JPH02174747A - フツ素置換ビフエニル誘導体並びに液晶組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ 本発明は新規な液晶性化合物゛並びにこれらの液晶性化
合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする液晶
組成物に関する。更に詳しく言えば本発明は強誘電性液
晶に関し、実用的な強誘電性液晶組成物作製の際、その
組成成分として有用で且つ化学的安定性に優れた新規な
フッ素置換ビフェニル誘導体並びにこれらめ新規なフッ
素置換ビフェニル誘導体の少なくとも１種を含有する液
晶組成物に関する。

［背景技術］ 時計、電卓、パーソナルワープロ、ポケットテレビ用等
の表示素子として、液晶表示素子は広く用いられている
。これは受光型で目が疲れない、消費電力が少ない、薄
型である等の優れた特徴を有しているためであるが、一
方においては応答速度が遅い、メモリー性がない等から
応用面において制限があった。応用面の拡大を図るため
、従来用いられていたツィステッドネマチック（ＩＮ）
型表示方式を改良したスーパーツィステッドネマチック
（ＳＴＮ）型表示方式等も見いだされている。しかし、
これらは大画面表示或いはグラフィック表示用としては
充分ではなく、これらに代わる液晶表示素子の研究も種
々行なわれている。

その１つに強誘電性液晶［Ｒ，８，Ｈｅｙｅｒら；Ｐｈ
ｙｓｉｑｕｅ、３６Ｌ　−６９（１９７５）　］を利用
した表示方式［Ｎ、Ａ、Ｃ１ａｒｋら：＾ｏｐｌｉｅｄ
　Ｐｈｙｓ、１ｅｔｔ、、　３６゜８９９　　（１９８
Ｇ）　］がある。

この方式は従来方式に比べて１００倍もの高速応答であ
ること、及びメモリー性があること等の優れた特徴を有
しているため、液晶表示素子の用途拡大が期待されてい
る６強誘電性液晶は液晶分子長軸が層法線方向とある角
度を有する一連のスメクチック液晶を差すが、実用的に
はカイラルスメクチックＣ（ＳＩＩｃ”　）相が用いら
れる。　実際の表示素子用としては、種々の強誘電性液
晶化合物から成る液晶組成物として、又は種々のスメチ
ツク（Ｓａｃ）相を有する化合物と強誘電性液晶化合物
とから成る液晶組成物として用いられるが、それは現在
汎用されているネマチック液晶表示素子作製の場合と同
様であり、実用面において要求される種々の特性（動作
温度範囲、応答速度、自発分極、ラセンピッチ、化学的
安定性等）を満足させる為には、多成分を混合すること
は必要となる。

しかしながら、末だ実用に供し得るほどの化合物は提供
されておらず、強誘電性液晶組成物作製の際に、有用な
成分となりうる種々の新規化合物の開発が望まれている
現状にある。

本発明者らは、特に強誘電性を示す温度範囲並びに応答
速度に視点を置き、種々の新規構造を有する化合物をデ
ザインし、合成評価し、鋭意研究を重ねた結果、化学的
に安定でＳａＣ’相或いはＳａｃの相温度範囲の広い新
規化冶物或いは応答速度の遠い新規化合物を提供するこ
とに成功した。

〔発明の開示コ 本発明は、一般式、 （ＲＬ及びＲは炭素原子数１〜１８の直鎖状または分枝
鎖状アルキル基を表しＹはＣ００またはＯＣＯを表し、
Ｚは単結合、ｏ　、ｃｏｏまたはＯＣＯを表し、ｘｌ及
びＸ、はいずれか一方がフッ素原子で他方が水素原子で
あることを表し、Ｘ、及びｘ４はそれぞれ水素原子、フ
ッ素原子、塩素原子またはシアノ基を表す）で表される
フッ素置換ビフェニル誘導体化合物並びにそれらの少な
くとも一種を含有することを特徴とする液晶組成物を提
供するものである。

本発明に係わる新規な液晶化合物は、それ自身単独でＳ
ＩＣ’相或いはＳｎＣ相を有する化合物である場合は、
もちろん、強誘電性液晶組成物の成分として有効に利用
し得るが、単独でこれらの相を有しない化合物であって
も強誘電性液晶組成物作製時の緒特性を調製するために
有効に利用できる化合物である。

以下に合成経路実施例等により更に詳しく説明する。

［合成経路図２］ 「 Ａｃはアセチル基、ａＺはベンジル基を示す［合成経路
図１の説明］ （１−ａ）から（１−ｅ）に示した化合物は、フェノー
ル誘導体（Ｘ、及びＸ、がそれぞれＨｌＦ、Ｃｊを表す
）を出発原料として合成できる。

即ち、ｐ−アルコキシフェノール誘導体（１−ａ）は、
原料のフェノール体をアルキルブロマイド（またはアル
キルトシレート）でエーテル化し、これを８「２で臭素
化し、次いでマグネシウムと反応させてグリニヤール試
薬を作製した後、硼酸トリアルキルエステルとの反応、
酸加水分解及び過酸化水素を用いた酸化分解を順次行う
ことにより得られる。ｐ−アルキルフェノール誘導体（
１−ｂ）は、原料のフェノール体を脂肪酸クロライド、
ＡＩα、を用いてアシル化し、次いでトリエチルシラン
、ＣＦ３ＣＯＯＨを用いて還元反応を行うことにより得
られる。

ｐ−アルコキシ安息香酸誘導体＜１−ｃ）は、（１−ａ
）の合成中間体であるρ−アルコキシブロモベンゼン誘
導体をシアン化銅でシアノ化し、次いでシアノ基を加水
分解することにより得られる。

ρ−アシルオキシ安息香酸誘導体（１−ｄ）は、原料の
フェノール体をアルキルブロマイド（またはアルキルト
シし−ト）でエーテル化し、これをａＦ２で臭素化し、
次いでシアン化銅でシアノ化して得られるアルコキシベ
ンゾニトリル誘導体を／Ｊ　Ｃｌ！　ｓまたはＨＢｒを
用いてエーテル開裂反応させた後、アルカリ加水分解す
ることによりしドロキジ安息香酸誘導体に変換し、これ
を脂肪族酸クロライドでエステル化することにより得ら
れる。

ｐ−アルコキシカルボニルフェノール誘導体（１−ｅ）
は、（１−ｄ）の合成中間体であるヒドロキシ安息香酸
誘導体を脂肪族アルコール及び酸触蝶を用いてエステル
化することにより得られる。

（１−ｆ）及び（１−ｇ）はモノブロモ置換アニソール
を出発原料として合成できる。即ち、モノブロム置換ア
ニソールを１Ｌ及びアセチルクロライドでア七チル化し
た後、ＨＢｒを用いてエーテル開裂反応を行い、次いで
アルキルブロマイド（またはアルキルトシレート）で再
びエーテル化し、これをシアン化銅を用いてシアノ化し
て得られるモノシアノ置換ｐ−アルコキシアセトフェノ
ンについてバイヤービリガー酸化、加水分解を順次行う
ことによりモノシアノ置換ｐ−アルコキシフェノール（
１−ｆ）が得られる。また前記モノシアノ置換ｐ−アル
コキシアセトフェノンのハロホルム反応によりモノジア
ノ置換ｐ−アルコキシ安息香酸が得られる。

［合成経路図２の説明］ （２−ａ）、（２−ｂ）、（２ｃ）および（２−ｄ）の
各化合物は２−フルオロ−４−ブロムビフェニルを出発
原料として合成できる。

２°−フルオロ−４゛−ヒドロキシ−４−アルコキシビ
フェニル＜２−ａ）は、原料のビフェニル体をＡｊ！　
（Ｊ　３及びアセチルクロライドを用いてア七チル化し
、これについてバイヤービリガー酸化、加水分解を行い
、２°−フルオロ−４゛ブロム−４−ヒドロキシビフェ
ニルとした後、アルキルブロマイド（またはアルキルト
シレート）でエーテル化し、次いでこれをマグネシウム
と反応させてグリニヤール試薬を作製した後、硼酸トリ
ブチルアルキルエステルと反応させ、酸加水分解、酸化
分解を順次行うことにより得られる。

４−アルコキシ−２°−フルオロビフェニル４°−カル
ボン酸（２−Ｌ＋＞は、＜２−ａ）の合成における中間
体２′−フルオロ−４′−ブロム−４−アルコキシビフ
ェニルをシアノ化し、次いでアルカリ加水分解すること
により得られる。

また、２−フルオロ−４−アルコキシビフェニル−４°
−カルボンＨ（２−ｃ　）は、原料のビフェニル体をＣ
ｊ２ＣＨＯＣＨ９及びＡＩＣＪ１３を用いてホルミル化
し、次いで（Ｃ）Ｒ２０８）２、ａＦ、を用いてアセタ
ール保護した後、これをマグネシウムと反応させて得ら
れるグリニヤール試薬と硼酸トリブチルと反応させ、次
いでアルキルブロマイド（またはアルキルトシレート）
でエーテル化し、保護基の開裂、ＣｒＯ３を用いた酸化
反応を順次行うことにより得ることができる。

２−フルオロ−４−アルコキシ−４°−ヒドロキシビフ
ェニル（２−ｄ）は、（２−ａ）の合成中間体２°−フ
ルオロ−４゛−ブロム−４−ヒドロキシビフェニルをベ
ンジル保護し、前記したａａトリブチルエステルを用い
る反応により２゛−フルオロ−４′−ヒドロキシ−４−
ベンジルオキシビフェニルとした後、エーテル化、ベン
ジル保護基の開裂により得ることができる。

