JPH02119209A - 積層インダクタとそのインダクタンス調整方法 - Google Patents
積層インダクタとそのインダクタンス調整方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
とする積層インダクタとそのインダクタンスの調整方法
に関するものである。
の分野でも磁性体セラミック内に導体パターンを一体に
形成した、積層インダクタが用いられるようになってい
る。
のインダクタンス値は一定となってしまうので、調整の
ために磁性体層を削ってトリミングを行うか、磁性体に
凹部を形成して磁性体コアを挿入する方法等が考えられ
ている。
く、信頼性の面でも問題がある。
昭63−232867において提案した。これは第2図
に示したように、磁性体層20内に主巻線となる成る導
体パターン21と制御巻線となる導体パターン22を近
接して形成し、4体パターン22に印加する直流バイア
ス電流によって導体パターン21の周囲の磁界を変化さ
せ、インダクタンス値を変化させるものである。通常、
直流電流を太き(することによってインダクタンスを減
少させるように動作する。
流バイアス電流を増加させるにしたがって磁心が飽和に
近づき、実効的な透磁率が下がってインダクタンスが小
さくなる。しかし、飽和の始まる点において、大入力時
、正の半サイクルと・負の半サイクルでインダクタンス
の実効値が変わるため、出力波形に歪みを生じる。
いて安定した特性を得ようと、発明者は導体パターン間
に透磁率の高い層を形成し、バイアス電流の増加に従っ
てインダクタンスの増加する積層インダクタを提案した
。。
が必要となり、製造工程が複雑となる欠点がある。
する方法もあるが、バイアス源回路が必要となり、回路
配置が複雑となる問題がある。
る。
、導体パターン間を硬質磁性材料で置換し、これを予め
磁化することによって導体パターン間の磁界を制御する
ことによって上記の課題を解決するものである。
畳して周回する導体パターンを具えた積層インダクタに
おいて、該導体パターン間の少なくとも一部が、残留磁
化特性を有し、該磁性体層よりも透磁率の高い磁性体で
置換されたことに特徴を有するものである。
て周回する導体パターンを具えた積層インダクタのイン
ダクタンス調整方法において、該導体パターン間の少な
くとも一部を、残留磁化特性を有し、該磁性体層よりも
透磁率の高い磁性体で置換し、該置換した材料を磁化し
て該導体パターン間の磁気抵抗を増減させ、それによっ
てインダクタンスを増減させることに特徴を有するもの
である。
洩れ磁束を制御することができる。導体パターン間の磁
性材料の着磁の状態を変え、洩れ磁束を制御して、主磁
路の磁束置所を調整し、インダクタンスを8周整するも
のである。
る。
ェライトの磁性体10が積層されたものでその内部に銀
−パラジウム等による導体パターン11が、磁性体層間
を接続されながら積層方向に重畳して周回するように形
成されている。これによって、磁性体層10内に導体パ
ターン11が形成されて、閉磁路型のインダクタとなる
。
フェライト)が用いられる。すなわち、磁気保持力が小
さく、透磁率が比較的低い材料が用いられる。
透磁率の高い磁性材料を用いた磁性体層15が形成され
る。この磁性体層15は磁気保持力、すなわち残留磁化
が大きい材料を用いる。Ba系フェライトなど硬質磁性
材料(ハードフェライト)を用いるとよい。
では磁気抵抗は小さい。したがって、導体パターン21
に発生する磁束は主磁路Φ、を通らずに導体パターン間
の磁路Φ、を通るものが多くなる。すなわち、洩れ磁束
が多くなってインダクタンスは小さくなる。
バイアス電流を印加すると、周囲の磁性体層15は磁化
され、バイアス電流が印加されなくなっても磁化された
状態が続く。この磁界によって、導体パターン11間の
磁気抵抗を増加させることができる。磁気抵抗が大きく
なるに従って導体パターン間の磁束Φ1が少なくなり、
主磁路の磁束Φいが多くなる。そにしたがってインダク
タンスも増加する。
ン11の周囲の磁化の状態を調整することによって、イ
ンダクタンスを調整することができる。また、一端設定
したインダクタンス値を再調整することもできる。
磁界内にインダクタを置くことによって直接行うことも
できる。
整を容易に行うことができる。また、同一ロフトで製造
した素子に異なる特性を持たせることもできる。
必要もなく、制御巻線を形成する必要もなくなる。した
がって、製造が容易となるとともに、使用する際の回路
構成等も簡単で済ませることができる。
ずれもが可能となる。
流制御型積層インダクタの正面断面図である。 10.15・・・・磁性体層、 11・・・・・・・・導体ハターン
Claims (4)
- (1)磁性体層間を端部が接続されて積層方向に重畳し
て周回する導体パターンを具えた積層インダクタにおい
て、該導体パターン間の少なくとも一部が、残留磁化特
性を有し、該磁性体層よりも透磁率の高い磁性体で置換
されたことを特徴とする積層インダクタ。 - (2)磁性体層間を端部が接続されて積層方向に重畳し
て周回する導体パターンを具えた積層インダクタのイン
ダクタンス調整方法において、該導体パターン間の少な
くとも一部を、残留磁化特性を有し、該磁性体層よりも
透磁率の高い磁性体で置換し、該置換した材料の磁化の
状態を変化させて該導体パターン間の磁気抵抗を増減さ
せ、それによってインダクタンスを増減させることを特
徴とする積層インダクタのインダクタンス調整方法。 - (3)該置換した材料を該導体パターンに印加する直流
電流により磁化する請求項第2項記載の積層インダクタ
のインダクタンス調整方法。 - (4)該置換した材料を外部磁界により磁化する請求項
第2項記載の積層インダクタのインダクタンス調整方法
。
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---|---|---|---|
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KR1019890015404A KR0127489B1 (ko) | 1988-10-28 | 1989-10-26 | 전기절연 충전재료 및 이의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27272888A JPH02119209A (ja) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | 積層インダクタとそのインダクタンス調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02119209A true JPH02119209A (ja) | 1990-05-07 |
JPH0515285B2 JPH0515285B2 (ja) | 1993-03-01 |
Family
ID=17517953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27272888A Granted JPH02119209A (ja) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | 積層インダクタとそのインダクタンス調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02119209A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005142793A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Sumida Corporation | 積層コモンモードフィルタ |
JP2010161161A (ja) * | 2009-01-07 | 2010-07-22 | Murata Mfg Co Ltd | 積層インダクタ |
JP2011096907A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Murata Mfg Co Ltd | 積層インダクタ |
-
1988
- 1988-10-28 JP JP27272888A patent/JPH02119209A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005142793A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Sumida Corporation | 積層コモンモードフィルタ |
JP4598384B2 (ja) * | 2003-11-06 | 2010-12-15 | スミダコーポレーション株式会社 | 積層コモンモードフィルタ |
JP2010161161A (ja) * | 2009-01-07 | 2010-07-22 | Murata Mfg Co Ltd | 積層インダクタ |
JP2011096907A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Murata Mfg Co Ltd | 積層インダクタ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0515285B2 (ja) | 1993-03-01 |
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