JPH0152359B2 - - Google Patents

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JPH0152359B2
JPH0152359B2 JP54046783A JP4678379A JPH0152359B2 JP H0152359 B2 JPH0152359 B2 JP H0152359B2 JP 54046783 A JP54046783 A JP 54046783A JP 4678379 A JP4678379 A JP 4678379A JP H0152359 B2 JPH0152359 B2 JP H0152359B2
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JP
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ktioxo
flux
temperature
tio
crystals
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JP54046783A
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JPS54145398A (en
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Yuujin Jiaa Saaman
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EIDP Inc
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EI Du Pont de Nemours and Co
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Publication date
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Publication of JPH0152359B2 publication Critical patent/JPH0152359B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B25/00Phosphorus; Compounds thereof
    • C01B25/16Oxyacids of phosphorus; Salts thereof
    • C01B25/26Phosphates
    • C01B25/37Phosphates of heavy metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B25/00Phosphorus; Compounds thereof
    • C01B25/16Oxyacids of phosphorus; Salts thereof
    • C01B25/26Phosphates
    • C01B25/45Phosphates containing plural metal, or metal and ammonium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B9/00Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents

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  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はKTiOPO4およびその類似化合物の光
学的に有用な大きな単結晶を製造する方法に関す
る。
非線形光学装置におけるMTiOXO4(式中、M
はK、RbまたはTlの少なくとも1種であり、X
はPおよび/またはAsである)の単結晶の使用
は米国特許3949323に開示されている。たいてい
の光学用途には、1mm以上というような大きさの
光学級の結晶が要求される。上記の米国特許は水
熱法によるこのような結晶の製法を開示してい
る。
エル・マス(R.Masse)およびジ・セ・グルニ
エ(J.C.Grenier)、Bull.Soc.Mineral
Crystallogr.94、437−439(1971)には、KPO3
TiO2を900〜1200℃の温度に加熱し、次に約80
℃/hrの速度で冷却することによるKTiOPO4
(および類似化合物のRbTiOPO4とTlTiOPO4
の粉末の製造が報告されている。過剰のKPO3
水洗により除去される。KPO3/TiO2の比は4か
ら1.0までの範囲内であり、生成物にはKTiOPO4
とKTi2(PO43の2相が常に認められる。