本発明の種々の新規化合物は、前記方法にて得られる（
１−ａ）〜（１−ｇ）及び（２−ａ）〜（２−ｄ）　、
あるいは市販のカルボン酸誘導体とフェノール誘導体を
各々組み合わせ、常法のエステル化により得ることがで
きる。

以下に実施例により本発明を説明するが、使用されてい
る略記号は下記の意味を表わす。

ＧＬＣガスクロマトグラフィー １（ＰＬＯ高速液体クロマトグラフィーＩＲ赤外線吸収
スペクトル Ｍａｓｓ １．ｐ ｘ Ｓ。

ＳｉＣ，Ｓｃ ＳｍＣ”＋　Ｓｃ’ Ａ ｈ ？ 実施例１ 質量分析 融点 結晶 同定出来なかったスメクチック相 スメクチックＢ相 スメクチックＣ相 カイラルスメクチックＣ相 スメクチックＡ相 コレステリック相 等方性液体 温度不明 反応器に無水塩化アルミニウム１１３ｇ及び塩化メチレ
ン６００　ａｅを仕込み０℃以下で撹拌下にアセチルク
ロライド１１３ｇを滴下し、次いで４ブロム−２−フル
オロビフェニル１００ｔの塩化メチレン４００ｄ溶液を
滴下後、徐々に室温に戻しながら７時間撹拌反応した１
反応液を氷と希塩酸中に注加し、塩化メチレン層を水洗
、炭酸水素ナトリウム水溶液洗浄、水洗し、芒硝で脱水
１１　忍Ｋを留去し、残留分をアセトンで再結晶して４
−アセチル−２゛−フルオロ−４°−ブロムビフェニル
９６ｇ　（８２，２％）を得た。

ＧＬＣ１００％ 反応器に（ａ）で得た４−アセチル−２°−フルオロ−
４°−ブロムビフェニル６５ｇ及び塩化メチレン３００
　ｍｅを仕込み、１０℃で撹拌下に８８％ギ酸５００　
ｍｅ、無水酢酸４８０１１ｔを滴下し、さらに濃硫酸１
．５ｍｌ！を加えた後、３５％過酸化水素水１５０　ｒ
ａｔを３時間を要して浦下し、滴下後徐々に昇温しで４
５〜５０℃で３０時間撹拌反応した０反応液を氷水に注
加し、ベンゼンで抽出、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄、水洗、芒硝脱水を行い、溶媒を留去し、残留分を得
た。この残留分とエチルアルコール２１を別の反応器に
仕込み、これに２５％苛性カリ水溶液を加え、８時間還
流撹拌した０反応液を水と希塩酸中に注加しベンゼンで
抽出、食塩水で洗浄、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残
留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ａＭＩｋ
ベンゼン）にて精製し、４ヒドロキシ−２゛−フルオロ
−４゛−ブロムフェニル２８．１ｇ　（４７，５％）を
得た。

反応器に（ｂ）で得た４−ヒドロキシ−２°−フルオロ
−４゛−ブロムフェニル５ｇ、（Ｓ）−４−メチルヘキ
シルブロマイドａ、Ｏｔ、炭酸カリウム４　ｇ　及Ｕ　
２　２　タ／　ン（ＨＥＫ）　Ｓｏｍｅを仕込み、撹拌
還流下に８時間反応後、反応液を希塩酸に注加し、ベン
ゼンで抽出、水洗、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留
分をガラスチューブオーブン（ＧＴＯ）にて蒸留して得
られる留分（ＧＴＯ設定温度１６５℃７’　０．２５ｍ
１ｈ　）をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶ｊ
［ヘキサンニベンゼン＝４；１）で精製し、（Ｓ）−４
−（４−メチルヘキシル）オキシ−２゛−フルオロ−４
゛−ブロムビフェニル４．４７ｇ　（６５，４％）を得
た。　　　ＴＬＣモノスポット 反応器に（Ｃ）で得た（Ｓ）−４−（４−メチルヘキシ
ル）オキシ−２°−フルオロ−４°−ブロムビフェニル
１１．７．−シアン化第−＃Ｉ　（ＣｕＣＮ）３　を及
びジメチルホルムアミド（ＤＨＦ）　５０ｍｅを仕込み
、１５０〜１５５℃で５４時間加熱撹拌した６反応液を
塩化第二鉄６水和物（ＦｅＣｌ！　３　・ｆ３ＨＪ）Ｒ
３ｇ　、　Ｊｌ塩酸２−及び水１００−からなる水溶液
にて処理し、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒硝で脱水後
、溶媒を留去し、残留分（粗（Ｓ）−４−＜４−メチル
ヘキシル）オキシ−２°−フルオロ−４°−シアノビフ
ェニル）９．８．を得た。

反応器に（Ｃ）で得た残留分（粗（Ｓ）−４（４−メチ
ルヘキシル）オキシ−２゛−フルオロ４°−シアノビフ
ェニル）９．８ｆ、１５％苛性ソ−ダ水溶液１０Ｇ−、
テトラヒドロフラン（ＴＨＥ）Ｒ００ｍｌ！及びメ９　
／　−ル５０ｔｍｅを仕込み、３２時間ｔｊｌ拌還流し
た０反応液を氷冷水に注加し、濃塩酸を加えて酸性とし
、析出物をＰ取し、これをメタノール／′２−ブタノン
で再結晶して（Ｓ）−４−（４−メチルヘキシル）オキ
シ−２゛−フルオロビフェニル−４°−カルボン酸６．
６ｇを得た。

の合成 反応器に（ｅ）で得た（Ｓ）−４−（４−メチルヘキシ
ル）オキシ−２゛−フルオロビフェニル−４°−カルボ
ン酸０．３　ｔ、　Ｎ、Ｎ−ジシクロへキシルカルボジ
イミド（ＤＣＣ）　０．２２　ｔ、４−（ジメチルアミ
ノ）ピリジン０．１１ｆ、４−オクチルオキシフェノー
ル０．２１．及び塩化メチレン３０−を仕込み、１０時
間室温で撹拌反応した０反応液を濾過し、炉液を水洗し
、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶離液へキサン／′ベンゼン
＝　１　／’　１　）で精製し、さらにメタノール／′
アセトンで再結晶して、（Ｓ）−４−オクチルオキシフ
ェニル≧４−（４−メチルヘキシル）オキシ−２“−フ
ルオロビフェニル−４°−カルボキシレート０．３４ｇ
（７０，０％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９８％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５３４に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例２ ＊ の合成 実施例１（【）における４−オクチルオキシフェノール
０．２１．に替えて４−デシルオキシフェノール０．２
５ｇを用い、他は実施例１１ｆ）と同様に操作して（Ｓ
）−４−デシルオキシフェノルユ４−（４−メチルヘキ
シル）オキシ−２゛−フルオロビフェニル−４゛−カル
ボキシレートＱ、　３９゜（７６，５％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５６２に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例３ の合成 実施例１（ｔ）における４−オクチルオキシフェノール
０．２１．に替えて４−ドデシルオキシフェノール０．
２４．を用い、他は実施例１（ｆ）と同様に操作して（
Ｓ）−４−ドデシルオキシフェニルさ４−（４−メチル
ヘキシル）オキシ−２°−フルオロビフェニル−４°−
カルボキシレート０．４２　ｇ（７７、７％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５９０に分”子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた
物質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例４ の合成 実施例１（ｔ）における４−オクチルオキシフェノール
０．２１．に替えて４−オクチルフェノール０．２１ｔ
を用い、他は実施例１（ｔ）と同様に操作して（Ｓ）−
４−オクチルフェニル＝４−（４−メチルヘキシル）オ
キシ−２°−フルオロビフェニル−４′−カルボキシレ
ート０．３ｇ、　（８０，９％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５１８に分子イオンと−クが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例５ の合成 実施例１（［）における４−オクチルオキシフェノール
０．２１ｇに替えて４−デシルフェノール０、２３　ｆ
を用い、他は実施例１（ｆ）と同様に、操作して（Ｓ）
−４−デシルフェニルご４−（４−メチルヘキシル）オ
キシ−２゛−フルオロビフェニル−４°−カルボキシレ
ートＯ，４８ｇ　（９６，８％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及び５ａｓｓ分析で５４６に分子イオンと−クが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
閤光顕ｗ１鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１
に示す。

実施例６ （ａ）　　　　　　Ｆ ｃ、ｔ＋、−ｏ−８つ＋Ｂｒ　　の合成反応器に２−フ
ルオロフェノール１５ｆ、オクチルブロマイド２５．９
ｇ、水酸化カリウム４６．２　ｇ並びにシクロヘキサノ
ン１５０−を仕込み、１２０〜１３０℃で１２時間撹拌
した０反応液を希塩酸に注加し、ベンゼン抽出、水洗、
芒硝で脱水後溶媒を留去した。残留分並びにクロロホル
ム１０〇−を別の容器に仕込み、室温撹拌上臭素４４ｆ
を滴下し、さらに同温度で６時間撹拌後、希苛性ソーダ
水落液に注加し撹拌した６クロロホルム層を水洗、芒硝
で脱水し、溶媒を留去した残留分を減圧蒸留して、４−
オクチルオキシ−３フルオロブロムベンゼン３２ｉｒ（
７１３，８％）を得た。

