JP2006237438A - 積層型ビーズ及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 導体パターンと磁性体層が接触しているので、導体パターンに流れる電流による磁界の影響を受けて特性が劣化する。100MHz以上の高周波帯域において500mA程度の大きな電流を処理する必要があるが、高周波帯域におけるインピーダンス特性がバラツキ、耐高電流性がなかった。導体パターンの銀の熱膨張係数と磁性体層のフェライトの熱膨張係数が大きく異なるので、この熱膨張係数の差によって磁性体内に残留応力が発生し、磁気特性が劣化する。導体パターンに使用されている銀が磁性体層に拡散し、これによって磁気特性が劣化する。
【解決手段】 磁性体層と導体パターンを積層し、素体内にインピーダンス素子が形成される。導体パターンは、磁性体層の焼結性を調整するための焼結調整剤が混入された導体ペーストを磁性体層に印刷して形成される。
【選択図】 図1

Description

本発明は、磁性体層と導体パターンを積層し、素体内にインピーダンス素子が形成された積層型ビーズ及びその製造方法に関するものである。
電子部品の小型化、薄型化等の要求に伴ってインピーダンス素子の分野においても、巻線を用いない固体化した積層型ビーズが検討されるようになっている。
図5に示す様に磁性体層51と導体パターン52を積層し、素体内にインピーダンス素子が形成された積層型ビーズがある。この素体のインピーダンス素子の端部が引き出された端面には、外部端子が形成される。この様な従来の積層型ビーズは、導体パターン52が磁性体層51と接触しているため、導体パターンに流れる電流による磁界の影響を受けやすく、形状の小型化、導体パターンの微細化、導体パターン間の磁性体層の薄層化に伴って、特性の劣化が著しいという問題があった。また、インピーダンス素子は、扱う信号の高周波化、大電流化に伴い、100MHz以上の高周波帯域において500mA程度の大きな電流を処理する必要があり、高周波帯におけるインピーダンス特性が安定し、かつ、耐高電流性を有することが求められている。しかしながら、前述の様に導体パターンが磁性体層と接触しているため、これらの特性も劣化が避けられなかった。さらに、導体パターンに一般的に使用されている銀と磁性体層に使用されるフェライトでは熱膨張係数が大きく異なるため、この熱膨張係数の差によって磁性体内に残留応力が発生し、磁性体の磁気特性が劣化するという問題もあった。またさらに、導体パターンに使用されている銀が磁性体層内に拡散し、これによって磁気特性が劣化するという問題もあった。
これらの問題を解決するために、図6に示す様に磁性体層61と導体パターン62の間に空隙63を形成することが行われている(例えば、特許文献1を参照。)。
特開2003−217934号公報
しかしながら、この様な従来の積層型ビーズは、形状が小型のものほど、磁性体層と導体パターン間に均一かつ完全な空隙を形成することは極めて困難であり、また、1005サイズ(1mm×0.5mm×0.5mm)以下のものでは製造プロセスが安定する程度の充分な空隙を設けると導体パターンや磁性体の占める割合が相対的に大きく減少し、製品の特性のバリエーションが少なくなったり、Q値が低下したり、直流抵抗が増加したりするという問題があった。
また、従来の積層型ビーズにおいて、磁性体層と導体パターン間に空隙を設けるかわりに導体パターン間に非磁性体を形成することも検討されたが、非磁性体を形成するための工数やコストが増加すると共に、非磁性体と磁性体の加熱収縮挙動や収縮率等が異なるために非磁性体と磁性体層の接合が不充分になるという問題があった。
本発明は、高周波帯域において大電流域まで直流重畳特性を向上させることができると共に、磁気特性が劣化するのを防止できる積層型ビーズ及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、導体パターンに用いられる材料を改良することにより、上記の課題を解決するものである。
すなわち、磁性体層と導体パターンを積層し、素体内にインピーダンス素子が形成された積層型ビーズにおいて、導体ペーストに磁性体層の焼結性を調整するための焼結調整剤が混入される。焼結調整剤は、銀粉末を被覆するSiO2によって構成され、このSiO2が銀の重量換算で0.05〜0.3wt%含有する。
また、本発明は、磁性体層と導体パターンを積層し、積層体内にインピーダンス素子が形成された積層型ビーズの製造方法において、銀粉末を被覆するSiO2によって構成され、SiO2が銀の重量換算で0.05〜0.3wt%含有する焼結調整剤を混入した導体ペーストを磁性体層に印刷して導体パターンを形成する。
