JPH01137581A - Icチップリードの接合方法 - Google Patents
Icチップリードの接合方法Info
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- JPH01137581A JPH01137581A JP63096810A JP9681088A JPH01137581A JP H01137581 A JPH01137581 A JP H01137581A JP 63096810 A JP63096810 A JP 63096810A JP 9681088 A JP9681088 A JP 9681088A JP H01137581 A JPH01137581 A JP H01137581A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K1/02—Details
- H05K1/11—Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
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-
- H—ELECTRICITY
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Landscapes
- Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、ICチップの電極から引き出されたリード
を例えば液晶表示パネルやプリント配線基板等の接続リ
ードに接合する方法に関する。
を例えば液晶表示パネルやプリント配線基板等の接続リ
ードに接合する方法に関する。
[従来の技術]
ICチップを樹脂フィルム(キャリアフィルム)の上面
に固着されている金属リード箔にポンディングしたT
A B (Tape AuteematedBondi
ng )方式のICユニットが知られている。
に固着されている金属リード箔にポンディングしたT
A B (Tape AuteematedBondi
ng )方式のICユニットが知られている。
このようなICユニットは、例えば卓上電子計算機の液
晶表示パネルとプリント配!!1基板等を電気的に接続
するに用いられている。この液晶表示パネルとプリント
配線基板を接続する場合のICチップは液晶駆動用とさ
れる。
晶表示パネルとプリント配!!1基板等を電気的に接続
するに用いられている。この液晶表示パネルとプリント
配線基板を接続する場合のICチップは液晶駆動用とさ
れる。
ところで、上記TAB方式のICユニットは液晶表示パ
ネルとプリント配線基板とを電気的に接続した際、実装
時等の取り扱いにおいて確実な接続状態を維持していな
ければならない。そのためにはICチップリード(金属
リード箔)が液晶表示パネル及びプリント配線基板の接
続リードとにおいて高い接着強度をもって剥れないよう
に接合されていなければならない。
ネルとプリント配線基板とを電気的に接続した際、実装
時等の取り扱いにおいて確実な接続状態を維持していな
ければならない。そのためにはICチップリード(金属
リード箔)が液晶表示パネル及びプリント配線基板の接
続リードとにおいて高い接着強度をもって剥れないよう
に接合されていなければならない。
このようなことから、従来、ICチップリードの接合強
度を高める方策として、ICチップリードと液晶表示パ
ネルやプリント配線、15板の接続リードとの接合面植
を大きくすることが検討されている。
度を高める方策として、ICチップリードと液晶表示パ
ネルやプリント配線、15板の接続リードとの接合面植
を大きくすることが検討されている。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、上記のような接合方法では、単に、IC
チップリードと液晶表示パネルやプリント配線基板の接
続リードとの接合面接を大きくすると、隣接する接合部
分との間隔が狭くなるため、ICチップリードに施され
た半田メッキの量が多いと、接合時に半田メッキが両側
へ流れ出し、この流れ出した半田メッキにより隣接する
接合部分とショートするという問題があり、また接合部
分の間隔が極端に狭いと、接合時の位置ずれによっても
ショートするという問題がある。
チップリードと液晶表示パネルやプリント配線基板の接
続リードとの接合面接を大きくすると、隣接する接合部
分との間隔が狭くなるため、ICチップリードに施され
た半田メッキの量が多いと、接合時に半田メッキが両側
へ流れ出し、この流れ出した半田メッキにより隣接する
接合部分とショートするという問題があり、また接合部
分の間隔が極端に狭いと、接合時の位置ずれによっても