ｂ、ｐ　１２２〜１３０℃１０．３ｎＩＩＨｇ反応器に
マグネシウム０．８７ｇ及びヨウ素の少量を仕込み、（
ａ）で得た４−オクチルオキシ３　　フルオＯ”ｊｏム
ヘ＞　セン９　ｔ　（’）ＴＨ）３０　Ｊ’１８液の少
量を加えて加熱し、反応開始陳列りのＴＨＦ忍液を滴下
した０滴下終了後３時間還流し、グリニヤール試薬を作
成した。別の反応器に硼酸トリブチルエステル１０．２
ｉｒを仕込み、これに先に作成したグリニヤール試薬を
撹拌下に４０℃で滴下し、滴下後１時間同温度で撹拌し
た。放冷後、撹拌下に１０％硫酸水溶液を滴下し、反応
液にベンゼン１００　ｔｌｅを加えて抽出した。別の反
応器にこのベンゼン抽出液を仕込み、４０〜５０″Ｃで
撹拌下に３５％過酸化水素水３０ｔｓｅを滴下し、さら
に２時間撹拌反応した８反応液を水に注加し、ベンゼン
層を亜硫酸水素ナトリウム水７ｇ液で処理し、水洗し、
芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分をガラスチューブ
オーブン（ＧＴＯ）を用いて蒸留（ｂ、ｐ、１２５−１
４０℃／’０．１５ｉｍＨ（１）　Ｌ、その留分をヘキ
サンで再結晶して４−オクチルオキシ−３−フルオロフ
ェノール２．６　、　（３６，５％）を得た。

の合成 実施例１（ｆ）における４−オクチルオキシフェノール
０．２１　ｇに替えて（ｂ）で得られた４−オクチルオ
キシ−３−フルオロフェノール０．２４ｇを用い、他は
実施例１　（ｆ）と同様に操作してｆｓ）−４−オクチ
ルオキシ−３−フルオロフェニル＝４−（４−メチルヘ
キシル）オキシ−２°−フルオロビフェニル−４°−カ
ルボキシレート０．３４ｇ（６８，０％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５５２に分子イオンと−クが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
迩光顕ＦＲ錘下で相変化を観察した。その結果を表−１
に示す。

実施例７ 実施例６（ａ）におけるオクチルブロマイド２５．９．
に替えてデシルブロマイド２９．６ｇを用い、他は実施
例６（ａ）と同様に操作して４−デシルオキシ−３−フ
ルオロブロムベンセン３０．４ｔ（６８，５％）を得た
。

ｂ、　ｐ、　１２５〜ｂ 実施例６　（ｂ）における４−オクチルオキシ−３−フ
ルオロブロムベンゼン９ｇに替えて（ａ）で得られた４
−デシルオキシ−３−フルオロブロムベンゼン９．８　
ｔｒを用い、他は実施例６（ｂ）と同様に操作して４−
デシルオキシ−３−フルオロフェノール０．５７ｔ　（
７，１％）を得た。

ｂ、ｐ、１３０〜１６０℃／’　０．３ｓｎ＋Ｈｇ　（
Ｇｒｏ設定温度）の合成 実施例１（ｆ）における４−オクチルオキシフェノール
０．２１．に替えて（ｂ）で得られた４−デシルオキシ
−３−フルオロフェノール０．２６　Ｋを用い、他は実
施例１（ｆ）と同様に操作して（Ｓ）−４−デシルオキ
シ−３−フルオロフェニル≧４−（４−メチルヘキシル
）オキシ−２°−フルオロビフェニル−４°−カルボキ
シレート０．３９ｔ（７４，０％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５８０に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
漏光類＠鏡下で相変化をａ察した。その結果を表−１に
示す。

実施例８ 反応器に２−フルオロフェノール１０．並びに塩化メチ
レン５０αｅを仕込み、氷水冷撹拌下に、無水塩化アル
ミニウム１７．８ｔを徐々に加え、次いで、０℃以下で
ペンタノイルクロライド１１．８ｇを滴下し、１時間同
温度で、２時間室温で反応した０反応液を水に注加し、
希塩酸を加え、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒硝で脱水
後、溶媒を留去し、残留分を減圧蒸溜して３−フルオロ
−４−ペンタノイルフェノール１４ｇ　（８０，０％）
を得た。

ｂ、９１１３〜１２１℃／’０．３１１１１ＨｆＪ（ｂ
）。

ＨＯ−とフトＣ５Ｈ，□　の合成 反応器に（ａ）で得られた３−フルオロ−４ペンタノイ
ルフ工ノール１４ｇ並びにトリフルオロ酢酸５０ｍ１！
を仕込み、室温撹拌下にトリ二チルシラン２Ｇ、３ｇを
滴下し、２０時間同温度で反応した０反応液を希苛性ソ
ータ水溶液に注加し、塩酸酸性とした後、ベンゼンで抽
出し、水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分を
減圧蒸留して３−フルオロ−４−ペンチルフェノール１
１．９ｒ　（９１，５％）を得ｆ、；、ｂ、９６７−６
８℃１０．３ｍＨｇ の合成 実施例１　（ｆ）における４−オクチルオキシフェノー
ル０．２１．に替えて（ｂ）で得られた３−フルオロ−
４−ペンチルフェノール０．３２　、を用い、他は実施
例１　（ｆ）と同様に操作して（Ｓ）−４−ペンチルー
２−フルオロフェニルΣ４−　＜４−メチルヘキシル）
オキシ−２゛−フルオロビフェニル−４°−カルボキシ
レート０．２９Ｋ　（６４，６％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で４９４に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係がち、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
漏光類ｙ！Ｌｓ下で相変化を観察した。その結果を表−
１に示す。

実施例９ （ａ）　　　　Ｃ）Ｒｇ Ｃｓ　Ｈ，、ＣＨ−０べ）（）　Ｂ　ｒ　　の合成実施
例１（Ｃ）において、（Ｓ）−４−メチルヘキシルブロ
マイド８．０　ｇに替えて（Ｒ）−１−メチルへキシル
トシレート２．１１を用い、他は実施例１（Ｃ）と同様
に操作して（Ｓ）　−７ｌ　−（１メチルヘキシル）オ
キシ−２°−フルオロ−４ブロムビフェニル４．９　、
　（７１，７％）を得た。

４−（１−メチルヘキシル）オキシ−２°−フルオロ−
４“−シアノビフェニル９．５ｇを得た。

実施例１（ｅ）において、１ｓ）−４−（４−メチルヘ
キシル）オキシ−２°−フルオロ−４−シアノビフェニ
ル９．８２に替えて、（ｂ）で得られたｆｓ）−４−（
１−メチルヘキシル）オキシ−２°−フルオロ−４°−
シアノビフェニル９．５ｇを用い、他は実施例１（ｅ）
と同様に操作して（Ｓ）４−（ｌ−メチルヘキシル）オ
キシ−２゛−フルオロ−４゛−ビフェニルカルボン酸６
．２ｇを得た。

実施例１（ｄ）において、（Ｓ）−４−＜４−メチルヘ
キシル）オキシ−２°−フルオロ−４°−ブロムビフェ
ニル１１．７ｆに替えて、ｆａ）て得られた（Ｓ）−４
−（１−メチルヘキシル）オキシ−２゛−フルオロ−４
°−ブロムビフェニル１１．７ｆを用い、他は実施例１
　（ｄ）と同様に操作して粗（Ｓ）反応器に（Ｓ）−４
−＜１−メチルヘキシル）オキシ−２°−フルオロ−４
°−ビフェニルカルボンＢ０．３ｔ、４−オクチルオキ
シフェノール０．２２ｓｒ　＝　ＤＣＣ０，２２ｉｒ、
４−ピロリジノピリジンｏ、　ｉｓ　ｒ及び塩化メチレ
ン３０ａｅを仕込み、７時間室温撹拌した０反応液を濾
過し、Ｆｉ液を水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、
残留分をヘキサン／′ベンゼン＝　１　、’　１を溶離
液としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製
し、さらにアセトン／′メタノール混合溶媒で再結晶し
て（Ｓ）−４−オクチルオキシフェニル＝４−（１メチ
ルヘキシル）オキシ−２゛−フルオロ−４ビフェニルカ
ルボキシレート０．２８ｒ　（５７，７％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５３４に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光類ｍ鏡上で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例１０ のき成 実施例９（ｄ）において、４−オクチルオキシフェノー
ル０．２２ｇに替えて４−デシルオキシフェノール０．
２５Ｋを用い、他は実施例９（ｄ）と同様に操作して（
Ｓ）−４−デシルオキシフェニル＝４−（１−メチルヘ
キシル）オキシ−２゛−フルオロ−４°−ビフェニルカ
ルボキシレート０．３５、（６８，６％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５６２に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光類ｒＲ錘下で相変化を観察した。その結果を表−１
に示す。

実施例１１ 実施例９（ｄ）において、４−オクチルオキシフェノー
ル０．２２．に替えて４−ドデシルオキシフェノール０
２８ｇを用い、他は実施例９（ｄ）と同様に操作して（
Ｓ）−４−ドデシルオキシフェニル≧４−（１−メチル
ヘキシル）オキシ−２′−フルオロ−４°−ビフェニル
カルボキシレート０．４４ｇ　（８２，１％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５９０に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化をＷ４察した。その結果を表−１
に示す。

実施例１２ 実施例９（ｄ）において、４−オクチルオキシフェノー
ル０．２２．に替えて４−オクチルフェノール０．２１
ｔを用い、他は実施例９（ｄ）と同様に操作して（Ｓ）
−４−オクチルフェニル≧４−（１−メチルヘキシル）
オキシ−２°−フルオロ−４°−ビフェニルカルボキシ
レート０．３６゜（７６，４％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及び１４ａｓｓ分析で５１８に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた
物質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化なＩ！察した。その結果を表−１
に示す。

