JP2001240595A - アルコールの脱水素によるカルボニル化合物の製造方法 - Google Patents
アルコールの脱水素によるカルボニル化合物の製造方法Info
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Abstract
製造する方法の提供。 【解決手段】 ルテニウムと、リン原子の3個の結合手
の2個以上に脂肪族性の炭素が結合している有機ホスフ
ィンとを含む錯体触媒の存在下に、アルコールを脱水素
するカルボニル化合物の製造方法。例えば、1,4−ブ
タンジオールと上記錯体触媒で、203℃、6時間反応
し、1,4−ブタンジオールの転化率は99.7モル
%、ガンマブチロラクトンの選択率は、98.0モル%
であった。1,5−ペンタンジオールからはバレロラク
トンを製造。さらに、ガンマブチロラクトンからN−メ
チルピロリドンが製造され、ガンマブチロラクトンを溶
剤として含む電解液への応用がある。
Description
してカルボニル化合物を製造する方法に関する。更に詳
しくは、ルテニウムと特定の有機ホスフィンとを含む錯
体触媒の存在下に、アルコールを脱水素してカルボニル
化合物を製造する方法に関する。本発明の方法が適用さ
れる好適な例としては、1,4−ブタンジオールからの
ガンマブチロラクトンの製造である。
フィンを組み合わせた錯体触媒の存在下、アルコールを
脱水素してカルボニル化合物を製造する方法は、いくつ
か提案されていた。例えば、J.Orgmet.Che
m.,429(1992)269〜274には、イリジ
ウム−トリイソプロピルホスフィン錯体、ルテニウム−
トリフェニルホスフィン錯体及びレニウム−トリイソプ
ロピルホスフィン錯体を触媒としてジオールを脱水素し
てラクトン化合物を得る反応が記載され、J.Org.
Chem.1987,52,4319〜4327及びT
etrahedron Let.1981,22,53
27〜5330には、上記とは異なるルテニウム−トリ
フェニルホスフィン錯体を触媒としてジオールを脱水素
してラクトン化合物を得る反応が記載され、Chem.
Soc.Japan,1982,1179〜1182に
は、ルテニウム−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン
化合物錯体を触媒としてジオールを脱水素してラクトン
化合物を得る反応が記載されている。
素受容体を反応系内に存在させることによりアルコール
基質の脱水素反応を促進するものであり、水素受容体を
存在させない場合は触媒活性を著しく低下させるもので
あった。
61,2291〜2294(1988)には、ルテニウ
ム−エチルジフェニルホスフィン錯体又はルテニウム−
ジエチルフェニルホスフィン錯体を触媒として、メタノ
ールを脱水素する反応が記載されている。しかしなが
ら、この方法では、触媒活性が著しく低いという問題点
があった。また、1,4−ブタンジオールを脱水素し、
分子内環化させることにより、効率よくガンマブチロラ
クトンを製造する方法については、何ら記載も示唆もさ
れていない。
業的実施にとって極めて不利であり、且つ、アルコール
の脱水素反応によって該水素受容体は別の化合物に変換
されるため、再利用できない点においても工業的に実用
的な方法とは言えない。
銅−クロム−マンガン系触媒又は銅−クロム−亜鉛系触
媒を用いて、特開平3−232874号公報には銅、ク
ロム及びバリウムを含む触媒を用いて、気相で1,4−
ブタンジオールを脱水素してガンマブチロラクトンを製
造する方法が記載されているが、これらの方法では、選
択率や触媒の劣化などの問題を解決するには至っておら
ず、また、気相法であるために逆反応による平衡制約を
逃れることができず、また、選択率や触媒劣化の問題を
完全に解決するには至っていない。
コールを脱水素してカルボニル化合物を製造するにあた
り、穏和な反応条件下で、選択性よく、高収率で工業的
に有利にカルボニル化合物を製造する方法を提供するこ
とである。
ンジオールを脱水素して環化させ、ガンマブチロラクト
ンを穏和な反応条件下で、選択性よく、高収率で工業的
に有利に製造する方法を提供することである。
を解決すべく鋭意検討を行った結果、ルテニウムと、リ
