JP2004288915A - ビアホール充填用導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いたセラミック多層回路基板 - Google Patents
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 86
- 238000011049 filling Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 84
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 24
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 11
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 3
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 3
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 3
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
【課題】セラミックグリーンシートと同時に焼成しても、セラミックとビアホール充填導体との間において空隙や突き出しが発生せず、しかも、電気抵抗値の低いビアホール充填用導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いたセラミック多層回路基板を提供すること。
【解決手段】Ag粉末と、無機酸化物を被覆したAg粉末と、これらAg粉末の合計重量に対してPd粉末またはPt粉末を0.1〜3.0重量%含んでいる。
【選択図】図4
【解決手段】Ag粉末と、無機酸化物を被覆したAg粉末と、これらAg粉末の合計重量に対してPd粉末またはPt粉末を0.1〜3.0重量%含んでいる。
【選択図】図4
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高密度配線回路基板の製造に用いられるセラミック多層回路基板のビアホール充填用導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いたセラミック多層回路基板に関し、特に、低温焼成に適したセラミック多層回路基板用のビアホール充填用導体材料の改良技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
高密度配線回路基板としてセラミック多層回路基板が幅広く用いられている。そのセラミック多層回路基板は一般にセラミックグリーンシートを積層する方法によって次のような手順で製造される。
【0003】
まず、図1に示す所定寸法の複数枚のセラミックグリーンシート1に、図2に示すように、層間接続用にビアホール2をパンチングまたはレーザー加工などで形成した後、図3に示すように、各セラミックグリーンシート1のビアホール2に導電性ペースト3を充填してビア導体を形成し、次いで、図4に示すように、導電性ペーストによる配線パターン4をスクリーン印刷等により形成する。その後、図5に示すように、導電部分を有する複数枚のセラミックグリーンシート1を積層・圧着し、所定の温度で焼成することによりセラミック多層回路基板が製造される。
【0004】
現在用いられるセラミック多層回路基板は、アルミナ等の1300℃以上で焼成される高温焼成セラミック多層回路基板と、約1000℃以下で焼成される低温焼成セラミック多層回路基板に大別される。
【0005】
高温焼成セラミック多層回路基板の導体材料としては、Mo、W等が用いられるが、これらの酸化物は電気抵抗が高いために、酸化を避けるために還元雰囲気で焼成しなければならないという煩わしさがある上に、焼成後の導体の抵抗値が比較的高いという欠点がある。
【0006】
これに対して、低温焼成セラミック多層回路基板は、電気抵抗値の低いAg、Ag−Pt、Ag−Pdなどが利用できるので、電気特性に優れており、空気中で焼成できるという利点がある。
【0007】
しかし、Ag系の導体と低温焼成用セラミックでは、両者の熱収縮挙動が大きく異なる。Agが400℃付近から熱収縮するのに対し、低温焼成用セラミックはガラスを主成分としており、ガラスが溶解する700℃付近から熱収縮が始まるという挙動を示す。
【0008】
そのため、低温焼成用セラミックとAg系導体を同時に焼成すると、400〜700℃の範囲の温度領域では収縮率の差が大きくなりやすい。両者の収縮率の差が大きくなると、図5のセラミックグリーンシート1、1の接合部に大きな応力が発生して焼成基板が反ったり、接合強度が低下したり、場合によっては、表層の導体が剥がれるという不具合が発生する。
【0009】
ビアホール2に充填した導体についても同様に、セラミックとの収縮率の差が大きいとき、例えば、セラミックよりビアホール充填導体の方が早く熱収縮を始める場合には、セラミックとビアホールに充填した導体との間に空隙が発生しやすく、ビアホール充填導体の熱収縮が抑えられることでビアホール充填導体よりセラミックの方が早く熱収縮を始める場合には、ビアホールに充填した導体の一部がセラミック側に突き出すという不具合が発生することがある。その結果、ビアホールに充填した導体と配線パターンとの間に断線が起こることがある。
