JPH01187968A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH01187968A
JPH01187968A JP63013006A JP1300688A JPH01187968A JP H01187968 A JPH01187968 A JP H01187968A JP 63013006 A JP63013006 A JP 63013006A JP 1300688 A JP1300688 A JP 1300688A JP H01187968 A JPH01187968 A JP H01187968A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
output
frequency
ring oscillator
delay time
semiconductor integrated
Prior art date
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Pending
Application number
JP63013006A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumio Ikegami
池上 文雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路に関し、特に、リングオシレー
タを備え、論理ゲートの遅延時間を測定することができ
るように構成される半導体集積回路に関する。
〔従来の技術〕
従来、この種の半導体集積回路においては、前記半導体
集積回路の内部に所定のリングオシレータが備えられて
おり、前記リングオシレータの発振周波数を測定するこ
とにより、論理ゲートにおける遅延時間を測定している
のが一般である。その−例としては、実用新案公告昭5
9−36914があげられる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来の半導体集積回路においては、第一に、論
理ゲートの遅延時間の測定を行うためには、内蔵されて
いるリングオシレータの発振周波数を測定する必要があ
る。しかしながら、通常、半導体集積回路の測定用とし
て用いられるLSIテスタでは、前記発振周波数の測定
を行うことは困難である。従って、論理ゲートの遅延時
間を測定するために、前記リングオシレータの発振周波
数を測定するなめには、前記LSIテスタとは別に、周
波数カウンタ等の周波数計測機器を備えて測定を行わな
ければならないという欠点がある。
また、第二に、半導体集積回路のプロセスの進歩にとも
ない、論理ゲート−段当りの遅延時間が短縮化され、こ
の短縮化にともないリングオシレータの発振周波数が高
くなり、より高い周波数の高周波信号の測定が可能な周
波数測定器が必要になるという欠点がある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の半導体集積回路は、少くとも一つの入力側端子
が当該半導体集積回路の入力端子に接続され、所定の論
理ゲートを備えて形成されるリングオシレータと、前記
リングオシレータの出力を分周し、前記当該半導体集積
回路の出力端子より所定の分周出力を出力するように形
成される分周器と、を備えて構成される。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。 。
第1図は本発明の第1の実施例のブロック図である。第
1図ば示されるように、本実施例は、NAND回路1−
1〜1−n(nは正の奇数)と、入力端子2と、出力端
子3と、分周器4と、を備えて構成される。
第1図において、n(奇数)個のNAND回路1−1〜
1−nはリングオシレータを形成しており、入力端子2
から“’ L OW ”レベルの信号が入力される場合
には、NAND回路1−1の出力は常に°“HIGH”
レベルとなって固定され、前記リングオシレータは発振
しない。入力゛端子2から“HIGH”レベルの信号が
入力されると、奇数(n)個のNAND回路1−1〜1
−nをループ状に接続して形成される前記リングオシレ
ータは、周期2nt、)秒で発振を開始する。
ここでt。はNAND回路一般当りのゲート遅延時間で
ある。前記リングオシレータの発振出力は分、周器4に
入力されるが、分周器4における分周比を1/2″′ 
(mは正整数)とすると、2 n t(、X2+1−1
秒後において、分周器4の出力レベルが反転する。従っ
て、入力端子2に”L OW ”レベルからHI G 
H”レベルの信号を加えてから、分周器4の出力が反転
するまでの遅延時間TをLSIテスタにより測定するこ
とにより、NAND回路1−1〜1−nの一段当りの遅
延時間t。は、to= (T/2− ) ・nにより求
められる。
例えば、N A N D UgJfi’!−段当りの遅
延時間t。を200 PS (ピコ秒)、分周器4の分
周比を1/210=1/1024、リングオシレータの
NAND回路の数nを11個とすると、入力端子2と出
力端子3との間の遅延時間Tは、T=1024X 11
 X to=2.25μS(マイクロ秒)となり、LS
Iテスタにより、Tの値は十分に精度高く測定すること
が可能である。従って、遅延時間Tの測定値に対して、
前記1oの計算式を用いて、ゲート遅延時間を容易に測
定することができる。
第2図は本発明の第2の実施例のブロック図である。第
2図に示されるように、本実施例は、NAND回路1−
1〜1−n(nは正の奇数)と、入力端子2および11
と、出力端子3と、分周器4と、NAND回路5〜9と
、インバータ10と、入力信号端子11と、を備えて構
成される。
第2図において、入力端子11がら“HIGH”レベル
の信号が入力される場合には、NAND回路8の出力ぼ
常に゛HIGH″°レベルに固定され、nの値が奇数で
あるために、リングオシレータは2t(、x(n+4)
の周期で発振する。入力端子11から“’ L OW 
”レベルの信号が入力される場合には、NAND回路7
の出力は常に′“HIGH”レベルに固定され、リング
オシレータは2t(、X(n+2)の周期で発振する。
従って、分周器4の分周比を1/2″′とすると、入力
端子11がら“’HIGH”レベルの信号が入力される
場合には、半導体集積回路の入力端子2と出力端子3と
の間の遅延時間T)Iは、T。
=to×(n+4)×2″′秒となり、” L OW 
”レベルの信号が入力される場合には、入力端子2と出
力端子3との間の遅延時間TLは、TI、=toX(n
+2)X2’″秒となる。従って、入力端子11におけ
る信号レベルが” HI G H”レベルの時と゛LO
W’″レベルの時との遅延時間差ΔTは、ΔT=T、−
TL 〜2−” xtoとなる。この遅延時間差ΔTを
LSIテスタにより測定することにより、前記Δτ式よ
り、jo=ΔT/2”秒としてゲート遅延時間toが測
定される。この実施例においては、分周器4における遅
延時間が無視できない場合においても、その影響を受け
ることなくtoを測定することができるという利点があ
る。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は、リングオシレータおよ
び分周器を用い、論理ゲート−段当りの遅延時間を整数
倍して計測することにより、LSIテスタのみによる測
定によって、極めて短縮化された一段当りのゲート遅延
時間をも極めて容易に計測することができるという効果
がある。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、それぞれ本発明の第1および第
2の実施例のブロック図である。 図において、1.−1〜1−n、5〜9 ・N A N
0回路、2.11・・・入力端子、3・・・出力端子、
4・・・分周器、10・・・インバータ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  少くとも一つの入力側端子が当該半導体集積回路の入
    力端子に接続され、所定の論理ゲートを備えて形成され
    るリングオシレータと、前記リングオシレータの出力を
    分周し、前記当該半導体集積回路の出力端子より所定の
    分周出力を出力するように形成される分周器と、を備え
    ることを特徴とする半導体集積回路。
JP63013006A 1988-01-22 1988-01-22 半導体集積回路 Pending JPH01187968A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04160377A (ja) * 1990-10-23 1992-06-03 Nec Corp 半導体集積回路
JP2007163377A (ja) * 2005-12-15 2007-06-28 Fujitsu Ltd 半導体回路の試験方法および試験装置および半導体装置

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JP4746975B2 (ja) * 2005-12-15 2011-08-10 富士通セミコンダクター株式会社 半導体回路の試験方法

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