実施例１３ 実施例９（ｄ）において、４−オクチルオキシフェノー
ル０．２２　Ｋに替えて４−デシルフェノール０．２３
ｇを用い、他は実施例９（ｄ）と同様に操作して（Ｓ）
−４−デシルフェノルユ４−（１−メチルヘキシル）オ
キシ−２゛−フルオロ−４°−ビフェニルカルボキシレ
ート０．３３ｇ　（６Ｇ、５％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５４６に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例１４ 実施例９（ｄ）において、４−オクチルオキシフェノー
ル０．２２　ｔに替えて４−オクチルオキシ−３−フル
オロフェノール０．２４．を用い、他は実施例９（ｄ）
と同様に操作して（Ｓ）−，１−才クチルオキシ−３−
フルオロフェニル＝４−＜１−メチルヘキシル）オキシ
−２°−フルオロ−４゜−ビフェニルカルボキシレート
０．３５　ｇ　（７０，０％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５５２に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係がら、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例１５ 実施例９（ｄ）において、４−オクチルオキシフェノー
ル０．２２．に替えて実施例７（ｃ）で得られる４−デ
シルオキシ−３−フルオロフェノール０．２６ｇを用い
、他は実施例９（ｄ）と同様に操作して（Ｓ）−４−デ
シルオキシ−３−フルオロフェニル＝４−（１−メチル
ヘキシル）オキシ−２°−フルオロ−４°−ビフェニル
カルボキシレート０．４１ｇ　（７７，８％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５８０に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係がら、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例１６ 実施例９（ｄ）において２４−オクチルオキシフェノー
ル０．２２ｇに替えて実施例８（ｂ）で得られる２−フ
ルオロ−４−ペンチルフェノール０．２６ｇを用い、他
は実施例９（ｄ）と同様に操作して［５）−２−フルオ
ロ−４−ベンチルフェニルユ４−（１−メチルヘキシル
）オキシ−２°−フルオロー４°−ビフェニルカルボキ
シレート０．３３ｔ　（７３，５％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９９５以上であった。また
ＩＲ及びＭａｓｓ分析で４９４に分子イオンと−クが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた
物質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化をａ察した。その結果を表−１に
示す。

実施例１７ 実施例９（ｄ）において、４−オクチルオキシフェノー
ル０．２２ｔｒに替えて２．３−ジシアノ−４−へキシ
ルオキシフェノール０．２４ｆを用い、他は実施例９（
ｄ）と同様に操作して（Ｓ）　−２，３−ジシアノ−４
−ヘキシルオキシフェニルユ４（１−メチルヘキシル）
オキシ−２°−フルオロ−４°−ビフェニルカルボキシ
レート０．１６　ｔ（３１，７％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５５６に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例１８ 実施例１（Ｃ）における、（Ｓ）−４−メチルヘキシル
ブロマイド８．０　ｉｒに替えてデシルブロマイド１０
．１ｇを用い、他は実施例１（Ｃ）と同様に操作して４
−デシルオキシ−２°−フルオロ−４゜ブロムビフェニ
ル６．２　ｇ　（８１，４％）を得た。

シアノビフェニル９．８　ｔｒに替えて、（ｂ）で得ら
れた粗４−デシルオキシー２゛−フルオロ−４°−シア
ノビフェニル５．４ｔを用い、他は実施例１（ｅ）と同
様に操作し、再結晶をア七トンで行うことにより４−デ
シルオキシ−２°−フルオロ−４°−ビフェニルカルボ
ンｎ５．５ｔｒを得た。

実施例１（ｄ）における、（Ｓ）−４−（４−メチルヘ
キシル）オキシ−２°−フルオロ−４゛−ブロムビフェ
ニル１１．７．に替えて、（ａ）で得られた４−デシル
オキシ−２°−フルオロ−４°−ブロムビフェニル７、
Ｏｆを用い、他は実施例１（ｄ）と同様に操作して粗４
−デシルオキシー２°−フルオロ−４°−シアノビフェ
ニルを得、これをメタノールで再結晶して粗４−デシル
オキシー２°−フルオロ−４°−シアノビフェニル５．
４ｇを得た。

実施例１（ｅ）における、粗（Ｓ）−４−（４−メチル
ヘキシル）オキシ−２°−フルオロ−４゛−の合成 反応器に（Ｃ）で得られた４−デシルオキシ−２°−フ
ルオロ−４°−ビフェニルカルボン酸０．３ｔ　、ＤＣ
ＣＯ，１９ｇ、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．１
０　ｔ、（Ｓ）−４−（２−メチルブチル）オキシフェ
ノール０．１６　ｆ及び塩化メチレン３０ｗｅを仕込み
、１８時間室温で撹拌反応した６反応液を濾過し、Ｐ液
を水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーＣｍＭ液ヘキサン／′
ベンゼン＝１／１）にて精製し、次いでメタノール／′
アセトン混合忍蝶で再結晶して（Ｓ）−４−（２−メチ
ルブチル）オキシフェニルご４−デシルオキシ−２°−
フルオロ−４°−カルボキシレート０．３１ｇ（７２，
１％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＨａｓｓ分析で５３４に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例１９ の合成 実施例１８ｆｄ）におけるｆｓ）−４−（２−メチルブ
チル）オキシフェノール０．１６　ｇに替えて、（Ｓ）
−４−（４−メチルヘキシル）オキシフェノール０．１
８．を用い、他は実施例１８（ｄ）と同様に操作して（
Ｓ）−４−（４−メチルヘキシル）オキシフェニル上４
−デシルオキシ−２°−フルオロ−４゛−ビフェニルカ
ルボキシレート０．３３ｔ（７３，３％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及び）４ａＳＳ分析で５６２に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた
物質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ、−８２にはさみ
、偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１
に示す。

実施例２０ ＊ 実施例１８（ｄ）における（Ｓ）−４−（２−メチルブ
チル）オキシフェノール０．１６　ｇに替えて、（Ｓ）
−４−（１−メチルヘプチル）オキシフェノール０．２
０．を用い、他は実施例１８（ｄ）と同様に操作して（
Ｓ）−４−（１−メチルへグチル）オキシフェニル上４
〜デシルオキシ−２゛−フルオロ−４°−ビフェニルカ
ルボキシレート０．２９ｔ（６３，０％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５７６に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光類Ｗ！１鏡下で相変化を観察した。その結果を表−
１に示す。

実施例２１ 反応器に２−フルオロフェノール３７ｆ及び−硫化炭素
１００−を仕込み、水水冷撹拌下に無水塩化アルミニウ
ム５９ｆを加え、０℃以下で無水酢＃Ｍ３３ｇを滴下し
、１時間同温度で反応した。

反応液を希塩酸に注加し、塩化メチレンで抽出し、水洗
し、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分をメタノール
で再結晶して３−フルオロ−４−メトキシアセトフェノ
ン３３ｇ　（６６，９％）を得た。

反応器に（ａ）で得られた３−フルオロ−４−メトキシ
アセトフェノン２５＋ｒ、４８％臭化水素酸３００　ｔ
ｉｅ並びに酢酸１５（１ｍ（を仕込み、１７時間撹拌還
流した０反応液を水に注加し、塩化メチレンで抽出し、
水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液塩化メチレン）
にて精製し３−フルオロ−４−しドロキシアセトフェノ
ン８．８ｇ（’３８．４％）を得た。

反応器に（Ｓ）−１−メチルへキシルトシレート６．４
　ｇ、（ｂ）で得られた３−フルオロ−４ヒドロキシア
七トフェノン２．９ｇ、炭酸カリウム４．１ｇ及び２−
ブタ／　ン（ＨＥに）３Ｇ　ｔｓｅを仕込み、５時間還
流撹拌した０反応液を水に注加し、ベンゼンで抽出し、
水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分をシリカ
ゲルカラム２０マトグラフィー（溶離液ヘキサン／酢酸
エチル−１０７′１）にて精製し、（Ｒ）−３−フルオ
ロ−４（１−メチルヘキシル）オキシアセトフェノン３
．０　ｇ　（６３，２％）を得た。

し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離液塩化メチレン）にて精製し、（Ｒ）−３−フルオロ
−４−（１−メチルヘキシル）オキシフェノール１．３
３ｇ　（７８，２％）を得た。

反応器に（Ｃ）で得た（Ｒ）−３−フルオロ−４−（１
−メチルヘキシル）オキシアセトフェノン１，９ｇ及び
塩化メチレン３０Ｉ、ｌｅを仕込み、１０°Ｃで撹拌下
に８８％ギ酸２０Ｉｌｅ、無水酢酸１０ｗｅを浦下し、
さらに濃硫酸１−を加えた後、３５％過酸化水素水２０
−を滴下し、滴下稜線々に昇温して４５〜５０℃で９時
間撹拌反応した０反応液を氷水に注加し、ベンゼンで抽
出、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、水洗、芒硝脱水
を行い、溶媒を留去し、残留分を得た。この残留分とメ
チルアルコール３０ｒｓｅを別の反応器に仕込み、これ
に２５％苛性カリ水溶液を加え、４時間還流撹拌した。