ン原子の3個の結合手の2個以上に脂肪族性の炭素が結
合している有機ホスフィンとを含む錯体触媒が、効率よ
くアルコールを脱水素してカルボニル化合物を製造する
触媒となり得ることを見出した。特に、上記した錯体触
媒が、1,4−ブタンジオールからガンマブチロラクト
ンを製造するための好適な触媒となり得ることを見出し
た。本発明は上記の知見を基にして完成されたものであ
る。
原子の3個の結合手の2個以上に脂肪族性の炭素が結合
している有機ホスフィンとを含む錯体触媒の存在下に、
アルコールを脱水素することを特徴とするカルボニル化
合物の製造方法にある。
と、リン原子の3個の結合手の2個以上に脂肪族性の炭
素が結合している有機ホスフィンとを含む錯体触媒の存
在下に、1,4−ブタンジオールを脱水素することを特
徴とするガンマブチロラクトンの製造方法にある。
ムと、リン原子の3個の結合手の2個以上に脂肪族性の
炭素が結合している有機ホスフィンとを含む錯体触媒で
ある。触媒は、予め調製して反応に用いてもよく、ま
た、触媒を構成する各成分を反応系に存在させ、反応系
内で触媒を生成させることもできる。
制限されるものでなく、金属ルテニウム又はルテニウム
化合物であってよい。ルテニウム化合物としては、例え
ば、酸化物、水酸化物、無機酸塩、有機酸塩、錯化合物
等が挙げられ、具体的には例えば、二酸化ルテニウム、
四酸化ルテニウム、水酸化ルテニウム、塩化ルテニウ
ム、臭化ルテニウム、沃化ルテニウム、硝酸ルテニウ
ム、酢酸ルテニウム、トリス(アセチルアセトナト)ル
テニウム、ヘキサクロロルテニウム酸ナトリウム、テト
ラカルボニルルテニウム酸ジカリウム、ペンタカルボニ
ルルテニウム、シクロペンタジエニルジカルボニルルテ
ニウム、ジブロモトリカルボニルルテニウム、クロロト
リス(トリフェニルホスフィン)ヒドリドルテニウム、
テトラ(トリフェニルホスフィン)ジヒドリドルテニウ
ム、テトラ(トリメチルホスフィン)ジヒドリドルテニ
ウム、ビス(トリ−n−ブチルホスフィン)トリカルボ
ニルルテニウム、テトラヒドリドデカカルボニルテトラ
ルテニウム、ドデカカルボニルトリルテニウム、オクタ
デカカルボニルヘキサルテニウム酸ジセシウム、ウンデ
カカルボニルヒドリドトリルテニウム酸テトラフェニル
ホスフォニウム等が挙げられる。これらの化合物は、市
販されているものを用いてもよく、また、公知の方法に
より合成してもよい。
子の3個の結合手の2個以上に脂肪族性の炭素が結合し
ているものである。該有機ホスフィンとは、例えば、リ
ン原子の3個の結合手の全てにアルキル基が結合したト
リアルキルホスフィン、リン原子の3個の結合手の2個
にアルキル基が結合し、残る1個にアリール基が結合し
たジアルキルアリールホスフィン等が挙げられる。該有
機ホスフィン1分子中のリン原子は、1つであっても複
数存在していてもよく、ルテニウムに対して単座配位し
ても多座配位してもよい。
素数1〜30、好ましくは炭素数1〜20、より好まし
くは炭素数1〜10の、飽和又は不飽和の、直鎖状、分
岐鎖状又は環状の脂肪族炭化水素である。該アルキル基
の置換基としては、特に制限されるものではないが、例
えば、フェニル基、トリル基等の芳香族炭化水素等が挙
げられる。このようなアルキル基の具体例としては、メ
チル、エチル、ノルマルプロピル、イソプロピル、ノル
マルブチル、イソブチル、ノルマルペンチル、ノルマル
ヘキシル、2−メチルペンチル、2−エチルブチル、シ
クロヘキシル、ノルマルヘプチル、ノルマルオクチル、
ノルマルノニル、ノルマルデカニル、ベンジル等が挙げ
られる。
くは炭素数1〜10の置換されていてもよい芳香族炭化
水素である。該芳香族炭化水素の置換基としては、メチ
ル、エチル、ノルマルプロピル、イソプロピル、ノルマ
ルブチル、イソブチル等のアルキル基;メトキシ、エト
キシ等のアルコキシ基;塩素、臭素等のハロゲン原子;
ニトロ基;スルホン基等が挙げられる。このようなアリ
ール基の具体例としては、フェニル、o−,m−,p−
トリル、o−,m−,p−メトキシフェニル、n−,s
ec−,tert−ブチル、o−,m−,p−クロルフ
ェニル、ナフチル等が挙げられる。
アルキレン基を形成してもよい。
子に結合した上記官能基は、同一でも相互に異なってい
ても、任意の2個又は3個が環構造を形成していてもよ