上記のマス他の融剤法により製造された
KTiOPO4結晶の結晶構造の決定はイー・トルジ
ユマン(I.Torajman)他、Zeit.fur Krist.139
103−115(1974)に開示されている。
グメリン・ハントブツフ(The Gmelin
Handbuch)41巻、Ti、8版(1951)によると、
エル・ウーヴアール(L.Ouvard)(Comptes
rendus 111、177−179、1890年)はTiO2水和物
をK4P2O7およびK3PO4と共に融解することによ
りKTiO(PO4)を生成させている。
本発明は、非線形光学装置に用いるのに十分な
大きさの光学級のKTiOXO4の単結晶の製造方法
を提供する。上記式中、XはPおよび/または
Asである。単結晶の製造法には、温度勾配法お
よび均一加熱徐冷法が一般によく知られている。
MがK、RbまたはTlの少なくとも1種である場
合、KTiOXO4と水を含まない融剤M/X/Oと
からなるまたはこれらの前駆物質からなる出発原
料からMTiOXO4の単結晶を製造するに当つて
も、これらの技法を適用できる。すなわち、 A 温度勾配法 (1) 到達する最高温度で融剤M/X/Oに対し
て過剰の固体MTiOXO4が存在するという混
合比の原料の場合には、これを高温帯域が約
800〜1000℃の温度範囲で、低温帯域が高温
帯域より約10〜135℃だけ低温の温度範囲と
なる温度勾配で加熱して、融解体を形成し、 (2) この温度勾配を約3日間ないし3週間維持
して結晶を成長させ、 (3) MTiOXO4の単結晶を冷却し、回収でき
る。また、 B 均一加熱徐冷法 (1) 到達する最高温度でMTiOXO4に対して過
剰のM/X/O融剤が存在するという混合比
の原料の場合には、これを透明な溶液が得ら
れるで約700〜1100℃の温度に均一に加熱し、 (2) 得られた溶液を5℃/hr以下の速度で徐冷
して、MTiOXO4を晶出させ、これを回収で
きる。
本発明は、KTiOXO4と水を含まない融剤K/
X/Oとからなるまたはこれらの前駆物質からな
る出発原料から、前記のような温度勾配法または
均一加熱徐冷法によつてKTiOXO4の単結晶を製
造するにあたり、出発原料における成分比率が、
K2O/X2O5/(TiO22の3成分系状態図におい
て、生成物であるPna21型KTiOXO4が融解した
融剤と平衡状態にある唯一の安定固体相となる領
域内にあるという条件を満足する原料を使用する
ことを特徴とする。
好適な不均一(すなわち温度勾配のある)加熱
法である方法Aにおいて、原料の混合比は高温帯
域において過剰の固体KTiOXO4が常に存在す
る、すなわちKTiOXO4:融剤の比は飽和値より
大きいという要件を満たす。一般にはこの比は高
温帯域の温度に応じて約0.25ないし20またはそれ
以上に及ぶ。均一加熱法である方法Bにおいて
は、この逆で、到達する最高温度でKTiOXO4
融剤の比は飽和値より低い。一般にこの比は、到
達する最高温度と完全な溶解が起るときの混合物
の組成に応じて約0.25ないし10に及ぶ。この方法
では、冷却は一般に約600〜800℃で材料の固化が
起るまでは5℃/hrをこえない速度で行ない、そ
の後は室温へ急冷して、KTiOXO4の結晶を回収
する。
K/X/O融剤は、酸化物のK2OおよびX2O5
またはこれらの前駆物質、たとえば加熱工程中の
酸化物を生ずるようなKの炭酸塩もしくは硝酸塩
またはXのアンモニウム塩からなる。融剤は
KH2XO4とK2HXO4の混合物から形成すること
ができ、両者の使用量の適当な選択により、原料
成分の最初の混合比が3成分系状態図の適正領域
内に含まれるようにK/X比を調整することがで
きる。融剤の一部として使用できる他の材料には
KHCO3、K2CO3、KNO3、NH4H2XO4
(NH42HXO4などがある。
TiO2も原料として使用でき、この場合には
KTiOXO4は加熱中に形成される。この方法を採
用する場合には、KとXの存在量は、TiO2と化
合してKTiOXO4を形成する以外に、K/X/O
融剤も形成するように充分に大きくしなければな
らない。
本発明は、使用温度で安定な白金その他の貴金
属製の容器に原料成分を入れ、容器とその内容物
を加熱処理することにより実施される。
温度勾配法Aにおいては、その周囲に結晶成長
を生じさせるKTiOXO4の適当に保持された小結
晶を低温帯域の領域内に挿入することにより、結
晶成長のさらに大きな制御が得られる。これは、
容器の壁面で自然に核発生を生じさせるよりは好
ましい。
約1050℃より高温のK組成物では、融剤の一部
がやや揮発性であるが、これは結晶成長を密閉容
器内で行うことにより制御できる。
XがPおよび/またはAsであるKTiOXO4の光
学的に有用な大きな結晶を、溶融した非水融剤か
ら成長させると、従来使用されてきた水熱法に比
べていくつかの利点が得られる。本発明の方法