反応液を氷と希塩酸中に注加し、ベンゼンで抽出、食塩
水で洗浄、芒硝で脱水後、溶媒を留去の合成 実施例１ｓ（ｄ）における（Ｓ）−４−（２−メチルブ
チル）オキシフェノール０．１６　ｔに替えて、（ｄ）
で得られた（Ｒ）−３−フルオロ−４−（１−メチルヘ
キシル）オキシフェノール０．１８　ｇを用い、他は実
施例１８（ｄ）と同様に操作して（Ｒ）３−フルオロ−
４−（１−メチルヘキシル）オキシフェニルユ４−デシ
ルオキシ−２°−フルオロ−４°−ビフェニルカルボキ
シレート０．２３ｆ（５０，０％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５８０に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例２２ キサン／′酢酸エチル＝１０／’Ｉ）にて精製しく５）
４−（４−メチルヘキシル）オキシ−３−フルオロフェ
ノール３−２　ｉｒ　（４７，４％）を得た。

実施例６（ａ）におけるオクチルブロマイド２５．９ｔ
ｒに替えて、（Ｓ）−４−メチルヘキシルブロマイド２
５．０＋ｒを用い、他は実施例６（ａ）と同様に操作し
て（Ｓ）−４−（４−メチルヘキシル）オキシ−３−フ
ルオロブロムベンゼン２５．９　ｇ（６６，９％）を得
た。

実施例６（ｂ）における４−オクチルオキシ−３−フル
オロブロムベンゼン９ｇに替えて、（ａ）で得られた（
Ｓ）−４−＜４−メチルヘキシル）オキシ−３−フルオ
ロブロムベンゼン８．６ｔを用い、他は実施例６（ｂ）
と同様に操作して、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（忍だ液への合成 実施例１８（（１）における（Ｓ）　−４−（−２−メ
チルブチル）オキシフェノール０．１６ｇに替えて、（
ｂ）で得られた（Ｓ）−４−（４−メチルヘキシル）オ
キシフェノールｏ、ｉａｔを用い、他は実施Ｐ１１８（
ｄ）と同様に操作して（Ｓ）−４−（Ｌｌ−メチルヘキ
シル）オキシ−３−フルオロフェニルご４−デシルオキ
シ−２゛−フルオロ−４°−ビフェニルカルボキシレー
ト０．２５ｇ　（５３，５％）を得た。

この物の純度は）ＩＰＬＣで９９％以上であった。また
ＩＲ及び）ｌａｓｓ分析で５８０に分子イオンピークが
認められたこと、並びに用いた原料の関係から、得られ
た物質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光類ｙ＆鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１
に示す。

実施例２３ 反応器に（Ｓ）−１−メチルへブチルトシレート２２．
８．．３−ブロム−４−ヒドロキシアセトフェノン１１
．５ｇ、炭酸カリウム１４．８．並びに２−ブタノン１
００　ｃａｌを仕込み、１６時間還流撹拌した。

反応液を水に注加し、ベンゼンで抽出し、１０％苛性ソ
ーダ水溶液で洗浄し、次いで水洗し、芒硝で脱水後、溶
媒を留去し１、＄１（Ｒ）−３−ブロム−４−（１−メ
チルへブチル）オキシアセトフェノン１２．６ｔｒを得
た。

反応器に（ａ）で得た租（Ｒ）−３−ブロム−４＝（１
−メチルへブチル）オキシアセトフェノン５ｇ、８７％
ギ酸４０−１無水酢酸２０−並びに塩化メチレン３０ｍ
１！を仕込み、水冷撹拌下に、濃硫酸Ｉ　Ｊ、次いで３
５％過酸化水素水１００ｍ１！を滴下し、２４時間撹拌
反応した０反応液を水に注加し、塩化メチレンで抽出後
、水洗し、芒硝で脱水し、溶媒を留去して、粗（Ｒ）−
３−ブロム−４−（ｌ−メチルヘプチル）オキシ−１−
アセチルオキシベンゼンＳ、Ｏｒを得た。別の反応器に
この残留分Ｓ、Ｏ、、シアン化第−銅１．５７を並びに
Ｎ−メチル−２−ピロリジノン３０ｍｅを仕込み、１４
０〜１６０℃で２６時間撹拌した０反応液を塩化第二鉄
５　ｔ　、　ＢＦｉ＃！ｉ２　ｄ並びに水３ｏｌｌｅカ
ラナル水溶液にて処理し、クロロホルムで抽出し、水洗
し、芒硝で脱水し、溶媒を留去後、ＧＴＯ（ガラスチュ
ーブオーブン）にて減圧蒸溜して（Ｒ）−３−シアノ−
４−（１−メチルへブチル）オキシフェノールｉ、ｏ　
ｇを得な。

の合成 実施例１８（ｄ）における（Ｓ）−４−（２−メチルブ
チル）オキシフェノール０．１６．に替えて、（ｂ）で
得られた（Ｒ）−３−シアノ−４−（１−メチルへ１チ
ル）オキシフェノール０．２０　Ｋを用い、他は実施例
１８（ｄ）と同様に操作して（Ｒ）　＝３−シアノ−４
−（１−メチルヘプチル）オキシフェニルユ４−デシル
オキシ−２“−フルオロ−４°−ビフェニルカルボキシ
レート０．２４ｇ　（４９，５％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で６０１に分子イオンと−りが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例２４ 反応器に３−フルオロ−４−シアノフェノール１ｇ、１
５％苛性ソーダ水溶１２０ａ＋ｅ並びにメタノール３０
−を仕込み、１０時間撹拌還流した０反応液を氷冷水に
注加し、濃塩酸を加えて酸性とし、析出物をＰ取し、水
洗後、ヘキサンで再結晶して２−フルオロ−４−ヒドロ
キシ安息香酸０．９７　ｇ　（８５，１％）を得た。

反応器に（ａ）で得られた２−フルオロ−４−ヒドロキ
シ安息香酸０．９７．、（Ｓ）−２−メチルブタノール
１０ｍ１！並びに触媒量の濃Ｆ７Ａ酸を仕込み、５時間
撹拌還流した０反応液を水に注加し、ベンゼンで抽出し
、水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分をヘキ
サンで再結晶して（Ｓ）−３−フルオロ−４−（２−メ
チルブチル）オキシカルボニルフェノール１．１　ｇ　
（７８％）を得た。

の合成 実施例１８（ｄ）における（Ｓ）−４−（２−メチルブ
チル）オキシフェノール０．１６．に替えて、（ｂ）で
得られた（Ｓ）−３−フルオロ−４−（２メチルブチル
）オキシカルボニルフェノール０．２０　ｇを用い、他
は実施例１ｇ（ｄ）と同様に操作して（Ｓ）−３−フル
オロ−４−（２−メチルブチル）オキシカルボニルフェ
ニルご４−デシルオキシ−２°−フルオロ−４゛−ビフ
ェニルカルボキシレート０．１８　ｔ　（３８，３％）
を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５８０に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
閤光顕ＦＲ鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１
に示す。

実施例２５ ニルフェノール０．１８　ｇを用い、他は実施例１８（
ｄ）と同様に操作して（Ｓ）−４−（２−メチルブチル
）オキシカルボニルフェニルご４−デシルオキシ−２°
−フルオロ−４゛−ビフェニルカルボキシレート０．２
９ｇ　（６４，０％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５６２に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトラーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
開光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例２６ の合成 実施例１ｇ（ｄ）における（Ｓ）−４−（２−メチルブ
チル）オキシフェノール０．１６　ｔに替えて、（Ｓ）
−４−＜２−メチルブチル）オキシカルボ実施例１　（
Ｃ）における、（Ｓ）−４−メチルヘキシルブロマイド
８．Ｏｆに替えてオクチルブロマイド８．８ｇを用い、
他は実施例１（Ｃ）と同様に操作して４−オクチルオキ
シ−２°−フルオロ−４゛−ブロムビフェニル６．０　
　、　（８４，５％）を得た。

実施例１（ｄ）における、（ｓ）　−４−（４−メチル
ヘキシル）オキシ−２゛−フルオロ−４゛−ブロムビフ
ェニル１１．７ｔに替えて、（ａ）で得られた４−オク
チルオキシ−２°−フルオロ−４゛−ブロムビフェニル
１２．１　ｇを用い他は実施例１（ｄ）と同様に操作し
て粗４−オクチルオキシ−２“−フルオロ−４°−シア
ノビフェニル１０．１　ｇを得な。

実施例１（ｅ）における、粗（Ｓ）−４−（４メチルヘ
キシル）オキシ−２°−フルオロ−４シアノビフェニル
９．８ｇに替えて、（ｂ）で得られた′＠ｉ４−オクチ
ルオキシー２°−フルオロ−４゜−シアノビフェニル１
０．１　ｔを用い他は実施例１（ｅ）と同様に操作し、
再結晶をアセトンで行うことにより４−オクチルオキシ
−２°−フルオロ−４°−ビフェニルカルボン酸６．４
　ｔ　（６０，３％）を得た。

反応器にｆｃ）で得られた４−オクチルオキシ２°−フ
ルオロ−４°−ビフェニルカルボン酸０．４　ｔ　、　
ＤＣＣ０，２５ｇ、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０
．１５ｇ、（Ｓ）−４−（１−メチルへブチル）オキシ
フェノール０．２８　ｇ及び塩化メチレン３Ｑｏ＋ｅを
仕込み、１８時間室温で撹拌反応しな。

反応液を一過し、ｃＨを水洗し、芒硝で脱水後、温媒を
留去し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（７８ＭＨヘキサン／′ベンゼンー１／’１）にて精製
し、次いでメタノール／′アセトン混合温媒で再結晶し
て（Ｓ）−４−（１−メ・ｌ　、＆・＼ｌチル）オキシ
フェニル上４−オクチルオキシ−２°−フルオロ−４°
−ビフェニルカルボキシレート０．４３ｇ　（６７，５
％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５４８に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例２７ さみ、偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表
−１に示す。