い。また、リン原子に結合している炭素は、1級であっ
ても2級であってもよいが、好ましくは1級である。
ホスフィンとしては、例えば、トリノルマルデカニルホ
スフィン、トリノルマルノニルホスフィン、トリノルマ
ルオクチルホスフィン、トリノルマルヘプチルホスフィ
ン、トリノルマルヘキシルホスフィン、トリシクロヘキ
シルホスフィン、トリノルマルペンチルホスフィン、ト
リノルマルブチルホスフィン、トリイソブチルホスフィ
ン、トリノルマルプロピルホスフィン、トリイソプロピ
ルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリメチルホス
フィン、ジメチルノルマルオクチルホスフィン、ジノル
マルオクチルメチルホスフィン、ジメチルノルマルヘプ
チルホスフィン、ジノルマルヘプチルメチルホスフィ
ン、ジメチルノルマルヘキシルホスフィン、ジノルマル
ヘキシルメチルホスフィン、ジメチルシクロヘキシルホ
スフィン、ジシクロヘキシルメチルホスフィン、ジメチ
ルブチルホスフィン、ジノルマルブチルメチルホスフィ
ン、トリベンジルホスフィン等の、1分子中にリン原子
が1つあるトリアルキルホスフィン;1,1,2,2−
テトラキス(ジメチルホスフィノ)エタン、1,1,
2,2−テトラキス(ジメチルホスフィノ)プロパン、
1,1,2,2−テトラキス(ジメチルホスフィノ)ブ
タン、1,1,2,2−テトラキス(ジオクチルホスフ
ィノ)エタン、1,1,2,2−テトラキス(ジオクチ
ルホスフィノ)プロパン、1,1,2,2−テトラキス
(ジオクチルホスフィノ)ブタン、1,1,2,2−テ
トラキス(ジヘキシルホスフィノ)エタン、1,1,
2,2−テトラキス(ジヘキシルホスフィノ)プロパ
ン、1,1,2,2−テトラキス(ジヘキシルホスフィ
ノ)ブタン、1,1,2,2−テトラキス(ジブチルホ
スフィノ)エタン、1,1,2,2−テトラキス(ジブ
チルホスフィノ)プロパン、1,1,2,2−テトラキ
ス(ジブチルホスフィノ)ブタン等の、1分子中にリン
原子が複数あるトリアルキルホスフィン;1,1―ジホ
スフィナン、1,4−ジメチル−1,4−ジホスフィノ
ファン、1,3−ジメチルホスフォリナン、1,4―ジ
メチルホスフォリナン、8−メチル−8−ホスフィノビ
シクロオクタン、4−メチル−4−ホスフォテトラシク
ロオクタン、1−メチルホスフォラン、1−メチルホス
フォナン1,4−ジホスファビシクロ[2.2.2]オ
クタン、1,3−ジメチルホスフォリナン、1,4−ジ
メチルホスフォリナン、1−メチルホスフォナン、1−
メチルフォスフォラン、1−メチルホスフォリナン、1
−フォスファビシクロ[2.2.2]オクタン、1−ホ
スファビシクロ[2.2.1]ヘプタン等の、リン原子
が環の構成要素となっているもの等が挙げられる。
フィン、トリノルマルノニルホスフィン、トリノルマル
オクチルホスフィン、トリノルマルヘプチルホスフィ
ン、トリノルマルヘキシルホスフィン、トリノルマルペ
ンチルホスフィン、トリノルマルブチルホスフィン、ト
リノルマルプロピルホスフィン、トリエチルホスフィ
ン、トリメチルホスフィン、ジメチルノルマルオクチル
ホスフィン、ジノルマルオクチルメチルホスフィン、ジ
メチルノルマルヘプチルホスフィン、ジノルマルヘプチ
ルメチルホスフィン、ジメチルノルマルヘキシルホスフ
ィン、ジノルマルヘキシルメチルホスフィン等の1分子
中にリン原子が1つあるトリアルキルホスフィンが好ま
しい。
例えば、ジメチルフェニルホスフィン、ジエチルフェニ
ルホスフィン、ジノルマルプロピルフェニルホスフィ
ン、ジイソプロピルフェニルホスフィン、ジノルマルヘ
キシルフェニルホスフィン、ジノルマルオクチルフェニ
ルホスフィン、ジメチルトリルホスフィン、ジエチルト
リルホスフィン、ジノルマルプロピルトリルホスフィ
ン、ジイソプロピルトリルホスフィン、ジノルマルヘキ
シルトリルホスフィン、ジノルマルオクチルトリルホス
フィン等のモノホスフィン;メチルフェニルホスフィノ
エタン、エチルフェニルホスフィノエタン、メチルフェ
ニルホスフィノプロパン等のポリホスフィン等が挙げら
れる。
は、通常、市販されているものを用いればよいが、必要
に応じて、公知の方法により合成して用いることができ