【0010】
この問題を解決するため、従来から用いられているビアホール充填用導電性ペーストでは、ガラスフリット、Al2O3、MgO、CaO、SiO2 などの無機酸化物を導体に添加することで、導体の熱収縮挙動を低温焼成用セラミック材料の熱収縮挙動に極力あわせて、上記したような空隙の発生や突き出しによる断線などの不具合を解消することが提案されている。
【0011】
また、セラミック成形体と同時に焼成する時において、セラミック成形体の収縮終了温度より高い収縮開始温度を有する導電性ペーストとして、AgをAl2 O3、ZrO2、TiO2、BaOまたはCaOで被覆した導電成分を有機ビヒクルに分散したものが提案されている。(例えば、特許文献1参照)。
【0012】
【特許文献1】特開平11−353939号公報
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、導体中にガラスフリットや無機酸化物を添加した場合、電気抵抗値の上昇につながり、基板の電気特性を低下させることになる。
【0014】
また、特許文献1に記載された導電性ペーストは、Agを高融点の金属酸化物で被覆したものであり、本発明の対象とする低温焼成セラミック多層回路基板の導体材料としては不向きである。
【0015】
本発明は従来の技術の有するこのような問題点に鑑みてなされたものであって、その目的は、セラミックグリーンシートと同時に焼成しても、セラミックとビアホール充填導体との間において、上記した空隙や突き出しが発生せず、しかも、電気抵抗値の低いビアホール充填用導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いたセラミック多層回路基板を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明にかかるビアホール充填用導電性ペーストは、Ag粉末と、無機酸化物を被覆したAg粉末と、これらAg粉末の合計重量に対してPd粉末またはPt粉末を0.1〜3.0重量%含んでいる。無機酸化物を被覆したAg粉末と、熱収縮開始温度の高い適正量のPd粉末またはPt粉末を含むことにより、ビアホール充填導体とセラミックとの収縮率の差を小さくしてセラミックとビアホール充填導体との間において空隙や突き出しが発生せず、しかも電気抵抗値の上昇量を抑えることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
すなわち、本発明のビアホール充填用導電性ペーストは、Ag粉末と、無機酸化物を被覆したAg粉末と、これらAg粉末の合計重量に対してPd粉末またはPt粉末を0.1〜3.0重量%含むことを特徴としている。
【0018】
無機酸化物を被覆したAg粉末を含むことにより、セラミックとの収縮率の差を小さくすることができるが、無機酸化物は電気抵抗を上昇させる物質でもあるから、導体成分である高融点のPd粉末またはPt粉末を含むことが好ましい。しかしながら、Ag粉末の合計重量に対するPd粉末またはPt粉末の添加量が0.1重量%未満では、熱収縮開始温度を高めることができず、セラミックの収縮率との大きな差を埋めることができないので、セラミックよりも早く熱収縮を始めるビアホール充填導体とセラミック基板との間に空隙が発生する。一方、Ag粉末の合計重量に対するPd粉末またはPt粉末の添加量が3.0重量%を超えると、ビアホール充填導体の熱収縮開始温度が高められ、ビアホール充填導体よりもセラミック基板の方が早く熱収縮を始める結果、ビアホール充填導体の一部がセラミック基板側に突き出ることがある。そこで、Ag粉末の合計重量に対してPd粉末またはPt粉末を0.1〜3.0重量%含むことにより、ビアホール充填導体とセラミック基板の熱収縮時に空隙や突き出しが発生しないようにすることができる。
【0019】
焼成時のセラミックの収縮率との差を小さくするためには、Ag粉末を被覆する無機酸化物の種類が重要である。かかる無機酸化物としては、SnO2 またはSiO2 のうち少なくとも一種類を含むものが好ましい。というのは、SnO2 はAgとの親和力が強くてAgと強固に接合するのでAgはSnO2 で確実に被覆され、一方、SiO2 はセラミックの主成分でもあるから、SnO2 またはSiO2 のいずれの無機酸化物でAg粉末を被覆した場合においてもセラミックとAg粉末との熱収縮挙動が類似したものになることが期待できるからである。
【0020】
Ag粉末に無機酸化物であるSnO2 またはSiO2 を被覆する方法としては、例えば、適切な有機溶媒中で適切な触媒を用いて、Ag粉とSnまたはSi含有有機化合物と水を反応(加水分解と縮合によるゾル・ゲル反応)させて、SiO2系ゲルコーティング膜またはSnO2系ゲルコーティング膜をAg粉末の表面に形成させ、乾燥させるという方法(以下、本明細書において、「ゾル・ゲル法」という)を採用することができる。乾燥後ケーキ状に凝集していれば、これを粉砕機で粉砕することにより、SnO2 またはSiO2 を被覆したAg粉末を得ることができるが、この方法以外の他の被覆法を採用することも、もちろんできる。
【0021】
Ag粉末に対する無機酸化物の被覆量が少なすぎると、セラミックとの収縮率の差を低減する効果が小さく、一方、Ag粉末に対する無機酸化物の被覆量が多すぎると、電気抵抗値の上昇を招くことになる。そこで、無機酸化物の被覆量は、Ag粉末の合計重量に対して、0.1〜0.7重量%の範囲であるのが好ましい。
