JPH01207254A - 新規なシクロブタン誘導体並びにこれら誘導体を含む液晶組成物 - Google Patents

新規なシクロブタン誘導体並びにこれら誘導体を含む液晶組成物

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JPH01207254A
JPH01207254A JP63031817A JP3181788A JPH01207254A JP H01207254 A JPH01207254 A JP H01207254A JP 63031817 A JP63031817 A JP 63031817A JP 3181788 A JP3181788 A JP 3181788A JP H01207254 A JPH01207254 A JP H01207254A
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Kazuhiko Tsuchiya
和彦 土屋
Hiromi Inoue
裕美 井上
Atsushi Sugiura
杉浦 淳
Kenji Suzuki
賢治 鈴木
Tsunenori Fujii
藤井 恒宣
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明は、その構造中にシクロブタン環を有することを
特徴とする新規な強誘電性液晶1ヒ合物並びにこの強誘
電性液晶化合物、少なくとも1種を含有することを特徴
とする液晶組成物に関する。
[従来技術] 液晶表示素子は消費電力が極めて少なく、受光型である
なめ目が疲れず、薄型である等のj乏れた特徴を有して
いることから時計、電卓、パ−ソナルワードプロセッサ
ーなどに利用され、また、近年ではポケットテレビ等に
広く利用されている。
この様に現在では、液晶表示素子は表示素子分野の一角
を築くに至っている。この液晶表示素子の代表的例とし
てTN(ツィステッド・ネマチック)液晶を用いたもの
があるが、マトリックス電極による駆動方式では画素密
度を高くするとクロストークを生ずるという問題があり
、各画素毎にスイッチングできる薄膜トランジスタ方式
では素子作製が繁雑であり大容量表示素子には不向きで
ある等の問題がある。前記TN方式以外の液晶表示素子
としてG11(ゲスト・ホスト)型、STN  (スー
パーツイスト・ネマチック)型等があるが、何れの方式
においても応答性に問題があり、今後さらに液晶表示素
子を発展させるためには応答性の優れた液晶表示素子の
開発が必要であり、その研究開発は、多く、試みられて
いる。
その一つとして強誘電性液晶表示素子の開発がある0強
誘電性液晶はR,B、Heyer等(J、 Phy−s
ique 36169 (1975) )により見いだ
され、これを利用した表示素子(N、八、C1ark、
 S、T、Lagerwall : ADpl、Phy
s、Lett、 36899 (1980) )は、従
来の液晶表示素子と比較して応答性が1oo〜1000
倍位優れ、またメモリー効果を有することが発表された
。これらの発表は、従来方式の問題点を解決でき、多方
面の表示素子への応用が期待できる処から、各方面での
強誘電性液晶に関する研究がさかんになった。
この表示方式に使用する強誘電性液晶は、カイラルスメ
クチック相に属するものであるが、その中でもカイラル
スメクチックC(以下SnC”と称す)相が実用的に望
ましい、 SnC相を有する化合物はこれまでにも、数
多く発表されており、初期の(S)−2−メチルブチル
ρ−デシルオキシベンジリデン−ρ′−アミノシンナメ
ート(DOBAHBC)に代表されるシッフ塩基系に始
まり、アゾ系、アゾキシ系、芳香環エステル系、ピリミ
ジン環等のへテロ環系等がある。これらは何れもSnC
”相が室温付近のものは、その温度幅が狭く、SiC”
相温度幅が広いものはそれが高温域にある場合がほとん
どである。このためこれらの化合物単独では実用に供す
ることのできるものは無く、従来のネマチック液晶にお
いて行われてきたと同様に多数のSnC”化合物を混合
し、液晶組成物を調製する必要がある。
前記したように5raC”化合物は多数発表されている
が、それらを用いた実用的な液晶組成物は未だ得られて
おらず、種々の新規SnC化合物の開発が望まれていた
[発明の開示] 本発明者らは、強誘電性液晶組成物の組成成分として有
用な新規化合物の開発を目的として、化学的に安定で、
かつ、それ自身単独もしくは組成物を作製することによ
り室温付近に広い範囲でSnC“相を有し、応答性の面
において優れた性質を有する化合物を得るため鋭意検討
した結果、本発明により、新規化合物を提供することに
成功した。
本発明の強誘電性液晶化合物は、分子構造中にシクロブ
タン環を有することを特徴とする。
すなわち、本発明は、−数式(1) (Rは炭素原子数1〜15のアルキル基であり、XはC
00またはCH2Oであり、Yは単結合であるか、ある
いは、C00またはC820であり、rlはOまたは1
であり、ZはOR,C0ORまたは0COIt”を表し
、R*は、不斉炭素原子を有する炭素原子数4〜14の