る。該有機ホスフィンの合成方法としては、例えば、実
験化学講座第4版24巻第229頁、H.Hibber
t.Chem.Ber.,39,160(1906)等
に記載されているとおり、Grinard反応等が挙げ
られる。また、ジアルキルフェニルホスフィン等のフェ
ニル基を有するホスフィンとリチウム金属とを反応さ
せ、更に、アルキルブロマイドと反応させて、フェニル
基をアルキル基に置換することにより所望の有機ホスフ
ィンを合成してもよい。
ウム金属に対し、リン原子/金属の原子比で通常は0.
1〜1000、好ましくは1〜100の範囲である。但
し、ルテニウム金属を供給する化合物として、トリフェ
ニルホスフィン等のリン原子にアリール基が2個以上結
合したホスフィンを含む化合物を用いる場合には、この
ホスフィンが上記の有機ホスフィンで置換されるように
リン原子/金属の原子比を大きくするのが好ましい。
ニウムと、リン原子の3個の結合手の2個以上に脂肪族
性の炭素が結合している有機ホスフィンとを含むことを
特徴としているが、これに任意成分として更に中性配位
子などを含有させてもよい。このような任意成分として
は、例えばエチレン、プロピレン、ブテン、シクロペン
テン、シクロヘキセン、ブタジエン、シクロペンタジエ
ン、シクロオクタジエン、ノルボナジエン等のエチレン
性不飽和結合を有する炭化水素;ジエチルエーテル、ア
ニソール、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類;プロピオン酸、カプロン酸、酪酸、安息香酸、安
息香酸メチル、酢酸エチル、酢酸アリル等のカルボン酸
やカルボン酸エステル;ジメチルスルフィド、トリブチ
ルホスフィンオキシド、エチルジフェニルホスフィンオ
キシド、トリフェニルホスフィンオキシド、トリオクチ
ルホスフィンオキシド、ジエチルフェニルホスフィネー
ト、ジフェニルエチルホスフィネート、トリエチルホス
フェート、トリフェニルホスファイト、トリオクチルホ
スフェート、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の
有機リン化合物;更には一酸化炭素、エチレングリコー
ル、二硫化炭素、カプロラクタムなどが挙げられる。従
って、場合によっては反応原料、反応生成物又は溶媒が
触媒の構成成分となることもある。
の共役塩基を用いて、カチオン性錯体の形で用いること
もできる。カチオン性錯体化することにより、触媒の安
定化、活性の向上等好ましい結果が得られることがあ
る。
える化合物としては、通常pkaが2よりも小さいブレ
ンステッド酸又はその塩を用いればよい。具体的には例
えば、硝酸、過塩素酸、ホウフッ化水素酸、ヘキサフル
オロリン酸、フルオロスルホン酸等の無機酸;トリクロ
ロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ドデシルス
ルホン酸、オクタデシルスルホン酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスル
ホン酸、テトラ(ペンタフルオロフェニル)ホウ素酸、
スルホン化スチレン−ジビニルベンゼン共重合体等の有
機酸;これら無機酸や有機酸のアルカリ金属塩、アルカ
リ土類金属塩、アンモニウム塩、銀塩などが挙げられ
る。また、これらの酸の共役塩基を与え得る化合物、例
えば酸ハロゲン化物、酸無水物、エステル、酸アミドな
どを用いることもできる。これらのpkaが2よりも小
さい酸の共役塩基を与える化合物は、ルテニウム金属に
対して通常1000倍モル以下、好ましくは100倍モ
ル以下となるように用いられる。
その調製方法としては特に制限されるものではないが、
1例を挙げれば、ルテニウムトリス(アセチルアセトナ
ト)と、これに対して5〜20モル倍のトリアルキルホ
スフィンとを、反応原料のアルコールに加えて、水素雰
囲気中で撹拌すると、錯体触媒のアルコール溶液が生成
する。またこれをカチオン性錯体とするには、上記で得
た触媒を含む液にpkaが2以下の酸の共役塩基を与え
る化合物を、ルテニウムに対し0.1〜20モル倍、好
ましくは1〜10モル倍となるように添加すればよい。
反応原料アルコール中に、ルテニウムトリス(アセチル
アセトナト)、トリアルキルホスフィン及びpkaが2