【0022】
有機ビヒクルとしては、特に限定されるものではないが、エチルセルロースをターピネオール等で溶解したものを好適に用いることができる。
【0023】
また、導電性ペースト中における導体(Ag粉末と無機酸化物被覆Ag粉末とPd粉末もしくはPt粉末)と有機ビヒクルの配合割合は、導体70〜90重量部に対して、有機ビヒクル10〜30重量部であって、合計で100重量部であるのが好ましい。導体が70重量部未満(有機ビヒクルが30重量部超)では、ペースト膜の乾燥性が悪くなるともに、導体不足により導通不足が起こるという欠点がある。一方、導体が90重量部超(有機ビヒクルが10重量部未満)では、ペースト状態にするのが困難であるという欠点がある。
【0024】
セラミックとの収縮率の差を小さくし、しかも電気抵抗の増加を抑制するためには、Ag粉末と無機酸化物被覆Ag粉末の合計100重量部に対して、無機酸化物を被覆したAg粉末が20〜80重量部であるのが好ましい。Ag粉末が20重量部未満(無機酸化物被覆Ag粉末が80重量部超)では電気抵抗が増加し、Ag粉末が80重量部超(無機酸化物被覆Ag粉末が20重量部未満)ではセラミックとの収縮率の差を小さくすることができない。
【0025】
複数のセラミック焼結層と前記セラミック焼結層の内部および/または表面に形成される導電部分を有するセラミック多層回路基板において、以上のように構成される導電性ペーストを焼結したものがビアホールに充填する導電成分であれば、ビアホール周辺に空隙や突き出しが発生せず、電気抵抗値の低いセラミック多層回路基板を提供することができる。
【0026】
本発明の低温焼成セラミック多層回路基板は以下のような方法で製造することができる。
(1)セラミックグリーンシートの成形
まず、低温焼成用セラミックグリーンシートを、ドクターブレード法等でテープ成形する。
【0027】
低温焼成用セラミックとしては、例えば、CaO−SiO2−Al2O3−B2O3 系ガラス50〜70重量%とアルミナ30〜50重量%との混合物(合計100重量%)を用いることができる。この他、PbO−SiO2−B2O3 系ガラスとアルミナの混合物、MgO−Al2O3−SiO2−B2O3 系ガラス、コーディエライト系結晶化ガラス等の低温焼成セラミック材料を用いることもできる。
(2)グリーンシートの切断とビアホールの形成
この後、テープ成形したセラミックグリーンシート1を、図1に示すように所定の寸法に切断し、図2に示すように、セラミックグリーンシート1の所定の位置にビアホール2をパンチング加工する。
(3)ビアホールへの導電性ペーストの充填と導電性ペーストによる配線パターンの形成
Ag粉末と、所定量の無機酸化物(SnO2またはSiO2のうち少なくとも1種類を含むもの)を被覆したAg粉末と、本発明の範囲内の適正量のPd粉末またはPt粉末とを含む導体粉末(例えば、85重量部)に対してエチルセルロースをターピネオールで溶解した有機ビヒクル(例えば、15重量部)を添加し、3本ロール装置を用いて十分に混練・分散することにより導電性ペーストを得ることができる。
【0028】
この導電性ペースト3を図3に示すようにビアホールへ充填し、且つこの導電性ペーストを用いて図4に示すような配線パターン4を、例えば、スクリーン印刷により形成する。
【0029】
なお、配線パターン用導電性ペーストとビアホール充填用導電性ペーストは同じ組成でも、異なる組成でもよい。配線パターン形成用導電性ペースト中のAg粉末は微細な配線パターンを形成するためには、ビアホール充填用導電性ペースト中のAg粉末より小径であるのが好ましい。
(4)グリーンシートの積層圧着
上記のような導電性ペーストの印刷終了後、図5に示すように、複数のグリーンシート1を積層圧着し一体化する。
(5)焼成
この後、焼成ピーク温度を800〜950℃(好ましくは900℃前後)とし、ピーク温度で10〜30分間保持の条件で焼成し、低温焼成セラミック多層回路基板を得ることができる。
【0030】
図6は、以上のセラミック多層回路基板の製造工程のフローを概略的に示す図である。
【0031】
なお、焼成工程において低温焼成用グリーンシート積層体の両面にアルミナグリーンシートを圧着し、加圧しながら、800〜950℃で焼成し、焼成後に低温焼成用グリーンシート積層体の両面のアルミナグリーンシートを除去する方法を採用することもできる。この方法によれば、焼結温度が高いアルミナグリーンシートは800〜950℃程度の温度では熱収縮しないので、低温焼成用グリーンシート積層体を上下両面で拘束するアルミナグリーンシートが熱収縮抑制シートとして作用し、低温焼成用グリーンシート積層体を構成する各グリーンシートの水平面内の熱収縮を抑えることができるという効果がある。
【0032】
【実施例】
以下に本発明の好ましい実施例を説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱しない範囲において適宜変更と修正が可能である。
【0033】