本発明の積層型ビーズは、導体ペーストに磁性体層の焼結性を調整するための焼結調整剤が混入されるので、焼結調整剤が適度に磁性体に拡散し、導体パターンの近傍の磁性体の焼結状態をそれ以外の部分よりも遅らせて、磁気的に不活性な層を傾斜的に形成することができる。従って、本発明の積層型ビーズは、高周波帯域において大電流域まで直流重畳特性を向上させることができると共に、磁気特性が劣化するのを防止できる。
また、本発明の積層型ビーズの製造方法は、銀粉末を被覆するSiO2によって構成され、SiO2が銀の重量換算で0.05〜0.3wt%含有する焼結調整剤を混入した導体ペーストを磁性体層に印刷して導体パターンを形成するので、SiO2が適度に磁性体に拡散し、導体パターンの近傍の磁性体の焼結状態をそれ以外の部分よりも遅らせて、磁気的に不活性な層を傾斜的に形成することができる。従って、本発明の積層型ビーズの製造方法は、特別な装置や工程を必要とすることなく、高周波帯域において大電流域まで直流重畳特性を向上させることができると共に、磁気特性が劣化するのを防止できる。
本発明の積層型ビーズは、磁性体層と導体パターンを積層し、素体内にインピーダンス素子が形成される。この時、インピーダンス素子を構成する導体パターンは、磁性体層の焼結性を調整するための焼結調整剤が混入された導体ペーストを用いて形成される。この焼結調整剤は、銀粉末を被覆するSiO2によって構成され、SiO2が銀の重量換算で0.05〜0.3wt%含有している。この様に形成された積層型ビーズは、導体ペーストの銀粉末を被覆しているSiO2が適度に磁性体に拡散し、導体パターンの近傍の磁性体の焼結をそれ以外の部分よりも遅らせることができ、導体パターン間や導体パターンの近傍に磁性体としての機能がそれ以外の部分よりも不活性な部分を形成することができる。従って、本発明の積層型ビーズは、導体パターンに流れる電流による磁界の影響を受けて特性が劣化したり、導体パターンと磁性体の熱膨張係数の差によって磁性体内に残留応力が発生して磁気特性が劣化したりするのを防止できる。
以下、本発明の積層型ビーズ及びその製造方法を図1乃至図4を参照して説明する。
図1は本発明の積層型ビーズの実施例を示す分解斜視図である。
図1において、11A〜11Fは磁性体層、12A〜12Eは導体パターンである。
磁性体層11A〜11Fは、Ni−Cu−Zn系フェライトやMg−Zn−Cu系フェライト等のフェライトで形成される。また、導体パターン12A〜12Eは、磁性体層の焼結性を調整するための焼結調整剤が混入された導体ペーストを用いて形成される。この焼結調整剤は、銀粉末がSiO2によって被覆され、SiO2が銀粉末の重量換算で0.05〜0.3wt%含有するものが用いられる。
磁性体層11Aの表面には、導体パターン12Aが形成される。この導体パターン12Aは、1ターン未満分が形成され、一端が磁性体層11Aの端面に引き出される。
磁性体層11Bの表面には、導体パターン12Bが形成される。この導体パターン12Bは3/4ターン分が形成される。導体パターン12Bの一端は磁性体層11Bのスルーホール内の導体を介して導体パターン12Aの他端に接続される。
磁性体層11Cの表面には、導体パターン12Cが形成される。導体パターン12Cは、3/4ターン分が形成され、その一端が磁性体層11Cのスルーホール内の導体を介して導体パターン12Bの他端に接続される。
磁性体層11Dの表面には、3/4ターン分の導体パターン12Dが形成される。この導体パターン12Dの一端は磁性体層11Dのスルーホール内の導体を介して導体パターン12Cの他端に接続される。
磁性体層11Eの表面には、1ターン未満の導体パターン12Eが形成され、一端が磁性体層11Eのスルーホール内の導体を介して導体パターン12Cの他端に接続される。導体パターン12Eの他端は、磁性体層11Eの端面に引き出される。
この導体パターン12Eが形成された磁性体層11Eの上には、導体パターン12Eを保護するための磁性体層11Fが形成される。
この様にして導体パターン12A〜12Eによって素体内にインピーダンス素子が形成され、素体の両端面に形成された外部端子間に接続される。
この様な積層型ビーズは以下の様にして製造される。この積層型ビーズをシート積層法によって形成する場合には、磁性体シート表面に銀粉末がSiO2によって被覆され、SiO2が銀粉末の重量換算で0.05〜0.3wt%含有する焼結調整剤を混入した導体ペーストを印刷して導体パターンを形成し、この導体パターンが形成された磁性体シートを所定の順序で所定の枚数を積層して素体を形成し、所定の形状に切断後、焼成し、外部端子が形成される。また、この積層型ビーズを印刷積層法によって形成する場合には、磁性体層表面に銀粉末がSiO2によって被覆され、SiO2が銀粉末の重量換算で0.05〜0.3wt%含有する焼結調整剤を混入した導体ペーストを印刷する磁性体層への導体パターンの形成と、この導体パターンが形成された磁性体層上に磁性体ペーストを印刷する磁性体層の形成を所定回数繰り返して素体を形成し、所定の形状に切断後、焼成し、外部端子が形成される。
