JPH01290640A - ジオール及び/又は環状エーテルの製造法 - Google Patents
ジオール及び/又は環状エーテルの製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はラクトン類を水素化してジオール及び/又は環
状エーテルを製造するための触媒に関するものである。
状エーテルを製造するための触媒に関するものである。
ラクトン類の中で特にr−ブチロラクトンから得られる
/、9−ブタンジオール及び/又はテトラヒドロフラン
はポリブチレンテレフタレートやポリウレタン等のプラ
スチックス原料、溶剤として多量に使用されている。
/、9−ブタンジオール及び/又はテトラヒドロフラン
はポリブチレンテレフタレートやポリウレタン等のプラ
スチックス原料、溶剤として多量に使用されている。
従来ラクトン類を水素化してジオール及び/又は環状エ
ーテルを製造する方法は古くから検討されている。
ーテルを製造する方法は古くから検討されている。
その中でr−ブチロラクトンを水素化して/、4t−ブ
タンジオール及び/又はテトラヒドロフランを製造する
方法について多くの提案がなされている。
タンジオール及び/又はテトラヒドロフランを製造する
方法について多くの提案がなされている。
例えば銅−クロム系触媒(特開昭5O−2099!i号
公報あるいは特開昭1.2−/!;!;コ31号公報)
、銅−亜鉛系触媒(米国特許筒qOすg/91 号明細
書)、銅−モリブデン系触媒(特開昭3’l−3コi”
yi号公報)、ニッケル系触媒(米国特許筒33りθ0
6り号明細書)及びルテニウム酸化物系触媒(特開昭5
?−10973b号公報)を用いて固定床あるいは液相
懸濁相等の水素化反応方式により/4−ブタンジオール
及び/又はテトラヒドロフランを製造する方法に多数の
提案がなされている。
公報あるいは特開昭1.2−/!;!;コ31号公報)
、銅−亜鉛系触媒(米国特許筒qOすg/91 号明細
書)、銅−モリブデン系触媒(特開昭3’l−3コi”
yi号公報)、ニッケル系触媒(米国特許筒33りθ0
6り号明細書)及びルテニウム酸化物系触媒(特開昭5
?−10973b号公報)を用いて固定床あるいは液相
懸濁相等の水素化反応方式により/4−ブタンジオール
及び/又はテトラヒドロフランを製造する方法に多数の
提案がなされている。
しかしながら、上記のような触媒を使用する従来の方法
には、苛酷な反応条件を採用せざるえないという問題が
あった。しかも活性及び選択性の点で心ずしも満足すべ
き水準にあるとはいえないという問題点があった。
には、苛酷な反応条件を採用せざるえないという問題が
あった。しかも活性及び選択性の点で心ずしも満足すべ
き水準にあるとはいえないという問題点があった。
本発明は、上記従来の固体触媒のもつ問題点を解決して
ラクトン類を従来になく工業的に有利に水素化してジオ
ール及び/又は環状エーテルを製造する方法を提供する
ものである。
ラクトン類を従来になく工業的に有利に水素化してジオ
ール及び/又は環状エーテルを製造する方法を提供する
ものである。
本発明者等はかかる目的を達成すべく鋭意検討した結果
、ラクトン類を水素化してジオール及び/又は環状エー
テルを製造する方法において、ルテニウム及び有機ホス
フィンを含有するルテニウム系触媒を使用すると極めて
温和な条件で、選択性よく目的生成物が得られることを
見い出し本発明を完成するに至った。
、ラクトン類を水素化してジオール及び/又は環状エー
テルを製造する方法において、ルテニウム及び有機ホス
フィンを含有するルテニウム系触媒を使用すると極めて
温和な条件で、選択性よく目的生成物が得られることを
見い出し本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の目的はラクトン類を効率的にした固体触
媒に遺束されない新規な均一水素化法を提供することに
あシ、この目的は、ルテニウム及び有機ホスフィンを含
