JP3377001B2 - 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 - Google Patents
半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器Info
- Publication number
- JP3377001B2 JP3377001B2 JP2001261175A JP2001261175A JP3377001B2 JP 3377001 B2 JP3377001 B2 JP 3377001B2 JP 2001261175 A JP2001261175 A JP 2001261175A JP 2001261175 A JP2001261175 A JP 2001261175A JP 3377001 B2 JP3377001 B2 JP 3377001B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead
- support
- semiconductor device
- hole
- semiconductor chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 209
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 47
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 43
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 20
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 18
- 238000004080 punching Methods 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 24
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 17
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 14
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 14
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 14
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 14
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- HBVFXTAPOLSOPB-UHFFFAOYSA-N nickel vanadium Chemical compound [V].[Ni] HBVFXTAPOLSOPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910015363 Au—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000008642 heat stress Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N titanium tungsten Chemical compound [Ti].[W] MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/563—Encapsulation of active face of flip-chip device, e.g. underfilling or underencapsulation of flip-chip, encapsulation preform on chip or mounting substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3114—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed the device being a chip scale package, e.g. CSP
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49572—Lead-frames or other flat leads consisting of thin flexible metallic tape with or without a film carrier
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/86—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using tape automated bonding [TAB]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/0502—Disposition
- H01L2224/05023—Disposition the whole internal layer protruding from the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05541—Structure
- H01L2224/05548—Bonding area integrally formed with a redistribution layer on the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/29111—Tin [Sn] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/2919—Material with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
- H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8319—Arrangement of the layer connectors prior to mounting
- H01L2224/83192—Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01004—Beryllium [Be]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01023—Vanadium [V]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01024—Chromium [Cr]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/0105—Tin [Sn]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01074—Tungsten [W]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