以下の酸の共役塩基を与える化合物を添加して撹拌して
も、カチオン性錯体触媒を合成することができる。
級の水酸基を有するものであれば、1価アルコールでも
多価アルコールでもよい。また、アルコールは飽和でも
不飽和でもよく、更には置換基を有していてもよい。そ
のいくつかを例示すると、1価アルコールでは、メタノ
ール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノー
ル、1−ブタノール、2−ブタノール、1−ペンタノー
ル、2−ペンタノール、3−ペンタノール、1−ヘキサ
ノール、2−ヘキサノール、3−ヘキサノール、1−ヘ
プタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、4
−ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタノー
ル、3−オクタノール、4−オクタノール、1−ノナノ
ール、2−ノナノール、3−ノナノール、4−ノナノー
ル、5−ノナノール、1−デカノール、2−デカノー
ル、3−デカノール、4−デカノール、5−デカノー
ル、アリルアルコール、1−ブテノール、2−ブテノー
ル、1−ペンテノール、2−ペンテノール、1−ヘキセ
ノール、2−ヘキセノール、3−ヘキセノール、1−ヘ
プテノール、2−ヘプテノール、3−ヘプテノール、1
−オクテノール、2−オクテノール、3−オクテノー
ル、4−オクテノール、1−ノネノール、2−ノネノー
ル、3−ノネノール、4−ノネノール、1−デセノー
ル、2−デセノール、3−デセノール、4−デセノー
ル、5−デセノール、シクロヘキサノール、シクロペン
タノール、シクロヘプタノール、1−フェネチルアルコ
ール、2−フェネチルアルコール、メタノールアミン、
エタノールアミン等が挙げられる。なお、不飽和アルコ
ールの場合には不飽和結合の位置は任意である。
プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−
ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7
−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,
2−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキ
サンジメタノール、1−ヒドロキシメチル−2−ヒドロ
キシエチルシクロヘキサン、1−ヒドロキシ−2−ヒド
ロキシプロピルシクロヘキサン、1−ヒドロキシ−2−
ヒドロキシエチルシクロヘキサン、1−ヒドロキシメチ
ル−2−ヒドロキシエチルベンゼン、1−ヒドロキシメ
チル−2−ヒドロキシプロピルベンゼン、1−ヒドロキ
シ−2−ヒドロキシエチルベンゼン、1,2−ベンジル
ジメチロール、1,3−ベンジルジメチロールなどの2
価アルコールが挙げられる。2個の1級水酸基を有する
アルコールを原料とすると、反応過程を経て分子間エス
テル結合により、ポリエステルを生成することがある
が、1級水酸基が結合している炭素原子間に2〜4個の
炭素原子が介在している場合には、分子内環化によりラ
クトン化合物を形成することができる。
は炭素数4以上のアルコールであり、更に好ましくは
1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオー
ル、1,8−オクタンジオール等の炭素数4以上のジオ
ールである。特に、本発明は1,4−ブタンジオールか
らガンマブチロラクトンを製造する脱水素、環化反応に
好適である。
通常は無溶媒で、すなわち原料のアルコール又は生成物
のカルボニル化合物以外の溶媒を存在させずに行われる
が、所望ならば他の溶媒を用いることもできる。このよ
うな溶媒としては、例えばジエチルエーテル、アニソー
ル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、
テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジオキサ
ン等のエーテル類;メタノール、エタノール、n−ブタ
ノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、ジ