下記表1及び表2に示すように、無機酸化物を被覆しないAg粉末と、ゾル・ゲル法でSiO2 もしくはSnO2 を被覆したAg粉末と、Pd粉末もしくはPt粉末とを含有する導電性粉末85重量部、またはその導電性粉末に対してガラス転移点660℃、軟化点850℃のCaO−BaO−SiO2 系ガラスフリットを添加した導電性粉末85重量部に対して、有機ビヒクル(エチルセルロースをターピネオールで溶解したもの)を15重量部添加して、3本ロール装置を用いて十分に混練・分散することにより導電性ペーストを得た。
【0034】
セラミックグリーンシートとして、CaO−SiO2−Al2O3−B2O3 系ガラス70重量%とアルミナ30重量%を混合してなる、厚さ200μmのものを使用した。
【0035】
そのグリーンシートに、図2に示すように、直径0.2mmのビアホール2を形成し、図3に示すように、そのビアホール2内に表1、表2記載の各組成の導電性ペースト3を充填し、次に同導電性ペーストを用いてスクリーン印刷により図4に示すような配線パターン4を形成し、さらに、図5に示すように、導電部分を有するそのセラミックグリーンシート1を4枚積層し、ベルト式焼成炉にて、ピーク温度890℃、ピーク温度での保持時間20分の条件で焼成した。得られたセラミック多層回路基板の各特性を評価した結果を表1及び表2に示す。表1は、Ag粉末に被覆する無機酸化物がSiO2 でPd粉末を添加する場合、表2は、Ag粉末に被覆する無機酸化物がSnO2 でPt粉末を添加する場合を示す。また、表1と表2に示すビア導体抵抗は、「グリーンシートを4枚積層した状態で抵抗値を測定し、その抵抗値を4で除した数値」を示し、一般に、ビア導体抵抗は、2.0mΩ/ビア以下のものが実用的に好ましいとされている。表1と表2に示すビアの状態は、「焼成後のセラミック多層回路基板の外観を目視観察した結果」であり、空隙発生とは、ビアホールとセラミック基板との間に空隙が存在することが目視で認められたことを示し、突き出しとはビアホール側からセラミック基板に向けてビアホール充填導体の一部が突き出ている状態が認められたことを示す。
【0036】
【表1】
【0037】
【表2】
【0038】
表1および表2に明らかなように、本発明の実施例1〜8に係るものは、セラミックグリーンシートと同時に焼成してもビアホール充填導体周辺に空隙や突き出しが発生せず、かつビア導体抵抗値が低い。
【0039】
一方、比較例1と4にはSiO2 で被覆したAg粉末が添加されておらず、比較例2にはPd粉末が添加されておらず、比較例7にはPt粉末が添加されていないので、セラミック基板よりもビアホール充填導体の方が早く熱収縮してしまうために、ビアホールとセラミック基板との間に空隙が認められた。
【0040】
また、比較例3には多量のPd粉末が添加されており、比較例6にはAg粉末がなく、しかもAg粉末を被覆するSnO2 の量が多いので、ビアホール充填導体の熱収縮開始温度が高められ、ビアホール充填導体よりもセラミック基板の方が早く熱収縮を始める結果、ビアホール充填導体の一部がセラミック基板に向けて突き出ている状態が認められた。
【0041】
また、比較例5のものには、上記した空隙や突き出しは認められなかったが、ガラスフリットの添加量が多すぎるので、ビア導体抵抗値が極めて高く、実用に適さない。
【0042】
【発明の効果】
本発明は上記のとおり構成されているので、次の効果を奏する。
【0043】
セラミックグリーンシートと同時に焼成しても、セラミックとビアホール充填導体との間において、空隙や突き出しが発生せず、しかも、電気抵抗値の低いビアホール充填用導電性ペーストを提供することができる。このような導電性ペーストを使用して製造されたセラミック多層回路基板は、導体の接続信頼性が高く、且つ導体抵抗値が低くて電気特性が優れている。
【図面の簡単な説明】
【図1】セラミック多層回路基板の製造工程の一部(切断された成形グリーンシート)を示す断面図である。
【図2】セラミック多層回路基板の製造工程の一部(ビアホールの形成)を示す断面図である。
【図3】セラミック多層回路基板の製造工程の一部(ビアホールへの導電性ペーストの充填)を示す断面図である。
【図4】セラミック多層回路基板の製造工程の一部(配線パターンの形成)を示す断面図である。
【図5】セラミック多層回路基板の製造工程の一部(グリーンシートの積層圧着)を示す断面図である。
【図6】本発明のセラミック多層回路基板の製造工程のフローを概略的に示す図である。
【符号の説明】
1…セラミックグリーンシート
2…ビアホール
3…導電性ペースト
4…配線パターン
【発明の属する技術分野】
本発明は、高密度配線回路基板の製造に用いられるセラミック多層回路基板のビアホール充填用導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いたセラミック多層回路基板に関し、特に、低温焼成に適したセラミック多層回路基板用のビアホール充填用導体材料の改良技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
高密度配線回路基板としてセラミック多層回路基板が幅広く用いられている。そのセラミック多層回路基板は一般にセラミックグリーンシートを積層する方法によって次のような手順で製造される。
【0003】
まず、図1に示す所定寸法の複数枚のセラミックグリーンシート1に、図2に示すように、層間接続用にビアホール2をパンチングまたはレーザー加工などで形成した後、図3に示すように、各セラミックグリーンシート1のビアホール2に導電性ペースト3を充填してビア導体を形成し、次いで、図4に示すように、導電性ペーストによる配線パターン4をスクリーン印刷等により形成する。その後、図5に示すように、導電部分を有する複数枚のセラミックグリーンシート1を積層・圧着し、所定の温度で焼成することによりセラミック多層回路基板が製造される。