は、あまり複雑な装置を必要としないより経済的
な低圧法であつて、製造速度もより大きくなる。
K2O/X2O5/(TiO22の3成分系状態図におい
て、目的生成物であるPna21型のKTiOXO4が融
解した融剤と平衡状態にある唯一の安定固体相と
なる領域内にある原料成分の混合比で操作を開始
することが必要である。状態図のこの領域を見つ
けるのに使用された一般的な方法は、K2O/
X2O5/(TiO22の3成分系のさまざまの化学量
論を用意することであつた。それには、この3成
分系状態図のある組成に相当するTiO2
KH2XO3、K2CO3、X2O5、KHCO3および/また
はNH4H2XO4のさまざまの組み合せの混合物を
調整した。この組成物を800℃に少なくとも12時
間保持して、確実に平衡状態にした後、空気で急
冷した。得られた物質の熱湯で洗浄して、水溶性
の融剤を除去した。その後X線粉末回折図を用い
て、800℃で融剤と平衡状態にあつた固体相を測
定した。こうして、800℃で融剤と平衡状態にあ
る相がKTiOXO4の1相だけという状態に対応す
る状態図の領域を確定した。800℃以外の温度で
はこの安定領域がいくらか変動することが予想さ
れるが、この変動は主にそれぞれの溶解度内であ
るから、800℃で見出された領域は、それよりや
や高温または低温で用いるべき各成分の混合比の
規準となろう。なお、本発明の方法は、Kに換え
てK、RbまたはTlの少なくとも1種を用いても
実施できる。
第1図は800℃でのK2O/P2O5/(TiO22の3
成分系状態図を示す。原料の混合比がABC三角
形領域の中にあるときは、KTiOPO4が融剤と平
衡状態にある唯一の固体相である。A、B、Cの
各点での各相のモル分率は次のとおり廃ある。
K2O P2O5 (TiO2)2 A 0.333 0.333 0.333 B 0.50 0.43 0.07 C 0.585 0.32 0.095 BC線は融剤中のKTiOPO4の溶解度を表わす。
この線は温度変化に敏感である。温度が高くなる
ほど、BC線は状態図の中心、すなわち点Aで表
わされるKTiOPO4組成の方に移動する。1150℃
でKTiOPO4自体が融解し、三角形の単一相領域
ABCは存在しなくなる。
第1図には、TiO2をさまざまの量のKPO3また
はK4P2O7およびK3PO4と共に使用した上記のマ
スその他ならびにウーヴアールによる調査領域も
示されている。これらの組成ではKTiOPO4は存
在する複数の固体相の1つにすぎない。
第2図は800℃でのRb2O/P2O5/(TiO22
3成分系状態図を示す。DEFの三角形領域の内
部では、点Dで表わされるRbTiOPO4が融剤と
平衡状態にある唯一の固体相である。各点での対
応するモル分率は次のとおりである。
Rb2O P2O5 (TiO2)2 D 0.333 0.333 0.333 E 0.490 0.430 0.080 F 0.595 0.320 0.085 第3図は800℃でのTl2O/P2O5/(TiO22
3成分系状態図を示す。GHIの三角形領域の内
部では、点Gで表わされるTlTiOPO4が融剤と平
衡状態にある唯一の固体相である。各点でのモル
分率は次のとおりである。
Tl2O P2O5 (TiO2)2 G 0.333 0.333 0.333 H 0.540 0.390 0.070 I 0.650 0.300 0.050 第4図はK2O/As2O5/(TiO22の3成分系状
態図を示す。JKLの三角形領域で包囲される区域
においては、点Jで表わされるKTiOAsO4が融
剤と平衡状態にある唯一の固体相である。各点で
のモル分率は次のとおりである。
K2O As2O5 (TiO2)2 J 0.333 0.333 0.333 K 0.390 0.600 0.01 L 0.635 0.320 0.045 第5図はRb2O/As2O5/(TiO22の3成分系
状態図を示す。MNOの三角形領域の内部では、
点Mで表わされるRbTiOAsO4が融剤と平衡状態
にある唯一の固体相である。各点でのモル分率は
次のとおりである。
Rb2O As2O5 (TiO2)2 M 0.333 0.333 0.333 N 0.44 0.50 0.06 O 0.64 0.30 0.06 第6図はTl2O/As2O5/(TiO22の3成分系
状態図を示す。PQRの三角形領域の内部では、
点Pで表わされるTlTiOAsO4が融剤と平衡状態
にある唯一の固体相である。各点でのモル分率は
次のとおりである。
Tl2O As2O5 (TiO2)2 P 0.333 0.333 0.333 Q 0.330 0.640 0.030 R 0.600 0.375 0.025 第7図はRbKO/P2O5/(TiO22の3成分系
状態図を示す。STUの三角形領域の内部では、
点Sで表わされるPna21構造の(K、Rb)
TiOPO4が融剤と平衡状態にある唯一の固体相で
