に優れた種々のガラスのゾル−ゲル法による
製造方法に関する。
スプレィ用TPT基板や2プリズム、ビームスプリッタ
−1分光槻等の光学部品に応用可能な石英ガラスおよび
光学的特性に優れた種々のガラスのゾル−ゲル法による
製造方法に関する。
〔従来の技術]
従来の金属アルコキシドおよび金属酸化物の微粒子を主
原料とするゾル−ゲル法によるガラスの製造においては
1作製したウェットゲルに対して特に処理を施さないか
、あるいは、l”ltoにて表面を洗浄する。[−1,
0中に浸漬するなどの処理をした後、熱処理していた。
原料とするゾル−ゲル法によるガラスの製造においては
1作製したウェットゲルに対して特に処理を施さないか
、あるいは、l”ltoにて表面を洗浄する。[−1,
0中に浸漬するなどの処理をした後、熱処理していた。
(発明が解決しようとする課Ill
しかし、前述の従来技術においては、ゲル内部の細孔構
造がほぼ一様であり、熱処理の際に分解する有機残基お
よび中和生成物のゲル体からの脱離が表面付近はど速く
収縮を伴なうため内部に残存する有機残基および中和生
成物の脱離が困難となり、これが原因で熱処理の際、ゲ
ル体・こクラック、割れが生じた。これは、板状や小型
の場合は特に間頭とならないが、塊状の大型ガラスを作
製する場合には顕著に現われる。
造がほぼ一様であり、熱処理の際に分解する有機残基お
よび中和生成物のゲル体からの脱離が表面付近はど速く
収縮を伴なうため内部に残存する有機残基および中和生
成物の脱離が困難となり、これが原因で熱処理の際、ゲ
ル体・こクラック、割れが生じた。これは、板状や小型
の場合は特に間頭とならないが、塊状の大型ガラスを作
製する場合には顕著に現われる。
そこで本発明の目的は、ウェットゲルを高沸点溶媒中に
浸漬させることにより、乾燥速度を表面付近はど遅<シ
、乾燥ゲルの表面から中央部に向かって細孔を小さくす
ることで、ゲル内部の有機残基および中和生成物の分解
速度と、ゲルの収縮との調和をとることにより、熱処理
の際に生じたクラック、割れの発生を防ぎ、塊状の大型
ガラスを容易に作製する方法を提供するところにある。
浸漬させることにより、乾燥速度を表面付近はど遅<シ
、乾燥ゲルの表面から中央部に向かって細孔を小さくす
ることで、ゲル内部の有機残基および中和生成物の分解
速度と、ゲルの収縮との調和をとることにより、熱処理
の際に生じたクラック、割れの発生を防ぎ、塊状の大型
ガラスを容易に作製する方法を提供するところにある。
〔課題を解決するための手段1
本発明のゾル−ゲル法による塊状ガラスの製造方法は、
金属アルコキシドおよび金属酸化物の微粒子を主原料と
して、目的ガラス成分組成の液状ゾルを調整し、該液状
ゾルを所望形状の密閉容器中にて、ゲル化させ、ウェッ
トゲルを作製した後、該ウェットゲルに、乾燥、焼結な
どの熱処理をする製造方法において、ゲル化させ作製し
たウェットゲルを高沸点溶媒中に浸漬させた後、熱処理
を加えることを特徴とする。
金属アルコキシドおよび金属酸化物の微粒子を主原料と
して、目的ガラス成分組成の液状ゾルを調整し、該液状
ゾルを所望形状の密閉容器中にて、ゲル化させ、ウェッ
トゲルを作製した後、該ウェットゲルに、乾燥、焼結な
どの熱処理をする製造方法において、ゲル化させ作製し
たウェットゲルを高沸点溶媒中に浸漬させた後、熱処理
を加えることを特徴とする。
本発明は、ウェットゲルと高沸点溶媒中に浸漬させるこ
とにより、ウェットゲル内部のH2Oやエタノールと高
沸点溶媒の置換を行なう、この際表面付近はどその置換
率が高くなり、内部に向かって徐々に低くなる。この結
果、乾燥速度はゲル表面から内部に向かって速くなり、
乾燥ゲルは、外部表面はど多孔性となる。したがって、
乾燥ゲルの表面付近の有機残基および中和生成物の分解
に伴なう収縮量は減少し、ゲル内部からの分解速度との
調和を維持できる。このため、従来法で熱処理の際に生