アルキル基を有し、Aは水素原子、フッ素原子または塩
素原子を示す)で表される光学活性シクロブタン誘導体
並びにこれらの化合物の少なくとも1種を含有すること
を特徴とする液晶組成物を提供するものである0本発明
の化合物の中でX−COO5Y−単結合、n=o、Z 
= C0ORである化合物系は室温付近に5IIC相を
有し、x = cooまたはCH2O、Y=COO5n
=1 、Z =C0ORである化合物系は、温度域が1
00℃付近でSrmC相の温度幅は40〜50度と広い
ものであり、これらを用いて所望の温度幅を有するSn
C”組成物を得ることができる。
本発明の1.4置換シクロブタン誘導体にはシス体、ト
ランス体の立体異性体が存在する。従って、本発明にお
いて、光学活性シクロブタン誘導体には、これらシス体
、トランス体の各立体異性体ならびにそれらの混合物が
包含される。
本発明に係る一般式(1)で表わされる化合物は、下記
に述べるようにして製造することができる。
3−アルキルシクロブタンカルボン酸く特開昭62−2
01843の方法で合成)を塩化チオニルと反応させて
得られる4−アルキルシクロブタンカルボン酸クロライ
ドをピリジンの存在下に光学活性な4−アルコキシカル
ボニル−4′−ヒドロキシビフェニルと反応させ目的と
する光学活性な4−アルコキシカルボニルビフェニル−
4′−イル3−アルキルシクロブタンカルボキシレート
を、また光学活性な4−アルコキシ−41−ヒドロキシ
ビフェニルと反応させ光学活性な4−アルコキシビフェ
ニル4゛−イル3−アルキルシクロブタンカルボキシレ
ートを得ることができる。
同様な光学活性な3−フルオロ−4−アルコキシ−4′
−ヒドロキシビフェニルと反応させれば目的とする光学
活性な3−フルオロ−4−アルコキシビフェニル−4′
−イル3−アルキルシクロブタンカルボキシレートが得
られる。
なお、光学活性な3−フルオロ−4−アルコキシ−4′
−ヒドロキシビフェニルは次に述べるような合成方法に
より得ることができる。すなわち、2−フルオロアニソ
ールを臭素化して得られる2−フルオロ−4−ブロモア
ニソールとブロムベンゼンとマグネシウムとを反応させ
て得られるフェニルマグネシウムプルマイトとをクロス
カップリング反応させ3−フルオロ−4−メトキシビフ
ェニルを得る。この3−フルオロ−4−メトキシビフェ
ニルをフリーデルタラフト反応によりアセチル化して得
られる3−フルオロ−4−メトキシル4′−アセチルビ
フエニルを酢酸?J媒中で臭1ヒ水素酸でエーテル開裂
反応を行い、3−フルオロ−4−ヒドロキシ−4′−ア
セチルビフエニルを得る。得られた3−フルオロ−4−
ヒドロキシ−4′−アセチルビフェニルを光学活性のア
ルキルブロマイドまたは光学活性のアルキルトシレート
でエーテル化し光学活性の3−フルオロ−4−アルコキ
シ−4′−アセチルビフェニルを得る。この光学活性の
3−フル第17−4−アルコキシ−47−アセチルビフ
ェニルをバイヤービリガー酸化、次いで加水分解するこ
とにより曲記した光学活性な3−フルオロ−4−アルコ
キシ−4′−ヒドロキシビフェニルが得られる。
また、光学活性な4−(3−アルキルシクロブタンカル
ボニルオキシ)ビフェニル−4′−カルボン酸エステル
は次の様にして合成できる。
4−シアノ−41−ヒドロキシビフェニルをギ酸および
ラネーニッケルと反応させて得られる4−ホルミル−4
7−ヒドロキシビフェニルと3−アルキルシクロブタン
カルボン酸クロライドのエステル化反応により4−(3
−アルキルシクロブタンカルボニルオキシ)−4′−ポ
ルミルビフェニルを得る。この4−(3−アルキルシク
ロブタンカルボニルオキシ)−4′−ホルミルビフェニ
ルを酢酸溶媒中、無水クロム酸で酸化して得られる4−
(3−アルキルシクロブタンカルボニルオキシ)ビフェ
ニル−4′−カルボン酸を塩化チオニルと反応させ4−
(3−アルキルシクロブタンカルボニルオキシ)ビフェ
ニル−4′−カルボン酸クロライドを得る。
この酸クロライドと光学活性な/1−アルコキシフェノ
ールあるいは光学活性な4−アルコキシカルボニルフェ
ノールとのエステル化反応により、それぞれ対応する目
的物である光学活性な4−アルコキシフェニル4−(3
−アルキルシクロブタンカルボニルオキシ)ビフェニル
−4′−カルボキシレートおよび光学活性な4−アルコ
キシカルボニルフェニル4−(3−アルキルシクロブタ
ンカルボニルオキシ)ビフェニル−4′−カルボキシレ
ートが得られる。
またさらに、光学活性な4−(3−アルキルシクロブチ
ル)メトキシビフェニル−4′−カルボン酸エステルは
次に述べるようにして合成することができる。
3−アルキルシクロブタンカルボン酸をリチウムアルミ
ニウムハイドライド([1^、IIH4)で還元して得
られる3−アルキルシクロブチルメタノールをトシルク
ロライドと反応させて3−アルキルシクロブチルメチル
トシレートを得る。このトシレートを用い、4−ヒドロ
キシ−4′−メトキシカルボニルビフェニルをエーテル
化反応して得られる4−(3〜アルキルシクロブチルメ
トキシ)−4′−メトキシカルボニルビフェニルをアル
カリ加水分解して4−(3−アルキルシクロブチルメト