【0004】
現在用いられるセラミック多層回路基板は、アルミナ等の1300℃以上で焼成される高温焼成セラミック多層回路基板と、約1000℃以下で焼成される低温焼成セラミック多層回路基板に大別される。
【0005】
高温焼成セラミック多層回路基板の導体材料としては、Mo、W等が用いられるが、これらの酸化物は電気抵抗が高いために、酸化を避けるために還元雰囲気で焼成しなければならないという煩わしさがある上に、焼成後の導体の抵抗値が比較的高いという欠点がある。
【0006】
これに対して、低温焼成セラミック多層回路基板は、電気抵抗値の低いAg、Ag−Pt、Ag−Pdなどが利用できるので、電気特性に優れており、空気中で焼成できるという利点がある。
【0007】
しかし、Ag系の導体と低温焼成用セラミックでは、両者の熱収縮挙動が大きく異なる。Agが400℃付近から熱収縮するのに対し、低温焼成用セラミックはガラスを主成分としており、ガラスが溶解する700℃付近から熱収縮が始まるという挙動を示す。
【0008】
そのため、低温焼成用セラミックとAg系導体を同時に焼成すると、400〜700℃の範囲の温度領域では収縮率の差が大きくなりやすい。両者の収縮率の差が大きくなると、図5のセラミックグリーンシート1、1の接合部に大きな応力が発生して焼成基板が反ったり、接合強度が低下したり、場合によっては、表層の導体が剥がれるという不具合が発生する。
【0009】
ビアホール2に充填した導体についても同様に、セラミックとの収縮率の差が大きいとき、例えば、セラミックよりビアホール充填導体の方が早く熱収縮を始める場合には、セラミックとビアホールに充填した導体との間に空隙が発生しやすく、ビアホール充填導体の熱収縮が抑えられることでビアホール充填導体よりセラミックの方が早く熱収縮を始める場合には、ビアホールに充填した導体の一部がセラミック側に突き出すという不具合が発生することがある。その結果、ビアホールに充填した導体と配線パターンとの間に断線が起こることがある。
【0010】
この問題を解決するため、従来から用いられているビアホール充填用導電性ペーストでは、ガラスフリット、Al2O3、MgO、CaO、SiO2 などの無機酸化物を導体に添加することで、導体の熱収縮挙動を低温焼成用セラミック材料の熱収縮挙動に極力あわせて、上記したような空隙の発生や突き出しによる断線などの不具合を解消することが提案されている。
【0011】
また、セラミック成形体と同時に焼成する時において、セラミック成形体の収縮終了温度より高い収縮開始温度を有する導電性ペーストとして、AgをAl2 O3、ZrO2、TiO2、BaOまたはCaOで被覆した導電成分を有機ビヒクルに分散したものが提案されている。(例えば、特許文献1参照)。
【0012】
【特許文献1】特開平11−353939号公報
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、導体中にガラスフリットや無機酸化物を添加した場合、電気抵抗値の上昇につながり、基板の電気特性を低下させることになる。
【0014】
また、特許文献1に記載された導電性ペーストは、Agを高融点の金属酸化物で被覆したものであり、本発明の対象とする低温焼成セラミック多層回路基板の導体材料としては不向きである。
【0015】
本発明は従来の技術の有するこのような問題点に鑑みてなされたものであって、その目的は、セラミックグリーンシートと同時に焼成しても、セラミックとビアホール充填導体との間において、上記した空隙や突き出しが発生せず、しかも、電気抵抗値の低いビアホール充填用導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いたセラミック多層回路基板を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明にかかるビアホール充填用導電性ペーストは、Ag粉末と、無機酸化物を被覆したAg粉末と、これらAg粉末の合計重量に対してPd粉末またはPt粉末を0.1〜3.0重量%含んでいる。無機酸化物を被覆したAg粉末と、熱収縮開始温度の高い適正量のPd粉末またはPt粉末を含むことにより、ビアホール充填導体とセラミックとの収縮率の差を小さくしてセラミックとビアホール充填導体との間において空隙や突き出しが発生せず、しかも電気抵抗値の上昇量を抑えることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
すなわち、本発明のビアホール充填用導電性ペーストは、Ag粉末と、無機酸化物を被覆したAg粉末と、これらAg粉末の合計重量に対してPd粉末またはPt粉末を0.1〜3.0重量%含むことを特徴としている。
【0018】