ショートするという問題がある。
この発明は、上述の如き問題に鑑みてなされたもので、
その目的とするところは、接合時の位置ずれや半田メッ
キの流出によって隣接する接合部分とのショートを防ぎ
、確実かつ強固にICチップリードを接続リードに接合
することができるICチップリードの接合方法を提供す
ることにある。
その目的とするところは、接合時の位置ずれや半田メッ
キの流出によって隣接する接合部分とのショートを防ぎ
、確実かつ強固にICチップリードを接続リードに接合
することができるICチップリードの接合方法を提供す
ることにある。
[問題点を解決するための手段]
この発明は上記問題を解決するため、半田メッキが施さ
れた金属リード箔を、該金属リード箔よりも幅広に形成
された接続端子部に熱圧着して、前記金属リード箔のg
4壁に半田メツツキの溜り部を形成することにある。
れた金属リード箔を、該金属リード箔よりも幅広に形成
された接続端子部に熱圧着して、前記金属リード箔のg
4壁に半田メツツキの溜り部を形成することにある。
[作 用]
この発明によれば、半田メッキが施された金属リード箔
の幅よりも接続端子部の幅を広く形成することにより、
接続端子部に対する金属リード箔の接合時における位置
合わせを容易にすることができるとともに、金属リード
箔を接続端子部に熱圧着して金属リード箔の側壁に半田
メッキの溜り部を形成することにより、確実かつ強固に
接合することができ、しかも半田メッキの何方への流出
によって隣接する接合部分とのショートを防ぐこともで
きる。
の幅よりも接続端子部の幅を広く形成することにより、
接続端子部に対する金属リード箔の接合時における位置
合わせを容易にすることができるとともに、金属リード
箔を接続端子部に熱圧着して金属リード箔の側壁に半田
メッキの溜り部を形成することにより、確実かつ強固に
接合することができ、しかも半田メッキの何方への流出
によって隣接する接合部分とのショートを防ぐこともで
きる。
[実施例]
以下、第1図から第8図を参照して、この発明の一実施
例を説明する。
例を説明する。
第2図は卓上型電子計′IL機等の液晶表示パネルとプ
リント配線基板とをTAB方式のICユニットで接続し
た状態を示す、この図において、lはICユニット、2
は液晶表示パネル、3はプリント配線基板であり、IC
ユニットlは液晶表示パネル2とプリント配線基板3と
に跨って複数個(この実施例では3個)配置され、液晶
表示パネル2とプリント配M基板3とを電気的に接続し
ている。これにより、ICユニッ)1はプリント配線基
板3からの信号に基づいて液晶表示パネル2を駆動し、
この液晶表示パネル2で所定の情報を電気光学的に表示
する。
リント配線基板とをTAB方式のICユニットで接続し
た状態を示す、この図において、lはICユニット、2
は液晶表示パネル、3はプリント配線基板であり、IC
ユニットlは液晶表示パネル2とプリント配線基板3と
に跨って複数個(この実施例では3個)配置され、液晶
表示パネル2とプリント配M基板3とを電気的に接続し
ている。これにより、ICユニッ)1はプリント配線基
板3からの信号に基づいて液晶表示パネル2を駆動し、
この液晶表示パネル2で所定の情報を電気光学的に表示
する。
このようなICユニットlは第2図および第3図に示す
ように、キャリアフィルム(樹脂フィルム)4にICチ
ップ5の外形よりも大きな開口部6を形成するとともに
、キャリアフィルム4の北面に多数の金属リード箔(I
Cチップリード)7・・・をパターン形成し、この金属
リード箔7・・・の前記開口部6内へ突出する内側端7
a・・・にICチップ5をI L B (Inner
Lead Bonding)によりポンディングしてな
るものであり、金属リード箔7・・・の外側端7b・・
・が液晶表示パネル2およびプリント配線基板3にOL
B (Outer Lead Bonding)によ
り接合される。これにてICユニットlは液晶表示パネ
ル2とプリント配線基板3とを電気的に接続する。この
場合、キャリアフィルム4はポリエステル、ポリイミド
等の高分子材料よりなる50〜200 gmの厚みをも
った可撓絶縁性のフィルムである。また、金属リード箔
7・・・はキャリアフィルム4の上面に金属箔(例えば
厚さ35J1mの電解銅箔)を接着剤でラミネートし、
このラミネートされた金属箔をフォトエツチングにより
パターン形成される。
ように、キャリアフィルム(樹脂フィルム)4にICチ
ップ5の外形よりも大きな開口部6を形成するとともに
、キャリアフィルム4の北面に多数の金属リード箔(I
Cチップリード)7・・・をパターン形成し、この金属
リード箔7・・・の前記開口部6内へ突出する内側端7
a・・・にICチップ5をI L B (Inner