エチレングリコール等のアルコール類;フェノール等の
フェノール類;ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トルイル酸
等のカルボン酸類;酢酸メチル、酢酸ブチル、安息香酸
ベンジル等のエステル類;ベンゼン、トルエン、エチル
ベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素;n−ヘキサ
ン、n−オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水
素;ジクロロメタン、トリクロロエタン、クロロベンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素;ニトロメタン、ニトロベン
ゼン等のニトロ化合物;N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリ
ドン等のカルボン酸アミド;ヘキサメチルリン酸トリア
ミド等の他のアミド化合物;N,N−ジメチルイミダゾ
リジノン等の尿素;ジメチルスルホン等のスルホン類;
ジメチルスルフォキシド等のスルホキシド類;ガンマブ
チロラクトン、カプロラクトン等のラクトン類;ジメチ
ルカーボネート、エチレンカーボネート等の炭酸エステ
ル類;トリグライム、テトラグライム等のポリエーテル
類などが挙げられる。
リエーテル類等である。
くは100〜250℃、更に好ましくは150〜220
℃の範囲で反応させるとよい。触媒濃度は、工業的に所
望な活性を示す程度でよいが、通常、反応液に対しルテ
ニウム金属として0.0001〜100モル/L、好ま
しくは0.001〜10モル/Lとなるように反応系に
存在させればよい。反応は通常は均一触媒反応として進
行する。
にアルコールの脱水素反応を進行させることができるた
め、特に反応系に水素受容体を存在させる必要はない
が、所望により存在させてもよい。水素受容体として
は、例えば、アセトン、ジフェニルアセチレン、ビニル
メチルケトン、ベンザルアセトン、エチルメチルケト
ン、パラベンゾキノン、ニトロベンゼン、アセトニトリ
ル、塩化ビニル、ベンゾニトリル、アセトアルデヒド、
ホルムアルデヒド、ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒ
ドなどのカルボニル、アルケン又はアルキン化合物等が
挙げられる。
であれば任意であるが、本発明のアルコール脱水素反応
は、水素を生成する反応であるため、その水素を系外に
抜き出しながら行うのが好ましいことから、大気圧下で
開放系で行うことが好ましい。閉鎖系で行う場合には、
雰囲気は窒素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素などの
不活性ガスが好ましい。反応は回分方式でも連続方式で
も行うことができる。反応生成液は蒸留して生成したカ
ルボニル化合物を留去し、残留液には触媒が溶解してい
るので、回収して次回の反応に触媒として用いることが
できる。
化合物、特にラクトン化合物は、アルキルアミン類と反
応させて、ピロリドン類を製造することができる。例え
ば、ガンマブチロラクトンとメチルアミンとを反応させ
て、N−メチルピロリドンを製造し、洗浄剤、溶剤等と
して工業的に広く用いることができる。メチルアミン及
びN−メチルピロリドンの製造方法としては、特に制限
されるものではなく、それ自体既知の通常行なわれる方
法を採用すればよい。メチルアミンの製造方法として
は、例えば、米国特許3,387,032号公報、特開
平9−12514号公報等に記載された方法が挙げられ
るが、通常、メタノールとアンモニアとをシリカ及び/
又はアルミナ若しくはゼオライト等の触媒の存在下に反
応させることによって製造できる。N−メチルピロリド
ンの製造方法としては、例えば、特公昭47−1875
1号公報又は特公平6−78305号公報等に記載され
た方法が用いられうるが、モノ、ジ及び/又はトリメチ
ルアミンとガンマブチロラクトンとを加熱反応させるこ
とによって得られる。
ボニル化合物、特にガンマブチロラクトンは、特開平1
1−97062号公報又は特開平11−135374号