有するルテニウム系触媒を用いる均一系反応によって解
決される。
媒に遺束されない新規な均一水素化法を提供することに
あシ、この目的は、ルテニウム及び有機ホスフィンを含
有するルテニウム系触媒を用いる均一系反応によって解
決される。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明で原料とするラクトン類は脂肪族のラクトンであ
って炭素数が3から/コのラクトン類が好適に用いられ
る。ラクトン類は置換基がついていても好適に用いられ
る。
って炭素数が3から/コのラクトン類が好適に用いられ
る。ラクトン類は置換基がついていても好適に用いられ
る。
ラクトン類として例えばβ−プロピオラクトン、β−ブ
チロラクトン、r−ブチロラクトン、r−バレロラクト
ン、δ−バレロラクトン、r−カプロラクトン、ε−カ
プロラクトン、r −オクタノイクラクトン、r−ノナ
ノイクラクトン、r−デカノールラクトン、δ−デカノ
ールラクトン等が挙げられる。
チロラクトン、r−ブチロラクトン、r−バレロラクト
ン、δ−バレロラクトン、r−カプロラクトン、ε−カ
プロラクトン、r −オクタノイクラクトン、r−ノナ
ノイクラクトン、r−デカノールラクトン、δ−デカノ
ールラクトン等が挙げられる。
又これらラクトン類は必ずしも純粋なものである必要は
なくラクトン類を製造する際の原料と考えられる酸ある
いは酸無水物が不純物として混入していてもよい。
なくラクトン類を製造する際の原料と考えられる酸ある
いは酸無水物が不純物として混入していてもよい。
これらの不純物は本発明の反応条件下ですみやかにラク
トン類に変化する。
トン類に変化する。
本発明に使用するルテニウム系触媒を構成するルテニウ
ムとしては、金属ルテニウム及びルテニウム化合物のい
ずれもが使用可能である。
ムとしては、金属ルテニウム及びルテニウム化合物のい
ずれもが使用可能である。
この場合のルテニウム化合物としては、ルテニウムの酸
化物、水酸化物、無機酸塩、有機酸塩あるいは錯化合物
等が使用され、具体的には例えば、二酸化ルテニウム、
四酸化ルテニウム、二本酸化ルテニウム、塩化ルテニウ
ム、臭化ルテニウム、ヨウ化ルテニウム、硝酸ルテニウ
ム、酢酸ルテニウム、トリス(アセチルアセトン)ルテ
ニウム、ヘキサクロロルテニウム酸ナトリウム、テトラ
カルボニルルテニウム酸ジカリウム、ペンタカルボニル
ルテニウム、シクロペンタジエニルジ力ルポニルルテニ
ウム、ジブロモトリカルボニルルテニウム、クロロトリ
ス(トリフェニルホスフィン)ヒドリドルテニウム、ビ
ス(トリーローブチルホスフィン)トリカルボニルルテ
ニウム、ドデカカルボニルトリルテニウム、テトラヒド
リドデカカルボニルテトラルテニウム、オクタデカカル
ボニルへキサルテニウム酸ジセンウム、ウンデカカルボ
ニルヒドリドトリルテニウム酸テトラフェニルホスホニ
ウム等が挙げられる。
化物、水酸化物、無機酸塩、有機酸塩あるいは錯化合物
等が使用され、具体的には例えば、二酸化ルテニウム、
四酸化ルテニウム、二本酸化ルテニウム、塩化ルテニウ
ム、臭化ルテニウム、ヨウ化ルテニウム、硝酸ルテニウ
ム、酢酸ルテニウム、トリス(アセチルアセトン)ルテ
ニウム、ヘキサクロロルテニウム酸ナトリウム、テトラ
カルボニルルテニウム酸ジカリウム、ペンタカルボニル
ルテニウム、シクロペンタジエニルジ力ルポニルルテニ
ウム、ジブロモトリカルボニルルテニウム、クロロトリ
ス(トリフェニルホスフィン)ヒドリドルテニウム、ビ
ス(トリーローブチルホスフィン)トリカルボニルルテ
ニウム、ドデカカルボニルトリルテニウム、テトラヒド
リドデカカルボニルテトラルテニウム、オクタデカカル
ボニルへキサルテニウム酸ジセンウム、ウンデカカルボ
ニルヒドリドトリルテニウム酸テトラフェニルホスホニ
ウム等が挙げられる。
これらの金属ルテニウム及びルテニウム化合物の使用量
は、反応液中の濃度が反応溶液/リットル中のルテニウ
ムとして0.000 /〜10θモル、好ましくは0.