Lead Bonding)によりポンディングしてな
るものであり、金属リード箔7・・・の外側端7b・・
・が液晶表示パネル2およびプリント配線基板3にOL
B (Outer Lead Bonding)によ
り接合される。これにてICユニットlは液晶表示パネ
ル2とプリント配線基板3とを電気的に接続する。この
場合、キャリアフィルム4はポリエステル、ポリイミド
等の高分子材料よりなる50〜200 gmの厚みをも
った可撓絶縁性のフィルムである。また、金属リード箔
7・・・はキャリアフィルム4の上面に金属箔(例えば
厚さ35J1mの電解銅箔)を接着剤でラミネートし、
このラミネートされた金属箔をフォトエツチングにより
パターン形成される。
このように金属リード箔7・・・の内側端7a・・・に
ポンディングされるICチップ5は、第4図に示すよう
にシリコンよりなる半導体ウェハ5aの上面にシリコン
酸化IQ5bが形成され、このシリコン酸化膜5bの上
面にゲート等の内部電極(図示せず)およびこの内部電
極を外周部へ導くアルミニウムの配線パターン5cが形
成され、この配線パターン5cに電極(金バンプ)5d
が形成され、この電極5dを除く配線パターン5Cの上
面にシリコン酸化H(絶縁@)5eを形成した構成とな
っている。そして、このICチップ5はその電極5dに
金属リード箔7・・・の内側端7a・・・が半田メッキ
7Cを介してポンディングされ、この状態で第2図に示
すように、ICチップ5の電極5dを有する側がポツテ
ィングされたレジン8にて被覆されている。この場合、
半田メッキ7cは1(Sn)と鉛(pb)との混合物(
S n : Pb=8〜2)で、金属リード箔7の全表
面に施されている。
ポンディングされるICチップ5は、第4図に示すよう
にシリコンよりなる半導体ウェハ5aの上面にシリコン
酸化IQ5bが形成され、このシリコン酸化膜5bの上
面にゲート等の内部電極(図示せず)およびこの内部電
極を外周部へ導くアルミニウムの配線パターン5cが形
成され、この配線パターン5cに電極(金バンプ)5d
が形成され、この電極5dを除く配線パターン5Cの上
面にシリコン酸化H(絶縁@)5eを形成した構成とな
っている。そして、このICチップ5はその電極5dに
金属リード箔7・・・の内側端7a・・・が半田メッキ
7Cを介してポンディングされ、この状態で第2図に示
すように、ICチップ5の電極5dを有する側がポツテ
ィングされたレジン8にて被覆されている。この場合、
半田メッキ7cは1(Sn)と鉛(pb)との混合物(
S n : Pb=8〜2)で、金属リード箔7の全表
面に施されている。
一方、上記キャリアフィルム4の両端側には金属リード
箔7・・・の外側端7b・・・の長手方向に直交して開
口巾が1〜2mmとされた開口部4a、4aが側縁に沿
って形成されており、上記各金属リード箔7・・・はこ
の開口部4a、4aの上面を外側端7b・・・が橋架す
る状態でキャリアフィルム4のに面に設けられている。
箔7・・・の外側端7b・・・の長手方向に直交して開
口巾が1〜2mmとされた開口部4a、4aが側縁に沿
って形成されており、上記各金属リード箔7・・・はこ
の開口部4a、4aの上面を外側端7b・・・が橋架す
る状態でキャリアフィルム4のに面に設けられている。
そして、このような金属リード箔7・・・の外側端7b
・・・のうち、液晶表示パネル2側の外側端7b・・・
は第3図に示すように、開口部4aに対向する中央部分
7b、が開口部4a内に没入して液晶表示パネル2の接
続り−ト2aに゛姓田メッキ7cを介して熱圧着にて接
合され、この没入した中央部分7b+ の両端側に傾斜
部分7b?、7b3が開口部4aの上端縁に向けて斜め
に立ち上り、これにより三角状の半田溜り9.9が形成
され、この半田溜り9,9により接続リード2aに強固
に接着される。そして、金属リード箔7・・・の外側端
7b・・・は第3図に示すように、液晶表示パネル2の
接続リード2aに接合された状態でシリコンゴム11に
て被覆される。
・・・のうち、液晶表示パネル2側の外側端7b・・・
は第3図に示すように、開口部4aに対向する中央部分
7b、が開口部4a内に没入して液晶表示パネル2の接
続り−ト2aに゛姓田メッキ7cを介して熱圧着にて接
合され、この没入した中央部分7b+ の両端側に傾斜
部分7b?、7b3が開口部4aの上端縁に向けて斜め
に立ち上り、これにより三角状の半田溜り9.9が形成
され、この半田溜り9,9により接続リード2aに強固
に接着される。そして、金属リード箔7・・・の外側端
7b・・・は第3図に示すように、液晶表示パネル2の
接続リード2aに接合された状態でシリコンゴム11に
て被覆される。
