JPH01268065A - 縦型電界効果トランジスタ - Google Patents
縦型電界効果トランジスタInfo
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- JPH01268065A JPH01268065A JP63097202A JP9720288A JPH01268065A JP H01268065 A JPH01268065 A JP H01268065A JP 63097202 A JP63097202 A JP 63097202A JP 9720288 A JP9720288 A JP 9720288A JP H01268065 A JPH01268065 A JP H01268065A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/7801—DMOS transistors, i.e. MISFETs with a channel accommodating body or base region adjoining a drain drift region
- H01L29/7802—Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors
- H01L29/7815—Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors with voltage or current sensing structure, e.g. emulator section, overcurrent sensing cell
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0684—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape, relative sizes or dispositions of the semiconductor regions or junctions between the regions
- H01L29/0692—Surface layout
- H01L29/0696—Surface layout of cellular field-effect devices, e.g. multicellular DMOS transistors or IGBTs
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電流検出用機能を備えた縦型電界効果トランジ
スタの特性改善に関し、特に電流検出の精度向上と電流
検出機能を備えた事による耐圧の低下の防止に関するも
のである。
スタの特性改善に関し、特に電流検出の精度向上と電流
検出機能を備えた事による耐圧の低下の防止に関するも
のである。
従来電流検出機能を備えた縦型電界効果トラン。
ジスタでは能動セルの一部(能動セルの1/1000程
度)を利用し、能動セルと電流検出セルのソース電極を
分離して電流検出を行なっていた。
度)を利用し、能動セルと電流検出セルのソース電極を
分離して電流検出を行なっていた。
上述した従来技術の縦型電界効果トランジスタは第2図
に示すように同−N−ドレイン2内に、ベース3内に形
成された能動セル2oとベース3′内に形成された電流
検出セル3oとを有しており、電流検出セル30のソー
ス電極(電流検出取り出し電極)8つ電位が能動セル2
oのソース電極7の電位と異なる場合には電流検出セル
3゜のチャネルを形成するベース領域3は電流検出セル
30のソース電極8と接続されているため能動セル20
のゲート・ソース間バイアスと電流検出セル30のゲー
ト・ソース間バイアスとでは異するため検出電流が電流
検出セル30のソース電極の電位の影響を受け、このた
め検出電流の精度が悪くなり特にゲート電圧が低い場合
には著しいという欠点がある。
に示すように同−N−ドレイン2内に、ベース3内に形
成された能動セル2oとベース3′内に形成された電流
検出セル3oとを有しており、電流検出セル30のソー
ス電極(電流検出取り出し電極)8つ電位が能動セル2
oのソース電極7の電位と異なる場合には電流検出セル
3゜のチャネルを形成するベース領域3は電流検出セル
30のソース電極8と接続されているため能動セル20
のゲート・ソース間バイアスと電流検出セル30のゲー
ト・ソース間バイアスとでは異するため検出電流が電流
検出セル30のソース電極の電位の影響を受け、このた
め検出電流の精度が悪くなり特にゲート電圧が低い場合
には著しいという欠点がある。
また電流検出セル30は電流検出電極8の電位が固定さ
れない場合(例えば電流検出端子を使わない様な場合)
、電流検出セル30のベース領域3′は浮遊電位となる
ため空乏層の延びが能動セル部20に比べ抑えられ耐圧
の低下を起こすという欠点がある。
れない場合(例えば電流検出端子を使わない様な場合)
、電流検出セル30のベース領域3′は浮遊電位となる
ため空乏層の延びが能動セル部20に比べ抑えられ耐圧
の低下を起こすという欠点がある。
本発明の縦型電界効果トランジスタでは、この様な不都
合をなくすために能動セルのチャネルを形成するベース
領域と電気的に接続された電流検出セルのベース領域及
び電流検出電極が電流検出セルのソース領域のみと接続
された電流検出セルを有している。
合をなくすために能動セルのチャネルを形成するベース
領域と電気的に接続された電流検出セルのベース領域及
び電流検出電極が電流検出セルのソース領域のみと接続
された電流検出セルを有している。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の断面図であり、ここではn
チャネルを例にしている。図中1はN+ドレイン、2は
N−ドレイン、3はベース、4はソース、5はゲート電
極、6は絶縁膜、7はソース電極、8は電流検出電極、
9はベース電極、10はドレイン電極である。電流検出
セル30のベース領域3′はベース電極9を通して能動
セル20のソース電極7に電気的に接続されている。
チャネルを例にしている。図中1はN+ドレイン、2は
