JPH01253803A - 磁気ヘッドチップおよび複合型磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野］ 本発明は、コンピュータ用ハードディスクなどに用いら
れる複合型磁気ヘッドに関するものである。

〔従来の技術〕

回転する磁気記録媒体（以下媒体という）に対しおおむ
ね平行に浮上する磁気ヘッドとして、近年、第５図に示
すような複合型磁気ヘッドが開発され、例えば実開昭５
７−１８９１７３号公報にて開示されている。

すなわち、上記複合型磁気ヘッドは、第５図（ａ）に示
す非磁性体からなるスライダー１の、２木のスライドレ
ール１ａのうちいずれか一方の媒体流出端側に設けた溝
３内に、磁性体からなり巻線溝２Ｃを有するＣコア２ａ
と１コア２ｂとを、接合ガラスと補強ガラス４ｂとによ
り接合と補強とを行なって形成した磁気ヘッドチップ（
以下チップという）２を挿入し、接着ガラス４Ｃにより
接着して第５図（Ｃ）のように組み立てたものである。

しかして、従来より複合型磁気ヘッドのチップには主と
してフェライトからなるものが用いられている。一方、
近年の磁気記録の高密度化に伴ない、媒体の保磁力を大
きくする必要があり、高保磁力の媒体が出現している。

しかし、前記フェライトは飽和磁束密変が比較的小さい
ため、高保磁力の媒体への書き込みが十分になし得ない
という問題がある。

このため、従来は、第６図に示すようにＣコア１ａの巻
線溝ＩＣ側と、これに対向する■コア２ｂ側の両側全面
にＦｅ−ＡＥ−５ｉあるいは非晶質合金等の磁性薄膜５
をスパッタ法等により形成し、ガラス４で接合したもの
が開発され、例えば特開昭６１−１８４７１２号公報で
開示されている。

〔発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、Ｃコアと１コアの対向面全面に磁性薄膜
を形成したものは、ギャップ部の両側に磁性薄膜が形成
されるので、フロントギャップ部から媒体側へ形成され
る漏洩磁束の磁界分布が急峻になりすぎ、記録磁界の垂
直成分が大きくなり面内記録成分が小さくなって、磁気
特性が十分にでない。

また、対向面の両側全面に磁性薄膜を形成したものは、
薄膜によるコアの残留応力が増大するため、スライス加
工時あるいは非磁性スライダーにチップを固定する工程
時に補強ガラスのクラックが発生し易く、製造歩留まり
が低くかつ製品としての信頼性が劣るという問題を有す
るものである。

全面磁性膜形成による応力を低減するための手段として
は、フロントギャップ部とバックギャップ部にのみ膜形
成すれば良い。この場合バック側にマスクスパッタ等に
より磁性膜を配置するにあたり膜が巻線窓内部に露出し
たり逆にパックギャップ内部に入り込んだりして、これ
がクランク発生の起点となる、という問題が生じ易い。

本発明は、上記問題点を解決し、磁気特性が優れるとと
もにクラックの発生が少なく信頼性の高い複合型磁気ヘ
ッドを提供することを目的とするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、上記目的を達成するためになされたもので、
磁性体からなり巻線溝を有するＣコアと対向するＩコア
とを、フロントギャップ部およびバックギャップ部にお
いてガラスにより接合するとともに、前記巻線溝内にお
いてガラスによる補強を行なった磁気へ、ラドチップを
、非磁性体からなるスライダーのスライドレールに設け
た磁気記録媒体流出端側の溝内に挿入し、ガラスにより
接着した複合型磁気ヘッドにおいて、前記磁気ヘッドチ
ップは、■コアのフロントギャップ部およびバックギャ
ップ部を形成する面のみにセンダストの薄膜を１〜１０
μｍの厚さ形成し、かつ該薄膜面およびこの面と対向す
るＣコアの面の両面またはいずれか一方の面に、５ｉＯ
ｚｌ膜とガラスの薄膜とを１１１次形成して、前記Ｃコ
アと■コアとの接合に際し、磁気ヘッドチップ完成時に
後部ギャップ部に連なる巻線溝の内側に補強用ガラスが
配置するようにガラスを流入させ、さらに媒体対向面側
にフロントギャップ部のギャップ深さより深いステップ
部を形成したものであり、該磁気ヘッドチップをＩコア
側を前記媒体の流出端側に向けて前記スライダーの溝に
挿入したことを特徴とするものである。