00 / −/ 0モルとなる量である。
は、反応液中の濃度が反応溶液/リットル中のルテニウ
ムとして0.000 /〜10θモル、好ましくは0.
00 / −/ 0モルとなる量である。
本発明においては、ルテニウムとともに有機ホスフィン
の使用が、必須要件であって、このものは主触媒である
ルテニウムの電子状態を制御したシ、ルテニウムの活性
状態を安定化するのに寄与するものと考えら詐る。かか
る有機ホスフィンの具体例としては、トリーn−ブチル
ホスフィン、ジメチル−n−オクチルホスフィン等のト
リアルキルホスフィン類、トリシクロヘキシルホスフィ
ン等のトリフクロアルキルホスフィン類、トリフェニル
ホスフィン等のトリアリールホスフィン類、ジメチルフ
ェニルホスフィン等のアルキルアリールホスフィン類、
1.2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン等の多官
能性ホスフィン類等が挙げられる。
の使用が、必須要件であって、このものは主触媒である
ルテニウムの電子状態を制御したシ、ルテニウムの活性
状態を安定化するのに寄与するものと考えら詐る。かか
る有機ホスフィンの具体例としては、トリーn−ブチル
ホスフィン、ジメチル−n−オクチルホスフィン等のト
リアルキルホスフィン類、トリシクロヘキシルホスフィ
ン等のトリフクロアルキルホスフィン類、トリフェニル
ホスフィン等のトリアリールホスフィン類、ジメチルフ
ェニルホスフィン等のアルキルアリールホスフィン類、
1.2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン等の多官
能性ホスフィン類等が挙げられる。
これらの有機ホスフィンの使用量は、主触媒のルテニウ
ム1モルに対して、007〜1000モル、好ましくは
7〜700モルの範囲である。
ム1モルに対して、007〜1000モル、好ましくは
7〜700モルの範囲である。
また、これらの有機ホスフィンは、それ自体単独で又は
ルテニウムとの複合体の形で、反応系に供給することが
可能である。
ルテニウムとの複合体の形で、反応系に供給することが
可能である。
また、本発明の水素化反応主触媒を構成するルテニウム
に対する付加的な促進剤としてpKaが3よυ小さい酸
の共役塩基を用いることによって、主構成成分であるル
テニウムの長所を生かして比較的温和な条件下で水素化
反応を進行させることができる他、とくに水素化触媒活
性の向上、活性安定性及び目的生成物の選択性の向上を
はかることができる。
に対する付加的な促進剤としてpKaが3よυ小さい酸
の共役塩基を用いることによって、主構成成分であるル
テニウムの長所を生かして比較的温和な条件下で水素化
反応を進行させることができる他、とくに水素化触媒活
性の向上、活性安定性及び目的生成物の選択性の向上を
はかることができる。
pKaが3よりも小さい酸の共役塩基としては触媒調製
中又は反応系中においてかかる共役塩基を生成するもの
であればよく、その供給形態としてはpKaが3よシ小
さいブレンステッド酸あるいはかかる酸の各種の塩等が
用いられる。
中又は反応系中においてかかる共役塩基を生成するもの
であればよく、その供給形態としてはpKaが3よシ小
さいブレンステッド酸あるいはかかる酸の各種の塩等が
用いられる。
具体的には硝酸、過塩素酸、ホウフッ化水素酸、ヘキサ
フルオロ燐酸、フルオロスルホン酸等の無機酸類、トリ
クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタン
スルホン酸、ドブクルスルホ/酸、オフタデクルスルホ
ン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、パラトルエンスルホン酸、スルホン化スチレン−
ジビニルベンゼン共重合体等の有機酸類等のブレンステ
ッド酸もしくはこれらの酸のアルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩、アンモニウム塩、銀塩等が挙げられる。
フルオロ燐酸、フルオロスルホン酸等の無機酸類、トリ
クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタン
スルホン酸、ドブクルスルホ/酸、オフタデクルスルホ
