JPH01290529A - 高純度亜酸化チタンの製造方法 - Google Patents

高純度亜酸化チタンの製造方法

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JPH01290529A
JPH01290529A JP11857088A JP11857088A JPH01290529A JP H01290529 A JPH01290529 A JP H01290529A JP 11857088 A JP11857088 A JP 11857088A JP 11857088 A JP11857088 A JP 11857088A JP H01290529 A JPH01290529 A JP H01290529A
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JP
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titanium
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suboxide
vacuum
titanium suboxide
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JP11857088A
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Seiichi Takemura
武村 精一
Wataru Kagohashi
篭橋 亘
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Toho Titanium Co Ltd
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Toho Titanium Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、固相−固相原料系による還元反応を利用した
高純度亜酸化チタンの製造方法に関する。
〔従来の技術〕
亜酸化チタンは、二酸化チタンとは異なり還元によって
茶褐色、灰色あるいは黒色などの色調を呈するうえに、
良好な導電性能を有するため、を色顔料や各種材料の導
電性フィラーとして存用されている。
従来、この亜酸化チタンを製造する手段として、二酸化
チタンを水素あるいはアンモニア等のガスにより高温還
元する方法(特公昭59−50604号公報、特開昭5
7−205322号公報など)、および二酸化チタンと
金属チタンの混合物を真空中または還元雰囲気中で加熱
する方法が典型的技術として知られている。
このうち、前者の方法は固相−気相原料系による還元反
応を利用するもので、得られる亜酸化チタンは平均粒径
0.05〜0,3μmと微細性状ではあるが組織内に水
素あるいはアンモニア等の還元ガスが残存する問題点が
ある。
一方、後者の方法は固相−固相原料系による還元反応を
利用するもので、例えば特開昭49−5432号公報に
開示されている。この固相−固相原料系を用いる方法に
おいては出発原料となる金属チタンの粒度を10am以
下にすることが反応を円滑に進行させるための重要な要
件とされてい一般に、金属チタンを粉末化するにはスポ
ンジチタンの機械的粉砕、または四酸化チタンをナトリ
ウム還元して得た金属チタンを反応生成物である食塩と
ともに機械粉砕するなどの方法が採られるが、これら方
法による粉砕粒度の限界はせいぜい149μm程度であ
って原料として適性な粒度水準を得ることは困難である
これより優れた金属チタンの微粉砕手段として、スポン
ジチタンを一旦、水素化したのち粉砕し、得られる水素
化チタン粉末を脱水素する方法がある。しかし、この方
法による場合には粉砕−篩別のプロセスを反覆しておこ
なう必要があり、この過程で粉砕設備等からの二次的な
不純物の汚染、特に鉄分の混入を招く欠点がある。
〔発明が解決しようとする課題〕
近時、光学系、オプトエレクトロニクスなどの分野にお
いて、酸化チタンの蒸着がおこなわれている。亜酸化チ
タンは、二酸化チタンと比較して蒸気圧が高い関係でこ
の目的の蒸着材としても用いられている。
蒸着材に使用される亜酸化チタンは、抵抗加熱もしくは
電子ビーム加熱により融解したのち酸化チタン薄膜とし
