JPH0121109B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0121109B2 JPH0121109B2 JP59256566A JP25656684A JPH0121109B2 JP H0121109 B2 JPH0121109 B2 JP H0121109B2 JP 59256566 A JP59256566 A JP 59256566A JP 25656684 A JP25656684 A JP 25656684A JP H0121109 B2 JPH0121109 B2 JP H0121109B2
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- JP
- Japan
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- sintered body
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- indium oxide
- conductive film
- present
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59256566A JPS61136954A (ja) | 1984-12-06 | 1984-12-06 | 焼結性に優れた酸化インジウム系焼結体 |
| JP62016146A JPS62202415A (ja) | 1984-12-06 | 1987-01-28 | 酸化インジウム系透明導電膜の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59256566A JPS61136954A (ja) | 1984-12-06 | 1984-12-06 | 焼結性に優れた酸化インジウム系焼結体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61136954A JPS61136954A (ja) | 1986-06-24 |
| JPH0121109B2 true JPH0121109B2 (enExample) | 1989-04-19 |
Family
ID=17294417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59256566A Granted JPS61136954A (ja) | 1984-12-06 | 1984-12-06 | 焼結性に優れた酸化インジウム系焼結体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61136954A (enExample) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62202415A (ja) * | 1984-12-06 | 1987-09-07 | 三井金属鉱業株式会社 | 酸化インジウム系透明導電膜の製造法 |
| JPS6389656A (ja) * | 1986-10-01 | 1988-04-20 | Agency Of Ind Science & Technol | 透明導電膜及びその生成方法 |
| JPS6410507A (en) * | 1987-07-02 | 1989-01-13 | Optrex Kk | Transparent conductive film and its manufacture |
| JPH07196365A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-01 | Showa Denko Kk | Ito焼結体ならびにito透明電導膜およびその膜の形成方法 |
| JP4672121B2 (ja) * | 2000-08-30 | 2011-04-20 | 株式会社東芝 | スパッタリングターゲットとそれを用いたスパッタリング装置、並びに薄膜の製造方法 |
| JP2003055049A (ja) * | 2001-08-22 | 2003-02-26 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化インジウム焼結体、その製造方法及びそれを用いたスパッタリングターゲット |
| JP4915065B2 (ja) * | 2005-08-24 | 2012-04-11 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物焼結体及びその製造方法、酸化物焼結体を用いて得られる非晶質酸化物膜、並びにその非晶質酸化物膜を含む積層体 |
| US20110163277A1 (en) * | 2008-09-25 | 2011-07-07 | Masakatsu Ikisawa | Oxide sintered compact for preparing transparent conductive film |
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| CN113548872A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-10-26 | 长沙壹纳光电材料有限公司 | 一种iwo靶材及其制备方法与应用 |
-
1984
- 1984-12-06 JP JP59256566A patent/JPS61136954A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61136954A (ja) | 1986-06-24 |
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