ところで、上記金属リード箔7に施される半田メッキ7
cは内側端7aと外側端7bとではその層厚を異にして
いる。すなわち、外側端7bでは半田量が多すぎると隣
りの金属リード箔7にショートするので、この点からは
少ない量であることが好ましいが、反面強固な接着強度
を有していなければならない、しかし、外側端7bの接
合構造において、半田メツギアCから溶けた半田は中央
部分7blのみならず傾斜部分7b?。
cは内側端7aと外側端7bとではその層厚を異にして
いる。すなわち、外側端7bでは半田量が多すぎると隣
りの金属リード箔7にショートするので、この点からは
少ない量であることが好ましいが、反面強固な接着強度
を有していなければならない、しかし、外側端7bの接
合構造において、半田メツギアCから溶けた半田は中央
部分7blのみならず傾斜部分7b?。
7b3の立ち上り部にも流れ込んで半田溜り9.9とな
るので十分な接着力が確保される。このような配慮のた
め、実施例としては、外側端7bの半田メッキ7bの層
厚は0.8〜2.0gmとされている。一方、内側端7
aにICチップ5をポンディングするとき、内側端7a
にICチップ5の電極5dを400℃/ 1〜0.5
s e C(7)熱を与えて熱圧着するが、このときに
金−錫共晶の接着強度が最大となるように、その半田メ
ッキ7Cの層厚は0.2〜0.6 pmに設定されてい
る。
るので十分な接着力が確保される。このような配慮のた
め、実施例としては、外側端7bの半田メッキ7bの層
厚は0.8〜2.0gmとされている。一方、内側端7
aにICチップ5をポンディングするとき、内側端7a
にICチップ5の電極5dを400℃/ 1〜0.5
s e C(7)熱を与えて熱圧着するが、このときに
金−錫共晶の接着強度が最大となるように、その半田メ
ッキ7Cの層厚は0.2〜0.6 pmに設定されてい
る。
また、上述のようにして金属リード箔7の外側端7bが
半田メッキ7Cから溶けた半田によって接合される液晶
表示パネル2の接続リード2aは、第5図に示すように
、液晶表示パネル2の端部に等間隔で多数配列形成され
ており、その構成は第6図に示すように、液晶表示パネ
ル2の上面に形成された厚さ1000λ程度の酸化シリ
コン層2a1 と、この上面に形成された350λ程度
(1) I To (Indiu+w Tin 0w1
de)層2a2 と、この上面に形成された2000λ
程度のNi層(無電解メッキ)2a3 と、この上面に
形成された500λ程度のAu層(無電解メッキ)2a
4とを積層した構成となっている。
半田メッキ7Cから溶けた半田によって接合される液晶
表示パネル2の接続リード2aは、第5図に示すように
、液晶表示パネル2の端部に等間隔で多数配列形成され
ており、その構成は第6図に示すように、液晶表示パネ
ル2の上面に形成された厚さ1000λ程度の酸化シリ
コン層2a1 と、この上面に形成された350λ程度
(1) I To (Indiu+w Tin 0w1
de)層2a2 と、この上面に形成された2000λ
程度のNi層(無電解メッキ)2a3 と、この上面に
形成された500λ程度のAu層(無電解メッキ)2a
4とを積層した構成となっている。
そして、上記金属リード箔7の外側端7bと、これが接
合される接続リード2aは第1図に示すような関係にあ
る。すなわち、各金属リード箔7のピッチP=150J
Lm、金属リード箔7の巾W L = 60〜80 p
、 m、各接続リード2ac7)間隔S=307zm、
接続リード2aの巾WG=120gmとされている。従
って、WG>WLであるから、金属リード箔7の巾方向
(ピッチ方向)の両側辺部にも半田メッキ7cが流れ出
して三角状の半田溜り10.10が得られ、これによっ
て[IJ力方向らのピーリング強度が高められている。
合される接続リード2aは第1図に示すような関係にあ
る。すなわち、各金属リード箔7のピッチP=150J
Lm、金属リード箔7の巾W L = 60〜80 p
、 m、各接続リード2ac7)間隔S=307zm、
接続リード2aの巾WG=120gmとされている。従
って、WG>WLであるから、金属リード箔7の巾方向
(ピッチ方向)の両側辺部にも半田メッキ7cが流れ出
して三角状の半田溜り10.10が得られ、これによっ
て[IJ力方向らのピーリング強度が高められている。
また、WG>WLであるから、熱圧着によって溶けた半
田メッキ7Cの半田は接続リード2a上を広がり、これ
によって隣りの金属リード箔7とのショートが防止され
る。このためには金属リード箔7の11 W LはWG
の0.5〜0.8倍で、接続り一ド2 a c7) I
t]方向の両側部にWGの0.25〜0.1倍のクリア
ランスを設けることが望ましい。