- H01L2924/01322—Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/156—Material
- H01L2924/1579—Material with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置及びそ
の製造方法、回路基板並びに電子機器に関する。
の製造方法、回路基板並びに電子機器に関する。
【0002】
【発明の背景】半導体装置の高密度実装を追求すると、
ベアチップ実装が理想的である。しかしながら、ベアチ
ップは、品質の保証及び取り扱いが難しい。そこで、C
SP(Chip Scale/Size Package)が適用された半導体
装置が開発されている。CSPについては正式な定義は
ないが、一般に、パッケージサイズがICチップと同じ
か、ICチップよりわずかに大きいICパッケージと解
されている。高密度実装を推進するためには、CSP技
術の開発が重要である。
ベアチップ実装が理想的である。しかしながら、ベアチ
ップは、品質の保証及び取り扱いが難しい。そこで、C
SP(Chip Scale/Size Package)が適用された半導体
装置が開発されている。CSPについては正式な定義は
ないが、一般に、パッケージサイズがICチップと同じ
か、ICチップよりわずかに大きいICパッケージと解
されている。高密度実装を推進するためには、CSP技
術の開発が重要である。
【0003】また、半導体装置の開発においては、熱ス
トレスを効果的に吸収するための構造を実現することも
重要である。熱ストレスは、半導体装置と、この半導体
装置が実装される回路基板との熱膨張率の差によって生
じる。従来、この熱ストレスを吸収するために、弾力性
を有する樹脂を設けることが知られている。しかし、半
導体装置のさらなる信頼性向上を実現するには、より一
層、効果的に応力を緩和することが求められる。
トレスを効果的に吸収するための構造を実現することも
重要である。熱ストレスは、半導体装置と、この半導体
装置が実装される回路基板との熱膨張率の差によって生
じる。従来、この熱ストレスを吸収するために、弾力性
を有する樹脂を設けることが知られている。しかし、半
導体装置のさらなる信頼性向上を実現するには、より一
層、効果的に応力を緩和することが求められる。
【0004】本発明は、上述した課題を解決するための
ものであり、その目的は、応力を効果的に吸収すること
ができる半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに
電子機器を提供することにある。
ものであり、その目的は、応力を効果的に吸収すること
ができる半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに
電子機器を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】(1)本発明に係る半導
体装置の製造方法は、複数の第1のホールと、前記第1
のホールに囲まれた支持体と、前記第1のホールを横切
って前記支持体まで延びるリードと、を有するテープ
に、電極を有する半導体チップを対向させる工程と、前
記電極を前記リードにボンディングする工程と、前記リ
ードを前記第1のホールにおいて切断して先端部を形成
する工程と、前記リードを、前記支持体の側部を通過さ
せて前記支持体を挟むとともに、前記先端部が前記支持
体から離れるように屈曲させる工程と、を含む。
体装置の製造方法は、複数の第1のホールと、前記第1
のホールに囲まれた支持体と、前記第1のホールを横切
って前記支持体まで延びるリードと、を有するテープ
に、電極を有する半導体チップを対向させる工程と、前
記電極を前記リードにボンディングする工程と、前記リ
ードを前記第1のホールにおいて切断して先端部を形成
する工程と、前記リードを、前記支持体の側部を通過さ
せて前記支持体を挟むとともに、前記先端部が前記支持
体から離れるように屈曲させる工程と、を含む。
【0006】本発明によれば、切断後のリードを支持体
を挟むとともに、先端部が支持体から離れるように屈曲
させる。すなわち、リードを屈曲させることで外部端子
を形成する。リードは、半導体チップの電極の形成され
た面に対向する方向に変形しやすくなる。したがって、
外部からの応力に対してリードの追従性が高く、応力を
効果的に吸収することができる半導体装置を製造するこ
とができる。
を挟むとともに、先端部が支持体から離れるように屈曲
させる。すなわち、リードを屈曲させることで外部端子
を形成する。リードは、半導体チップの電極の形成され
た面に対向する方向に変形しやすくなる。したがって、
外部からの応力に対してリードの追従性が高く、応力を
効果的に吸収することができる半導体装置を製造するこ
とができる。
【0007】
【0008】
【0009】(3)この半導体装置の製造方法におい
て、前記支持体は、第2のホールを有し、前記ボンディ
ング工程で、前記電極を前記第2のホールにおいて前記
リードにボンディングしてもよい。
て、前記支持体は、第2のホールを有し、前記ボンディ
ング工程で、前記電極を前記第2のホールにおいて前記
リードにボンディングしてもよい。
【0010】(4)本発明に係る半導体装置の製造方法
は、複数の第1のホールと、前記第1のホールに囲まれ
かつ第2のホールを有する支持体と、前記第1のホール
を横切って前記支持体の前記第2のホールにまで延びる
リードと、を有するテープに、電極を有する半導体チッ
プを対向させる工程と、前記リードを、前記第2のホー
ルを通過させて前記支持体を挟むとともに、先端部が前
記支持体から離れるように屈曲させる工程と、前記電極
を前記第1のホールにおいて前記リードにボンディング
する工程と、を含む。
は、複数の第1のホールと、前記第1のホールに囲まれ
かつ第2のホールを有する支持体と、前記第1のホール
を横切って前記支持体の前記第2のホールにまで延びる
リードと、を有するテープに、電極を有する半導体チッ
プを対向させる工程と、前記リードを、前記第2のホー
ルを通過させて前記支持体を挟むとともに、先端部が前
記支持体から離れるように屈曲させる工程と、前記電極
を前記第1のホールにおいて前記リードにボンディング
する工程と、を含む。
【0011】本発明によれば、リードを支持体の第2の
ホールを通過させて支持体を挟むとともに、先端部が支
持体から離れるように屈曲させる。すなわち、リードを
屈曲させることで外部端子を形成する。リードは、半導
体チップの電極の形成された面に対向する方向に変形し
やすくなる。したがって、外部からの応力に対してリー
ドの追従性が高く、応力を効果的に吸収することができ
る半導体装置を製造することができる。
ホールを通過させて支持体を挟むとともに、先端部が支
持体から離れるように屈曲させる。すなわち、リードを
屈曲させることで外部端子を形成する。リードは、半導
体チップの電極の形成された面に対向する方向に変形し
やすくなる。したがって、外部からの応力に対してリー
ドの追従性が高く、応力を効果的に吸収することができ
る半導体装置を製造することができる。
【0012】
【0013】
【0014】(6)この半導体装置の製造方法におい
て、前記リードを前記第1のホールにおいて切断する工
程をさらに含んでもよい。
て、前記リードを前記第1のホールにおいて切断する工
程をさらに含んでもよい。
【0015】(7)この半導体装置の製造方法におい