キシ)ビフェニル−4′−カルボン酸を得る。このカル
ボン酸を塩化チオニルと反応させ4−(3−アルキルシ
クロブチルメトキシ)ビフェニル−4/−カルボン酸ク
ロライドを得る。この酸クロライドと光学活性アルコー
ルあるいは光学活性4−アルコキシカルボニルフェノー
ルまたは光学活性4−アルコキシフェノールとをピリジ
ン存在下にエステル化反応し、それぞれ対応する目的物
である光学活性な4−(3−アルキルシクロブチルメト
キシ〉−4′−アルコキシカルボニルビフェニル、光学
活性な4−アルコキシカルボニルフェニル4−(3−ア
ルキルシクロブチルメトキシ)−4′−カルボキシレー
トおよび4−アルコキシフェニル4−(3−アルキルシ
クロブチルメトキシ)−4′−カルボキシレートか得ら
れる。
一方、光学活性な4−(3−アルキルシクロブチルメト
キシ〉−4′−アルコキシビフェニルは前記3−アルキ
ルシクロブチルメチルトシレートを用い、光学活性な4
−ヒドロキシ−4′−アルコキシビフェニルをエーテル
化することにより得られる。
以下に、本発明の実施例を掲げ、本発明を、さらに具体
的に説明する。
実施例中に記載されている略記号は以下のとおりの意義
を有する。
TLD  :薄層クロマトグラフィー tlPLc:高速液体クロマトグラフィーGLC:ガス
クロマトグラフィー IR:赤外線吸収スペクトル b、p :沸 点 +t、g:融点 C:結 晶 5IDX :同定出来なかったスメクチック相5IIB
 :スメクチツクB相 SIC” :カイラルスメクチツクC相S+n^ :ス
メクチツクA相 Cho :コレステリツク相 l −等方性液体 ? :温痩不明 実施例1 [”) C3H7◇C0Cj   の合成反応器に3−
プロとルシクロブタンカルボン酸1.55g、ピリジン
3;商、塩化チオニル2.6gおよびベンゼン2011
を仕込み、9時間撹拌還流した後、過剰の塩化チオニル
を留去し、残留分にヘキサンを加え、固形物(とりジン
塩酸塩)をr過して除き、P液を濃縮して残渣(3−プ
ロとルシクロブタンカルボン酸クロライド)1.76g
を得な。
GLC99%以上 ホニル)−4′−ヒドロキシビフェニル2.04g、ピ
リジン1.20gおよびベンゼン20 njを仕込み、
室温撹拌下に(a)で得な3−プロピルシクロブタンカ
ルボン酸クロライド1.30gのベンセン301溶液を
滴下し、12時間撹拌環流した6反応液を水に注加し、
ベンゼンで抽出し、ベンゼン層を水洗、希アンモニア水
処理、水洗を14ff次行い、芒硝で乾燥後、溶媒を留
去した。残渣をベンゼン/ヘキサン(1:l)で溶出)
夜としたシリカゲルクロマトグラフィーにて′jn製し
く5)=4−(2−メチルブチルオキシカルボニル)ビ
フェニル−4′−イル3−プロビルシクロブタンカルポ
キシレートを得た。
収12.18g (74,4%) 得られた化合物のHPLC分析による純度は99.8%
(シス体49.2%、トランス体50.6%)であり、
In測定および14assスペクトルでH/eが408
を示したこと並びに使用した原料の関係から目的物であ
ることを確認した。
本物質をメトラーホットステージFP−82に挾み、偏
光屈微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示す
実施例2 ta)C511□□※coc*   の合成反応器に3
−ペンチルシクロブタンカルボン酸10.0g、ピリジ
ン3滴、塩化チオニル17.5gおよびベンゼン100
 nJを仕込み、5時間撹拌環流した後、過剰の塩化チ
オニルを留去し、残留分にヘキサンを加え、固形物(ピ
リジン塩酸塩)を−過して除き、r液を濃縮して残渣(
3−ペンチルシクロブタンカルボン酸クロライド)10
、5 gを得た。
GLC99%以上 の合成 反応器に(s)−4−(2−メチルブチルオキシカルボ
ニル)−4′−ヒドロキシビフェニル2.04g、ピリ
ジン1□20gおよびベンゼン20 n、Qを仕込み、
室温撹拌下に[a)で得た3−ペンチルシクロブタンカ
ルボン酸クロライド1.53gのベンゼン10 nJ温
溶液滴下し、6時間撹拌還流した0反応液を水に注加し
、ベンゼンで抽出し、ベンゼン層を水洗、希アンモニア
水処理、水洗を順次行い、芒硝で乾燥後、溶媒を留去し
た。
残渣をベンゼン/ヘキサン(1:1)を溶出液としたシ
リカゲルクロマトグラフィーにて精製しくs) −4−
(2−メチルブチルオキシカルボニル)ビフェニル−4
7−イル3−ペンチルシクロブタンカルボキシレートを
得た。
収!  2.14g (70,0%) 得られた化合物のHPLC分析による純度は100%(
シス体50.0%、トランス体50.0%)であり、I
n測定およびMassスペクトルでH/eが436を示
したこと並びに使用した原料の関係から目的物であるこ
とを確認した。
本物質をメトラーホットステージFP−82に挾み、閤
光項@鐘下で相変化を観察した。その結果を表1に示す
実施例3 の合成 反応器に(s)−4−(2−メチルブチルオキシ)−4
′−ヒドロキシビフェニル2.04g、ピリジン0.9
2 gおよびベンゼン20 lilを仕込み、室温撹拌