公報等に記載された如く、電解液の溶剤として、特開平
9−176695号公報等のポリウレタン洗浄溶液等と
して用いられ得る。
明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。なお、転化率及び選択率は、内部標準法を用いた
ガスクロマトグラフィーにより反応液を分析して求め
た。
リス(アセチルアセトナト)17.68g、10モル等
量のトリノルマルオクチルホスフィン162.95gを
導入し、水素圧0.8MPaで水素ガスを導入しなが
ら、190℃に熱し、5時間熱処理した。
ング口を設置した300mLの4つ口フラスコ中に1,
4−ブタンジオール93.31gを加え、205℃まで
加熱昇温した。そこに上記調製法で合成したルテニウム
触媒を8.19g加え、203℃で6時間加熱攪拌を行
った(Ru金属濃度2000重量ppm)。その結果、
1,4−ブタンジオールの転化率は99.7モル%であ
り、ガンマブチロラクトンの選択率は98.0モル%で
あった。
してトリグライム86.80g、1,5−ペンタンジオ
ール9.39gを203℃で3時間加熱攪拌した。その
結果、1,5−ペンタンジオールの転化率は100%で
あり、バレロラクトンの選択率は88.9モル%であっ
た。
例1と同様の調製法でルテニウム触媒を調製した。調製
した触媒6.15gを1,4−ブタンジオール93.3
3gに加え、実施例1と同様に203℃に加熱して4.
5時間反応させた(Ru金属濃度2000重量pp
m)。その結果、1,4−ブタンジオールの転化率は1
00.0モル%、ガンマブチロラクトン選択率は96.
6モル%であった。
1と同様の調製法でルテニウム触媒を調製した。調製し
た触媒5.19gを1,4−ブタンジオール100.4
7gに加え、実施例1と同様に203℃に加熱して4時
間反応させた(Ru金属濃度2000重量ppm)。そ
の結果、1,4−ブタンジオールの転化率は100.0
モル%、ガンマブチロラクトン選択率は97.0モル%
であった。
00.31gに加え、実施例1と同様に203℃に加熱
して5時間反応させた(Ru金属濃度1000重量pp
m)。その結果、1,4−ブタンジオールの転化率は1
00.0モル%、ガンマブチロラクトン選択率は98.
9モル%であった。
9.09gに加え、実施例1と同様に203℃に加熱し
て7.5時間反応させた(Ru金属濃度500重量pp
m)。その結果、1,4−ブタンジオールの転化率は1
00.0モル%、選択率は99.3モル%であった。
してトリグライム88.16g、1,5−ペンタンジオ
ール9.44gを203℃で3時間加熱攪拌した。その
結果、1,5−ペンタンジオールの転化率は98.6%
であり、バレロラクトンの選択率は84.5モル%であ
った。
の調製法でルテニウム触媒を調製した。調製した触媒
1.40gを1,4−ブタンジオール43.67gに加
え、実施例1と同様に203℃に加熱して4時間反応さ
せた(Ru金属濃度2000重量ppm)。その結果、
1,4−ブタンジオールの転化率は99.8モル%、ガ
ンマブチロラクトン選択率は99.5モル%であった。
様の調製法でルテニウム触媒を調製した。調製した触媒
2.56gを1,4−ブタンジオール45.63gに加
え、実施例1と同様に203℃に加熱して6時間反応さ
せた(Ru金属濃度2000重量ppm)。その結果、
1,4−ブタンジオールの転化率は99.8モル%、ガ
ンマブチロラクトン選択率は99.2モル%であった。
アセトナト)0.32g、トリノルマルオクチルホスフ
ィン3.2g、トリグライム300mL、パラトルエン
スルホン酸2.8gを仕込んだ後、200℃に熱して2
時間熱処理した。
ラスコに移し、1,4−ブタンジオールを10g加え、
200℃に加熱して4時間反応させた。その結果、1,
4−ブタンジオールの転化率は100モル%、ガンマブ
チロラクトンの選択率は75.3モル%であった。
トリス(アセチルアセトナト)0.32g、トリオクチ
ルホスフィン3.2g及びトリエチレングリコールジメ
チルエーテル300mLを仕込み、水素で5MPaに加
圧しつつ170℃で2時間保持して触媒液を調製した。
製した触媒液90mLと1,4−ブタンジオール10g
を仕込み、200℃で4時間反応させた。1,4−ブタ