N−ドレイン、3はベース、4はソース、5はゲート電
極、6は絶縁膜、7はソース電極、8は電流検出電極、
9はベース電極、10はドレイン電極である。電流検出
セル30のベース領域3′はベース電極9を通して能動
セル20のソース電極7に電気的に接続されている。
また電流検出電極8は電流検出セル30のソース4′と
のみ接続されている。
のみ接続されている。
以上にnチャンネル型の例を示したが、本発明はpチャ
ンネル型にも適用可能なことは明らかである。
ンネル型にも適用可能なことは明らかである。
以上説明したように、本発明は電流検出セルのと
チャネルを形成するベース領域を能動セルのチャネルを
形成するベース領域とを電気的に接続し、さらに電流検
出電極を電流検出セルのソース領域とのみ接続させるこ
とによ恢、電流検出セルのゲート・ベース領域間電圧と
能動セルのゲート・ベース領域間電圧を等しくできるた
め電流検出電極から取り出される電流は電流検出電極の
電位の影響を受けにくく電流検出の精度を向上させるこ
とができる。
形成するベース領域とを電気的に接続し、さらに電流検
出電極を電流検出セルのソース領域とのみ接続させるこ
とによ恢、電流検出セルのゲート・ベース領域間電圧と
能動セルのゲート・ベース領域間電圧を等しくできるた
め電流検出電極から取り出される電流は電流検出電極の
電位の影響を受けにくく電流検出の精度を向上させるこ
とができる。
また電流検出セルのベース領域が能動セル(7)ベース
領域と電気的に接続されているため電流検出電極が使わ
れない場合に於てもベース領域の電位が固定されるため
耐圧低下は起きない。
領域と電気的に接続されているため電流検出電極が使わ
れない場合に於てもベース領域の電位が固定されるため
耐圧低下は起きない。
第1図は本発明をNチャネル縦型電界効果トランジスタ
に応用した実施例の断面図、第2図は従来の縦型電界効
果トランジスタの断面図である。 1・・・・・・N+ドレイン、2・・・・・・N−ドレ
イン、3・・・・・・ベース、4・・・・・・ソース、
5・・・・・・ゲート電極、6・・・・・・絶縁膜、7
・・・・・・ソース電極、8・・・・・・電流検出電極
、9・・・・・・ベース電極、10・・・・・・ドレイ
ン電極、20・・・・・・能動セル、30・・・・・・
電流検出セル。 代理人 弁理士 内 原 音 第2図
に応用した実施例の断面図、第2図は従来の縦型電界効
果トランジスタの断面図である。 1・・・・・・N+ドレイン、2・・・・・・N−ドレ
イン、3・・・・・・ベース、4・・・・・・ソース、
5・・・・・・ゲート電極、6・・・・・・絶縁膜、7
・・・・・・ソース電極、8・・・・・・電流検出電極
、9・・・・・・ベース電極、10・・・・・・ドレイ
ン電極、20・・・・・・能動セル、30・・・・・・
電流検出セル。 代理人 弁理士 内 原 音 第2図
Claims (1)
- 表面にソース及びゲートを有し、裏面にドレインを有
し、さらに電流検出用MOSFET素子を備えた縦型電
界効果トランジスタに於て、前記電流検出用MOSFE
T素子のチャネルを形成するベース領域が、縦型電界効
果トランジスタ本体のチャネルを形成するベース領域と
電気的に接続され、前記電流検出用MOSFET素子の
電流取り出し電極が前記電流検出用MOSFET素子の
ソース領域とのみ接続されていることを特徴とする縦型
電界効果トランジスタ。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63097202A JPH0777262B2 (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 | 縦型電界効果トランジスタ |
US07/339,486 US4908682A (en) | 1988-04-19 | 1989-04-17 | Power MOSFET having a current sensing element of high accuracy |
EP19890106945 EP0338516A3 (en) | 1988-04-19 | 1989-04-18 | Power mosfet having a current sensing element of high accuracy |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63097202A JPH0777262B2 (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 | 縦型電界効果トランジスタ |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8192193A Division JP2917923B2 (ja) | 1996-07-22 | 1996-07-22 | 縦型電界効果トランジスタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01268065A true JPH01268065A (ja) | 1989-10-25 |
JPH0777262B2 JPH0777262B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=14186024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63097202A Expired - Lifetime JPH0777262B2 (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 | 縦型電界効果トランジスタ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4908682A (ja) |
EP (1) | EP0338516A3 (ja) |
JP (1) | JPH0777262B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR19980081176A (ko) * | 1997-04-09 | 1998-11-25 | 이데이노부유끼 | 전계 효과 트랜지스터의 핀치-오프 전압의 측정 회로, 측정트랜지스터, 측정 방법 및 제조 방법 |