ある。各点でのモル分率は次のとおりである。
RbKO P2O5 (TiO2)2 S 0.333 0.333 0.333 T 0.445 0.460 0.095 U 0.625 0.315 0.060 本発明による単結晶の好適な製法は、状態図の
適当な領域(例、KTiOPO4では第1図のABCの
領域)の内部のある組成に相当する混合比で原料
成分を混合し、これらの成分を白金容器に入れ、
高温帯域が約800ないし1000℃で、低温帯域がそ
れより約10ないし1350℃低い温度である温度勾配
を垂直または水平のいずれかの方向において容器
内に確立することからなる。この温度勾配を約3
日間ないし約3週間維持した後、容器を冷却し、
内容物を取り出し、低温帯域の部分の物質を熱湯
で洗浄して融剤を溶出させ、KTiOXO4の結晶を
回収する。融剤の溶出を促進するために酸性化し
た熱湯を使用するのが有利なことも多い。
多くの光学用途には、Xが1種類の上記元素か
らなるときにすぐれた結晶特性が得られよう。し
かし、Xが2種以上の元素の混合物である結晶も
この方法で成長させることができる。Kに換えて
K、RbまたはTlの2種類以上を用いた場合も同
様である。
以下の実施例は本発明の方法の例示を目的と
し、本発明の範囲を制限するものではない。
実施例 1 等モル量のKH2PO4とK2HPO4をいつしよに加
熱して調製したK/P比が1.5のK5P4O13融剤10
gを、粉末状KTiOPO410gにまぜた混合物を、
直径0.5インチ(1.27cm)×長さ7インチ(17.78
cm)の垂直白金管に真空下で密封した。この管を
1050℃に加熱し、60時間温度保持して流体系を均
質化した後、5℃/hrの速度で600℃まで冷却し
た。空気中で急冷した後、固化したロツドから白
金管をはぎ取つた。
H3PO4で酸性化した熱湯を用いて融剤を溶出
させた。3×2×2mmまでの寸法のKTiOPO4
結晶が回収された。
実施例 2 粉末状TiO22.40g、KH2PO49.84gおよび
K2HPO43.55gからなる混合物をよく混合し、予
備溶融してH2Oを追い出し、KTiOPO4を形成し
た。この混合物はKTiOPO45.94gとK/P比が
1.325の融剤8.20gとの混合物に相当する。生成
物を25c.c.の白金るつぼに入れ、900〜1000℃に約
15時間加熱し、次いで1100℃に2時間加熱して溶
液をさらに均質化した後、別の炉に移し、950℃
から685℃まで2℃/hrの速度で徐冷した。その
後るつぼを空気中で急冷した。るつぼの内容物を
取り出し、熱湯を用いて融剤を溶解した。回収さ
れたのは3×2×2mmまでの寸法の透明な
KTiOPO4結晶3.65gであつた。
実施例 3 TiO21.60g、KH2AsO422.84gおよび
KHCO33.0gからなる混合物を25mlの白金るつぼ
に入れ、1050℃に約15時間加熱して透明な溶液を
得た。この混合物は、KTiOAsO44.84gが融剤
(K/As=1.3)17.64g中とけているものに相当
する。温度を低下させ、融解体を960℃から756℃
までは5℃/hrの速度で冷却した。その後るつぼ
を575℃に急冷し、さらに空気中で冷却させてか
ら、内容物を取り出した。融剤を熱湯で溶出させ
ると、3×2×2mmまでの寸法の淡黄色の
KTiOAsO4の結晶2.85gが回収された。
実施例 4 TiO26.48g、KH2PO437.0gおよび
K2HPO433.25gからなる混合物を長さ6インチ
(15.2cm)、容積40c.c.の白金容器に入れた。この混
合物はKTiOPO416.0gと融剤(K/P=1.5)54
gとの混合物に相当する。1000℃に加熱して冷却
すると、容器内にはガラスが形成されていた。こ
の混合物に対する飽和温度は約600〜650℃であ
る。その後、高温帯域となる方のガラス物質の上
にKTiOPO4結晶10.8gを置いた。装入物の合計
は融剤1g当り0.5gのKTiOPO4に相当する。容
器を800℃に加熱して融剤を溶解させ、その後880
℃〜747℃の温度勾配を確立した。6-3/4日後、
容器を炉内で室温まで冷却し、内容物を熱湯で洗
浄して融剤を溶出させた。高温帯域側からは移動
しなかつたKTiOPO42.22gが回収され、低温帯
域側からは5×4×4mmまでの寸法の光学級の
KTiOPO4結晶7.19gが回収された。
実施例 5 直径1.5インチ(3.8cm)、長さ約5インチ(12.7
cm)の白金るつぼをタテ型炉に入れ、るつぼの上
端と下端の間に温度勾配が確立されるように配置
した。るつぼにK/P比が1.5のKH2PO4
K2HPO4との融剤の混合物416gと、
KTiOPO4248g(すなわち、融剤1gにつき0.80
gのKTiOPO4)を装入した。この混合物に対す
る飽和温度は930℃である。930℃より低温では過
剰のKTiOPO4が存在する。融解体の上方に
KTiOPO4の種晶を吊り下げ、るつぼの上部を