て、前記ボンディング工程後に、前記第2のホール内に
樹脂を注入する工程をさらに含んでもよい。
て、前記ボンディング工程後に、前記第2のホール内に
樹脂を注入する工程をさらに含んでもよい。
【0016】これによって、例えば、半導体チップの電
極の形成された面を樹脂で覆うことができる。
極の形成された面を樹脂で覆うことができる。
【0017】(8)この半導体装置の製造方法におい
て、前記半導体チップの外形は、前記第2のホールの外
形よりも大きくてもよい。
て、前記半導体チップの外形は、前記第2のホールの外
形よりも大きくてもよい。
【0018】(9)この半導体装置の製造方法におい
て、前記テープは、前記支持体を外枠に接続する接続部
を有し、前記接続部を切断することによって、前記半導
体チップを前記テープから打ち抜く工程をさらに含んで
もよい。
て、前記テープは、前記支持体を外枠に接続する接続部
を有し、前記接続部を切断することによって、前記半導
体チップを前記テープから打ち抜く工程をさらに含んで
もよい。
【0019】(10)この半導体装置の製造方法におい
て、前記リードを回路基板に接続する工程をさらに含ん
でもよい。
て、前記リードを回路基板に接続する工程をさらに含ん
でもよい。
【0020】(11)本発明に係る半導体装置は、電極
を有する半導体チップと、前記電極が接合されたリード
と、前記リードを支持する支持体と、を含み、前記半導
体チップは、前記支持体の前記リード側に配置され、前
記リードは、前記電極から前記支持体の側部を通過して
前記支持体を挟むように屈曲してなるとともに、先端部
が前記支持体から離れるように延びてなる。
を有する半導体チップと、前記電極が接合されたリード
と、前記リードを支持する支持体と、を含み、前記半導
体チップは、前記支持体の前記リード側に配置され、前
記リードは、前記電極から前記支持体の側部を通過して
前記支持体を挟むように屈曲してなるとともに、先端部
が前記支持体から離れるように延びてなる。
【0021】本発明によれば、リードは、半導体チップ
の電極に接合され、支持体を挟むとともに、先端部が支
持体から離れるように屈曲している。支持体は、リード
を介して半導体チップとは反対側に配置されており、リ
ードの先端部は、半導体チップとは反対側に屈曲して外
部端子を構成する。リードは、半導体チップの電極の形
成された面に対向する方向に変形しやすくなる。したが
って、外部からの応力に対してリードの追従性が高いの
で、応力を効果的に吸収することができる。
の電極に接合され、支持体を挟むとともに、先端部が支
持体から離れるように屈曲している。支持体は、リード
を介して半導体チップとは反対側に配置されており、リ
ードの先端部は、半導体チップとは反対側に屈曲して外
部端子を構成する。リードは、半導体チップの電極の形
成された面に対向する方向に変形しやすくなる。したが
って、外部からの応力に対してリードの追従性が高いの
で、応力を効果的に吸収することができる。
【0022】
【0023】
【0024】(13)この半導体装置において、前記支
持体は、ホールを有し、前記電極は、前記ホールにおい
て前記リードに接合されてもよい。
持体は、ホールを有し、前記電極は、前記ホールにおい
て前記リードに接合されてもよい。
【0025】(14)本発明に係る半導体装置は、電極
を有する半導体チップと、前記電極が接合されたリード
と、前記リードを支持し、ホールを有する支持体と、を
含み、前記半導体チップは、前記支持体の前記リード側
に配置され、前記リードは、前記電極から前記ホールを
通過して前記支持体を挟むように屈曲してなるととも
に、先端部が前記支持体から離れるように延びてなる。
を有する半導体チップと、前記電極が接合されたリード
と、前記リードを支持し、ホールを有する支持体と、を
含み、前記半導体チップは、前記支持体の前記リード側
に配置され、前記リードは、前記電極から前記ホールを
通過して前記支持体を挟むように屈曲してなるととも
に、先端部が前記支持体から離れるように延びてなる。
【0026】本発明によれば、リードは、半導体チップ
の電極に接合され、支持体のホールを通過して支持体を
挟むように屈曲してなるとともに、先端部が支持体から
離れるように延びている。支持体は、リードを介して半
導体チップとは反対側に配置されており、リードは、半
導体チップとは反対側に屈曲して外部端子を構成する。
リードの先端部は、自由端になっているので変形しやす
くなっている。したがって、外部からの応力に対してリ
ードの追従性が高いので、応力を効果的に吸収すること
ができる。
の電極に接合され、支持体のホールを通過して支持体を
挟むように屈曲してなるとともに、先端部が支持体から
離れるように延びている。支持体は、リードを介して半
導体チップとは反対側に配置されており、リードは、半
導体チップとは反対側に屈曲して外部端子を構成する。
リードの先端部は、自由端になっているので変形しやす
くなっている。したがって、外部からの応力に対してリ
ードの追従性が高いので、応力を効果的に吸収すること
ができる。
【0027】
【0028】
【0029】(16)この半導体装置において、前記電
極は、前記支持体の外側で前記リードに接合されてもよ
い。
極は、前記支持体の外側で前記リードに接合されてもよ
い。
【0030】(17)この半導体装置において、前記半
導体チップと前記支持体との間に設けられた樹脂をさら
に含み、前記樹脂は、前記リードの屈曲部を避けて設け
られてもよい。
導体チップと前記支持体との間に設けられた樹脂をさら
に含み、前記樹脂は、前記リードの屈曲部を避けて設け
られてもよい。
【0031】これによれば、リードの屈曲部が樹脂によ
って固定されないようにすることができる。すなわち、
リードが屈曲部を起点として自由に変形できるので、外
部からの応力に対するリードの追従性をさらに高めるこ
とができる。
って固定されないようにすることができる。すなわち、
リードが屈曲部を起点として自由に変形できるので、外
部からの応力に対するリードの追従性をさらに高めるこ
とができる。
【0032】(18)この半導体装置において、前記半
導体チップの外形は、前記ホールの外形よりも大きくて
もよい。
導体チップの外形は、前記ホールの外形よりも大きくて
もよい。
【0033】(19)本発明に係る回路基板は、上記半
導体装置が実装されている。
導体装置が実装されている。
【0034】(20)本発明に係る電子機器は、上記半
導体装置を有する。
導体装置を有する。
【0035】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。ただし、本発明は、以下の
実施の形態に限定されるものではない。
て図面を参照して説明する。ただし、本発明は、以下の
実施の形態に限定されるものではない。
【0036】(第1の実施の形態)図1〜図9は、本発
明を適用した第1の実施の形態に係る半導体装置及びそ
の製造方法を示す図である。なお、図6〜図9は、本実
施の形態に係る変形例を示す図である。
明を適用した第1の実施の形態に係る半導体装置及びそ
の製造方法を示す図である。なお、図6〜図9は、本実
施の形態に係る変形例を示す図である。
【0037】図1は、本実施の形態で使用されるテープ
(例えばTABテープ)を示す概略図である。テープ1
0は、ベース基板12と、複数の配線パターン20と、
を有する。各配線パターン20は、複数のリード22を
含む。テープ10上には、複数の半導体チップ(図1で
は図示せず)が実装されてもよく、その場合、各半導体