田メッキ7Cの半田は接続リード2a上を広がり、これ
によって隣りの金属リード箔7とのショートが防止され
る。このためには金属リード箔7の11 W LはWG
の0.5〜0.8倍で、接続り一ド2 a c7) I
t]方向の両側部にWGの0.25〜0.1倍のクリア
ランスを設けることが望ましい。
次に、かかる構成にあるICユニフ)1の装造方法につ
いて述べる。
いて述べる。
まず、第1工程において開口部6.4aが形成されたキ
ャリアフィルム4に金属箔をラミネートし、これをフォ
トエツチングにより所定の金属リード箔7・・・をパタ
ーン形成する。次の第2工程において金属リード箔7の
全面に内側端7a側の層厚0.2〜0.6 JLmの半
田メッキ7Cを施す。次の第3工程において金属リード
箔7の内側端7aにICチップ5をポンディングする。
ャリアフィルム4に金属箔をラミネートし、これをフォ
トエツチングにより所定の金属リード箔7・・・をパタ
ーン形成する。次の第2工程において金属リード箔7の
全面に内側端7a側の層厚0.2〜0.6 JLmの半
田メッキ7Cを施す。次の第3工程において金属リード
箔7の内側端7aにICチップ5をポンディングする。
次の第4工程においてICチップ5の電極5dを有する
面にレジン8をボッティング塗布する0次の第5工程に
おいてレジン8を乾燥(150℃/3H程度)する。次
の第6エ程において金属リード箔7に外側端7b側の層
厚0.2〜2.0pmとなるように再度半IIIメッキ
7Cを施す。このように半田メッキ7Cを第6エ程にお
いて外側端7bの層厚にするのは、第5工程のレジン8
の乾燥中において第2王程で施した半11メッキ7Cの
錫が金属リード箔7の銅と共晶を起して第2工程での半
田メッキ7cの層厚が0.1〜0.27zm程度に減少
してしまうためである。そして、次の第7エ程において
半田フラックスを金属リード箔7の外側端7bにポツテ
ィング塗布する。
面にレジン8をボッティング塗布する0次の第5工程に
おいてレジン8を乾燥(150℃/3H程度)する。次
の第6エ程において金属リード箔7に外側端7b側の層
厚0.2〜2.0pmとなるように再度半IIIメッキ
7Cを施す。このように半田メッキ7Cを第6エ程にお
いて外側端7bの層厚にするのは、第5工程のレジン8
の乾燥中において第2王程で施した半11メッキ7Cの
錫が金属リード箔7の銅と共晶を起して第2工程での半
田メッキ7cの層厚が0.1〜0.27zm程度に減少
してしまうためである。そして、次の第7エ程において
半田フラックスを金属リード箔7の外側端7bにポツテ
ィング塗布する。
次に、上記の如くして製造されたICユニットlの金属
リード箔7を液晶表示パネル2の接続リード2aに接合
する方法について述へる。
リード箔7を液晶表示パネル2の接続リード2aに接合
する方法について述へる。
第7図に示すように、テーブル20上に載置されている
液晶表示パネル2の各接続リード2aiに各金属リード
箔7の外側端7bが改なるようにICユニット1を搬送
して、これをテーブル20の側部近傍に配置されている
バキュームヘッド21にて吸着固定する。この場合、金
属リード箔7の先端部はキャリアフィルム4に固定され
ているので各金属リード箔7は所定の間隔に保持される
。この後、テーブル20の上方に配置されている熱圧着
ヘッド22を降下させて、第8図に示すように金属リー
ド箔7の開口部4aに対向する外側端7bの中央部分7
tz を液晶表示パネル2の接続リード2aに接合する
。この熱圧着ヘッド22によって行なわれる熱圧着は、
まず、熱圧着へ一、ド22が外側端7bの中央部分7b
、を加圧して、キャリアフィルム4の開口部4a内に没
入させ、この没入した中央部分7blを接続リード2a
に圧接させ、その両側に傾斜部分7b2.7b3の立ち
上り部を形成する。この場合、金属リード箔7の全面に
は半田メッキ7Cが施されているので、半田メツ+7c
が熱圧着ヘッド22の加熱により溶け、この溶けた半田
が外側端7bの中央部分7bl と液晶表示パネル2の
接続リード2aとの間から流れ出し、中央部分7bl
の両側に形成される傾斜部分7b2,7b3の立ち上り
部に流れ込み、この立ち上り部に流れ込んだ半[lは外
側端7bの上面が熱圧着ヘッド22によって加熱される
ことによって傾斜部分7b2.7baに上昇して三角状
のL[′r+′!fIす9.9となる。従って、中央部
分7b+ と傾到部7b2,7b3の立ち上り部に流れ
込んでprn溜り9.9となった半[T]によって金属
リード箔7の外側端7bは接続リード2aに強固に接着
される。また、金属リード箔7の幅よりも接続リード2
aの幅が広く形成されているので、熱圧着ヘッド22に
よって加熱されて溶けた半田メッキ7Cの半田は第1図