この様に形成された積層型ビーズは、粒径が0.1μmのNi−Cu−Zn系フェライトを用いて磁性体層を形成し、銀粉末がSiO2によって被覆され、SiO2が銀粉末の重量換算で0.05〜0.3wt%含有する焼結調整剤を混入した導体ペーストを用いて導体パターンを形成し、これらの積層体を870℃で焼成して素体内に14.5ターンのインピーダンス素子を形成したところ、図2に示す様に導体パターン間及び導体パターンの近傍(すなわち、点線で囲まれた部分)の磁性体の粒径がそれ以外の部分よりも小さくなった。SiO2の含有量を0.2wt%にした場合、この導体パターン間及び導体パターンの近傍の磁性体の粒径は、それ以外の部分の磁性体の粒径が1μmなのに対して0.5μmとなった。
図3は、本発明の積層型ビーズの特性を表にまとめたものを示している。なお、Zは100MHzにおける値を示し、サンプルNOの*印は本発明の範囲外のものであることを示している。
本発明の積層型ビーズは、銀粉末を被覆しているSiO2の含有量を0.05〜0.3wt%、好ましくは0.05〜0.26にすることにより、100MHzにおけるインピーダンス値や直流抵抗RDcを大きく劣化させることなく、サンプルNO.1に示した従来のものに比較して、100MHzにおけるインピーダンス値のバラツキを小さくできた。
図4は、直流電流を印加後の100MHzにおけるインピーダンス値(直流電流印加後のインピーダンス値の復帰値)を測定したものをグラフにまとめたもので、横軸は印加電流を、縦軸はインピーダンス値の変動率を示している。
本発明の積層型ビーズの直流電流印加後のインピーダンス値の復帰値は、42〜45に示す様に、印加電流が大きくなるほど、従来の積層型ビーズのもの41に比較して、その変動率が小さくなった。なお、42はSiO2の含有量を0.05にしたものの特性を、43はSiO2の含有量を0.1にしたものの特性を、44はSiO2の含有量を0.15にしたものの特性を、45はSiO2の含有量を0.26にしたものの特性をそれぞれ示している。
本発明の積層型ビーズは、銀粉末を被覆しているSiO2の含有量を0.05〜0.3wt%、好ましくは0.05〜0.26にすることにより、高周波帯域において大電流域まで直流電流印加後のインピーダンス値の変動率を従来よりも小さくでき、直流重畳特性を改善することができる。これにより本発明の積層型ビーズは、直流重畳特性を改善できた分、定格電流を大きくしたり、形状を小型化したりすることができる。
以上、本発明の積層型ビーズの実施例を述べたが、本実施例に限られるものではない。例えば、導体パターンが磁性体層に直線状に形成されたり、ミアンダ状に形成され、それぞれ磁性体層の端部に引き出されたものや、平行に形成された複数本の第1の導体パターンと、平行に形成された複数本の第2の導体パターンとが磁性体層を介して積層され、第1の導体パターンと第2の導体パターンがスルーホールを介して交互に接続されたものにも適用することができる。
本発明の積層型ビーズの実施例を示す分解斜視図である。 本発明の積層型ビーズの実施例の断面図である。 本発明の積層型ビーズの特性を示す表である。 本発明の積層型ビーズの特性を示すグラフである。 従来の積層型ビーズの分解斜視図である。 従来の別の積層型ビーズの断面図である。
符号の説明
11A〜11F 磁性体層
12A〜12E 導体パターン

Claims (3)

  1. 磁性体層と導体パターンを積層し、素体内にインピーダンス素子が形成された積層型ビーズにおいて、
    導体ペーストに該磁性体層の焼結性を調整するための焼結調整剤を混入したことを特徴とする積層型ビーズ。
  2. 前記焼結調整剤は、銀粉末を被覆するSiO2によって構成され、該SiO2が該銀の重量換算で0.05〜0.3wt%含有することを特徴とする請求項1に記載の積層型ビーズ。
  3. 磁性体層と導体パターンを積層し、素体内にインピーダンス素子が形成された積層型ビーズの製造方法において、
    銀粉末を被覆するSiO2によって構成され、該SiO2が該銀の重量換算で0.05〜0.3wt%含有する焼結調整剤を混入した導体ペーストを該磁性体層に印刷して該導体パターンを形成したことを特徴とする積層型ビーズの製造方法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006034260A1 (de) * 2006-07-18 2008-01-24 Würth Elektronik eiSos Gmbh & Co. KG Induktivitätsbauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