チップ30はいずれかの配線パターン20の領域に実装
される。なお、テープ10は、リール・トゥ・リール搬
送ができるものであってもよい。
(例えばTABテープ)を示す概略図である。テープ1
0は、ベース基板12と、複数の配線パターン20と、
を有する。各配線パターン20は、複数のリード22を
含む。テープ10上には、複数の半導体チップ(図1で
は図示せず)が実装されてもよく、その場合、各半導体
チップ30はいずれかの配線パターン20の領域に実装
される。なお、テープ10は、リール・トゥ・リール搬
送ができるものであってもよい。
【0038】ベース基板12は、有機系の材料で構成さ
れることが多いが、無機系を含む材料で形成されてもよ
い。例えば、ベース基板12は、ポリイミド樹脂からな
るフレキシブル基板であってもよい。フレキシブル基板
として、FPC(Flexible Printed Circuit)や、TA
B(Tape Automated Bonding)技術で使用されるフィル
ムを使用してもよい。
れることが多いが、無機系を含む材料で形成されてもよ
い。例えば、ベース基板12は、ポリイミド樹脂からな
るフレキシブル基板であってもよい。フレキシブル基板
として、FPC(Flexible Printed Circuit)や、TA
B(Tape Automated Bonding)技術で使用されるフィル
ムを使用してもよい。
【0039】図1に示すベース基板12は、長尺状をな
し、幅方向の両側の端部に複数のスプロケットホール1
4が形成されている。スプロケットホール14にスプロ
ケット(図示せず)をはめ合わせて、テープ10のリー
ル・トゥ・リール搬送が可能になる。
し、幅方向の両側の端部に複数のスプロケットホール1
4が形成されている。スプロケットホール14にスプロ
ケット(図示せず)をはめ合わせて、テープ10のリー
ル・トゥ・リール搬送が可能になる。
【0040】図1に示す例では、ベース基板12には、
第1のホール16及び第2のホール18が形成されてい
る。第1のホール16及び第2のホール18は、ベース
基板12の貫通穴である。なお、後述する第3変形例に
示すように、第2のホール18は形成されなくてもよ
い。
第1のホール16及び第2のホール18が形成されてい
る。第1のホール16及び第2のホール18は、ベース
基板12の貫通穴である。なお、後述する第3変形例に
示すように、第2のホール18は形成されなくてもよ
い。
【0041】第2のホール18は、テープ10の各配線
パターン20に1つずつ形成されてもよい。第2のホー
ル18は、テープ10の幅方向のほぼ中央に形成されて
もよい。第2のホール18の外形は、半導体チップ30
の相似形であってもよく、例えば矩形に形成されてもよ
い。また、第2のホール18の外形は、半導体チップ3
0の外形よりも小さくてもよい。第2のホール18に
は、ボンディングする半導体チップ30の電極32が露
出してもよい。
パターン20に1つずつ形成されてもよい。第2のホー
ル18は、テープ10の幅方向のほぼ中央に形成されて
もよい。第2のホール18の外形は、半導体チップ30
の相似形であってもよく、例えば矩形に形成されてもよ
い。また、第2のホール18の外形は、半導体チップ3
0の外形よりも小さくてもよい。第2のホール18に
は、ボンディングする半導体チップ30の電極32が露
出してもよい。
【0042】第2のホール18が形成される場合には、
第1のホール16は、第2のホール18の隣に形成され
てもよい。図1に示すように、1つの第2のホール18
に対して、複数(図では4つ)の第1のホール16が形
成されてもよい。複数の第1のホール16は、第2のホ
ール18の周囲に配置されてもよく、例えば図1に示す
ように第2のホール18が矩形をなす場合に、矩形の各
辺に平行に延びる長穴になっていてもよい。
第1のホール16は、第2のホール18の隣に形成され
てもよい。図1に示すように、1つの第2のホール18
に対して、複数(図では4つ)の第1のホール16が形
成されてもよい。複数の第1のホール16は、第2のホ
ール18の周囲に配置されてもよく、例えば図1に示す
ように第2のホール18が矩形をなす場合に、矩形の各
辺に平行に延びる長穴になっていてもよい。
【0043】テープ10は、支持体17を有する。支持
体17は、複数の第1のホール16で囲まれている。支
持体17は、第1のホール16を打ち抜くことによって
形成してもよい。
体17は、複数の第1のホール16で囲まれている。支
持体17は、第1のホール16を打ち抜くことによって
形成してもよい。
【0044】図1に示す例では、支持体17の中央部に
第2のホール18が形成されている。すなわち、支持体
17は、第1のホール16と第2のホール18との間
で、長細く枠状に形成されてもよい。あるいは、第2の
ホール18が形成されなくてもよく、その場合、支持体
17は2点鎖線の領域を指す。支持体17は、ベース基
板12と同一の材料で形成されてもよく、例えばポリイ
ミド樹脂で形成されてもよい。同一材料の場合、ベース
基板12は、支持体17を含む。あるいは、支持体17
は、ベース基板12とは別部材で形成されてもよい。そ
の場合、支持体17は、ベース基板12とは異なる材料
で形成されてもよい。いずれにしても、支持体17は、
接続部19によってテープ10の外枠と接続されている
(図2(A)参照)。
第2のホール18が形成されている。すなわち、支持体
17は、第1のホール16と第2のホール18との間
で、長細く枠状に形成されてもよい。あるいは、第2の
ホール18が形成されなくてもよく、その場合、支持体
17は2点鎖線の領域を指す。支持体17は、ベース基
板12と同一の材料で形成されてもよく、例えばポリイ
ミド樹脂で形成されてもよい。同一材料の場合、ベース
基板12は、支持体17を含む。あるいは、支持体17
は、ベース基板12とは別部材で形成されてもよい。そ
の場合、支持体17は、ベース基板12とは異なる材料
で形成されてもよい。いずれにしても、支持体17は、
接続部19によってテープ10の外枠と接続されている
(図2(A)参照)。
【0045】各配線パターン20を構成する複数のリー
ド22は、ベース基板12の一方の面に形成されること
が多い。リード22は接着材料(図示せず)を介してベ
ース基板12に貼り付けられて、3層テープを構成して
もよい。この場合、ベース基板12上の導電箔をエッチ
ングしてリード22を形成してもよい。あるいは、リー
ド22を、接着剤なしでベース基板12に形成して2層
テープを構成してもよい。例えば、スパッタリングによ
ってリード22を形成してもよいし、無電解メッキでリ
ード22を形成するアディティブ法を適用してもよい。
ド22は、ベース基板12の一方の面に形成されること
が多い。リード22は接着材料(図示せず)を介してベ
ース基板12に貼り付けられて、3層テープを構成して
もよい。この場合、ベース基板12上の導電箔をエッチ
ングしてリード22を形成してもよい。あるいは、リー
ド22を、接着剤なしでベース基板12に形成して2層
テープを構成してもよい。例えば、スパッタリングによ
ってリード22を形成してもよいし、無電解メッキでリ
ード22を形成するアディティブ法を適用してもよい。
【0046】リード22は、ベース基板12の第1のホ
ール16及び第2のホール18の周辺部から、第1のホ
ール16を横切って、支持体17にまで延びるように形
成されている。リード22は、支持体17の第2のホー