に示すように巾方向にあっては接続リード2alzを広
がって金属リード箔7の両側部において三角状の半田溜
り10.10となる。従って、金属リード箔7は巾方向
の剥れもなく接続リード2aに対して強固に接着される
。このようにして金属リード箔7が接続リード2aに接
合された後その接合部がシリコンゴム11にて被覆され
る。
液晶表示パネル2の各接続リード2aiに各金属リード
箔7の外側端7bが改なるようにICユニット1を搬送
して、これをテーブル20の側部近傍に配置されている
バキュームヘッド21にて吸着固定する。この場合、金
属リード箔7の先端部はキャリアフィルム4に固定され
ているので各金属リード箔7は所定の間隔に保持される
。この後、テーブル20の上方に配置されている熱圧着
ヘッド22を降下させて、第8図に示すように金属リー
ド箔7の開口部4aに対向する外側端7bの中央部分7
tz を液晶表示パネル2の接続リード2aに接合する
。この熱圧着ヘッド22によって行なわれる熱圧着は、
まず、熱圧着へ一、ド22が外側端7bの中央部分7b
、を加圧して、キャリアフィルム4の開口部4a内に没
入させ、この没入した中央部分7blを接続リード2a
に圧接させ、その両側に傾斜部分7b2.7b3の立ち
上り部を形成する。この場合、金属リード箔7の全面に
は半田メッキ7Cが施されているので、半田メツ+7c
が熱圧着ヘッド22の加熱により溶け、この溶けた半田
が外側端7bの中央部分7bl と液晶表示パネル2の
接続リード2aとの間から流れ出し、中央部分7bl
の両側に形成される傾斜部分7b2,7b3の立ち上り
部に流れ込み、この立ち上り部に流れ込んだ半[lは外
側端7bの上面が熱圧着ヘッド22によって加熱される
ことによって傾斜部分7b2.7baに上昇して三角状
のL[′r+′!fIす9.9となる。従って、中央部
分7b+ と傾到部7b2,7b3の立ち上り部に流れ
込んでprn溜り9.9となった半[T]によって金属
リード箔7の外側端7bは接続リード2aに強固に接着
される。また、金属リード箔7の幅よりも接続リード2
aの幅が広く形成されているので、熱圧着ヘッド22に
よって加熱されて溶けた半田メッキ7Cの半田は第1図
に示すように巾方向にあっては接続リード2alzを広
がって金属リード箔7の両側部において三角状の半田溜
り10.10となる。従って、金属リード箔7は巾方向
の剥れもなく接続リード2aに対して強固に接着される
。このようにして金属リード箔7が接続リード2aに接
合された後その接合部がシリコンゴム11にて被覆され
る。
なお、上記熱圧着ヘッド22は、キャリアフィルム4の
開口部4ac7)開口111(1〜2mm)の50〜8
0%の巾を有し、200〜400℃の加熱温度と30〜
360g/mm2の加圧力で1〜5sec間処理するこ
とにより金属リード箔7を接続リート2aに接合する。
開口部4ac7)開口111(1〜2mm)の50〜8
0%の巾を有し、200〜400℃の加熱温度と30〜
360g/mm2の加圧力で1〜5sec間処理するこ
とにより金属リード箔7を接続リート2aに接合する。
この発明は実施例で示した東−ト電子計算機等の液晶表
示パネル2とプリント配線基板3とを電気的に接続する
TAB方式のICユニッ)1に限らず、他に用いられる
TAB方式のICユニットにも広く適用することができ
る。
示パネル2とプリント配線基板3とを電気的に接続する
TAB方式のICユニッ)1に限らず、他に用いられる
TAB方式のICユニットにも広く適用することができ
る。
[発明の効果]
以上説明したように、この発明のICチップリードの接
合方法によれば、゛ト田メッキが施された金属リード箔
の幅よりも接続端子部の幅を広く形成することにより、
接続端子部に対する金属リード箔の接合時における位を
合わせを容易にすることができるとともに、金属リード
箔を接続端子部に熱圧着して金属リード箔の側壁に半田
メッキの溜り部を形成することにより、確実かつ強固に
接合することができ、しかも半田メッキの側方への流出
によって隣接する接合部分とのショートを防ぐこともで
きる。
合方法によれば、゛ト田メッキが施された金属リード箔
の幅よりも接続端子部の幅を広く形成することにより、
接続端子部に対する金属リード箔の接合時における位を
合わせを容易にすることができるとともに、金属リード
箔を接続端子部に熱圧着して金属リード箔の側壁に半田
メッキの溜り部を形成することにより、確実かつ強固に
接合することができ、しかも半田メッキの側方への流出
によって隣接する接合部分とのショートを防ぐこともで
きる。
図面はそれぞれこの発明の一実施例を示し、第1図はI
Cユニットと液晶表示パネルとの接続部を示した拡大断
面図、第2図はこの発明が適用されたTAB方式のIC