ン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、パラトルエンスルホン酸、スルホン化スチレン−
ジビニルベンゼン共重合体等の有機酸類等のブレンステ
ッド酸もしくはこれらの酸のアルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩、アンモニウム塩、銀塩等が挙げられる。
又、これらの酸の共役塩基が反応系で生成すると考えら
れる酸誘導体の形で添加してもさしつかえない。例えば
酸ハロゲン化物、酸無水物、エステル、酸アミド等の形
で反応系に添加しても同様の効果が期待される。
れる酸誘導体の形で添加してもさしつかえない。例えば
酸ハロゲン化物、酸無水物、エステル、酸アミド等の形
で反応系に添加しても同様の効果が期待される。
これら酸あるいはその塩の使用量は、ルテニウムに対し
て0.0 /〜1oooモル、好ましくは0./ −7
00モルの範囲である。
て0.0 /〜1oooモル、好ましくは0./ −7
00モルの範囲である。
また本発明の方法に使用するルテニウム系触媒は、場合
により中性配位子を含有することができる。中性配位子
としてエチレン、プロピレン、フテン、シクロペンテン
、シクロヘキセン、ブタジェン、7クロペンタジエン、
シクロオクタジエン、ツルボナシエン等のオレフィン類
、−酸化炭素、ジエチルエーテル、アニソール、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトフェノン
、ベンゾフェノ/、シクロヘキサノン、プロピオン酸、
カプロン酸、酪酸、安息香酸、酢酸エチル、酢酸アリル
、安息香酸ベンジル、ステアリン酸ベンジル等の含酸素
化合物、酸化窒素、アセトニトリル、プロピオニトリル
、ヘンジニトリル、シクロヘキシルインニトリル、ブチ
ルアミン、アニリン、トルイジン、トリエチルアミン、
ピロール、ピリジン、N −メチルホルムアミド、アセ
トアミド、/、/、、7..7−テトラメチル尿素、N
−メチルピロリドン、カプロラクタム、ニトロメタン等
の含窒素化合物、二硫化炭素、n−ブチルメルカプタン
、チオフェノール、ジメチルスルフィド、ジメチルジス
ルフィド、チオフェン、ジメチルスルホキシド、ジフェ
ニルスルホキシド等の含硫黄化合物、トリプチルホスフ
ィンオキッド、エチルジフェニルホスフィンオキシト、
トリフェニルホスフィンオキシト、ジエチルフェニルホ
スフィネート、ジフェニルエチルホスフィネート、ジフ
ェニルメチルホスホネート、O,θ−ジメチルメチルホ
スホノチオレート、トリエチルホスファイト、トリフェ
ニルホスファイト、トリエチルホスフェート、トリフェ
ニルホスフェート、ヘキサメチルホスホリックトリアミ
ド等の有機ホスフィン以外の含燐化合物が挙げられる。
により中性配位子を含有することができる。中性配位子
としてエチレン、プロピレン、フテン、シクロペンテン
、シクロヘキセン、ブタジェン、7クロペンタジエン、
シクロオクタジエン、ツルボナシエン等のオレフィン類
、−酸化炭素、ジエチルエーテル、アニソール、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトフェノン
、ベンゾフェノ/、シクロヘキサノン、プロピオン酸、
カプロン酸、酪酸、安息香酸、酢酸エチル、酢酸アリル
、安息香酸ベンジル、ステアリン酸ベンジル等の含酸素
化合物、酸化窒素、アセトニトリル、プロピオニトリル
、ヘンジニトリル、シクロヘキシルインニトリル、ブチ
ルアミン、アニリン、トルイジン、トリエチルアミン、
ピロール、ピリジン、N −メチルホルムアミド、アセ
トアミド、/、/、、7..7−テトラメチル尿素、N
−メチルピロリドン、カプロラクタム、ニトロメタン等
の含窒素化合物、二硫化炭素、n−ブチルメルカプタン
、チオフェノール、ジメチルスルフィド、ジメチルジス
ルフィド、チオフェン、ジメチルスルホキシド、ジフェ
ニルスルホキシド等の含硫黄化合物、トリプチルホスフ
ィンオキッド、エチルジフェニルホスフィンオキシト、
トリフェニルホスフィンオキシト、ジエチルフェニルホ
スフィネート、ジフェニルエチルホスフィネート、ジフ
ェニルメチルホスホネート、O,θ−ジメチルメチルホ
スホノチオレート、トリエチルホスファイト、トリフェ
ニルホスファイト、トリエチルホスフェート、トリフェ