912℃、下部を925℃の温度に約15時間保持した。
その後、種晶を融解体の上部(低温部)まで下降
させ、るつぼの上部を906〜909℃、下部を922〜
924℃の温度に維持しながら種晶をその位置に約
147時間保持した。その後、種晶を融解体の中で
1日に約0.4mmの速度でゆつくりと引き上げた。
引き上げは5日間続けたが、その間もるつぼの下
部は924〜925℃、上部は908〜910℃の温度に保持
した。5日間の引き上げ完了後、種晶を融解体か
ら完全に取り出したが、種晶を炉から出す前に炉
を約20時間放冷させた。大きな平たいKTiOPO4
の結晶が房状の種晶上に成長していた。その後こ
の結晶の房から超音波水浴を用いて融剤を洗浄除
去した。房の全重量は9.8gであつた。光学的に
透明な最大の結晶の寸法はほぼ15×8×2mmであ
つた。
なお、RbTiOPO4、TlTiOPO4、TlTiOAsO4
RbTiOAsO4および(K、Rb)TiOPO4の結晶
も、それぞれ第2,3,6,5または7図に示し
た所望の三角形領域内に入るような適当な比率の
原料成分を用いて、実施例1または5の製造法に
したがつて調製できる。
前出の実施例から、工業的に有用な高品質の大
きな結晶は実施例5の方法により最もよく製造で
きることが理解されよう。
以上詳述したように、本発明の方法は、特にパ
ラメトリツク増幅器、発振器および第二高調波発
生器のような非線形光学装置における非線形結晶
要素として使用するのに充分な大きさの光学級の
KTiOXO4の単結晶の製法として工業的に有用で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図、第4図は、本発明のPna21
KTiOXO4が融解した融剤と平衡状態にある唯一
の安定固体相となる領域を示す、それぞれK2O/
P2O5/(TiO22、K2O/As2O5/(TiO22の3
成分系状態図。第2図、第3図、第5図〜第7図
は、本発明と同様のPna21型MTiOXO4が融解し
た融剤と平衡状態にある唯一の安定固体相となる
領域を示す、それぞれRb2O/P2O5/(TiO22
Tl2O/P2O5/(TiO22、Rb2O/As2O5
(TiO22、Tl2O/As2O5/(TiO22、RbKO/
P2O5/(TiO22の3成分系状態図。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 KTiOXO4と融剤K/X/Oまたはこれらの
    前駆物質からなる原料(ただし、XはPまたは
    Asである)を出発原料とし、当該原料における
    到達する最高温度でのKTiOXO4:融剤の比が飽
    和値より大きい場合、これを高温帯域が800〜
    1000℃の範囲内であり低温帯域がそれより10〜
    135℃低温である温度勾配で加熱して水を含まな
    い融解体を形成し、この温度勾配を3日間ないし
    3週間維持して結晶を成長させ、そして冷却後
    KTiOXO4の結晶を回収することにより
    KTiOXO4の単結晶を製造する方法において、当
    該出発原料における成分比率を、K2O/X2O5
    (TiO223成分系状態図において、目的生成物で
    あるPna21型のKTiOXO4が融解した融剤と平衡
    状態にある唯一の安定固体相となる領域内の点で
    表わされるものとしたことを特徴とする方法。 2 KTiOXO4の種晶を低温帯域の融解体に少な
    くとも部分的に浸漬して、結晶成長を制御する特
    許請求の範囲第1項記載の方法。 3 KTiOXO4と融剤K/X/Oまたはこれらの
    前駆物質からなる原料(ただし、XはPまたは
    Asである)を出発原料とし、当該原料における
    到達する最高温度でのKTiOXO4:融剤の比が飽
    和値より小さい場合、これを透明な水を含まない
    溶液が得られるまで700〜1100℃の温度範囲に均
    一に加熱し、得られた溶液を5℃/hr以下の速度
    で徐冷してKTiOXO4を晶出させ、そしてこれを
    回収することによりKTiOXO4の単結晶を製造す
    る方法において、当該出発原料における成分比率
    を、K2O/X2O5/(TiO223成分系において目的
    生成物であるPna21型のKTiOXO4が融解した融
    剤と平衡状態にある唯一の安定固体相となる領域
    内の点で表わされるものとしたことを特徴とする
    方法。
JP4678379A 1978-04-20 1979-04-18 Flux growth of ktiopo4 and its analogue compound Granted JPS54145398A (en)

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