下に実施例2(a)で得た3−ペンチルシクロブタンカ
ルボン酸クロライド1.53gのベンゼン101j溶液
を滴下し、6時間撹拌還流した6反応液を水に注加し、
ベンゼンで抽出し、ベンゼン層を水洗、希アンモニア水
処理、水洗を順次行い、芒硝で乾燥後、溶媒を留去した
残渣をメタノール/アセトン混合溶媒で再結晶して(s
) −4−(2−メチルブチルオキシ)ビフェニル−4
′−イル3−ペンチルシクロブタンカルボキシレートを
得た。
収量 0.92g (63,0%) 得られた化合物の11 P L C分析による純度は9
9.4%(シス体42.8%、トランス体56.6%)
であり、In測定およびHassスペクトルでH/eが
408を示したこと並びに使用した原料の関係から目的
物であることを確認した。
本物質をメトラーホットステージFP−82に挾み、開
光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示す
実施例4 反応器に、2−フルオロアニソール128g(1,01
6noJl ) 、クロロホルム125 ljを仕込み
、室温撹拌下に臭素177 g (1,106noJ 
)を1時間以上かけて滴下した0反応液を希N a O
tl水Fj液に注加し、クロロホルム層を分取し、食塩
水にて洗浄後、芒硝で乾燥し、溶媒を留去、残留物を減
圧蒸留して2−フルオロ−4−ブロモアニソールを得た
収fit192g(収率92.3%) b、p  107〜b GLC99%以上 窒素気流下、反応器にマグネシウム22g(0,905
lo、G ) 、ヨウ素少量、THE 50 Iljを
仕込み、これにブロモベンゼン144g (0,917
noj )のTtlF 150nJ溶液を適当量注加し
加温した0反応開始後桟りのTHF溶液を還流撹拌下に
滴下し、滴下後2時間還流してグリニヤール試薬を作成
した。
別の容器にCtzPd(PPh3)23.6gおよびT
HEloo 1Nを仕込み、窒素気流下に(i 5o−
C4H9)2^tH/ヘキサンの1モル溶液26Ilj
lを加え、さらにfa)で得られた2−フルオロ−4−
ブロモアニソール120 g (0,585nojりの
THF 150IIJ溶液を加えた。
これを加温し50〜60°Cで先に作成したグリニヤー
ル試薬を滴下し、同温度で2時間熟成した。
反応終了後、反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出
し、水洗後、芒硝で乾燥、溶媒を留去した。残留分をク
ロロホルム−ヘキサン混合溶媒から再結晶し、さらにヘ
キサンを溶出液としてシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し、3−フルオロ−4−メトキシビフェニ
ルを得た。
収量 96g (81,8%) GLC98%以上 ? 反応器に(b)で得られた3−フルオロ−4−メトキシ
ビフェニル95g (0,470non ) 、塩化メ
チレン40011jを仕込み、口l押下、0℃以下で無
水塩化アルミニウム94g (0,705noj)を少
しずつ加え、さらにアセチルクロライド56g(0,7
05Ilo、I! )を滴下した0滴下後徐々に昇温し
ながら6時間撹拌した0反応液を希塩酸に注加し、有機
層を水洗、芒硝乾燥し、溶媒を留去した。残留分をクロ
ロホルムで再結晶して、3−フルオロ−4−メトキシ−
4′−アセチルビフェニルを得た。
収量 114 g (99,3%) GLC99%以上 反応器に(C)で得られた3−フルオロ−4−メトキシ
−4′−アセチルビフェニル84g(0,3441on
 ) 、48%臭化水素酸700 nj 、酢酸900
 n+Nを仕込み100〜110℃で12時間加熱撹拌
した6反応液を水に注加し、析出した結晶を枦取し、水
洗後、塩化メチレンを溶出液としたシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し3−フルオロ−4−ヒドロキ
シ−47−アセチルビフェニルを得た。
収量 58g (73,2%) GLC99%以上 反応器に(d)で得られた3−フルオロ−4−ヒドロキ
シ−41−アセチルビフェニル12.6g、(s)−2
−メチルブチルブロマイド9.3g、炭酸カリウム15
.1gおよびシクロへキサノン2001、l!を仕込み
、90〜100℃で20時間加熱撹拌した0反応液を濾
過して得られる固形物をベンゼンで洗浄し、洗液とP液
を合わせ、これを水洗後、芒硝で乾燥した。
溶媒を留去し、残留分をアセトン−メタノールで再結晶
して(S)−3−フルオロ−4−(2’“−メチルブチ
ル)オキシ−4′−アセチルビフェニルを得た。
収量 10.8g (65,5%) GLC99%以上 反応器に(e)で得られた(S) −3〜フルオロ−4
−(2−メチルブチル)オキシ−4′−アセチルビフェ
ニル8.0 g、88%ギ酸36g、塩化メチレン90
 luを仕込み、室温撹拌下に無水酢酸16g、濃硫酸
1.0 nil 、次いで35%過酸化水素30gを1
11次滴下した0滴下後、TLC(にiese1ge1
60F 254展開液ベンゼン)で原料が消失するまで
還流した0反応液を水に注加し、1時間撹拌後、洗液が