WO2012172921A1 (ja) 2011-06-15 2012-12-20 株式会社 村田製作所 積層コイル部品
US20150170834A1 (en) * 2006-01-16 2015-06-18 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method of manufacturing inductor
US9281113B2 (en) 2011-06-15 2016-03-08 Murata Manufacturing Co., Ltd. Laminated coil component, and method of manufacturing the laminated coil component
US9299487B2 (en) 2011-08-18 2016-03-29 Murata Manufacturing Co., Ltd. Laminated coil component and method for manufacturing same
JP2018074043A (ja) * 2016-10-31 2018-05-10 株式会社村田製作所 電子部品

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0210607A (ja) * 1988-06-28 1990-01-16 Tdk Corp 導電性ペーストおよびそれを用いた厚膜部品
JPH0210606A (ja) * 1988-06-28 1990-01-16 Tdk Corp 導電性ペーストおよびそれを用いた厚膜部品
JPH04142714A (ja) * 1990-10-03 1992-05-15 Murata Mfg Co Ltd ソリッドトランスとその製造方法
JPH04199804A (ja) * 1990-11-29 1992-07-21 Murata Mfg Co Ltd 積層チップ型コイル部品及びその製造方法
JPH056824A (ja) * 1991-06-27 1993-01-14 Pilot Precision Co Ltd インダクタ−素子
JPH0645307U (ja) * 1992-11-20 1994-06-14 太陽誘電株式会社 積層チップインダクタ
JPH08130109A (ja) * 1994-11-02 1996-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 積層部品用非磁性絶縁材料、積層部品およびその製造法
JP2001240901A (ja) * 1999-12-22 2001-09-04 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 表面修飾銀粉及びその製造方法
JP2001267129A (ja) * 2000-03-16 2001-09-28 Murata Mfg Co Ltd チップインダクタおよびその製造方法
JP2004079211A (ja) * 2002-08-09 2004-03-11 Dowa Mining Co Ltd 導電ペースト用銀粉及びその製造方法並びにその銀粉を用いた導電ペースト
JP2004273426A (ja) * 2003-02-21 2004-09-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 導電ペーストおよびそれを用いたセラミック多層基板
JP2004288915A (ja) * 2003-03-24 2004-10-14 Kyoto Elex Kk ビアホール充填用導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いたセラミック多層回路基板

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0210607A (ja) * 1988-06-28 1990-01-16 Tdk Corp 導電性ペーストおよびそれを用いた厚膜部品
JPH0210606A (ja) * 1988-06-28 1990-01-16 Tdk Corp 導電性ペーストおよびそれを用いた厚膜部品
JPH04142714A (ja) * 1990-10-03 1992-05-15 Murata Mfg Co Ltd ソリッドトランスとその製造方法
JPH04199804A (ja) * 1990-11-29 1992-07-21 Murata Mfg Co Ltd 積層チップ型コイル部品及びその製造方法