ル18に至るように形成されてもよい。リード22は、
支持体17によって支持されている。図1に示す例で
は、支持体17の第1のホール16と第2のホール18
との間の部分は、ほぼ同じ方向に並ぶ2つ以上のリード
22と交差しており、支持体17は2つ以上のリード2
2を一括して支持している。なお、リード22には、ベ
ース基板12上に電気的テスト用のパッド24が形成さ
れてもよい。
ール16及び第2のホール18の周辺部から、第1のホ
ール16を横切って、支持体17にまで延びるように形
成されている。リード22は、支持体17の第2のホー
ル18に至るように形成されてもよい。リード22は、
支持体17によって支持されている。図1に示す例で
は、支持体17の第1のホール16と第2のホール18
との間の部分は、ほぼ同じ方向に並ぶ2つ以上のリード
22と交差しており、支持体17は2つ以上のリード2
2を一括して支持している。なお、リード22には、ベ
ース基板12上に電気的テスト用のパッド24が形成さ
れてもよい。
【0047】リード22は、半導体チップ30の電極3
2と接合される部分(例えばインナーリード26)と、
外部端子となる部分(例えばアウターリード28)と、
を有し、両者が接続されている(図2(B)参照)。本
実施の形態では、インナーリード26は第2のホール1
8に突出し、アウターリード28は第1のホール16に
掛け渡されている。
2と接合される部分(例えばインナーリード26)と、
外部端子となる部分(例えばアウターリード28)と、
を有し、両者が接続されている(図2(B)参照)。本
実施の形態では、インナーリード26は第2のホール1
8に突出し、アウターリード28は第1のホール16に
掛け渡されている。
【0048】リード22は、銅(Cu)、クローム(C
r)、チタン(Ti)、ニッケル(Ni)、チタンタン
グステン(Ti−W)、金(Au)、アルミニウム(A
l)、ニッケルバナジウム(NiV)、タングステン
(W)のうちのいずれかを積層して、あるいはいずれか
の一層で形成することができる。リード22は、ハン
ダ、スズ、金、ニッケルなどでメッキされていることが
好ましい。共晶が作られるような金属メッキが施されて
いると、金属接合が達成されやすくて好ましい。
r)、チタン(Ti)、ニッケル(Ni)、チタンタン
グステン(Ti−W)、金(Au)、アルミニウム(A
l)、ニッケルバナジウム(NiV)、タングステン
(W)のうちのいずれかを積層して、あるいはいずれか
の一層で形成することができる。リード22は、ハン
ダ、スズ、金、ニッケルなどでメッキされていることが
好ましい。共晶が作られるような金属メッキが施されて
いると、金属接合が達成されやすくて好ましい。
【0049】以下に示す例では、図1に示すテープ10
を使用して半導体装置を製造する。
を使用して半導体装置を製造する。
【0050】図2(A)及び図2(B)に示すように、
半導体チップ10をボンディングする。図2(A)は、
テープに半導体チップが実装されている平面図であり、
図2(B)は、図2(A)に示すIIB−IIB線断面図で
ある。
半導体チップ10をボンディングする。図2(A)は、
テープに半導体チップが実装されている平面図であり、
図2(B)は、図2(A)に示すIIB−IIB線断面図で
ある。
【0051】半導体チップ30の平面形状は矩形である
ことが多い。複数の電極32は、半導体チップ30の一
方の面に形成されている。電極32は、半導体チップ3
0の回路素子が形成される面に形成されることが多い。
電極32は、半導体チップ30の面の少なくとも1辺に
沿って並んで形成されてもよく、図2(A)に示すよう
に、半導体チップ30の4辺に並んで形成されてもよ
い。電極32は、アルミニウム又は銅などで薄く平らに
形成されたパッドを有する。電極32は、パッド上に形
成されたバンプをさらに有してもよい。バンプは、金で
形成されることが多い。また、電極32のパッドの少な
くとも一部を避けて半導体チップ30には、パッシベー
ション膜(図示せず)が形成されている。パッシベーシ
ョン膜は、例えば、SiO2、SiN、ポリイミド樹脂
などで形成される。
ことが多い。複数の電極32は、半導体チップ30の一
方の面に形成されている。電極32は、半導体チップ3
0の回路素子が形成される面に形成されることが多い。
電極32は、半導体チップ30の面の少なくとも1辺に
沿って並んで形成されてもよく、図2(A)に示すよう
に、半導体チップ30の4辺に並んで形成されてもよ
い。電極32は、アルミニウム又は銅などで薄く平らに
形成されたパッドを有する。電極32は、パッド上に形
成されたバンプをさらに有してもよい。バンプは、金で
形成されることが多い。また、電極32のパッドの少な
くとも一部を避けて半導体チップ30には、パッシベー
ション膜(図示せず)が形成されている。パッシベーシ
ョン膜は、例えば、SiO2、SiN、ポリイミド樹脂
などで形成される。
【0052】半導体チップ30を、テープ10のいずれ
かの配線パターン20に位置合わせする。詳しくは、半
導体チップ30を第2のホール18に配置し、電極32
を第2のホール18においてインナーリード26に位置
合わせする。その場合、半導体チップ30は、支持体1
7のリード22側に配置する。すなわち、テープ10の
配線パターン20が形成された面に、半導体チップ30
を実装する。
かの配線パターン20に位置合わせする。詳しくは、半
導体チップ30を第2のホール18に配置し、電極32
を第2のホール18においてインナーリード26に位置
合わせする。その場合、半導体チップ30は、支持体1
7のリード22側に配置する。すなわち、テープ10の
配線パターン20が形成された面に、半導体チップ30
を実装する。
【0053】そして、第2のホール18において、電極
32と、インナーリード26と、をボンディングする。
その場合、複数のリード22を一括して接合するギャン
グボンディング方式を適用してもよく、各リード22ご
とに接合するシングルポイントボンディング方式を適用
してもよい。ボンディングは、第2のホール18内で、
加熱されたツールをインナーリード26に加圧すること
によって行う。
32と、インナーリード26と、をボンディングする。
その場合、複数のリード22を一括して接合するギャン
グボンディング方式を適用してもよく、各リード22ご
とに接合するシングルポイントボンディング方式を適用
してもよい。ボンディングは、第2のホール18内で、
加熱されたツールをインナーリード26に加圧すること
によって行う。
【0054】こうして、テープ10に半導体チップ30
を取り付けることができる。テープ10に複数の配線パ
ターン20が形成される場合には、リール・トゥ・リー
ル搬送によって、複数の半導体チップ30を順に取り付
けてもよい。こうすることで、複数の半導体チップ30
を流れ作業で処理できるので、生産性が高まる。なお、
リール・トゥ・リール搬送は、テープ10に対して行う
以下のいずれの工程に適用してもよい。
を取り付けることができる。テープ10に複数の配線パ
ターン20が形成される場合には、リール・トゥ・リー
ル搬送によって、複数の半導体チップ30を順に取り付
けてもよい。こうすることで、複数の半導体チップ30
を流れ作業で処理できるので、生産性が高まる。なお、
リール・トゥ・リール搬送は、テープ10に対して行う
以下のいずれの工程に適用してもよい。
【0055】ボンディング工程が終了すると、図3
(A)及び図3(B)に示すように、樹脂封止の工程を