じたクラック、割れを防ぐことが可能となるものである
。
とにより、ウェットゲル内部のH2Oやエタノールと高
沸点溶媒の置換を行なう、この際表面付近はどその置換
率が高くなり、内部に向かって徐々に低くなる。この結
果、乾燥速度はゲル表面から内部に向かって速くなり、
乾燥ゲルは、外部表面はど多孔性となる。したがって、
乾燥ゲルの表面付近の有機残基および中和生成物の分解
に伴なう収縮量は減少し、ゲル内部からの分解速度との
調和を維持できる。このため、従来法で熱処理の際に生
じたクラック、割れを防ぐことが可能となるものである
。
[実 施 例]
エチルシリケート、エタノール、水、アンモニア水(2
9%)をモル比でlニア、6:4:0.08の割合にな
るように混合し約2時間撹拌した後、室温にて静置し、
粒子と成長、熟成させた。この後、減圧IA縮すること
により、分散性の良好なシリカ微粒子分散液を調整した
。
9%)をモル比でlニア、6:4:0.08の割合にな
るように混合し約2時間撹拌した後、室温にて静置し、
粒子と成長、熟成させた。この後、減圧IA縮すること
により、分散性の良好なシリカ微粒子分散液を調整した
。
次に先のエチルシリケートの%量のエチルシリケートな
用い1重量比でl:lになるように0.02規定の塩酸
を加え、水冷しながら約2時間撹拌することにより、加
水分解溶液を調整した。
用い1重量比でl:lになるように0.02規定の塩酸
を加え、水冷しながら約2時間撹拌することにより、加
水分解溶液を調整した。
ここで前記シリカの微粒子分散液のpH値を2規定の塩
酸を添加し4.5程度に調整した後、エチルシリケート
の加水分解溶液を混合し、均質な液状ゾルになるまで十
分に攪拌した。その後、該液状ゾルに0.2規定のアン
モニア水を添加し。
酸を添加し4.5程度に調整した後、エチルシリケート
の加水分解溶液を混合し、均質な液状ゾルになるまで十
分に攪拌した。その後、該液状ゾルに0.2規定のアン
モニア水を添加し。
pH値を5.0に調整し、直径30cmの円筒状の型に
10cmの高さまで該液状ゾルを注入した。更にフタを
して密閉状態にし、室温で3日間静置し、ウェットゲル
を作製した。
10cmの高さまで該液状ゾルを注入した。更にフタを
して密閉状態にし、室温で3日間静置し、ウェットゲル
を作製した。
ここで得られたウェットゲルをそれぞれ、エチレングリ
コール、ジエチレンゲルコール、ポリエチレングリコー
ル、ホルムアミドの各81溶媒中に浸漬した。この状態
で5日間静置した後、各ウェットゲルを取り出し、乾燥
容器に移し替え。
コール、ジエチレンゲルコール、ポリエチレングリコー
ル、ホルムアミドの各81溶媒中に浸漬した。この状態
で5日間静置した後、各ウェットゲルを取り出し、乾燥
容器に移し替え。
70℃に保持した恒温槽にて乾燥し、はぼ20日間はど
で乾燥が終了し、白色乾燥ゲルを得た。ここで、これら
のゲルの大きさは、高沸点溶媒中に浸漬した方が大きく
、いずれも1通常に比べ大型であった。このようにして
得られた白色の乾燥ゲルを、酸素/窒素、雰囲気中で一
旦800℃まで加熱し、縮合反応の促進、脱水、脱有機
残基なと各種処理を行なった。この処理中、通常の方法
で得た乾燥ゲルにはクラックが生じたが、他の乾燥ゲル
には生じず完全な形状を維持していた。更に、減圧下で
、l、350℃まで加熱し、ガラス化させ、窒素雰囲気
中で1,750℃まで昇4し、30分間保持した後、徐
冷した。こうして得られたガラス体は透明性の高い無色
の円柱で、直径15cmX高さ5co+、重ff1l、
940g程度であり、ウェットゲルを処理した溶媒によ
る差はほとんどなかった。
で乾燥が終了し、白色乾燥ゲルを得た。ここで、これら
のゲルの大きさは、高沸点溶媒中に浸漬した方が大きく
、いずれも1通常に比べ大型であった。このようにして
得られた白色の乾燥ゲルを、酸素/窒素、雰囲気中で一
旦800℃まで加熱し、縮合反応の促進、脱水、脱有機