JPH056824A (ja) * 1991-06-27 1993-01-14 Pilot Precision Co Ltd インダクタ−素子
JPH0645307U (ja) * 1992-11-20 1994-06-14 太陽誘電株式会社 積層チップインダクタ
JPH08130109A (ja) * 1994-11-02 1996-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 積層部品用非磁性絶縁材料、積層部品およびその製造法
JP2001240901A (ja) * 1999-12-22 2001-09-04 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 表面修飾銀粉及びその製造方法
JP2001267129A (ja) * 2000-03-16 2001-09-28 Murata Mfg Co Ltd チップインダクタおよびその製造方法
JP2004079211A (ja) * 2002-08-09 2004-03-11 Dowa Mining Co Ltd 導電ペースト用銀粉及びその製造方法並びにその銀粉を用いた導電ペースト
JP2004273426A (ja) * 2003-02-21 2004-09-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 導電ペーストおよびそれを用いたセラミック多層基板
JP2004288915A (ja) * 2003-03-24 2004-10-14 Kyoto Elex Kk ビアホール充填用導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いたセラミック多層回路基板

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150170834A1 (en) * 2006-01-16 2015-06-18 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method of manufacturing inductor
US9859054B2 (en) * 2006-01-16 2018-01-02 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method of manufacturing inductor
DE102006034260A1 (de) * 2006-07-18 2008-01-24 Würth Elektronik eiSos Gmbh & Co. KG Induktivitätsbauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
WO2012172921A1 (ja) 2011-06-15 2012-12-20 株式会社 村田製作所 積層コイル部品
JPWO2012172921A1 (ja) * 2011-06-15 2015-02-23 株式会社村田製作所 積層コイル部品
EP2911165A1 (en) 2011-06-15 2015-08-26 Murata Manufacturing Co., Ltd. Laminated coil component
US9281113B2 (en) 2011-06-15 2016-03-08 Murata Manufacturing Co., Ltd. Laminated coil component, and method of manufacturing the laminated coil component
US9490060B2 (en) 2011-06-15 2016-11-08 Murata Manufacturing Co., Ltd. Laminated coil component
US9741484B2 (en) 2011-06-15 2017-08-22 Murata Manufacturing Co., Ltd. Laminated coil component
US9299487B2 (en) 2011-08-18 2016-03-29 Murata Manufacturing Co., Ltd. Laminated coil component and method for manufacturing same
JP2018074043A (ja) * 2016-10-31 2018-05-10 株式会社村田製作所 電子部品

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