中性になるまで有R層を水洗し、芒硝で乾燥した。溶媒
を留去して得られる残留分にメタノール70 nj 、
40%に叶水溶液20 nJを加え、撹拌下に70°C
で3時間反応させた6反応液を水に注加し、塩酸酸性と
した後、エーテルで抽出した。抽出液を水洗し、芒硝で
乾燥後、溶媒を留去し、残留分をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製して、(s) −3−フルオロ
−4−(2−メチルブチル)オキシ−4′−ヒドロキシ
ビフェニルを得た。
収量 5.2 g <71.2%) GLC98%以上 合成 反応器に3−フルオロ−4−(2−メチルブチル)オキ
シ−4′−ヒドロキシビフェニル1.0 g、ヒリシン
0.75g、オヨヒヘンセン201eを仕込み、室温撹
拌下に実施例2− (a)で得られる3−ペンチルシク
ロブタンカルボン酸クロライド0.80 gのベンゼン
10 nj ?8液を滴下し、6時間還流撹拌した。
反応液を水に注加し、ベンゼンで抽出し、ベンゼン層を
水洗、希アンモニア水処理、水洗を順次行い、芒硝で乾
燥後、溶媒を留去した。残渣をメタノール/アセトン混
合溶媒で再結晶して(s) −3−フルオロ−4−(2
−メチルブチルオキシ)ビフェニル−47−イル3−ペ
ンチルシクロブタンカルボキシレートを得た。
収量 0.70g (45,2%) 得られた化合物のHPLC分析による純度は99.7%
(シス体52.8%、トランス体46.9%)であり、
In測定およびHassスペクトルでH/eが426を
示したこと並びに使用した原料の関係から目的物である
ことを確認した。
本物質をメトラーホットステージFP−82に挾み、鋼
光顕g&鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例5 実施例4− (e)に於いて(s) −2−メチルブチ
ルブロマイド9.3gの替わりにfs) −4−メチル
ヘキシルブロマイド10.7gを用いて同様に操作して
(s)−3−フルオロ−4−(4−メチルヘキシル)オ
キシ−4′−アセチルビフェニル15g(収率70%)
を得た。この9.2gを実施例2−(f)に於いて(s
)−3−フルオロ−4−(2−メチルブチル)オキシ−
4′−アセチルビフェニル8.0gの替わりに用い、池
は同様に操作して(s)−3−フルオロ−4−(4−メ
チルヘキシル)オキシ−4′−ヒドロキシビフェニルを
得た。
収量 5.7 g <66.8%) GLC97%以上 合成 実施例4−(Q)に於いて、(S)−3−フルオロ−4
−(2−メチルブチル)オキシ−4′−ヒドロキシビフ
ェニル1.0gに替えて(a)で得られる(S)−3−
フルオロ−4−(4−メチルヘキシル)オキシ−4′−
ヒドロキシビフェニル1.12gを用い池は同様に操作
して(s)−3−フルオロ−4−(4−メチルヘキシル
)オキシビフェニル−4′−イル3−ペンチルシクロブ
タンカルボキシレートを得た。
収量 0.90g (57,7%) 得られた化合物のII P L C分析による純度は9
9.9%(シス体44.1%、トランス体55.8%)
であり、In測定およびMassスペクトルでH/eが
454を示したこと並びに使用した原料の関係から目的
物であることを確認した。
本物質をメトラーポットステージFP−82に挾み、閤
光顕微錘下で相変化を観察した。その結果を表1に示す
実施例6 (a) C511,、−IC>CH,叶  の合成反応
器にテトラヒドロフラン(THF ) 100 rae
およびリチウムアルミニウムハイドライドfL 1At
tla )5.07 gを仕込み、水冷撹拌下に3−ペ
ンチルシクロブタンカルボン915.1gのTHF 3
01溶液を滴下後、4時間室温撹拌した0反応液を希塩
酸に注加し、エーテルで抽出後、エーテル層を飽和食塩
水で洗浄し、芒硝で乾燥した。
このエーテル溶液を蒸留して溶媒を留去し、残留物(f
113−ペンチルシクロブチルメタノール)14.9g
を得た。
GIC99,7%(シス木52,3%、トランス体47
.4%)fb) C511□、〈〉CH20SO□(洲
山 の合成反応器に(a)で得られる3−ペンチルシク
ロブチルメタノール5gおよびピリジン3011を仕込
み撹拌下に10℃以下でP−トルエンスルホン酸クロラ
イド9.3gのピリジン20 ij温溶液滴下後、室温
で1時間、40〜50℃で2時間反応した0反応液を希
塩酸に注加しベンゼンで抽出後ベンゼン層を水洗し、芒
硝で乾燥した。このベンゼン溶液の溶媒を留去して残留
物(¥113−ペンチルシクロブチルメチルp−トルエ
ンスルホネート)を得た。
収量 7.4 g (74,4%) (C)c 5H11〈〉CH20% C00CH,の合
成反応器にメチル4−ヒドロキシビフェニル−4′−カ
ルホキシレー)5.Ogおよびジメチルホルムアミド(
DHF ) 20 nJlを仕込み、室温撹拌下に50
%ナトリウムハイドライド(NaH) 1.7gを加え
、水素の発生が終了後、(b)で得られた3−ペンチル
シクロブチルメチルp−トルエンスルホネートのDHF
 10 lIj溶液を滴下し、滴下後3時間室温撹拌し