残基なと各種処理を行なった。この処理中、通常の方法
で得た乾燥ゲルにはクラックが生じたが、他の乾燥ゲル
には生じず完全な形状を維持していた。更に、減圧下で
、l、350℃まで加熱し、ガラス化させ、窒素雰囲気
中で1,750℃まで昇4し、30分間保持した後、徐
冷した。こうして得られたガラス体は透明性の高い無色
の円柱で、直径15cmX高さ5co+、重ff1l、
940g程度であり、ウェットゲルを処理した溶媒によ
る差はほとんどなかった。
また、得られたガラスの諸物性は、ビッカース硬度、比
重、熱膨張係数、赤外および近赤外吸収スペクトル、屈
折率など、石英ガラスを一致していた。
重、熱膨張係数、赤外および近赤外吸収スペクトル、屈
折率など、石英ガラスを一致していた。
(発明の効果1
以上のように1本発明の方法によれば、光学的均質性に
優れた大型塊状ガラスの作製が容易である。
優れた大型塊状ガラスの作製が容易である。
したがって、これまで石英ガラスを使用していた分野で
は、もちろんのこと、特に高品質が要求されるIC用フ
ォトマスク基板、光フアイバー母材特殊光学用途など種
々の分野に応用が広がるものと考える。
は、もちろんのこと、特に高品質が要求されるIC用フ
ォトマスク基板、光フアイバー母材特殊光学用途など種
々の分野に応用が広がるものと考える。
また、ゾル調整工程において、B、Ti。
Ge、Na、Ca、Li、’AJ2.Te、Zr。
Ce、Nd、Crなど、種々の元素の添加が可能である
ことより、多種の多成分系ガラスおよび既存組成にはな
いガラスの製造も容易であり特に、溶液状態で混合する
ため均質なガラスの作製が可能である。
ことより、多種の多成分系ガラスおよび既存組成にはな
いガラスの製造も容易であり特に、溶液状態で混合する
ため均質なガラスの作製が可能である。
以上
出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- 1)金属アルコキシドおよび金属酸化物の微粒子を主原
料として、目的ガラス成分組成の液状ゾルを調整し、該
液状ゾルを所望形状の密閉容器中にてゲル化させ、ウェ
ットゲルを作製した後、該ウェットゲルを、乾燥、焼結
等の熱処理によりガラス化するゾル−ゲル法による製造
方法においてゲル化させ作製したウェットゲルを高沸点
溶媒中に浸漬させた後、熱処理を加えることを特徴とす
る塊状ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28341788A JPH02129038A (ja) | 1988-11-09 | 1988-11-09 | 塊状ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28341788A JPH02129038A (ja) | 1988-11-09 | 1988-11-09 | 塊状ガラスの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02129038A true JPH02129038A (ja) | 1990-05-17 |
Family
ID=17665261
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28341788A Pending JPH02129038A (ja) | 1988-11-09 | 1988-11-09 | 塊状ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02129038A (ja) |
-
1988
- 1988-11-09 JP JP28341788A patent/JPH02129038A/ja active Pending
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