行う。すなわち、樹脂40によって、電気的な接続部分
などを封止する。図3(A)は、テープに樹脂が設けら
れた平面図であり、図3(B)は、図3(A)に示すII
IB−IIIB線断面図である。
(A)及び図3(B)に示すように、樹脂封止の工程を
行う。すなわち、樹脂40によって、電気的な接続部分
などを封止する。図3(A)は、テープに樹脂が設けら
れた平面図であり、図3(B)は、図3(A)に示すII
IB−IIIB線断面図である。
【0056】本実施の形態では、ポッティングによって
樹脂40を設ける。詳しくは、第2のホール18内で、
半導体チップ30上に樹脂40をポッティングする。図
3(A)に示すように、第2のホール18の外形が半導
体チップ30の外形よりも小さい場合には、半導体チッ
プ30と第2のホール18との隙間から流れ出る樹脂4
0の量を抑えることができる。ただし、隙間が全くない
わけではないので、樹脂40を半導体チップ30の端部
(例えば側面など)にも設けることができる。なお、樹
脂40は、ベース基板12とほぼ面一になるように設け
てもよい。
樹脂40を設ける。詳しくは、第2のホール18内で、
半導体チップ30上に樹脂40をポッティングする。図
3(A)に示すように、第2のホール18の外形が半導
体チップ30の外形よりも小さい場合には、半導体チッ
プ30と第2のホール18との隙間から流れ出る樹脂4
0の量を抑えることができる。ただし、隙間が全くない
わけではないので、樹脂40を半導体チップ30の端部
(例えば側面など)にも設けることができる。なお、樹
脂40は、ベース基板12とほぼ面一になるように設け
てもよい。
【0057】こうして、半導体チップ30における電極
32が形成された面を樹脂40で覆う。
32が形成された面を樹脂40で覆う。
【0058】また、樹脂40を設ける工程の前又はその
後に、半導体チップ30の端部に第2の樹脂(接着剤4
2)を設けてもよい。その場合、接着剤42によって、
半導体チップ30と支持体17とを固定してもよい。接
着剤42は、半導体チップ30の側面にも設けてもよ
い。こうすることで、樹脂40が流れない部分を封止す
ることができるとともに、半導体チップ30をテープ1
0により強く固定することができる。樹脂40や接着剤
42を、後述するリードの屈曲工程で形成されるリード
22の屈曲部を避けるように設けてもよい。こうするこ
とで、リード22の屈曲部が樹脂40や接着剤42によ
って固定されないようにすることができる。すなわち、
リード22が屈曲部を起点として自由に変形できるの
で、外部からの応力に対するリード22の追従性を高め
ることができる。
後に、半導体チップ30の端部に第2の樹脂(接着剤4
2)を設けてもよい。その場合、接着剤42によって、
半導体チップ30と支持体17とを固定してもよい。接
着剤42は、半導体チップ30の側面にも設けてもよ
い。こうすることで、樹脂40が流れない部分を封止す
ることができるとともに、半導体チップ30をテープ1
0により強く固定することができる。樹脂40や接着剤
42を、後述するリードの屈曲工程で形成されるリード
22の屈曲部を避けるように設けてもよい。こうするこ
とで、リード22の屈曲部が樹脂40や接着剤42によ
って固定されないようにすることができる。すなわち、
リード22が屈曲部を起点として自由に変形できるの
で、外部からの応力に対するリード22の追従性を高め
ることができる。
【0059】図4(A)及び図4(B)に示すように、
リードの切断及び屈曲工程を行う。これらの工程は、ボ
ンディング工程後に行ってもよく、樹脂封止の工程後に
行ってもよい。なお、図4(A)は、リードが切断及び
屈曲された後の平面図であり、図4(B)は、図4
(A)に示すIVB−IVB線断面図である。
リードの切断及び屈曲工程を行う。これらの工程は、ボ
ンディング工程後に行ってもよく、樹脂封止の工程後に
行ってもよい。なお、図4(A)は、リードが切断及び
屈曲された後の平面図であり、図4(B)は、図4
(A)に示すIVB−IVB線断面図である。
【0060】まず、リード22を切断して、アウターリ
ード28を自由端にする。詳しくは、リード22を第1
のホール16内で切断する。図示するように、第1のホ
ール16の端部で切断してもよく、屈曲のための所定の
長さを確保できれば中央部で切断しても構わない。リー
ド22が第1のホール16内で切断されると、半導体チ
ップ30は接続部19によってテープ10の外枠に固定
される。
ード28を自由端にする。詳しくは、リード22を第1
のホール16内で切断する。図示するように、第1のホ
ール16の端部で切断してもよく、屈曲のための所定の
長さを確保できれば中央部で切断しても構わない。リー
ド22が第1のホール16内で切断されると、半導体チ
ップ30は接続部19によってテープ10の外枠に固定
される。
【0061】次に、リード22を屈曲させて、半導体チ
ップ30とは反対側にアウターリード28を配置する。
詳しくは、切断後のリード22のうち、支持体17に支
持されて第1のホール16内に残る部分を、支持体17
の側部に回り込むように屈曲させる。なお、リード22
の支持体17の側部に配置される部分は、樹脂40や接
着剤42によって支持体17に固定されてもよいが、固
定されなくてもよい。固定されない場合には、リード2
2の変形の自由度を高めることができる。
ップ30とは反対側にアウターリード28を配置する。
詳しくは、切断後のリード22のうち、支持体17に支
持されて第1のホール16内に残る部分を、支持体17
の側部に回り込むように屈曲させる。なお、リード22
の支持体17の側部に配置される部分は、樹脂40や接
着剤42によって支持体17に固定されてもよいが、固
定されなくてもよい。固定されない場合には、リード2
2の変形の自由度を高めることができる。
【0062】図4(A)及び図4(B)では、アウター
リード28を、支持体17の側部を挟むように屈曲させ
ている。言い換えれば、アウターリード28を、半導体
チップ30の中央側に向けて折り返している。その場
合、切断しないように屈曲させるために、リード22を
支持体17の側部で湾曲させてもよい。これによれば、
リード22を支持体17を挟み込むように屈曲させるの
で、リード22を、半導体チップ30の電極32の形成
された面に対向する方向に変形しやすくさせることがで
きる。すなわち、半導体装置に外部から応力が加わって
も、アウターリード28がその応力に追従して変形する
ので、応力を効果的に吸収することができる。
リード28を、支持体17の側部を挟むように屈曲させ
ている。言い換えれば、アウターリード28を、半導体
チップ30の中央側に向けて折り返している。その場
合、切断しないように屈曲させるために、リード22を
支持体17の側部で湾曲させてもよい。これによれば、
リード22を支持体17を挟み込むように屈曲させるの
で、リード22を、半導体チップ30の電極32の形成
された面に対向する方向に変形しやすくさせることがで
きる。すなわち、半導体装置に外部から応力が加わって
も、アウターリード28がその応力に追従して変形する
ので、応力を効果的に吸収することができる。
【0063】アウターリード28の先端は、樹脂40
(第2のホール18)に至ってもよい。複数のリード2
2は、各リード22がほぼ同一形状になるように屈曲さ
せることが好ましい。こうすることで、複数の外部端子
(アウターリード28)の平坦性を確保することができ
る。
