JPH0264033A - 塊状ガラスの製造方法 - Google Patents
塊状ガラスの製造方法Info
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- JPH0264033A JPH0264033A JP21443788A JP21443788A JPH0264033A JP H0264033 A JPH0264033 A JP H0264033A JP 21443788 A JP21443788 A JP 21443788A JP 21443788 A JP21443788 A JP 21443788A JP H0264033 A JPH0264033 A JP H0264033A
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、集積回路用投影露光装置のレンズ、液晶デイ
スプレー用TPT基板や、プリズム、ビームスプリッタ
−1分光機等の光学部品に応用可能な石英ガラスおよび
光学的特性に優れた種々のガラスのゾル−ゲル法による
製造方法に関する。
スプレー用TPT基板や、プリズム、ビームスプリッタ
−1分光機等の光学部品に応用可能な石英ガラスおよび
光学的特性に優れた種々のガラスのゾル−ゲル法による
製造方法に関する。
【従来の技術1
従来の金属アルコキシドおよび金属酸化物の微粒子と主
原料とするゾル−ゲル法によるガラスの製造においては
、目的ガラス成分組成の液状ゾルを所望形状の密閉容器
中にてゲル化させた後、得られたウェットゲル、乾燥ゲ
ル等を、特に加工することはなかった。
原料とするゾル−ゲル法によるガラスの製造においては
、目的ガラス成分組成の液状ゾルを所望形状の密閉容器
中にてゲル化させた後、得られたウェットゲル、乾燥ゲ
ル等を、特に加工することはなかった。
(発明が解決しようとする課題)
しかし、前述の従来技術では、原料として用いる金属酸
化物の微粒子を大型化した場合、所望形状の高さが大き
くなった場合など、微粒子がゲル化までに自然沈降し、
高さ方向に、密度分布を生じる。このため、ゲル化後、
ウェットゲルの状態および乾燥、特に焼結において、該
ゲルの上部と下部で収縮量に差が生じ、クラックや割れ
が発生し易くなる。ところが、高品質なガラスを作製す
る場合、特にガラス内部のOH基濃度と低濃度化するの
に、金属酸化物の微粒子の大型化は極めて有効であるこ
とが判明している。
化物の微粒子を大型化した場合、所望形状の高さが大き
くなった場合など、微粒子がゲル化までに自然沈降し、
高さ方向に、密度分布を生じる。このため、ゲル化後、
ウェットゲルの状態および乾燥、特に焼結において、該
ゲルの上部と下部で収縮量に差が生じ、クラックや割れ
が発生し易くなる。ところが、高品質なガラスを作製す
る場合、特にガラス内部のOH基濃度と低濃度化するの
に、金属酸化物の微粒子の大型化は極めて有効であるこ
とが判明している。
したがって従来の方法では、高品質な大型ガラスの作製
が困難であるという問題点を有する。
が困難であるという問題点を有する。
そこで本発明の目的は、高品質な大型ガラスを容易に作
製する方法を提供するところにある。
製する方法を提供するところにある。
本発明のゾル−ゲル法によるガラスの製造方法は、金属
アルコキシドおよび金属酸化物の微粒子を主原料として
、目的ガラス成分組成の液状ゾルを調製し、該液状ゾル
を所望形状の密閉容器中にてゲル化させ、ウェットゲル
を作製した後、該ウェットゲルを、乾燥、焼結などの熱
処理をする製造方法において、ウェットゲルまたはウェ
ットゲルを乾燥して得られる乾燥ゲルを加工することを
特徴とする。
アルコキシドおよび金属酸化物の微粒子を主原料として
、目的ガラス成分組成の液状ゾルを調製し、該液状ゾル
を所望形状の密閉容器中にてゲル化させ、ウェットゲル
を作製した後、該ウェットゲルを、乾燥、焼結などの熱
処理をする製造方法において、ウェットゲルまたはウェ
ットゲルを乾燥して得られる乾燥ゲルを加工することを
特徴とする。
本発明は、ゲル化後のウェットゲルまたは乾燥ゲルの状
態にて、ゲル化までに生じた金属酸化物の微粒子の自然
沈降による微粒子濃度の極めて高い部分を除去する。し
たがって、乾燥、焼結などの熱処理の際、収縮量の部分
差がなくなり、クラック、割れの発生を抑制できる。ま
たより大きな金属酸化物の微粒子が使用可能となるため
、高品質なガラスの作製が容易になるものである。
態にて、ゲル化までに生じた金属酸化物の微粒子の自然
沈降による微粒子濃度の極めて高い部分を除去する。し
たがって、乾燥、焼結などの熱処理の際、収縮量の部分
差がなくなり、クラック、割れの発生を抑制できる。ま
たより大きな金属酸化物の微粒子が使用可能となるため
、高品質なガラスの作製が容易になるものである。
エチルシリケート、エタノール、水、アンモニア水(2
9%)をモル比でlニア、6:4:0゜08の割合にな
るように混合し約3時間撹拌した後、室温にて、静置し
、粒子を成長、熟成させた、この後、、 it!圧濃縮
することにより、分散性の良好なシリカ微粒子分散液を
調製した、なお、遠心沈降法で粒度分布を測定したとこ
ろ、平均粒子径は、0.54μmであった。
9%)をモル比でlニア、6:4:0゜08の割合にな
るように混合し約3時間撹拌した後、室温にて、静置し
、粒子を成長、熟成させた、この後、、 it!圧濃縮
することにより、分散性の良好なシリカ微粒子分散液を
調製した、なお、遠心沈降法で粒度分布を測定したとこ
ろ、平均粒子径は、0.54μmであった。
次に、先のエチルシリケートのl/4量のエチルシリケ
ートを用い、重量比で1:1になるように0.02規定
の塩酸を加え、水冷しながら約2時間撹拌することによ
り加水分解溶液を調製した。
ートを用い、重量比で1:1になるように0.02規定
の塩酸を加え、水冷しながら約2時間撹拌することによ
り加水分解溶液を調製した。
ここで、前記シリカ微粒子分散液のpH値を2規定の塩
酸を添加し、4.5に調製した後、エチルシリケートの