（作　用〕 センダストからなる磁性薄膜を■コアのギヤツブ部形成
面のみに形成し、このＩコアを媒体の流出端側にしたの
で、ギャップ部における漏洩磁束の磁界分布が媒体の流
出端側で急峻になり、記録された媒体における磁化の遷
移中が急峻に記録できるのである。

さらに、磁性薄膜がギヤツブ部形成面のみに形成され、
巻線溝内ではＣコア、■コアとも形成されず、かつ巻線
溝内に図１　（ａ）にあるように配置した補強ガラスの
効果により、補強ガラスにクランクが発生することが少
なく、信頼性を向上しうるちのである。

しかして、■コアのギヤツブ部形成面にセンダストの薄
膜を形成したのは、センダストは飽和磁束密度Ｂが大き
く、かつ結晶質であって耐熱性があるからである。

また、膜厚を１〜１０μｍとしたのは、１μｍ未満では
出力が出す、１０μｍを超えると膜剥がれやクラックが
発生しやすくなるからである。

なおまた、チップの磁気記録媒体対向面側に、フロント
ギャップ部のギャップ深さより深いステップ部を形成し
たので、トラック巾Ｔｗの規制が容易である。

、〔実施例〕 以下、第１図および第２図により本発明の一実施例を説
明する。

第２図（ａ）はＣコアと■コアとを接合する前の状態を
示す正面図である。

まず第２図に示すように、ＭＮ　−Ｚｎフェライトから
なり巻線溝２０を有するＣコアブロック２Ａと巻線溝の
ないＩコアブロック２Ｂとを準備し、それぞれのフロン
トギャップ部２ｄのギヤツブ部形成面２ｅ、２ｅ′およ
びパックギャップ部２ｆのギヤツブ部形成面２ｇ、２ｇ
’を鏡面仕上げし、■コアブロック２Ｂのギヤツブ部形
成面２ｅ′、２ｇ′のみにセンダストの薄膜５をスパッ
タ法により１〜１０μｍの範囲で形成した。

次に、上記センダストの薄膜５の面とＣコアのギヤツブ
部形成面２ｅ、２ｇに軟化点が６３０°Ｃの接合ガラス
４ａの薄膜をスパッタ法により０．１μｍの厚さに形成
した。

次に上記Ｃコアブロック２ＡとＩコアブロック２Ｂとを
突き合わせ、Ｎ２ガス中で７５０°Ｃに加熱し３０分間
保持して接合を行なうとともに、軟化点が６００°Ｃの
ＳｉＯ□−ＢｚＯ＊　　ＰｂＯ系の補強ガラス４ｂによ
って巻線溝ｌｃ内において補強を行なった。

この接合と補強を行なったブロックを約０．６　ａｍ厚
に切断した後、媒体対向面２ｈ側にフロントギャップ２
ｄのギャップ深さＧｄより深い深さｄのステップ部２Ｓ
を、媒体対向面２ｈと平行に形成し、さらに全体にラッ
プ加工を施して第１図に示すチップ２に仕上げた。

このチップ２の仕上がり外形寸法は、■コアの中０．３
４　ｒｔｍを含めて全体の巾１．１ｍ、高さ１．８胴、
厚さ０．６閣である。

次に、このチップ２を、チタン酸カルシウムからなるセ
ラミックのスライダー１のスライドレール１ａの一方の
媒体流出端側の溝３に挿入し、軟化点４４５°Ｃ１溶融
温度５４０°Ｃの接着ガラスにより接着を行なった後、
最終的な仕上げ加工を施して第５図（Ｃ）と同様の複合
型磁気ヘッドとした。

上記のようにして製造した本発明の複合型磁気ヘッド（
Ａ）と、センダスト薄膜５をフロントギャップ部２ｄの
ギヤツブ部形成面２ｅ、２ｅ′の両面に形成したもの（
Ｂ）、Ｃコア２ａ側の面２ｅに形成したもの（Ｃ）、セ
ンダスト薄膜５をいずれの面にも形成しなかったもの（
Ｄ）について、それぞれの特性を磁気ヘッドテスターで
テストした結果を第３図に示す。

第３図から明らかなように、本発明のもの（Ａ）は、他
のもの（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）よりも分解能、出力とも
優れるものである。

次に、本発明のものについて、センダスト薄膜の膜厚を
変えてテストした結果を第４図に示す。

第４図に見られるように、所望の出力を得るためには１
μｍ以上の膜厚が必要であるが、１０μｍを超えると膜
剥がれやクラックが発生して使用できないものとなるの
である。