ニルホスフェート、ヘキサメチルホスホリックトリアミ
ド等の有機ホスフィン以外の含燐化合物が挙げられる。
本発明の方法は、溶媒の不存在下に、すなわち反応原料
あるいは反応生成物そのものを溶媒として実施すること
もできるが、それら以外の溶媒を使用することもできる
。このような溶媒としては例えば、ジエチルエーテル、
アニソール、エチレングリコール、ジメチルエーテル、
ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケ
トン、アセトフェノン等のケトン類、メタノール、エタ
ノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、フェノ
ール、エチレンクリコール、ジエチレングリコール等の
アルコール類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トルイル酸
等のカルボン酸類、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、安息
香酸ベンジル等のエステル類、ベンゼン、トルエン、エ
チルベンゼン、テトラリン等ノ芳香族炭化水素、n−ヘ
キサン、n−オクタン、7クロヘキサン等の脂肪族炭化
水素、ジクロロメタン、トリクロロエタン、クロロベン
ゼン等(i’) ハロゲン化炭化水素、ニトロメタン、
ニトロベンゼン等のニトロ化合物、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチ
ルピロリドン等のカルボン酸アミド、ヘキサメチルリン
酸トリアミド、N、N、N’、N’−テトラエチルスル
ファミド等のその他のアミド類、N、N’−ジメチルイ
ミダゾリドy、N+NLN+N −テトラメチル尿素
等の尿素類、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホ
ン等のスルホン類、ジメチルスルホキシド、ジフェニル
スルホキ7ド等のスルホキシド類、テトラグライム、/
r−クラウン−6等のポリエーテル類、アセトニトリル
、ベンゾニトリル等のニトリル類、ジメチルカーボネー
ト、エチレンカーボネート等の炭酸エステル類等である
。
あるいは反応生成物そのものを溶媒として実施すること
もできるが、それら以外の溶媒を使用することもできる
。このような溶媒としては例えば、ジエチルエーテル、
アニソール、エチレングリコール、ジメチルエーテル、
ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケ
トン、アセトフェノン等のケトン類、メタノール、エタ
ノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、フェノ
ール、エチレンクリコール、ジエチレングリコール等の
アルコール類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トルイル酸
等のカルボン酸類、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、安息
香酸ベンジル等のエステル類、ベンゼン、トルエン、エ
チルベンゼン、テトラリン等ノ芳香族炭化水素、n−ヘ
キサン、n−オクタン、7クロヘキサン等の脂肪族炭化
水素、ジクロロメタン、トリクロロエタン、クロロベン
ゼン等(i’) ハロゲン化炭化水素、ニトロメタン、
ニトロベンゼン等のニトロ化合物、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチ
ルピロリドン等のカルボン酸アミド、ヘキサメチルリン
酸トリアミド、N、N、N’、N’−テトラエチルスル
ファミド等のその他のアミド類、N、N’−ジメチルイ
ミダゾリドy、N+NLN+N −テトラメチル尿素
等の尿素類、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホ
ン等のスルホン類、ジメチルスルホキシド、ジフェニル
スルホキ7ド等のスルホキシド類、テトラグライム、/
r−クラウン−6等のポリエーテル類、アセトニトリル
、ベンゾニトリル等のニトリル類、ジメチルカーボネー
ト、エチレンカーボネート等の炭酸エステル類等である
。
本発明の方法により水素化反応を行うためには、反応容