加水分解溶液と混合し、均質な液状ゾルになるまで十分
に撹拌した、その後、該液状ゾルに0.2規定のアンモ
ニア水を滴下し、pH値を5,0に調製し、直径30c
mの円筒状の型にfocmの高さまで該液状ゾルを注入
した、更にツクをして密閉状態にてゲル化させウェット
ゲルを作製した。ここで得られたウェットゲルに対して
、次の3方法の処理を行なった。
酸を添加し、4.5に調製した後、エチルシリケートの
加水分解溶液と混合し、均質な液状ゾルになるまで十分
に撹拌した、その後、該液状ゾルに0.2規定のアンモ
ニア水を滴下し、pH値を5,0に調製し、直径30c
mの円筒状の型にfocmの高さまで該液状ゾルを注入
した、更にツクをして密閉状態にてゲル化させウェット
ゲルを作製した。ここで得られたウェットゲルに対して
、次の3方法の処理を行なった。
方法用
得られたウェットゲルの、粒子が沈降した部分を除去し
た後、ポリプロピレン製の乾燥容器に移し入れ、約70
℃に保持した恒温乾燥機番ごて乾燥した。
た後、ポリプロピレン製の乾燥容器に移し入れ、約70
℃に保持した恒温乾燥機番ごて乾燥した。
方法・2
得られたウェットゲルに対して、特に加工せずに、方法
lと同様の乾燥をし、得られた白色の乾燥ゲルの粒子が
沈降した下部を除去した。
lと同様の乾燥をし、得られた白色の乾燥ゲルの粒子が
沈降した下部を除去した。
方法・3
ウェットゲルおよび乾燥ゲルに対して、特に処理を加え
なかった。
なかった。
以上の3方法により得られたゲル体を、酸素/窒素、雰
囲気中で900℃まで加熱し、縮合反応の促進、脱水、
脱有機残基などの各種処理を行なった。ここで、方法3
により得られたゲル体は、割れてしまった。この後、方
法lおよび2により得られたゲル体に対して、減圧下で
1350℃まで加熱し、ガラス化させた、更に窒素雰囲
気中で1750℃まで昇温し、30分間保持した後、徐
冷した。
囲気中で900℃まで加熱し、縮合反応の促進、脱水、
脱有機残基などの各種処理を行なった。ここで、方法3
により得られたゲル体は、割れてしまった。この後、方
法lおよび2により得られたゲル体に対して、減圧下で
1350℃まで加熱し、ガラス化させた、更に窒素雰囲
気中で1750℃まで昇温し、30分間保持した後、徐
冷した。
以上のようにして、得られたガラス体は透明度の高い無
色の円柱であり、直径14.8cm高さ4.9cm重量
1855gであった。
色の円柱であり、直径14.8cm高さ4.9cm重量
1855gであった。
また、得られたガラスの諸物性は、ピッ゛カース硬度、
比重、熱膨張係数、赤外および近赤外吸収スペクトル、
屈折率など1石英ガラスと一致していた。
比重、熱膨張係数、赤外および近赤外吸収スペクトル、
屈折率など1石英ガラスと一致していた。
〔発明の効果J
以上のように、本発明の方法によれば、光学的均質性に
優れた大型塊状ガラスの作製が容易である。
優れた大型塊状ガラスの作製が容易である。
したがって、これまで石英ガラスを使用していた分野で
はもちろんのこと、特に高品質を要求されるIC用フォ
トマスク基板、光フアイバー母材、特殊光学用途など種
々の分野に応用が広がるものと考える。
はもちろんのこと、特に高品質を要求されるIC用フォ
トマスク基板、光フアイバー母材、特殊光学用途など種
々の分野に応用が広がるものと考える。
また、ゾル調製工程において、B、Ti、Ge、Na、
Ca、Li、A1.Te、Zr、Ce、Nd、Crなど
種々の元素の添加することが可能であるため、多fト多
成分系ガラスおよび既存組成にはないガラスの製造も容
易である。
Ca、Li、A1.Te、Zr、Ce、Nd、Crなど
種々の元素の添加することが可能であるため、多fト多
成分系ガラスおよび既存組成にはないガラスの製造も容
易である。
以上
出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- 1)金属アルコキシドおよび金属酸化物の微粒子を主原
料として、目的ガラス成分組成の液状ゾルを調製し、該
液状ゾルを所望形状の密閉容器中にてゲル化させ、ウェ
ットゲルを作製した後、該ウェットゲルを、乾燥、焼結
などの熱処理によりガラス化するゾル−ゲル法によるガ
ラスの製造方法において、ウェットゲルまたはウェット
ゲルを乾燥して得られる乾燥ゲルを加工することを特徴
とする塊状ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21443788A JPH0264033A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 塊状ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21443788A JPH0264033A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 塊状ガラスの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0264033A true JPH0264033A (ja) | 1990-03-05 |
Family
ID=16655765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21443788A Pending JPH0264033A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 塊状ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0264033A (ja) |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP21443788A patent/JPH0264033A/ja active Pending
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