次に、スライス加工時の剥がれやクランクの発生率（％
）について、本発明のもののようにセンダストの薄膜５
を１コア２ｂの面２ｅ′のみに形成したものと、Ｃコア
２ａと■コア２ｂの両面２ｅ、２　ｅ　ｌに形成したも
のとについて比較した結果、第１表に示すとおり本発明
のものは発生率が極めて少なく、製品としての信頼性の
高いことが６育Ｊ忍された。

第　　　１　　　表 また、補強ガラス断面積Ｓに対して、剥がれやクシツク
の発生率で調査したものが第２表である。

このようにかかるガラスのＳは５×１０□Ｓ以上で効果
を示す。ただし５×１０□２においてはガラス量が多す
ぎて巻線時に支障をきたす。

なお、上記実施例は、第５図（ａ）に示すようにスライ
ダー１の左側の溝３中に、第１図（ｂ）に示すようにス
テップ部２Ｓを左側に形成したチップ２を挿入して接着
したアップサイド用のものについて説明したが、右側の
溝中に右側にステップ部を形成したチップを挿入して接
着したダウンサイド用についても同様の作用効果を奏す
るものである。

〔発明の効果］ 上述のように本発明の複合型磁気ヘッドは、磁気特性に
優れるとともに、膜剥がれやクラックの発生率が低く信
頼性の高いものである。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）は本発明の一実施例を示すチップの正面図
、第１図（ｂ）は同じく側面図、第２図は接合前の状態
を示すチップの正面図、第３図、第４図は磁性薄膜につ
いてテストした結果を示す図、第５図（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）は従来の複合型磁気ヘッドの一例を示す図で、（
ａ）はスライダーを、（ｂ）はチップを、（Ｃ）は組み
立て状態をそれぞれ示す斜視図、第６図は従来のものの
要部を誇張して示す斜視図である。 １ニスライダー、２：チップ、３：溝、４ニガラス、４
ａ：接合ガラス、４ｂ：補強ガラス、４ｃ：接着ガラス
、５：センダスト薄膜、６：Ｓｉ０ｇ薄膜、１ａニスラ
イドレール、２ａ：Ｃコア、２ｂ：Ｉコア、２ｃ：巻線
溝、２ｄ：フロントギャップ部、２ｅ、２ｅ′　：ギヤ
ツブ部形成面、２ｒ：バラクギ中ツブ部、２ｇ、２ｇ′
　：ギヤツブ部形成面、２ｈ：媒体対向面、２ｓニステ
ップ部、Ｇｃｌギャップ深さ、ｄエステ９１部の深さ。 第２図 第３図 第４図 膜剥れ、クラｌり発生 騙厚（ｍｍ）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁性体からなり巻線溝を有するコア（Ｃコア）と
   対向するコア（Ｉコア）とを、フロントギャップ部およ
   びバックギャップ部においてガラスにより接合するとと
   もに、前記巻線溝内においてガラスによる補強を行なっ
   た磁気ヘッドチップを、非磁性体からなるスライダーの
   スライドレールに設けた磁気記録媒体流出端側の溝内に
   挿入し、ガラスにより接着した複合型磁気ヘッドにおい
   て、前記磁気ヘッドチップは、Ｉコアのフロントギャッ
   プ部およびバックギャップ部を形成する面にセンダスト
   の薄膜を１〜１０μｍの厚さ形成し、かつ該薄膜面およ
   びこの面と対向するＣコアの面の両面またはいずれか一
   方の面に、ＳｉＯ＿２薄膜とガラスの薄膜とを順次形成
   して、前記ＣコアとＩコアとを接合し、さらに磁気記録
   媒体対向面側にフロントギャップ部のギャップ深さより
   深いステップ部を形成し後部ギャップ部に連なる巻線溝
   内部に補強用ガラスを配置したものであり、該磁気ヘッ
   ドチップをＩコア側を前記磁気記録媒体の流出端側に向
   けて前記スライダーの溝に挿入したことを特徴とする複
   合型磁気ヘッド。
2. （２）特許請求の範囲第一項において、後部ギャップ部
   に連なる補強用ガラスの断面積が５×１０＾−＾５ｍｍ
   ＾２以上５×１０＾−＾３ｍｍ＾２以下であることを特
   徴とする複合型磁気ヘッド。