器に反応原料と触媒成分並びに所望により溶媒を装入し
、これに水素を導入すればよい。水素は、窒素や二酸化
炭素等の反応に不活性なガスで希釈されたものであって
もよい。
器に反応原料と触媒成分並びに所望により溶媒を装入し
、これに水素を導入すればよい。水素は、窒素や二酸化
炭素等の反応に不活性なガスで希釈されたものであって
もよい。
反応温度は、通常!;0−230℃、好ましくは100
−200℃である。反応系内の水素分圧は、通常o、l
−J o o ky/crl、好ましくは/〜/jOk
Q/c!!である。もちろん、さらに低い圧力又は高い
圧力下で実施することも不可能ではないが、工業的に有
利ではない。
−200℃である。反応系内の水素分圧は、通常o、l
−J o o ky/crl、好ましくは/〜/jOk
Q/c!!である。もちろん、さらに低い圧力又は高い
圧力下で実施することも不可能ではないが、工業的に有
利ではない。
反応は、回分方式および連続方式のいずれでも実施する
こともできる。回分方式の場合の所要反応時間は通常7
〜20時間である。
こともできる。回分方式の場合の所要反応時間は通常7
〜20時間である。
反応生成液からは、蒸留、抽出等の通常の分離精製手段
により、目的物であるジオール及び/又は環状エーテル
を回収することができる。
により、目的物であるジオール及び/又は環状エーテル
を回収することができる。
また、蒸留残渣は、触媒成分として反応系に循環するこ
とができる。
とができる。
次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はその要旨を越えない限υ以下の実施例に限定され
るものではない。
発明はその要旨を越えない限υ以下の実施例に限定され
るものではない。
実施例/
? 0dSUS製ミクロオートクレーブにルテニウムア
セチルアセトナートo、o2gcFcu:o、o r
ミリモル)、トリオクチルホスフィンo、/g s y
(o、sミリモル)、r−ブチロラクトンb rnt
(q g、sミリモル)、テトラグライム/6−を仕
込み室温にて水素をSO気圧圧入し、200℃に加熱し
て3時間反応させた。
セチルアセトナートo、o2gcFcu:o、o r
ミリモル)、トリオクチルホスフィンo、/g s y
(o、sミリモル)、r−ブチロラクトンb rnt
(q g、sミリモル)、テトラグライム/6−を仕
込み室温にて水素をSO気圧圧入し、200℃に加熱し
て3時間反応させた。
所定反応時間後オートクレーブを開は反応生成物をガス
クロマトグラフィーにより定量した。
クロマトグラフィーにより定量した。
/、41−ブタンジオール(/、FBGと略する)が/
gl、2ミリモル、テトラヒドロフラン(THFと略
する)がO0/ミリモル生成y−シ光。
gl、2ミリモル、テトラヒドロフラン(THFと略
する)がO0/ミリモル生成y−シ光。
/、<<BG、THF以外の生成物は痕跡量であった。
実施例コ〜3及び比較例/〜コ
実施例1において用いたトリオクチルホスフィンの代り
に表/に示す種々の有機リン化合物を用いて実施例1と
同様の反応を行った。その結果を表/に示した。
に表/に示す種々の有機リン化合物を用いて実施例1と
同様の反応を行った。その結果を表/に示した。
表 7
表1の結果から有機ホスフィ/がラクトン類の水素化に
有用であることがわかる。
有用であることがわかる。
実施例q
7θ−8US製ミクロオートクレーブにルテニウムアセ
チルアセトナートθ、OJ fl(Ru :0.05ミ
リモル)、トリオクチルホスフィンo、/g r i
(o、sミリモル)、アンモニウムへキサフルオロホス
フェ−) 0.04tf g(0,2!;ミリモル)、
r−ブチロラクト76mt(yg、sミリモル)、テト
ラグライム/Amを仕込み室温にて水素を50気圧圧大
して、200℃で3時間反応させた。
チルアセトナートθ、OJ fl(Ru :0.05ミ
リモル)、トリオクチルホスフィンo、/g r i
(o、sミリモル)、アンモニウムへキサフルオロホス
フェ−) 0.04tf g(0,2!;ミリモル)、
r−ブチロラクト76mt(yg、sミリモル)、テト
ラグライム/Amを仕込み室温にて水素を50気圧圧大
して、200℃で3時間反応させた。
その結果/、グリ−Gが3コ、9ミリモル、THFがi
、oミリモル生成した。
、oミリモル生成した。
実施例!