実施例２８ 実施例２６（ｄ）における（Ｓ）−４−（１−メチルヘ
プチル）オキシフェノール０．２８　ｔに替えて実施例
２３（ｂ）で得られる（Ｓ）−３−シアノ−４−（１−
メチルヘプチル）オキシフェノール０、２８　ｇを用い
、池は実施例２６（ｄ）と同様に操作して（Ｓ）−３−
シアノ−４−（１−メチルへグチル）オキシフェニル上
４−オクチルオキシ−２゛−フルオロ−イービフェニル
カルボキシレート０．４２ｇ　（６３，６％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５７４に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２には実施例
２６（ｄ）における、（Ｓ）−４−（１−メチルヘプチ
ル）オキシフェノール０．２８ｆに替えて実施例２１（
Ｃ）で得られる（Ｒ）−３−フルオロ−４−（１−メチ
ルヘキシル）オキシフェノール０．２８ｔを用い、他は
実施例２θ（ｄ）と同様に操作して（Ｓ）−３−フルオ
ロ−４−（１−メチルヘキシル）オキシフェニル上４−
オクチルオキシ−２°−フルオロ−４°−ビフェニルカ
ルボキシレート０．４１ｇ　（６４，１％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５５２に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認しな。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−１に
示す。

実施例２９ ＣＩｏ　８２１−ｏ（Σ七）ｃｏｏ−ぐ＞　０−Ｃｍ　
ＨＩ３　の合成実施例１８（ｄ）における＋５）−４−
（２−メチルブチル）オキシフェノール０．１６．に替
えて、４〜オクチルオキシフェノール０．１９　Ｋ−を
用い、池は実施例１８（ｄ）と同様に操作して、４−オ
クナルオキシフェニルユ４−デシルオキシ−２゛フルオ
ロ−４゛−ビフェニルカルボキシレート０．３６ｔ　（
７７，４％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＴ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５７６に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認しな。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光類＠鏡下で相変化をｉ察しな、その結果を表−２に
示す。

実施例３０ Ｃ□。８２１−０ぐＦとツーＣＯト＜）Ｃｍ　Ｈｚりの
合成実施ｇＡＪ１８（ｄ）における（Ｓ）−４−（２−
メチルブチル）オキシフェノール０．１６＋ｒに替えて
、４−オクチルフェノール０．１８　ｇを用い、池は実
施例１８（ｄ）と同様に操作して、４−オクチルフェニ
ル上４−デシルオキシ−２゛−フルオロ−４゛ビフエニ
ルカルボキシレート０．３０ｔ　（６６，７％）を得た
。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５６０に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化をｉ察した。その結果を表−２に
示す。

実施例３１ 実施例１８（ｄ）における（Ｓ）−４−（２−メチルブ
チル）オキシフェノール０．１６　ｆに替えて、実施例
８（ｂ）で得られる２−フルオロ−４−ペンチルフェノ
ール０．２３　ｇを用い、曲は￥施例１８ｆｄ）と同様
に操作して２−フルオロ−４−ベンチルフェニル上４−
デシルオキシ−２°−フルオロ−４°−ビフェニルカル
ボキシレート０．２１ｇ（４Ｌ８％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５３６に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化をｉ察しな、その結果を表−２に
示す。

実施例３２ Ｆ　　　　　　　Ｆ Ｃ１ｏ　Ｈ２Ｎ　−０−こ）−ンフーＣＯＯｂ　Ｏ−Ｃ
８ＨＩ３　のき成実施例１８（ｄ）における（Ｓ）−４
−（２−メチルブチル）オキシフェノール０．１６ｆに
替えて、実施例６（ｂ）で得られる３−フルオロ−４〜
オクチルオキシフェノール０．１９ｇを用い、曲は実施
例１８（ｄ）と同様に操作して３−フルオロ−４オクチ
ルオキシフエニルご４−デシルオキシ−２゛−フルオロ
−４゛−ビフェニル力ルポキシレ−ト０．２２ｇ　＜　
４５．８％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５９４に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−２に
示す。

実施例３３ 反応器にマグネシウム片１．０３ｓｒ並びに少量のヨウ
素を仕込み、これに実施例１（Ｃ）で得られる［５）−
４−（４−メチルヘキシル）オキシ２°−フルオロ−４
゛−ブロムビフェニル１４ｔｒのＴＨＥ　２０ｎｉ！Ｊ
Ｍ力少量を加え、加温して反応を開始させた後、残りの
ＴＨＥ溶液を撹拌下に滴下し、更に２時間撹拌還流し、
グリニヤール試薬を作成した。

別の容器に硼酸トリブチルエステル１３．２ｇを仕込み
、４０〜４８°Ｃで先に作成したグリニヤール試薬を撹
拌下に滴下し、さらに２時間同温度で撹拌した０次いで
、３０゛Ｃ以下で１０％硫酸４０−を滴下後、ベンゼン
１００−を加えて抽出した。有機層を分取して別の反応
器に仕込み、これに３５％過酸化水素水３０−を４０゛
Ｃで撹拌下に滴下し、同温度で２時間反応した０反応液
を水に注油し、有機層を亜硫酸水素ナトリウムで処理し
、水洗し、芒硝で脱水後、残留分をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（：容ＭＭヘキサン／　西［酸エチル
＝１０／’１）にて精製しく５）−４−（４メチルヘキ
シル）オキシ−２°−フルオロ−４゛ヒドロキシビフエ
ニル６．０８＋ｒ　（５２，４％）を得た。

のき成 反応器に（ａ）で得た（Ｓ）−４−（４−メチルヘキシ
ル）オキシ−２°−フルオロ−４°−ヒドロキシビフェ
ニル０．２５ｇ、４−オクチルオキシ安息香酸０．２１
ｇ　、　ＤＣＣ０，２０ｇ、４−（ジメチルアミノ）ピ
リジン０．０９．及び塩化メチレン３０ａｉ！を仕込み
、１１時間室温で撹拌反応した。

反応液を濾過し、Ｐ液を水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を
留去し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶離液ヘキサン／′ベンゼン−２／　ｌ　）にて精製
し、次いでメタノール、′ア七トン混合溶楳で再結晶し
て（Ｓ）−４−＜４メチルヘキシル）オキシ−２°−フ
ルオロビフェニル−４°−イル上４−オクチルオキジベ
ンゾエート０．２７ｔ　（６１，５％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５３４に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３に
示す。

実施例３４ の合成 実施例３３（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香酸
０．２１．に替えて４−ウンデシル安息香酸０、２４．
を用い、池は実施例３３（ｂ）と同様に操作して（Ｓ）
−４−（４−メチルヘキシル）オキシ−２°−フルオロ
ビフェニル−４゛−イルユ４−ウンデシルベンゾエート
０．４５ｇ　（９４，３％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５７６に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ　−８２にはさみ
、偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３
に示す。

実施例３５ の合成 実施例３３（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香酸
Ｇ、２１．に替えて４−オクチル安息香酸０．１９．を
用い、他は実施例３３（ｂ）と同様に操作して（Ｓ）−
４−（４−メチルヘキシル）オキシ−２°−フルオロビ
フェニル−４°−イル≧４−オクチルベンゾエート０．
１９ｓｒ　（４４，２％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５１８に分子イオンと−クが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
開光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３に
示す。

実施例３６ の合成 実施例３３（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香酸
０．２１．に替えて４−デシル安息香酸０，２２ｇを用
い、他は実施例３３（ｂ）と同様に操作して（Ｓ）−４
−（４−メチルヘキシル）オキシ−２゜フルオロビフェ
ニル−４゛−イル上４−デシルベンゾエート０．２６ｓ
ｒ　（５７，８％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５４６に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察しな、その結果を表−３に
示す。

実施例３７ （ａ）　　　　　　。

ＣａＨ□ヮー０−とツーＣＭ　　の合成実施例１（ｄ）
における（Ｓ）−４−（・１−メチルヘキシル）オキシ
−２−フルオロ−４゛−ブロムビフェニル１１．７．に
替えて、実施例０（ａ）で得られた４−オクチルオキシ
−３−フルオロブロムベンゼン８．８ｔを用い、他は実
施例１　（ｄ）と同様に操作して、粗４−オクチルオキ
シー３−フルオロベンゾニトリル４．７ｔを得た。

実施５ｌ（ｅ）における租（Ｓ）　−４−（４−メチル
ヘキシル）オキシ−２°−フルオロ−４°−シアノビフ
ェニル９．８ｇに替えて、（ａ）で得られた￥１１４−
オクチルオキシー３−フルオロベンゾニトリル４．７　
、を用い、他は同様に操作して、４−オクチルオキシ−
３−フルオロ安息香酸３．５ｇ　（６９，２％）を得た
。

の合成 実施例３３（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香酸
０．２１ｆに替えて、（ｂ）で得た４−オクチルオキシ
−３−フルオロ安息香ｉｏ、３１．を用い、他は実施例
３３（ｂ）と同様に操作することにより（Ｓ）−４−（
４−メチルヘキシル）オキシ−２゜−フルオロビフェニ
ルー４゛−イルご４−オクチルオキシ−３−フルオロベ
ンゾエート０．３ｇ（５４，５％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。まなＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５５２に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
閤光顕ｍ鏡下で相変化をＩＩ！察した。その結果を表−
３に示す。