た0反応液を希塩酸に注加し、析出物をP取、水洗しア
セトンで再結晶して4−(3−ペンチルシクロブチル)
メトキシ−4′−メトキシカルボニルビフェニルを得た
収量 5.68g (65,9%) (d) C6H□、(0ΣCI+20−ζXζ1COO
Hの合成反応器に(C)で得られた4−(3−ペンチル
シクロブチル)メトキシ−4′−メトキシカルボニルビ
フェニル5.68g、85%に叶の水201j’t8 
?’Nおよびメタノール501Jを仕込み、6時間撹拌
還流した0反応液を希塩酸に注加し、30分間加熱撹拌
後、析出物を戸収し、これを水洗してから乾燥し4−(
3−ペンチルシクロブチル)メトキシビフェニル−4′
−カルボン酸を得た。
収量 4.46g (81,7%) fe) c5++、、ぺ0ΣCH20〈)(洲COCj
   の合成反応器に(d)で得られた4−(3−ペン
チルシクロブチル)メトキシビフェニル−4′−力ルボ
ン酸4.41g、ベンゼン501」および塩化チオニル
5gを仕込み14時間撹拌還流した。反応ンαを蒸留し
て過剰の塩化チオニルを留去し、残留1勿(I114−
<3−ペンチルシクロブチルトキシビフェニル−4′−
カルボン酸クロライド)を得た。
収量 5.34g の合成 反応器に(S) −2−メチルブタノール0. 36 
g、ピリジン0.43gおよびベンゼン20 njを仕
込み、室温撹拌下に(e)で得られた4−(3−ペンチ
ルシクロブチル)メトキシビフェニル−4′−カルボン
酸クロライド1gのベンセン20 Ilj溶液を滴下し
、9時間還流撹拌した.反応液を水に注加し、ベンゼン
抽出後、ベンゼン層を水、希アンモニア水、水で順次洗
浄し、芒硝で乾燥した.このベンゼン溶液を蒸留して溶
媒を留去し、残渣をベンゼン/ヘキサン(1:1)を溶
出液としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで′M
t製しくS) −4−(3−ペンチルシクロブチル)メ
トキシ−4’ − (2−メチルブチル)オキシカルボ
ニルビフェニルを得た。
収量 0.58g (33,7%) 得られた化合物のHP L C分析による純度は99,
1%(シス体43.6%、トランス体55.5%)であ
り、In測定およびMassスペクトルでH/eが42
2を示したこと並びに使用した原料の関係から目的物で
あることを確認した。
本物質をメトラーホットステージFP−82に挾み、偏
光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示す
実施例7 の合成 反応器に(S)−4−(2−メチルブチルオキシカルボ
ニル)−4’−ヒドロキシビフェニル1.02gおよび
DHF 20 Iljを仕込み、室温撹拌下に50%N
aHo、esgを加え、水素の発生が終了後、実線例6
− (b)で得られた3−ペンチルシクロブチルメチル
p−)ルエンスルホネート1.37gのDHF 10 
ijl溶液を滴下し、14時間室温撹拌した0反応液を
希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出後、ベンセン層を水洗
し、芒硝で乾燥した。このベンゼン溶液を蒸留して溶媒
を留去し、残渣をメタノールで再結晶して(s) −4
−(3−ペンチルシクロブチル)メトキシ−4’ −(
2−メチルブチルオキシ)ビフェニルを得た。
収量 0.37g (23,[i%) 得られた化合物のII P I C分析による純度は9
9.8%(シス体27.5%、トランス体72.3%)
であり、In測定およびMassスペクトルでH/eが
394を示したこと並びに使用した原料の関係から目的
物であることを確認した。
本物質をメトラーホットステージFP−82に挾み、面
光!jII漱鏡下で相変化を観察した。その結果を表1
に示す。
実施例8 (a) HOべ)(Σc++o)合成 反応器に4−シアノ−4′−ヒドロキシビフェニル45
.2g、88%ギ酸430 ljlおよび水15011
を仕込み、室温撹拌下にラネーニッケル42、4 gを
加え、3時間還流撹拌した0反応液を室温まで冷却し、
析出した固形物をP取してエタノールで再結晶して4−
ホルミル−4′−ヒドロキシビフェニルを得た。
収量 24.8g (54,0%) GLC97,0% (b) C5H□□−0−C00−Gべ)艶110  
 の合成反応器に(a)で得られた4−ホルミル−4を
一ヒドロキシビフェニル4.5g、ピリジン3.6gお
よびベンゼン601.llを仕込み、室温撹拌下に実線
例2− (a)で得られる3−ペンチルシクロブタンカ
ルボン酸4.3gのベンゼン10 n+j溶液を滴下し
、10時間還流撹拌した0反応液を水に注加し、ベンゼ
ン抽出後、ベンゼン層を水、希アンモニア水、水で順次
洗浄し、芒硝で乾燥した。このベンゼン溶液を蒸留して
溶媒を留去し、残留’t!J(4−ホルミルビフェニル
−4′−イル3−ペンチルシクロブタンカルボキシレー
ト)を得た。
収量 7.4 g (93,1%) GLC95% (c) C5H工、−り〕Σcooべ)(洲C00N 
  の合成反応器に(b)で得た4−ホルミルビフェニ