無機酸化物を被覆したAg粉末を含むことにより、セラミックとの収縮率の差を小さくすることができるが、無機酸化物は電気抵抗を上昇させる物質でもあるから、導体成分である高融点のPd粉末またはPt粉末を含むことが好ましい。しかしながら、Ag粉末の合計重量に対するPd粉末またはPt粉末の添加量が0.1重量%未満では、熱収縮開始温度を高めることができず、セラミックの収縮率との大きな差を埋めることができないので、セラミックよりも早く熱収縮を始めるビアホール充填導体とセラミック基板との間に空隙が発生する。一方、Ag粉末の合計重量に対するPd粉末またはPt粉末の添加量が3.0重量%を超えると、ビアホール充填導体の熱収縮開始温度が高められ、ビアホール充填導体よりもセラミック基板の方が早く熱収縮を始める結果、ビアホール充填導体の一部がセラミック基板側に突き出ることがある。そこで、Ag粉末の合計重量に対してPd粉末またはPt粉末を0.1〜3.0重量%含むことにより、ビアホール充填導体とセラミック基板の熱収縮時に空隙や突き出しが発生しないようにすることができる。
【0019】
焼成時のセラミックの収縮率との差を小さくするためには、Ag粉末を被覆する無機酸化物の種類が重要である。かかる無機酸化物としては、SnO2 またはSiO2 のうち少なくとも一種類を含むものが好ましい。というのは、SnO2 はAgとの親和力が強くてAgと強固に接合するのでAgはSnO2 で確実に被覆され、一方、SiO2 はセラミックの主成分でもあるから、SnO2 またはSiO2 のいずれの無機酸化物でAg粉末を被覆した場合においてもセラミックとAg粉末との熱収縮挙動が類似したものになることが期待できるからである。
【0020】
Ag粉末に無機酸化物であるSnO2 またはSiO2 を被覆する方法としては、例えば、適切な有機溶媒中で適切な触媒を用いて、Ag粉とSnまたはSi含有有機化合物と水を反応(加水分解と縮合によるゾル・ゲル反応)させて、SiO2系ゲルコーティング膜またはSnO2系ゲルコーティング膜をAg粉末の表面に形成させ、乾燥させるという方法(以下、本明細書において、「ゾル・ゲル法」という)を採用することができる。乾燥後ケーキ状に凝集していれば、これを粉砕機で粉砕することにより、SnO2 またはSiO2 を被覆したAg粉末を得ることができるが、この方法以外の他の被覆法を採用することも、もちろんできる。
【0021】
Ag粉末に対する無機酸化物の被覆量が少なすぎると、セラミックとの収縮率の差を低減する効果が小さく、一方、Ag粉末に対する無機酸化物の被覆量が多すぎると、電気抵抗値の上昇を招くことになる。そこで、無機酸化物の被覆量は、Ag粉末の合計重量に対して、0.1〜0.7重量%の範囲であるのが好ましい。
【0022】
有機ビヒクルとしては、特に限定されるものではないが、エチルセルロースをターピネオール等で溶解したものを好適に用いることができる。
【0023】
また、導電性ペースト中における導体(Ag粉末と無機酸化物被覆Ag粉末とPd粉末もしくはPt粉末)と有機ビヒクルの配合割合は、導体70〜90重量部に対して、有機ビヒクル10〜30重量部であって、合計で100重量部であるのが好ましい。導体が70重量部未満(有機ビヒクルが30重量部超)では、ペースト膜の乾燥性が悪くなるともに、導体不足により導通不足が起こるという欠点がある。一方、導体が90重量部超(有機ビヒクルが10重量部未満)では、ペースト状態にするのが困難であるという欠点がある。
【0024】
セラミックとの収縮率の差を小さくし、しかも電気抵抗の増加を抑制するためには、Ag粉末と無機酸化物被覆Ag粉末の合計100重量部に対して、無機酸化物を被覆したAg粉末が20〜80重量部であるのが好ましい。Ag粉末が20重量部未満(無機酸化物被覆Ag粉末が80重量部超)では電気抵抗が増加し、Ag粉末が80重量部超(無機酸化物被覆Ag粉末が20重量部未満)ではセラミックとの収縮率の差を小さくすることができない。
【0025】
複数のセラミック焼結層と前記セラミック焼結層の内部および/または表面に形成される導電部分を有するセラミック多層回路基板において、以上のように構成される導電性ペーストを焼結したものがビアホールに充填する導電成分であれば、ビアホール周辺に空隙や突き出しが発生せず、電気抵抗値の低いセラミック多層回路基板を提供することができる。
【0026】
本発明の低温焼成セラミック多層回路基板は以下のような方法で製造することができる。
(1)セラミックグリーンシートの成形
まず、低温焼成用セラミックグリーンシートを、ドクターブレード法等でテープ成形する。
【0027】
低温焼成用セラミックとしては、例えば、CaO−SiO2−Al2O3−B2O3 系ガラス50〜70重量%とアルミナ30〜50重量%との混合物(合計100重量%)を用いることができる。この他、PbO−SiO2−B2O3 系ガラスとアルミナの混合物、MgO−Al2O3−SiO2−B2O3 系ガラス、コーディエライト系結晶化ガラス等の低温焼成セラミック材料を用いることもできる。
(2)グリーンシートの切断とビアホールの形成
この後、テープ成形したセラミックグリーンシート1を、図1に示すように所定の寸法に切断し、図2に示すように、セラミックグリーンシート1の所定の位置にビアホール2をパンチング加工する。
(3)ビアホールへの導電性ペーストの充填と導電性ペーストによる配線パターンの形成
Ag粉末と、所定量の無機酸化物(SnO2またはSiO2のうち少なくとも1種類を含むもの)を被覆したAg粉末と、本発明の範囲内の適正量のPd粉末またはPt粉末とを含む導体粉末(例えば、85重量部)に対してエチルセルロースをターピネオールで溶解した有機ビヒクル(例えば、15重量部)を添加し、3本ロール装置を用いて十分に混練・分散することにより導電性ペーストを得ることができる。