ユニットによって電気的に接続された卓上′1ヒ子計算
41等の液晶表示パネルとプリント回路基板を示した斜
視図、第3図は第1図のII −II線断面図、第4図
はICユニットのICチッズボンディング部を示した拡
大断面図、第5図は第1図のm−m線断面図、第6図は
液晶表示パネルの接続リードを示した断面図、第7図は
この発明の接合方法で用いた装置を示した断面図、第8
図は液晶表示パネルの接続リードを示した断面図である
。 2a・・・・・・接続リード、4・・・・・・キャリア
フィルム(樹脂フィルム)、4a・・・・・・開口部、
5・・・・・・ICチップ、5d・・・・・・電極、7
・・・・・・金属リード箔(ICチップリード)、7a
・・・・・・内側端、7b・・・・・・外側端、7bl
・・・・・・中央部分、7b2.7b3・・・・・・傾
斜部分、7C・・・・・・半田メッキ、22・・・・・
・熱圧着ヘッド。 特許出願人 カシオ計算機株式会社 代理人 弁理士 町 1)俊 正 第1図
Cユニットと液晶表示パネルとの接続部を示した拡大断
面図、第2図はこの発明が適用されたTAB方式のIC
ユニットによって電気的に接続された卓上′1ヒ子計算
41等の液晶表示パネルとプリント回路基板を示した斜
視図、第3図は第1図のII −II線断面図、第4図
はICユニットのICチッズボンディング部を示した拡
大断面図、第5図は第1図のm−m線断面図、第6図は
液晶表示パネルの接続リードを示した断面図、第7図は
この発明の接合方法で用いた装置を示した断面図、第8
図は液晶表示パネルの接続リードを示した断面図である
。 2a・・・・・・接続リード、4・・・・・・キャリア
フィルム(樹脂フィルム)、4a・・・・・・開口部、
5・・・・・・ICチップ、5d・・・・・・電極、7
・・・・・・金属リード箔(ICチップリード)、7a
・・・・・・内側端、7b・・・・・・外側端、7bl
・・・・・・中央部分、7b2.7b3・・・・・・傾
斜部分、7C・・・・・・半田メッキ、22・・・・・
・熱圧着ヘッド。 特許出願人 カシオ計算機株式会社 代理人 弁理士 町 1)俊 正 第1図
Claims (1)
- 半田メッキが施された金属リード箔を、該金属リード箔
よりも幅広に形成された接続端子部に熱圧着して、前記
金属リード箔の側壁に半田メッッキの溜り部を形成する
ことを特徴とするICチップリードの接合方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63096810A JP2617203B2 (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | Icチップリードの接合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63096810A JP2617203B2 (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | Icチップリードの接合方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62292151A Division JPH01135093A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | Icチップリードの接合方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01137581A true JPH01137581A (ja) | 1989-05-30 |
JP2617203B2 JP2617203B2 (ja) | 1997-06-04 |
Family
ID=14174955
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63096810A Expired - Lifetime JP2617203B2 (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | Icチップリードの接合方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2617203B2 (ja) |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5436574A (en) * | 1977-08-26 | 1979-03-17 | Nippon Aviotronics Kk | Refloww soldering process |