ル−4′−イル3−ペンチルシクロブタンカルボキシレ
ート13gおよび酢酸601jを仕込み、水冷撹拌下に
無水クロム酸(CrO2) 13.2g、水101jお
よび酢酸1611.11から成る溶液を30℃以下で滴
下し後、40〜45°Cで5時間加熱撹拌した。
反FJ液を水に注加し、析出物をP収してエタノールで
再結晶し4−ヒドロキシカルボニルビフェニル−4′−
イル3−ペンチルシクロブタンカルボキシレートを得た
収量 9.0 g (66,1%) fd ) C,、L□k> c o o % c o 
c t  の合成反応器に[C)で得られな4−ヒドロ
キシカルボニルビフェニル−47−イル3−ベンチルシ
クロブタンカルホキシレーh4g、ベンゼン50Iおよ
び塩化チオニル6gを仕込み、12時間撹拌還流した。
この反応液を蒸留してベンセンおよび過剰の塩化チオニ
ルを留去し、残留物(4−<3−ペンチルシクロブタン
カルボニルオキシ)ビフェニル−4′−カルボニルクロ
ライド)を得た。
収i4.5g の合成 反応器に(S)−4−(2−メチルブチルオキシカルボ
ニル)フェノール1.10g、ピリジン1.23gおよ
びベンゼン201.gを仕込み、室温撹拌下に(d)で
得られた4−(3−ペンチルシクロブタンカルボニルオ
キシ)ビフェニル−4゛−カルボニルクロライド2.0
9gのベンゼン20mj溶液を滴下し、3時間撹拌還流
した6反応液を水に注加し、ベンゼン抽出後、ベンゼン
層を水、希アンモニア水、水で順次洗浄し、芒硝で乾燥
した。このベンゼン溶液を蒸留して溶媒を留去し、残渣
をメタノール/アセトン混合溶媒で再結晶して(S)−
4−(2−メチルブチルオキシカルボニル)フェニル4
−(3−ペンチルシクロブタンカルボニルオキシ)ビフ
ェニル−4′−カルボキシレートを得た。
収jt  1.51g (51,4%)得られた化合物
のHPLC分析による純度は99.3%(シス体54.
9%、トランス体44.4%)であり、IR測測定よび
MassスペクトルでHoeが556を示したこと並び
に使用した原料の関係から目的1勿であることを確認し
た。
本物質をメトラーホットステージFP−82に挾み、偏
光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示す
実施例9 の合成 実施例8− (e)に於いて(s) −4−(2−メチ
ルブチルオキシカルボニル)フェノール1.10gに替
えて(s) −4−(2−メチルブチルオキシ)フェノ
ール0.87gを用い、池は同様に操作して(S) −
4−(2−メチルブチルオキシ)フェニル4−(3−ペ
ンチルシクロブタンカルボニルオキシ)ビフェニル−4
′−カルボキシレートを得た。
収量 1.63g (58,2%) 得られた化合物のII P L C分析による純度は9
9.8%(シス体49.5%、トランス体50.3%)
であり、1[a定およびMassスペクトルでHoeが
528を示したこと並びに使用した原料の関係から目的
物であることを確認した。
本物質をメトラーホットステージFP−82に挾み、偏
光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示す
実施例10 の合成 反応器に(s) −4−(2−メチルブチルオキシカル
ボニル)フェノール0.58 g、ピリジン0.43g
、およびベンゼン20I」を仕込み、実施例6− fe
)で得られた4−(3−ペンチルシクロブチル)メトキ
シビフェニル−4′−カルボン酸クロライド1゜Ogの
ベンゼン20 lJ WjHを滴下し、4時間還流撹拌
しな0反応液を水に注加し、ベンゼン抽出後、ベンゼン
層を水、希アンモニア水、水で順次洗浄し、芒硝で乾燥
した。
このベンゼン溶液を蒸留して溶媒を留去し、残渣をベン
ゼン/ヘキサン(1:1)を溶出液としたシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製しく5)−4−(2−メ
チルブチルオキシカルボニル)フェニル4−(3−ペン
チルシクロブチルメトキシ)ビフェニル−4′−カルボ
キシレートを得た。
収量 0.42g (27,8%) 得られた化合物の11 P L C分析による純度は9
9.9%(シス体43.0%、トランス体56.9%)
であり、IR測測定よびMassスペクトルでHoeが
542を示したこと並びに使用した原料の関係から目的
物であることを確認した。
本物質をメトラーホットステージFP−82に挾み、偏
光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示す
実施例11 の合成 実施例10に於いて(s) −4−(2−メチルブチル
オキシカルボニル)フェノール0.58 gに替えて(
s) −4−(2−メチルブチルオキシ)フェノール0
.46 gを用い、他は同様に操作して(s) −4−
(2−メチルブチルオキシ)フェニル4−(3−ペンチ
ルシクロブチルメトキシ)ビフェニル−41−カルボキ
シレートを得た。
収量 0.42g (27,8%) 得られた化合物のHPLC分析による純度は99%以上
(シス体、トランス体未分離)であり、IR測測定よび