実施例３８ 実施例１（ｄ）における（Ｓ）−４−（・１−メチルヘ
キシル）オキシ−２−フルオロ−４°−ブロムビフェニ
ル１１．７ｇに替えて、実施例７（ａ）で得られた４−
デシルオキシ−３−フルオロブロムベンゼン９．７ｇを
用い、池は実施例１（ｄ）と同様に操作して、粗４−デ
シルオキシー３−フルオロベンゾニトリル７．８ｇを得
た。

実施例１（ｅ）における租（Ｓ）−４−（４−メチルヘ
キシル）オキシ−２゛−フルオロ−４°−シアノビフェ
ニル９．８ｇに替えて、（ａ）で得られた＄１４−デシ
ルオキシー３−フルオロベンゾニトリル７．８Ｋを用い
、他は同様に操作して、４デシルオキシ−３−フルオロ
安息香１１ｆｉ５．ｏ　。

（６０，２％）を得た。

の合成 実施例３３（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香＃
ＩｉＯ，２１，に替えて、（ｂ）で得た４−デシルオキ
シ−３−フルオロ安息香酸０．３０ｇを用い、他は実施
例３３（ｂ）と同様に操作することにより（Ｓ）−４−
＜４−メチルヘキシル）オキシ−２フルオロビフェニル
−４°−イルご４−デシルオキシ−３−フルオロベンゾ
エート０．３ｇ（６２，５％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５８０に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の間隔から、得られた物
質が目的物であることを！認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光類Ｗ１鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３
に示す。

実施例３９ の合成 実施例３３（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香酸
０．２１ｇに替えて、４−デカノイルオキシ安息香＃！
ｉ０．２４．を用い、他は実施例３３（ｂ）と同様に操
作することにより（Ｓ）−４−（４−メチルヘキシル）
オキシ−２゛−フルオロビフェニル−４°−イル上４−
デカノイルオキシベンゾエート０．２９ｇ　（６０，４
％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５７６に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認しな。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３に
示す。

実施例４０ 実施例３３（ａ）における（Ｓ）−４−（４−メチルヘ
キシル）オキシ−２°−フルオロ−４°−ブロムビフェ
ニル１４ｔに替えて、実施例９（ａ）で得られる（Ｒ）
−４−（１−メチルヘキシル）オキシ−２°−フルオロ
−４°−ブロムビフェニル１４ｇを用い、他は実施例３
３（ａ）と同様に操作して、（Ｒ）−４−（１−メチル
ヘキシル）オキシ−２−フルオロ−４“−ヒドロキシビ
フェニル２．７ｇ（２３，３％）を得た。

反応器に（ａ）で得た（Ｒ）−４−（１−メチル・＼キ
シル）オキシ−２゛−フルオロ−４°−ヒドロキシビフ
ェニル０．３０ｇ、４−才クチルオキシ安息香酸０．２
５ｇ　、　ＤＣＣ０，２０ｓｒ、４−（ジメチルアミノ
）ピリジン０．１２　ｇ及び塩化メチレン３０−を仕込
み、１１時間室温で撹拌反応した。

反応液を濾過し、Ｐ液を水洗し、芒梢で脱水後、溶媒を
留去し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶離液ヘキサン、′ベンゼン＝２／’１）にて精製し
、次いでメタノール／′アセトン混合溶媒で再結晶して
［Ｒ）−・１−（１メチルヘキシル）オキシ−２゛−フ
ルオロビフェニル−４゛−イル上４−オクチルオキシベ
ンゾエート０．４０ｔ　（７５，５％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５３４に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化をＩｌｌ察した。その結果を表−
３に示す。

実施例４１ 実施例４０（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香ｉ
ｏ、２５ｔに替えて、４−ウンデシルオキシ安息香酸０
．２９．を用い、他は実施例４０（ｂ）と同様に操作し
て、（Ｒ）−４−（１−メチルヘキシル）オキシ−２°
−フルオロビフェニル−４°−イル上４−ウンデシルオ
キシベンゾエート０．３５ｇ　（６１，４％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＨａＳＳ分析で５７６に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３に
示す。

実施例４２ 実施例４０（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香酸
０．２５Ｋに替えて、４−オクチル安息香酸０．２３ｇ
を用い、ｅは実施例４０（ｂ）と同様に操作して、（Ｒ
）−４−＜１−メチルヘキシル）オキシ−２゛−フルオ
ロビフェニル−４°−イル上４−オクチルベンゾエート
０．２３．　（４５，１％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５１８に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることをＮ認した。

この物をメトツーホットステージＩＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化をｌＩｌ察した。その結果を表−
３に示す。

実施例４３ 実施例４０（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香酸
０．２５ｆに替えて、４−デシル安息香酸０．２９ｇを
用い、他は実施例４０（ｂ）と同様に操作して、（Ｒ）
−４−（１−メチルヘキシル）オキシ−２°−フルオロ
ビフェニル−４°−イル上４−デシルベンゾエート０．
３９ｇ　（７２，２％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５４６に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３に
示す。

実施例４４ 実施例４０（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香酸
０．２５ｇに替えて、実施例３７（ｂ）で得られる３−
フルオロ−４−オクチル安息香ｉｏ、３１゜を用い、他
は実施例４０（ｂ）と同様に操作して、（Ｒ）−４−（
１−メチルヘキシル）オキシ−２゜−フルオロビフェニ
ル−４゛−イル上３−フルオロ−４−オクチルオキシベ
ンゾエート０．３３　ｇ＜６０．０％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及び５ａｓｓ分析で５５２に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３に
示す。

実施例４５ 実施例４０（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香酸
０．２５ｆに替えて、実施例３８（ｂ）で得られる３−
フルオロ−４−デシルオキシ安息香酸０．３ｇを用い、
他は実施例４０（ｂ）と同様に操作して、（Ｒ）−４−
（１−メチルヘキシル）オキシ−２°−フルオロビフェ
ニル−４°−イルご３−フルオロ−４−デシルオキシベ
ンゾエート０．３９ｇ（６７，２％）を得な。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５８０に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光類ｒＲ鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３
に示す。

実施例４６ 実施例４０（ｂ）における４−オクチルオキシ安息香１
［０，２５ｇに替えて、４−デカノイルオキシ安息香酸
０．２９ｇを用い、他は実施例４０（ｂ）と同様に操作
して、（Ｒ）−４−（１−メチルヘキシル）オキシ−２
°−フルオロビフェニル−４°−イル上４−デカノイル
オキシベンゾエート０．２９ｆ（５０，９％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５７６に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光類ｖ１鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３
に示す。

実施例４７ （ａ）　　　　　　　　Ｆ ＣＩＯＮ２１−０→Ｃンー七フトＢ「　の合成実施例１
　（Ｃ）における（Ｓ）−４−メチルヘキシルブロマイ
ド８．０ｇに替え、デシルブロマイド４，７ｔを用い、
他は実施例１（Ｃ）と同様に操作して、４−デシルオキ
シ−２°−フルオロ−４−ブロムビフェニル６．２　ｇ
　（８１，４％）を号な。

実施例３３（ａ）における（Ｓ）−４−（４−メチルヘ
キシル）オキシ−２゛−フルオロ−４°−ブロムビフェ
ニル１４ｔｒに替えて（ａ）で得られた４−デシルオキ
シ−２°−フルオロ−４°−ブロムビフェニル１ｓ、ｅ
ｇを用い、他は実施例３３（ａ）と同様に操作して４−
デシルオキシ−２”−フルオロ４゛−ヒドロキシフェニ
ル２Ｌ７ｔｒ　（２２，５％）を得た。

反応器に（ｂ）で得た４−デシルオキシ−２°−フルオ
ロ−４゛−ヒドロキシビフェニル０．３０ｇ、（Ｒ）−
４−（１−メチルヘキシル）オキシ安息香酸０．２２ｇ
　、　ＤＣＣ０，２１ｇ、４−（ジメチルアミノ）ピリ
ジン０．１０　ｇ及び塩化メチレン３０ｗ１！を仕込み
、１１時間室温で撹拌反応した。

反応液を濾過し、Ｐ液を水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を
留去し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶離液ヘキサン／′ベンゼン＝２７’ｌ）にて精製し
、次いでメタノール／アセトン混合温媒で再結晶して、
（Ｒ）−４−デシルオキシ−２°−フルオロビフェニル
−４°−イル≧４−（１−メチルヘキシル）オギシベン
ゾ工−ト０．３９．　（７９，６％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＨａＳＳ分析で５６２に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３に
示す。

実施例４８ の合成 実施例４７（Ｃ）における（Ｒ）−４−（１−メチルヘ
キシル）オキシ安息香酸０．２２ｆに替えて、（Ｓ）−
４−（４−メチルヘキシル）オキシ安息香酸ｏ、２ｉｇ
を用い、他は実施例４７（ｃ）と同様に操作して（Ｓ）
−４−デシルオキシ−２°−フルオロビフェニル−４°
−イル＝４−（４−メチルヘキシル）オキシベンゾエー
トｏ、２９ｓｒ　（５９，２％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５６２に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３に
示す。

実施例４９ 牢 実施例１（ｄ）における（Ｓ）−４−（４−メチルヘキ
シル）オキシ−２°−フルオロ−４°−ブロムビフェニ
ル１１．７ｔに替えて、実施例２２（ａ）で得られる（
Ｓ）−４−（４−メチルヘキシル）オキシ−３−フルオ
ロブロムベンゼン８．５０．を用い、他は実施例１　（
ｄ）と同様に操作して、￥Ｉｔ（Ｓ）−４−（４−メチ
ルヘキシル）オキシ−３−フルオロベンゾニトリル５．
２ｇを得た。