JPS54124675A (en) * | 1978-03-22 | 1979-09-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Semiconductor device and its mounting method |
JPS5588258A (en) * | 1978-12-26 | 1980-07-03 | Toshiba Corp | High tension discharge lamp |
JPS56114341A (en) * | 1980-02-13 | 1981-09-08 | Mitsubishi Electric Corp | Bonding method |
JPS5753997A (ja) * | 1980-09-18 | 1982-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Bondeingusochi |
JPS58951A (ja) * | 1981-06-19 | 1983-01-06 | デグツサ・アクチエンゲゼルシヤフト | Nα↓−(3↓−シアノ↓−プロパノイル)↓−アミノカルボン酸誘導体 |
JPS5977483A (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-02 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 液晶表示装置 |
JPS6066897A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-17 | 株式会社東芝 | 電気部品のリ−ドピンはんだ付け装置 |
JPS6183080U (ja) * | 1984-11-07 | 1986-06-02 | ||
JPS62238684A (ja) * | 1986-04-10 | 1987-10-19 | 松下電器産業株式会社 | リ−ド接続方法 |
-
1988
- 1988-04-21 JP JP63096810A patent/JP2617203B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5436574A (en) * | 1977-08-26 | 1979-03-17 | Nippon Aviotronics Kk | Refloww soldering process |
JPS54124675A (en) * | 1978-03-22 | 1979-09-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Semiconductor device and its mounting method |
JPS5588258A (en) * | 1978-12-26 | 1980-07-03 | Toshiba Corp | High tension discharge lamp |
JPS56114341A (en) * | 1980-02-13 | 1981-09-08 | Mitsubishi Electric Corp | Bonding method |
JPS5753997A (ja) * | 1980-09-18 | 1982-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Bondeingusochi |
JPS58951A (ja) * | 1981-06-19 | 1983-01-06 | デグツサ・アクチエンゲゼルシヤフト | Nα↓−(3↓−シアノ↓−プロパノイル)↓−アミノカルボン酸誘導体 |
JPS5977483A (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-02 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 液晶表示装置 |
JPS6066897A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-17 | 株式会社東芝 | 電気部品のリ−ドピンはんだ付け装置 |
JPS6183080U (ja) * | 1984-11-07 | 1986-06-02 | ||
JPS62238684A (ja) * | 1986-04-10 | 1987-10-19 | 松下電器産業株式会社 | リ−ド接続方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2617203B2 (ja) | 1997-06-04 |
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