て基板面に真空蒸着形成されるが、この場合、亜酸化チ
タンが余りにも微粉末であると蒸着工程において均一に
溶融することができず、1着物が飛散する現象が生じる
。また、真空加熱状態でのスプラッシュやアウトガスが
大きいと基板に均一な蒸着ができないばかりでなく、蒸
着装置に蒸着物が付着したり、電子銃フィラメントが酸
化、変質したりするトラブルが発生する。更に、亜酸化
チタンに不純物が多く含有されていると、蒸着膜の屈折
率が変動し、吸収特性が大となるなど被膜性能を劣化さ
せる因となる。
したがって、蒸着材を目的とした亜酸化チタンに要求さ
れる性状特性は、余り微粉末ではない粒子状態で、ガス
成分と不純物の含有量が可及的に少ないことである。
前述した従来の製造技術により得られる亜酸化チタンを
この要求特性に対比させると、固相−気相系による場合
には吸蔵ガスの存在と粒径が小さすぎるために不適であ
り、また固相−固相原料系の場合は不純物含有量が多く
、いずれのケースも満足しない。
本発明は、上記のような従来技術の問題点を解消し、蒸
着材目的に対しても要求特性を満足しえる高純度亜酸化
チタンの製造方法を提供するものである。
〔課題を解決するための手段〕
すなわち、本発明は従来技術とは異なる固相−固相原料
系を用いた高純度亜酸化チタンの製造方法で、その構成
は、粒度80μm以下の水素化チタン粉末と二酸化チタ
ンとの混合物を、700〜1600℃の温度域において
真空または不活性ガス雰囲気下で加熱焼成させることを
特徴とする。
本発明の出発原料となる水素化チタンは、次のようにし
て粉末化される。
粒状の水素化チタンを水素雰囲気中で400〜700℃
の温度に加熱する。冷却後の状態は、加熱前と同じ粒状
でありながら水素脆性によって容易に粉砕しえる性状に
転化する。粉砕は、ボールミル、振動ミルのような通常
の粉砕機を用いておこなうことができる。
粉末の粒度は、80μmより大きくなると焼成工程にお
ける還元反応が不均一となって一定組成の亜酸化チタン
を得ることができなくなる。したがって、水素化チタン
の粒度調整は、80μm以下、より適切には50μm以
下にすることが望ましい。50μm以下の粒度に粉砕す
るためには、ボールミルで10〜30分程度、振動ミル
を用いた場合で5〜20分程度と極めて短時間で済み、
それ以下の粒度調整も比較的容易におこなうことができ
る。
このようにして粒度調整した80μm以下の水素化チタ
ン粉末は、所定の配合比で二酸化チタンと混合される。
水素化チタンを構成する水素成分は最終的に焼成工程に
おいてガスとして除去されるため、水素化チタンと二酸
化チタンの配合比はガスとして揮散する水素を配慮した
うえで設定される。
例えば、亜酸化チタンのうちTiOを生成する際の反応
は次式による。
T i O+T i Hz→2T i O+H,↑この
ため、配合比はT i Hz 38.44重量%、Ti
 Ox 61.56%となる。しかし、この配合比を変
えて還元の度合を制御することにより、Tt、O,、T
i、O,など各種の低次酸化チタンを得ることが可能と
なる。
水素化チタン粉末と二酸化チタンの混合は、乾式もしく
は温式法により、普通に用いられる混合または混練装置
でおこなうことができる。
混合物は、加熱焼成前に予めペレット状に成形しておく
ことが好ましい。成形は、通常の油圧式または機械式の
プレス成型装置を用いておこなわれるが、金型のかじり
防止と離型性を良くするため必要に応し適宜なバインダ
ー成分を添加してもかまわない。
加熱焼成工程は、電気炉などを用いて700〜1600
℃の温度域でおこなう、加熱温度が700℃を下廻る場
合には還元反応が円滑に進行せず、一定組成の亜酸化チ
タンを得ることが困難となる。
一方、1600℃を越える温度で加熱すると、亜酸化チ
タンの蒸発量が増加し、収率が大幅に低下する。焼成時
の雰囲気は、真空またはアルゴン、ヘリウムのような不
活性雰囲気に保持する必要があるが、亜酸化チタン中の
水素含有量を効果的に除去するためには真空雰囲気に保
つことが望ましい。
加熱焼成後は、真空または不活性ガス雰囲気に保持した
状態で冷却し、反応生成した亜酸化チタンを製品として
取出す。
〔作 用〕
本発明によれば還元剤となる出発原料として水素化チタ
ンを選択使用するから、所定粒度への粉砕が極めて容易
となる。例えば同一粒度の粉砕に要する所要時間は、金
属チタン塊を粉砕するときに比べ1/2〜l/10に短
縮することができる。