MassスペクトルでH/eが514を示したこと並び
に使用した原料の関係から目的物であることを確認した
本物質をントラーホットステージFP−82に挾み、閤
光項倣鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示す
実施例12 (A) 本発明の実施例8で得られた化合Th (A)と公知の
S+gC“化合物(8)とを重量比で4=6の割合で混
合して作製した液晶組成物を、メトラーホットステージ
82に挾み10光顕lfi jA下で相変化を観察した
処、33.2〜113.4℃でSIC*相が認められ、
約80度という広いS+iC”相温度幅を有する液晶組
成物が得られた。
化合物(^)単独では86〜125°C1化合物(B)
単独では68〜120°Cの温度域でSnC相を有する
物質であり、本発明物質を用いて液晶組成物を作製する
ことにより目的とするSnC”相を大幅に拡張できた事
になる。
実施例13 本発明の実施例10で得られた化合物を用いて、以下の
方法で応答速度を測定した。即ち、2枚の酸化インジウ
ム透明電極付きのガラス基板上にポリビニルアルコール
の薄膜をコーティングし、一定方向にラビング操作を行
い、その一方の基板にはネカ型フォトレジストを用いて
3μの厚さのスペーサーを形成し、もう一方の基板とラ
ビング方向が平行になるように評価素子を組み立てた。
これに実施例10で得られた化合物を等方性液体状態に
て封入して液晶素子を作製した。この液晶素子をホット
ステージ付偏光顕微鏡に設置し等方性液体状態から毎分
0.1度の割合で降温して顕微鏡視野内領域にモノドメ
インを得た後200 tlZの矩形波を印加した時の透
過光強度変化をフォトダイオード、フォトセンサーアン
プ、ディジタルストレージスコープを用いて測定した。
その結果を下記に示す。(印加電圧50V)測定温度(
’C)  131゜5 126.5 121.5 11
6.5応答時間(μ5ec)  620  540  
580  580以上に示したように本物質は、応答時
間の温度依存性が極めて少なく表示素子用材料として有
効である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (Rは炭素原子数1〜15のアルキル基であり、XはC
    OOまたはCH_2Oであり、Yは単結合であるか、あ
    るいは、COOまたはCH_2Oであり、nは0または
    1であり、ZはOR^*、COOR^*またはOCOR
    ^*を表し、R^*は不斉炭素原子を有する炭素原子数
    4〜14のアルキル基を示し、Aは水素原子、フッ素原
    子または塩素原子を示す)で表される光学活性シクロブ
    タン誘導体。 2)一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) XはCOOまたはCH_2Oであり、Yは単結合である
    か、あるいはCOOまたはCH_2Oであり、nは0ま
    たは1であり、ZはOR^*、COOR^*またはOC
    OR^*を表し、R^*は、不斉炭素原子を有する炭素
    原子数4〜14のアルキル基を示し、Aは水素原子、フ
    ッ素原子または塩素原子を示す)で表される光学活性シ
    クロブタン誘導体、少なくとも1種を含有することを特
    徴とする液晶組成物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1992003405A1 (en) * 1990-08-16 1992-03-05 Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha Cyclobutanecarboxylic acid derivative and liquid crystal composition containing the same
US5545747A (en) * 1990-08-16 1996-08-13 Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha Cyclobutanecarboxylic acid derivatives and liquid crystalline compositions containing them
CN103242855A (zh) * 2013-05-15 2013-08-14 石家庄诚志永华显示材料有限公司 含有环丁基及二氟亚甲氧基的液晶化合物

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CN103242855A (zh) * 2013-05-15 2013-08-14 石家庄诚志永华显示材料有限公司 含有环丁基及二氟亚甲氧基的液晶化合物
CN103242855B (zh) * 2013-05-15 2015-06-17 石家庄诚志永华显示材料有限公司 含有环丁基及二氟亚甲氧基的液晶化合物

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