ンジオールの転化率は99.7%であり、ガンマブチロ
ラクトンの選択率は98.0%であった。
触媒液45mL及び1,4−ブタンジオール50gを加
え、200℃に加熱して6時間反応させた。1,4−ブ
タンジオールの転化率は99.8%であり、ガンマブチ
ロラクトンの選択率は99.0%であった。
トリス(アセチルアセトナト)0.32g、トリオクチ
ルホスフィン3.2g及びトリエチレングリコールジメ
チルエーテル300mLを仕込み、水素で0.8MPa
に加圧しつつ200℃で5時間保持して触媒液を調製し
た。
製した触媒液45mLと1,4−ブタンジオール50g
を加え、200℃に加熱して6時間反応させた。1,4
−ブタンジオールの転化率は99.7%であり、ガンマ
ブチロラクトンの選択率は98.0%であった。
と同様の調製法でルテニウム触媒を調製した。調製した
触媒液5.81gを1,4−ブタンジオール95.34
gに加え、実施例1と同様に203℃に加熱して7時間
反応させた(Ru金属濃度約2000重量ppm)。そ
の結果、1,4−ブタンジオールの転化率は97.8モ
ル%、ガンマブチロラクトン選択率は95.0モル%で
あった。
中、実施例1と同様の調製法でルテニウム触媒を調製し
た。調製した触媒トルエン溶液からトルエンを減圧留去
して除いた触媒7.48gを1,4−ブタンジオール1
24.89gに加え、実施例1と同様に203℃に加熱
して8時間反応させた(Ru金属濃度約2000重量p
pm)。その結果、1,4−ブタンジオールの転化率は
84.0モル%、ガンマブチロラクトン選択率は68.
1モル%であった。
と同様の調製法でルテニウム触媒を調製した。調製した
触媒液1.94gを1,4−ブタンジオール48.66
gに加え、実施例1と同様に203℃に加熱して12時
間反応させた(Ru金属濃度約2000重量ppm)。
その結果、1,4−ブタンジオールの転化率は85.0
モル%、ガンマブチロラクトン選択率は54.2モル%
であった。
ス(アセチルアセトナト)0.635g、10モル等量
のトリ−n−オクチルホスフィン4.84gからIr触
媒を合成した。このイリジウム触媒3.73gを実施例
1と同様に205℃に加熱した1、4−ブタンジオール
81.5gに加え、203℃で10時間加熱攪拌した。
その結果、1,4−ブタンジオールの転化率は5.2%
であり、ガンマブチロラクトンの選択率は0.0モル%
であった。
Claims (8)
- 【請求項1】 ルテニウムと、リン原子の3個の結合手
の2個以上に脂肪族性の炭素が結合している有機ホスフ
ィンとを含む錯体触媒の存在下に、アルコールを脱水素
することを特徴とするカルボニル化合物の製造方法。 - 【請求項2】 有機ホスフィンがトリアルキルホスフィ
ンであることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 錯体触媒がpkaが2よりも小さい酸の
共役塩基を含有していることを特徴とする請求項1また
は2に記載の方法。 - 【請求項4】 アルコールが複数個の第1級水酸基を有
する多価アルコールであることを特徴とする請求項1か
ら3のいずれかに記載の方法。 - 【請求項5】 カルボニル化合物がエステル結合を有す
る化合物であることを特徴とする請求項1から4のいず
れかに記載の方法。 - 【請求項6】 アルコールが1,4−ブタンジオールで
あり、カルボニル化合物がガンマブチロラクトンである
ことを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の方
法。 - 【請求項7】 請求項6に記載の方法により得られたガ
ンマブチロラクトンを用いて製造されたN−メチルピロ
リドン。 - 【請求項8】 請求項6に記載の方法により得られたガ
ンマブチロラクトンを溶剤として含む電解液。
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- 2000-12-14 JP JP2000380129A patent/JP4147741B2/ja not_active Expired - Fee Related
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