【0028】
この導電性ペースト3を図3に示すようにビアホールへ充填し、且つこの導電性ペーストを用いて図4に示すような配線パターン4を、例えば、スクリーン印刷により形成する。
【0029】
なお、配線パターン用導電性ペーストとビアホール充填用導電性ペーストは同じ組成でも、異なる組成でもよい。配線パターン形成用導電性ペースト中のAg粉末は微細な配線パターンを形成するためには、ビアホール充填用導電性ペースト中のAg粉末より小径であるのが好ましい。
(4)グリーンシートの積層圧着
上記のような導電性ペーストの印刷終了後、図5に示すように、複数のグリーンシート1を積層圧着し一体化する。
(5)焼成
この後、焼成ピーク温度を800〜950℃(好ましくは900℃前後)とし、ピーク温度で10〜30分間保持の条件で焼成し、低温焼成セラミック多層回路基板を得ることができる。
【0030】
図6は、以上のセラミック多層回路基板の製造工程のフローを概略的に示す図である。
【0031】
なお、焼成工程において低温焼成用グリーンシート積層体の両面にアルミナグリーンシートを圧着し、加圧しながら、800〜950℃で焼成し、焼成後に低温焼成用グリーンシート積層体の両面のアルミナグリーンシートを除去する方法を採用することもできる。この方法によれば、焼結温度が高いアルミナグリーンシートは800〜950℃程度の温度では熱収縮しないので、低温焼成用グリーンシート積層体を上下両面で拘束するアルミナグリーンシートが熱収縮抑制シートとして作用し、低温焼成用グリーンシート積層体を構成する各グリーンシートの水平面内の熱収縮を抑えることができるという効果がある。
【0032】
【実施例】
以下に本発明の好ましい実施例を説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱しない範囲において適宜変更と修正が可能である。
【0033】
下記表1及び表2に示すように、無機酸化物を被覆しないAg粉末と、ゾル・ゲル法でSiO2 もしくはSnO2 を被覆したAg粉末と、Pd粉末もしくはPt粉末とを含有する導電性粉末85重量部、またはその導電性粉末に対してガラス転移点660℃、軟化点850℃のCaO−BaO−SiO2 系ガラスフリットを添加した導電性粉末85重量部に対して、有機ビヒクル(エチルセルロースをターピネオールで溶解したもの)を15重量部添加して、3本ロール装置を用いて十分に混練・分散することにより導電性ペーストを得た。
【0034】
セラミックグリーンシートとして、CaO−SiO2−Al2O3−B2O3 系ガラス70重量%とアルミナ30重量%を混合してなる、厚さ200μmのものを使用した。
【0035】
そのグリーンシートに、図2に示すように、直径0.2mmのビアホール2を形成し、図3に示すように、そのビアホール2内に表1、表2記載の各組成の導電性ペースト3を充填し、次に同導電性ペーストを用いてスクリーン印刷により図4に示すような配線パターン4を形成し、さらに、図5に示すように、導電部分を有するそのセラミックグリーンシート1を4枚積層し、ベルト式焼成炉にて、ピーク温度890℃、ピーク温度での保持時間20分の条件で焼成した。得られたセラミック多層回路基板の各特性を評価した結果を表1及び表2に示す。表1は、Ag粉末に被覆する無機酸化物がSiO2 でPd粉末を添加する場合、表2は、Ag粉末に被覆する無機酸化物がSnO2 でPt粉末を添加する場合を示す。また、表1と表2に示すビア導体抵抗は、「グリーンシートを4枚積層した状態で抵抗値を測定し、その抵抗値を4で除した数値」を示し、一般に、ビア導体抵抗は、2.0mΩ/ビア以下のものが実用的に好ましいとされている。表1と表2に示すビアの状態は、「焼成後のセラミック多層回路基板の外観を目視観察した結果」であり、空隙発生とは、ビアホールとセラミック基板との間に空隙が存在することが目視で認められたことを示し、突き出しとはビアホール側からセラミック基板に向けてビアホール充填導体の一部が突き出ている状態が認められたことを示す。
【0036】
【表1】
【0037】
【表2】
【0038】
表1および表2に明らかなように、本発明の実施例1〜8に係るものは、セラミックグリーンシートと同時に焼成してもビアホール充填導体周辺に空隙や突き出しが発生せず、かつビア導体抵抗値が低い。
【0039】
一方、比較例1と4にはSiO2 で被覆したAg粉末が添加されておらず、比較例2にはPd粉末が添加されておらず、比較例7にはPt粉末が添加されていないので、セラミック基板よりもビアホール充填導体の方が早く熱収縮してしまうために、ビアホールとセラミック基板との間に空隙が認められた。
【0040】
また、比較例3には多量のPd粉末が添加されており、比較例6にはAg粉末がなく、しかもAg粉末を被覆するSnO2 の量が多いので、ビアホール充填導体の熱収縮開始温度が高められ、ビアホール充填導体よりもセラミック基板の方が早く熱収縮を始める結果、ビアホール充填導体の一部がセラミック基板に向けて突き出ている状態が認められた。
【0041】
また、比較例5のものには、上記した空隙や突き出しは認められなかったが、ガラスフリットの添加量が多すぎるので、ビア導体抵抗値が極めて高く、実用に適さない。
【0042】
【発明の効果】
本発明は上記のとおり構成されているので、次の効果を奏する。
【0043】