実施例１　（ｅ）における粗（Ｓ）−４−（４−メチル
ヘキシル）オキシ−２°−フルオロ−４゛−シアノビフ
ェニル９．８ｇに替えて、（ａ）で得られた租（Ｓ）−
４−（４−メチルヘキシル）オキシ−３−フルオロベン
ゾニトリル５．２ｇを用い、他は実施例１（ｅ）と同様
に操作して（Ｓ）−４−（４−メチルヘキシル）オキシ
−３−フルオロ安息香酸４．９ｇを得た。

の合成 実施例４７（ｃ）における（Ｒ）−４−（１−メチルヘ
キシル）オキシ安息香ｉ１０．２２ｇに替えて、（ｂ）
で得られた（Ｓ）−４−（４−メチルヘキシル）オキシ
−３−フルオロ安息香酸０．２８　ｔｒを用い、他は実
施例４７（ｃ）と同様に操作して（Ｓ）−４−デシルオ
キシ−２°−フルオロビフェニル４°−イルご４−メチ
ルヘキシル）オキシ−３−フルオロベンゾエート０．３
７ｇ　（７３，３％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で５８０に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３に
示す。

実施例５０ 反応器に苛性ソーダ３．９ｇ並びに水３０−ｅを仕込み
、水冷撹拌下に０℃にて臭素８ｇを滴下し、次亜臭素酸
ソーダ水溶液を調製した。別の容器に実施例２Ｈｂ）で
得られる（Ｒ）−３−フルオロ−４−（１−メチルヘキ
シル）オキシアセトフェノン１．１９．並びに１．４−
ジオキサン３０−を仕込み、先に調製した次亜臭素酸ソ
ーダ水溶液を室温にて滴下し、５０℃にて１時間加熱撹
拌した。

反応液を希塩酸に産前し、次いで重亜硫酸ソーダにて処
理後、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒硝で脱水後、溶媒
を留去し、（Ｒ）−３−フルオロ−４−（１−メチルヘ
キシル）オキシ安息香酸ｉ、ｏ　ｔを得た。

実施例４７（ｃ）における（Ｒ）−４−（１−メチルヘ
キシル）オキシ安息香酸０．２２ｇに替えて、（ａ）で
得られた（Ｒ）−４−（１−メチルヘキシル）オキシ−
３−フルオロ安、巷、香酸Ｑ、３９ｇを用い、他は実線
例４７（Ｃ）と同様に操作して（Ｒ）４−デシルオキシ
−２°−フルオロビフェニル４゛−イル≧４−（１−メ
チルヘキシル）オキシ３−フルオロベンゾエート０．３
３ｇ　（６Ｇ、０％）を得た。

この物の純度はＨＰ　Ｌ　Ｃで９９％以上であった。ま
たＩＲ及びＭａｓｓ分析で５８０に分子イオンビーフカ
（認められたこと、並びに用いた原料の関係から、得ら
れた物質が目的物であることを確認した。

この物をメトツーホットステージＦＰ−８２にはさみ、
偏光顕ｍ鏡下で相変化を観察した。その結果を表−３に
示す。

実施例５１ 反応器に実施例２３ｆａ）で得られる１ｌｌ）−３−ブ
ロム−４−（１−メチルヘプチル）オキシアセトフェノ
ン６．０　ｇ、シアン化第−ｊｆ１２．４６ｇ並びにＮ
−メチル−２−ピロリジノン３０ｍｅを仕込み、１４０
〜１５０°Ｃで２８時間加熱撹拌した０反応液を塩化第
二鉄８ｔｒ、濃塩酸２ｄ及び水２０−からなる水溶液に
て処理し、クロロホルムで抽出し、水洗し、芒硝で脱水
後、溶媒を留去し、残留分をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（溶離液へキサン／ベンゼン＝３／１）て精製し、
（Ｒ）−３−シアノ−４−（１−メチルヘプチル）オキ
シアセトフェノン１．２８ｇ　（２５，７％）を得た。

反応器に苛性ソーダ４．４ｇ並びに水３０自ｅを仕込み
、水冷撹拌下に０゛Ｃにて臭素５ｇを滴下し、次亜臭素
酸ソーダ水溶液を調製した。別の容器に［ａ）で得られ
た（Ｒ）　−３−シアノ−４−（１−メチルヘプチル）
オキシアセトフェノン１．２８１並びに１．４−ジオキ
サン２０−を仕込み、先に調製した次亜臭素酸ソーダ水
溶液を室温にて滴下し、４０℃にて１時間加熱撹拌した
。

反応液を希塩酸に産前し、次いで重亜硫酸ソーダにて処
理後、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒硝で脱水後、溶媒
を留去し、残留分をヘキサンで再結晶して（Ｒ）−３−
シアノ−４−（１メチルヘプチル）オキレ安磨、香酸０
．８１　ｇ　＜　６２．８％）を得た。

の合成 実施例４７（ｃ）における（Ｒ）−４−（１−メチルヘ
キシル）オキシ安息香酸０．２２．に件えて、（ｂｌで
得られた（Ｒ）−３−シアノ−４−（１メチルへブチル
）オキシ安息香酸０．２４ｇを用い、池は実施例４７（
ｃ）と同様に操作してｆＲ）−４−デシルオキシ−２゛
−フルオロビフェニル−４゜イル上３−シアノ−４−（
ｌ−メチルヘプチル）オキシベンゾエート０．２１ｇ　
（４０，４％）を得た。

この物の純度はＨＰＬＣで９９％以上であった。またＩ
Ｒ及びＭａｓｓ分析で６０１に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関１系から、得られた
１勿質が目的１勿て゛あることを確認した。

この１勿をメトツーホ“ソトステーシ゛ＦＰ−８２には
さみ、閤光顕ｙ＆鏡下で相変化を観察しな、その結果を
表−３に示す。

実施例５２ 表面にポリビニルアルコール（Ｐν八）を塗布し、その
表面をラビングして平行配向処理を施した透明電極を備
えたセル厚３μｌの液晶セルを作製し、この液晶セルに
実施例１４，４１．４５の化合物をそれぞれ封入し、等
方性液体からＳＩＣ’相まで徐冷して液晶素子を作製し
た。この液晶素子を２枚の偏光板に挾み、±２５Ｖ、２
００　ｔ（ｚの矩形波を印加し、透過光強度の変化から
応答時間をそれぞれ求めた。その結果を下に示す。

実施例番号　応答時間（μｓｅｃ　）　　測定温度ｆ℃
＋４１　　　　　　２４０　　　　　７５．６４５　　
　　　　２２５　　　　　６０．２実施例５３ 実施例１３並びに実施例２３で得られた化合物をそれぞ
れ下記に示すピリミジン液晶組成物と重量比１０：９０
の割合で混合し、新たに液晶組成物を調製した。これら
液晶組成物の応答時間（τ）を実施例５２に示した手順
に従って測定した。その結果を下に示す。

内は測定温度を示す

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （Ｒ＾１及びＲ＾２は炭素原子数１〜１８の直鎖状また
   は分枝鎖状アルキル基を表しＹはＣＯＯまたはＯＣＯを
   表し、Ｚは単結合、Ｏ、ＣＯＯまたはＯＣＯを表し、Ｘ
   ＿１及びＸ＿２はいずれか一方がフッ素原子で他方が水
   素原子であることを表し、Ｘ＿３及びＸ＿４はそれぞれ
   水素原子、フッ素原子、塩素原子またはシアノ基を表す
   ）で表されるフッ素置換ビフェニル誘導体化合物。
2. （２）前記一般式（ I ）におけるＲ＾１及び（又は）
   Ｒ＾２が不斉炭素原子を有するアルキル基である請求項
   １記載の化合物。
3. （３）前記一般式（ I ）におけるＸ＿１が水素原子で
   Ｘ＿２がフッ素原子である請求項１又は２に記載の化合
   物。
4. （４）前記の化合物が光学活性を有する化合物である請
   求項２記載の化合物。
5. （５）前記の化合物が光学活性を有しない化合物である
   請求項１記載の化合物。
6. （６）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （Ｒ＾１及びＲ＾２は炭素原子数１〜１８の直鎖状また
   は分枝鎖状アルキル基を表し、ＹはＣＯＯまたはＯＣＯ
   を表し、Ｚは単結合、Ｏ、ＣＯＯまたはＯＣＯを表し、
   Ｘ＿１及びＸ＿２はいずれか一方がフッ素原子で他方が
   水素原子であることを表し、Ｘ＿３及びＸ＿４はそれぞ
   れ水素原子、フッ素原子、塩素原子またはシアノ基を表
   す）で表されるフッ素置換ビフェニル誘導体化合物の少
   なくとも一種を含有することを特徴とする液晶組成物。
7. （７）前記化合物として、前記一般式（ I ）における
   Ｒ＾１及び（又は）Ｒ＾２が不斉炭素原子を有するアル
   キル基である化合物を含有する請求項６記載の液晶組成
   物。
8. （８）前記化合物として、前記一般式（ I ）における
   Ｘ＿１が水素原子でＸ＿２がフッ素原子である化合物を
   含有する請求項６又は７に記載の液晶組成物。
9. （９）前記一般式（ I ）の化合物が光学活性を有する
   化合物である請求項７記載の液晶組成物。
10. （１０）前記一般式（ I ）の化合物が光学活性を有し
    ない化合物である請求項６記載の液晶組成物。