(第2のホール18)に至ってもよい。複数のリード2
2は、各リード22がほぼ同一形状になるように屈曲さ
せることが好ましい。こうすることで、複数の外部端子
(アウターリード28)の平坦性を確保することができ
る。
【0064】ボンディング工程後に、半導体チップ30
を打ち抜く工程を行ってもよい。すなわち、テープ10
上の各半導体チップ30を個片に切断する。例えば、図
4(A)に示すように、半導体チップ30を含む2点鎖
線の領域50で、テープ10から半導体チップ30を打
ち抜いてもよい。具体的には、テープ10上に半導体チ
ップ30を固定する接続部19を切断することによっ
て、半導体チップ30を個片化する。
を打ち抜く工程を行ってもよい。すなわち、テープ10
上の各半導体チップ30を個片に切断する。例えば、図
4(A)に示すように、半導体チップ30を含む2点鎖
線の領域50で、テープ10から半導体チップ30を打
ち抜いてもよい。具体的には、テープ10上に半導体チ
ップ30を固定する接続部19を切断することによっ
て、半導体チップ30を個片化する。
【0065】半導体チップ30を打ち抜く工程は、リー
ド22の切断及び屈曲工程後に行ってもよい。これによ
れば、リード22の切断及び屈曲工程を、リール・トゥ
・リール搬送を適用して行った後に、各半導体チップ3
0を個片に切断することになるので、生産性に優れる。
あるいは、本工程は、リード22の切断工程後で屈曲工
程前に行ってもよく、あるいはリード22の切断工程前
に行ってもよい。
ド22の切断及び屈曲工程後に行ってもよい。これによ
れば、リード22の切断及び屈曲工程を、リール・トゥ
・リール搬送を適用して行った後に、各半導体チップ3
0を個片に切断することになるので、生産性に優れる。
あるいは、本工程は、リード22の切断工程後で屈曲工
程前に行ってもよく、あるいはリード22の切断工程前
に行ってもよい。
【0066】この半導体装置の製造方法によれば、リー
ド22を第2のホール18内でボンディングし、切断後
のリード22を第1のホール16から支持体17の側部
に回り込むように屈曲させる。支持体17は、リード2
2を介して半導体チップ30とは反対側に配置されてお
り、リード22を支持体17に向けて屈曲させることで
外部端子を形成する。リード22の支持体17の側部に
配置される部分は、自由端になっているので変形しやす
くなっている。したがって、外部からの応力に対してリ
ード22の追従性が高く、応力を効果的に吸収すること
ができる半導体装置を製造することができる。
ド22を第2のホール18内でボンディングし、切断後
のリード22を第1のホール16から支持体17の側部
に回り込むように屈曲させる。支持体17は、リード2
2を介して半導体チップ30とは反対側に配置されてお
り、リード22を支持体17に向けて屈曲させることで
外部端子を形成する。リード22の支持体17の側部に
配置される部分は、自由端になっているので変形しやす
くなっている。したがって、外部からの応力に対してリ
ード22の追従性が高く、応力を効果的に吸収すること
ができる半導体装置を製造することができる。
【0067】しかも、テープ10をリール・トゥ・リー
ル搬送させて各工程を行えば、複数の半導体装置を流れ
作業で製造することができるので、生産性を高めること
ができる。
ル搬送させて各工程を行えば、複数の半導体装置を流れ
作業で製造することができるので、生産性を高めること
ができる。
【0068】こうして、図5に示すように、半導体装置
を製造することができる。半導体装置1は、電極32を
有する半導体チップ30と、電極32に接合されたリー
ド22と、リード22の支持体17と、を含む。なお、
本実施の形態に係る半導体装置は、上述の製造方法から
導かれる構成を含む。
を製造することができる。半導体装置1は、電極32を
有する半導体チップ30と、電極32に接合されたリー
ド22と、リード22の支持体17と、を含む。なお、
本実施の形態に係る半導体装置は、上述の製造方法から
導かれる構成を含む。
【0069】半導体チップ30は支持体17のリード2
2側に配置され、インナーリード26(リード22の一
方の端部)に電極32が接合されている。アウターリー
ド28(リード22の他方の端部)は、半導体チップ3
0とは反対側の支持体17の側部に回り込むように屈曲
している。アウターリード28は、支持体17からの自
由端となっている。
2側に配置され、インナーリード26(リード22の一
方の端部)に電極32が接合されている。アウターリー
ド28(リード22の他方の端部)は、半導体チップ3
0とは反対側の支持体17の側部に回り込むように屈曲
している。アウターリード28は、支持体17からの自
由端となっている。
【0070】支持体17は、中央部にホール18を有し
てもよい。言い換えると、支持体17は、一定の幅を有
する枠状に形成されてもよい。ホール18の外形は、半
導体チップ30の外形よりも大きくてもよいし、小さく
てもよい。支持体17は、少なくともアウターリード2
8を避けてリード22を支持する。図5に示すように、
インナーリード26は、ホール18に突出してもよい。
すなわち、支持体17は、インナーリード26も避けて
リード22を支持してもよい。支持体17を枠状に形成
することによって、ホール18に延びる複数のリード2
2を一括して支持することができる。なお、支持体17
のホール18は、半導体チップ30上の電極群を露出す
る大きさで形成されてもよい。
てもよい。言い換えると、支持体17は、一定の幅を有
する枠状に形成されてもよい。ホール18の外形は、半
導体チップ30の外形よりも大きくてもよいし、小さく
てもよい。支持体17は、少なくともアウターリード2
8を避けてリード22を支持する。図5に示すように、
インナーリード26は、ホール18に突出してもよい。
すなわち、支持体17は、インナーリード26も避けて
リード22を支持してもよい。支持体17を枠状に形成
することによって、ホール18に延びる複数のリード2
2を一括して支持することができる。なお、支持体17
のホール18は、半導体チップ30上の電極群を露出す
る大きさで形成されてもよい。
【0071】図5に示す例では、アウターリード28
は、支持体17の側部を挟むように、半導体チップ30
の中央側に向けて屈曲している。こうすることで、リー
ド22を、半導体チップ30の電極32の形成された面
に対向する方向に変形しやすくさせることができる。
は、支持体17の側部を挟むように、半導体チップ30
の中央側に向けて屈曲している。こうすることで、リー
ド22を、半導体チップ30の電極32の形成された面
に対向する方向に変形しやすくさせることができる。
【0072】また、半導体チップ30に樹脂40が設け
られてもよく、半導体チップ30の端部に接着剤42が
設けられてもよい。これらのことは、上述の製造方法で
説明した通りである。
られてもよく、半導体チップ30の端部に接着剤42が
設けられてもよい。これらのことは、上述の製造方法で
説明した通りである。
【0073】図5に示す例では、半導体装置1は、回路
基板60に実装されている。回路基板60には、例え
ば、ガラスエポキシ基板等の有機系基板を用いることが
一般的である。回路基板60には、配線パターン62が
所望の回路となるように形成されていて、それらの配線
パターン62と半導体装置1のアウターリード28とが
電気的に接続されている。図5に示すように、アウター
リード28と、配線パターン62とは、ハンダ64によ