セラミックグリーンシートと同時に焼成しても、セラミックとビアホール充填導体との間において、空隙や突き出しが発生せず、しかも、電気抵抗値の低いビアホール充填用導電性ペーストを提供することができる。このような導電性ペーストを使用して製造されたセラミック多層回路基板は、導体の接続信頼性が高く、且つ導体抵抗値が低くて電気特性が優れている。
【図面の簡単な説明】
【図1】セラミック多層回路基板の製造工程の一部(切断された成形グリーンシート)を示す断面図である。
【図2】セラミック多層回路基板の製造工程の一部(ビアホールの形成)を示す断面図である。
【図3】セラミック多層回路基板の製造工程の一部(ビアホールへの導電性ペーストの充填)を示す断面図である。
【図4】セラミック多層回路基板の製造工程の一部(配線パターンの形成)を示す断面図である。
【図5】セラミック多層回路基板の製造工程の一部(グリーンシートの積層圧着)を示す断面図である。
【図6】本発明のセラミック多層回路基板の製造工程のフローを概略的に示す図である。
【符号の説明】
1…セラミックグリーンシート
2…ビアホール
3…導電性ペースト
4…配線パターン
Claims (5)
- セラミック多層回路基板のビアホールに充填するための導電性ペーストであって、Ag粉末と、無機酸化物を被覆したAg粉末と、これらAg粉末の合計重量に対してPd粉末またはPt粉末を0.1〜3.0重量%含むことを特徴とするビアホール充填用導電性ペースト。
- Ag粉末を被覆する無機酸化物が、SnO2またはSiO2のうち少なくとも一種類を含む請求項1記載のビアホール充填用導電性ペースト。
- Ag粉末を被覆する無機酸化物の被覆量がAg粉末の合計重量に対して、0.1〜0.7重量%の範囲である請求項1または2記載のビアホール充填用導電性ペースト。
- Ag粉末の合計量100重量部に対して、無機酸化物を被覆したAg粉末が20〜80重量部である請求項1、2または3記載のビアホール充填用導電性ペースト。
- 複数のセラミック焼結層と前記セラミック焼結層の内部および/または表面に形成される導電部分を有するセラミック多層回路基板であって、層間を接続する導電部分であるビアホールに充填する導電成分は、請求項1ないし4のいずれかに記載の導電性ペーストを焼成して形成されたものであることを特徴とするセラミック多層回路基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003079937A JP2004288915A (ja) | 2003-03-24 | 2003-03-24 | ビアホール充填用導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いたセラミック多層回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004288915A true JP2004288915A (ja) | 2004-10-14 |
Family
ID=33293928
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003079937A Pending JP2004288915A (ja) | 2003-03-24 | 2003-03-24 | ビアホール充填用導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いたセラミック多層回路基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004288915A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR100762824B1 (ko) | 2006-11-29 | 2007-10-04 | 전자부품연구원 | 도전성 페이스트 및 다층 세라믹 기판 |
JP2007294731A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Kyoto Elex Kk | 導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いたセラミック多層回路基板並びにそのセラミック多層回路基板の製造方法 |
US8053682B2 (en) | 2008-08-28 | 2011-11-08 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Multilayer ceramic substrate |
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2003
- 2003-03-24 JP JP2003079937A patent/JP2004288915A/ja active Pending
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|
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|
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|
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