実施例すで用いたルテニウムアセチルアセトナートの代
りに塩化ルテニウムをO0θ1by(Ru ; o、o
s ミ’)モル)を用いた以外実施例qと同様に反応
を行ったところ、/、u−BGが6.7ミリモル、TH
Eが0.9ミリモル生成した。
りに塩化ルテニウムをO0θ1by(Ru ; o、o
s ミ’)モル)を用いた以外実施例qと同様に反応
を行ったところ、/、u−BGが6.7ミリモル、TH
Eが0.9ミリモル生成した。
実施例6
実施例qで用いたアンモニウムへキサフルオロホスフェ
ートの代シにp−)ルエンスルホン酸をo、o g e
i (o、p eミリモル)を使用して実施例弘と同
様の反応を行ったところ、/4−BGがtl、2ミリモ
ル、THFが6.7ミリモル生成した。
ートの代シにp−)ルエンスルホン酸をo、o g e
i (o、p eミリモル)を使用して実施例弘と同
様の反応を行ったところ、/4−BGがtl、2ミリモ
ル、THFが6.7ミリモル生成した。
実施例7
実m例4=で用いたアンモニウムへキサフルオロホスフ
ェートの代りに、トリフルオロスルホン酸をo、o t
t tIl(o、tiミリモル)を使用して実施例すと
同様の反応を行ったところ、l、tI−BGがO07ミ
リモル、THEが/ 96.7ミリモル生成した。
ェートの代りに、トリフルオロスルホン酸をo、o t
t tIl(o、tiミリモル)を使用して実施例すと
同様の反応を行ったところ、l、tI−BGがO07ミ
リモル、THEが/ 96.7ミリモル生成した。
実施例g
? 0sjSO3製ミクロオートクレーブにルテニウム
アセチルアセトナートo、o a y (Ru ;0.
0!;ミリモル)、トリオlチルホスフィンO1/ざs
i (o、sミリモル)、アンモニウムへキサフルオ
ロホスフェート0.0 ? A g(0,sミリモル)
、r−ブチロラクトンt、mt(qg、sミリモル)、
テトラグライム16−を仕込み室温たて水素を100気
圧圧入して、200℃で3時間反応を行なったところ、
/、&−BGが3g、9ミリモル、THFがコ、6ミリ
モル生成した。
アセチルアセトナートo、o a y (Ru ;0.
0!;ミリモル)、トリオlチルホスフィンO1/ざs
i (o、sミリモル)、アンモニウムへキサフルオ
ロホスフェート0.0 ? A g(0,sミリモル)
、r−ブチロラクトンt、mt(qg、sミリモル)、
テトラグライム16−を仕込み室温たて水素を100気
圧圧入して、200℃で3時間反応を行なったところ、
/、&−BGが3g、9ミリモル、THFがコ、6ミリ
モル生成した。
実施例9
水素の圧力を30気圧にする以外、実施例gと同様の反
応を行ったところ、/、u−BGが/ 9./ミリモル
、THFが/、6ミリモル生成した。
応を行ったところ、/、u−BGが/ 9./ミリモル
、THFが/、6ミリモル生成した。
実施例10〜/3
7(7tnlSUS製ミクロオートクレーブにルテニウ
ムアセチルアセトナートo、o a i (o、o s
ミリモル)トリオクチルホスフィン0./ t ! 1
1(o、s ミリモル)、アンモニウムへキサフルオロ
ホスフェートo、a u g 、9 (o、t sミリ
モル)、r−ブチロラクト/6−(7g、5ミリモル)
及び表2に示す溶媒を/un/仕込み、室温にて水素を
SO気圧圧大して200’Qで3時間反応を行った。そ
の結果を表コに示した。
ムアセチルアセトナートo、o a i (o、o s
ミリモル)トリオクチルホスフィン0./ t ! 1
1(o、s ミリモル)、アンモニウムへキサフルオロ
ホスフェートo、a u g 、9 (o、t sミリ
モル)、r−ブチロラクト/6−(7g、5ミリモル)
及び表2に示す溶媒を/un/仕込み、室温にて水素を
SO気圧圧大して200’Qで3時間反応を行った。そ
の結果を表コに示した。
表 コ
実施例/lI
実施例グで用いたr−ブチロラクトン6mlの代りに、
r−ブチロラクトン5rntと無水コハク酸/yを反応
原料として用いて実施例すと同様の反応を行ったところ
、八F−BGが/ p、b ミリモル、THEが0.5
ミリモル生成した。
r−ブチロラクトン5rntと無水コハク酸/yを反応
原料として用いて実施例すと同様の反応を行ったところ
、八F−BGが/ p、b ミリモル、THEが0.5
ミリモル生成した。
実施例/&
70mjsUs製ミクロオートクレーブにルテニウムア
セチルアセトナートo、o a y (o、o sミリ
モル)、トリオクチルホスフィン0./ g ji (
o、sミリモル)、アンモニウムへキサフルオロホスフ
ェート0,0グg g (o、a sミリモル)δ−バ
レロラクトンt、at(t、 sミリモル)及びテトラ
グライムIQ−を仕込み、室温にて水素をSθ気圧圧入
して200℃で3時間反応を行った。
セチルアセトナートo、o a y (o、o sミリ
モル)、トリオクチルホスフィン0./ g ji (
o、sミリモル)、アンモニウムへキサフルオロホスフ
ェート0,0グg g (o、a sミリモル)δ−バ
レロラクトンt、at(t、 sミリモル)及びテトラ
グライムIQ−を仕込み、室温にて水素をSθ気圧圧入
して200℃で3時間反応を行った。