したがって、粉砕過程において装置等から混入する不純
物は最小限に抑えることができる。
また、加熱焼成工程において還元反応が円滑に進行し、
反応生成する水素ガスは亜酸化チタンの組織内に吸蔵さ
ることなく揮散する。
これら機構が水素化チタンの粒度限定(80μm)の作
用と相俟って、常に高純度でガス含有量の少ない亜酸化
チタンを効率よく製造するために機能する。
〔実施例] 以下、本発明を実施例ならびに比較例により説明する。
実施例1 粒度44μm以下(光透過法による平均粒径7゜6μm
)、水素含有!3.85%の水素化チタン粉末769g
と二酸化チタン粉末(光透過法による平均粒径0.60
μm)1231gを配合し、乾式混合機で30分間混合
した。この混合粉末を油圧成型プレスを用いて300 
kg/c+!の圧力で成形し、直径10m+a、厚さ4
閣の錠剤形ペレットとした。
次いで、ペレント2kgを真空雰囲気炉に充填し、炉内
を6.OX 10−’To r rの真空度に保持しな
がら1300℃の温度で3時間に亘り加熱焼成し得られ
た亜酸化チタンは茶黒色を呈する物質で、X線回折の結
果TiOであることが確認された。
この亜酸化チタンにつき含有不純物を測定し、表1に示
した。
実施例2 配合比を水素化チタン粉末345g、二酸化チタン粉末
1655gとした以外は全て実施例1と同一条件により
亜酸化チタンを製造した。得られた亜酸化チタンは黒色
を呈しており、X線回折の結果TizO,であることが
認められた。同時に含有不純物を測定し、表1に示した
実施例3 配合比を水素化チタン粉末222g、二酸化チタン粉末
1788gとした以外は全て実施例1と同一条件により
亜酸化チタンを製造した。得られた亜酸化チタンは黒色
を呈しており、X線回折の結果T i 30 sである
ことが確認された。その含有不純物を測定し、表1に示
した。
比較例1 実施例1と同一の水素化チタン8kgを真空雰囲気炉に
充填し、真空下、700 ’Cの温度に2時間保持した
。この場合の最終到達圧力は1.5X 10−”Tor
rであった。冷却後、得られた塊状の金属チタンをアル
ゴン雰囲気中、ステンレス製の乳鉢で砕き、引続き連続
振動ミルを用いアルゴン雰囲気中、約0.6kg/分の
フィード量で約40分間粉砕した。粉砕後、粒度44μ
mの篩で分級し、篩上2kgの金属チタンを再び連続振
動ミルで粉砕処理して全て粒度44μm以下に調整した
。この光透過法による平均粒径は、20.6μmであっ
た。
ついで、金属チタン粉末750gと実施例1と同じ二酸
化チタン粉末1250gを実施例1に準じて混合し、ベ
レットに成形した。このペレット2kgを真空雰囲気炉
に充填し、炉内を5.2X 10−’Torrの真空度
に保持しながら1300℃の温度で3時間に亘り加熱焼
成した。
得られた亜酸化チタンは茶黒色の色調を呈しており、X
線回折の結果TiOであることが確認された。この亜酸
化チタンについて含有不純物を測定し、表1に併載した
比較例2 配合比を水素化チタン粉末333g、二酸化チタン粉末
1667gとした以外は全て比較例1と同一条件で亜酸
化チタンを製造した。得られた亜酸化チタンは黒色で、
X線回折の結果’pifoffであることが確認された
。また、含有不純物の測定もおこない、分析結果を表1
に併載した。
表1の結果から、本発明の実施例はいずれも比較例に比
べ不′I/1.吻含有量が減少しており、特に鉄成分が
著しく低減していることが判明する。
〔発明の効果] 本発明の製造方法は、出発原料に水素化チタンを用いる
ことにより短縮された工程で迅速かつ円滑に高純度でガ
ス含有量の少ない亜酸化チタン壱得ることを保証するも
のである。したがって、適用しえる用途分野も広汎とな
り、工業的に極めて有利となる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、粒度80μm以下の水素化チタン粉末と二酸化チタ
    ンとの混合物を、700〜1600℃の温度域において
    真空または不活性ガス雰囲気下で加熱焼成させることを
    特徴とする高純度亜酸化チタンの製造方法。
JP11857088A 1988-05-16 1988-05-16 高純度亜酸化チタンの製造方法 Pending JPH01290529A (ja)

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