KR100380577B1 (ko) * | 1995-09-22 | 2003-07-18 | 페어차일드코리아반도체 주식회사 | 전압,전류감지능력이향상된센스펫 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4998151A (en) * | 1989-04-13 | 1991-03-05 | General Electric Company | Power field effect devices having small cell size and low contact resistance |
US5034796A (en) * | 1989-06-07 | 1991-07-23 | Ixys Corporation | Simplified current sensing structure for MOS power devices |
US5155563A (en) * | 1991-03-18 | 1992-10-13 | Motorola, Inc. | Semiconductor device having low source inductance |
JP2955106B2 (ja) * | 1992-01-06 | 1999-10-04 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
GB9207849D0 (en) * | 1992-04-09 | 1992-05-27 | Philips Electronics Uk Ltd | A semiconductor device |
US5506421A (en) * | 1992-11-24 | 1996-04-09 | Cree Research, Inc. | Power MOSFET in silicon carbide |
JPH09191103A (ja) * | 1996-01-09 | 1997-07-22 | Nec Corp | 電流検出手段を有する半導体装置 |
US5719409A (en) * | 1996-06-06 | 1998-02-17 | Cree Research, Inc. | Silicon carbide metal-insulator semiconductor field effect transistor |
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US7859037B2 (en) | 2007-02-16 | 2010-12-28 | Power Integrations, Inc. | Checkerboarded high-voltage vertical transistor layout |
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US8972216B2 (en) | 2010-03-09 | 2015-03-03 | Infineon Technologies Austria Ag | Methods and apparatus for calibration of power converters |
US9525063B2 (en) | 2013-10-30 | 2016-12-20 | Infineon Technologies Austria Ag | Switching circuit |
US9048838B2 (en) | 2013-10-30 | 2015-06-02 | Infineon Technologies Austria Ag | Switching circuit |
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US9543396B2 (en) | 2013-12-13 | 2017-01-10 | Power Integrations, Inc. | Vertical transistor device structure with cylindrically-shaped regions |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62143450A (ja) * | 1985-12-18 | 1987-06-26 | Hitachi Ltd | 複合半導体装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60196974A (ja) * | 1984-03-19 | 1985-10-05 | Toshiba Corp | 導電変調型mosfet |
-
1988
- 1988-04-19 JP JP63097202A patent/JPH0777262B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-04-17 US US07/339,486 patent/US4908682A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-18 EP EP19890106945 patent/EP0338516A3/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS62143450A (ja) * | 1985-12-18 | 1987-06-26 | Hitachi Ltd | 複合半導体装置 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0338516A3 (en) | 1990-09-19 |
EP0338516A2 (en) | 1989-10-25 |
JPH0777262B2 (ja) | 1995-08-16 |
US4908682A (en) | 1990-03-13 |
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