その結果テトラヒドロピランがλミリモル、l、S−ベ
ンタンジオールが2 t0gミリモル生成した。
ンタンジオールが2 t0gミリモル生成した。
実施例16
実施例1Sで用いたδ−バレロラクトンの代シにl−カ
プロラクトンを用い、又反応溶媒としてテトラグライム
の代りにエチレングリコールジメチルエーテルを用いて
、実施例15と同様の反応を行ったところ、l、6−ヘ
キサンジオールが/ 、7..2 ミリモル生成した。
プロラクトンを用い、又反応溶媒としてテトラグライム
の代りにエチレングリコールジメチルエーテルを用いて
、実施例15と同様の反応を行ったところ、l、6−ヘ
キサンジオールが/ 、7..2 ミリモル生成した。
本発明によればラクトン類を水素化してジオール及び/
又は環状エーテルを製造するに際し、本発明のルテニウ
ム系触媒を触媒として均一液相反応で反応を行うことに
より、従来法に比して温和な条件で高選択率で目的物を
得ることができる。
又は環状エーテルを製造するに際し、本発明のルテニウ
ム系触媒を触媒として均一液相反応で反応を行うことに
より、従来法に比して温和な条件で高選択率で目的物を
得ることができる。
更に該触媒は活性安定性に優れているため長時間使用し
ても転換率の低下が認められず長時間にわたって目的物
を高選択率で得ることができる。
ても転換率の低下が認められず長時間にわたって目的物
を高選択率で得ることができる。
Claims (1)
- (1)ラクトン類を触媒の存在下に水素化してジオール
及び/又は環状エーテルを製造する方法において、触媒
としてルテニウム及び有機ホスフィンを含有するルテニ
ウム系触媒の存在下に液相で反応を行うことを特徴とす
るジオール及び/又は環状エーテルの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63119783A JPH075489B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | ジオール及び/又は環状エーテルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63119783A JPH075489B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | ジオール及び/又は環状エーテルの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01290640A true JPH01290640A (ja) | 1989-11-22 |
JPH075489B2 JPH075489B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=14770114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63119783A Expired - Fee Related JPH075489B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | ジオール及び/又は環状エーテルの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH075489B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0453948A2 (en) * | 1990-04-26 | 1991-10-30 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for producing 1,4-butanediol |
JP2001316311A (ja) * | 2000-03-03 | 2001-11-13 | Asahi Kasei Corp | 高純度1,5−ペンタンジオール |
JP2006188492A (ja) * | 2004-12-06 | 2006-07-20 | Showa Denko Kk | テトラヒドロピラン化合物の製造方法及び該製造方法で製造されるテトラヒドロピラン化合物 |
JP2007510638A (ja) * | 2003-10-31 | 2007-04-26 | ディビー プロセス テクノロジー リミテッド | ジカルボン酸および/またはその酸無水物の水素化の均一系方法 |
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JPS5829728A (ja) * | 1981-08-13 | 1983-02-22 | Agency Of Ind Science & Technol | アルカンポリオ−ルの製法 |
-
1988
- 1988-05-17 JP JP63119783A patent/JPH075489B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
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