って電気的に接続されてよい。その場合、ハンダボール
を形成せず、半導体装置1の実装時に回路基板60側に
塗布されるハンダクリームを利用し、その溶融時の表面
張力で電気的に接続してもよい。これによれば、アウタ
ーリード28にハンダボールを形成する工程を省略でき
るので、製造工程が簡単になるとともに製造コストを抑
えることができる。また、実装時にハンダを使用すれば
よいので、半導体装置の製造の際に、客先からハンダボ
ールの種類が指定(例えば鉛フリーハンダの指定)され
ることもない。
基板60に実装されている。回路基板60には、例え
ば、ガラスエポキシ基板等の有機系基板を用いることが
一般的である。回路基板60には、配線パターン62が
所望の回路となるように形成されていて、それらの配線
パターン62と半導体装置1のアウターリード28とが
電気的に接続されている。図5に示すように、アウター
リード28と、配線パターン62とは、ハンダ64によ
って電気的に接続されてよい。その場合、ハンダボール
を形成せず、半導体装置1の実装時に回路基板60側に
塗布されるハンダクリームを利用し、その溶融時の表面
張力で電気的に接続してもよい。これによれば、アウタ
ーリード28にハンダボールを形成する工程を省略でき
るので、製造工程が簡単になるとともに製造コストを抑
えることができる。また、実装時にハンダを使用すれば
よいので、半導体装置の製造の際に、客先からハンダボ
ールの種類が指定(例えば鉛フリーハンダの指定)され
ることもない。
【0074】この半導体装置によれば、リード22の一
方の端部(インナーリード26)は半導体チップ30の
電極32に接合され、他方の端部(アウターリード2
8)は支持体17の側部に回り込むように屈曲してい
る。支持体17は、リード22を介して半導体チップ3
0とは反対側に配置されており、リード22の他方の端
部は、半導体チップ30とは反対側に屈曲して外部端子
を構成する。リード22の他方の端部は、自由端になっ
ているので変形しやすくなっている。すなわち、外部か
らの応力に対してリード22の追従性が高いので、応力
を効果的に吸収することができる。
方の端部(インナーリード26)は半導体チップ30の
電極32に接合され、他方の端部(アウターリード2
8)は支持体17の側部に回り込むように屈曲してい
る。支持体17は、リード22を介して半導体チップ3
0とは反対側に配置されており、リード22の他方の端
部は、半導体チップ30とは反対側に屈曲して外部端子
を構成する。リード22の他方の端部は、自由端になっ
ているので変形しやすくなっている。すなわち、外部か
らの応力に対してリード22の追従性が高いので、応力
を効果的に吸収することができる。
【0075】さらに、リード22の他方の端部は支持体
17の側部に回り込むように屈曲しているため、半導体
装置の取り扱いが容易となり、リード22の損傷や曲が
りなどを防止することができる。したがって、より狭ピ
ッチ化に対応した半導体装置を提供することができる。
なお、この半導体装置は、上述の製造方法で説明した効
果も有する。
17の側部に回り込むように屈曲しているため、半導体
装置の取り扱いが容易となり、リード22の損傷や曲が
りなどを防止することができる。したがって、より狭ピ
ッチ化に対応した半導体装置を提供することができる。
なお、この半導体装置は、上述の製造方法で説明した効
果も有する。
【0076】(第1変形例)図6は、本実施の形態の第
1変形例に係る半導体装置を示す図である。本変形例で
は、リード22の形状が上述と異なる。図6に示すよう
に、アウターリード29は、半導体チップ30の面から
離れる方向に屈曲されてもよい。すなわち、リード22
は、L字状に形成されてもよい。この場合でも、アウタ
ーリード29は自由端となるので、上述の効果を達成す
ることができる。さらに、L字状の屈曲部が樹脂40や
接着剤42から露出する場合には、リード22が屈曲部
を起点として自由に変形できるので、外部からの応力に
対するリード22の追従性をさらに高めることができ
る。
1変形例に係る半導体装置を示す図である。本変形例で
は、リード22の形状が上述と異なる。図6に示すよう
に、アウターリード29は、半導体チップ30の面から
離れる方向に屈曲されてもよい。すなわち、リード22
は、L字状に形成されてもよい。この場合でも、アウタ
ーリード29は自由端となるので、上述の効果を達成す
ることができる。さらに、L字状の屈曲部が樹脂40や
接着剤42から露出する場合には、リード22が屈曲部
を起点として自由に変形できるので、外部からの応力に
対するリード22の追従性をさらに高めることができ
る。
【0077】(第2変形例)図7は、本実施の形態の第
2変形例に係る半導体装置を示す図である。本変形例で
は、アウターリード28にハンダボール66が設けられ
ている。ハンダボール66の形成には、アウターリード
28に盛り上がった状態でハンダクリームを設け、これ
をリフロー工程で溶融させてボール状にしてもよい。こ
の場合でも、アウターリード28が自由端となるので、
ハンダボール66に加えられる応力を効果的に吸収する
ことができる。
2変形例に係る半導体装置を示す図である。本変形例で
は、アウターリード28にハンダボール66が設けられ
ている。ハンダボール66の形成には、アウターリード
28に盛り上がった状態でハンダクリームを設け、これ
をリフロー工程で溶融させてボール状にしてもよい。こ
の場合でも、アウターリード28が自由端となるので、
ハンダボール66に加えられる応力を効果的に吸収する
ことができる。
【0078】(第3変形例)図8及び図9は、本実施の
形態の第3変形例に係る半導体装置及びその製造方法を
示す図である。本変形例では、支持体70の形態が上述
と異なる。詳しくは、ホールが形成されない支持体70
を有するテープを使用して、半導体装置を製造する。そ
の場合、テープは、例えばCOF用テープであってもよ
い。
形態の第3変形例に係る半導体装置及びその製造方法を
示す図である。本変形例では、支持体70の形態が上述
と異なる。詳しくは、ホールが形成されない支持体70
を有するテープを使用して、半導体装置を製造する。そ
の場合、テープは、例えばCOF用テープであってもよ
い。
【0079】図8に示すように、半導体チップ30を支
持体70に搭載する。例えば、支持体70(又は半導体
チップ30)に樹脂44を設けた後に、半導体チップ3
0を加圧することによって、半導体チップ30及び支持
体70を固定してもよい。あるいは、半導体チップ30
を支持体70に搭載した後に、アンダーフィル材として
樹脂44を両者間に注入してもよい。
持体70に搭載する。例えば、支持体70(又は半導体
チップ30)に樹脂44を設けた後に、半導体チップ3
0を加圧することによって、半導体チップ30及び支持
体70を固定してもよい。あるいは、半導体チップ30
を支持体70に搭載した後に、アンダーフィル材として
樹脂44を両者間に注入してもよい。
【0080】半導体チップ30の電極32と、リード2
2(インナーリード26)と、の接合形態は、導電樹脂
ペースト、Au−Au、Au−Sn、ハンダなどによる
金属接合、絶縁樹脂の収縮力による接合などがあり、そ
のいずれの形態を用いてもよい。例えば、図8及び図9
に示すように、導電粒子46を有する接着剤44(異方
性導電材料)を使用し、導電粒子46を電極32とイン
ナーリード26との間に介在させることによって両者を
電気的に接続してもよい。なお、リードの切断及び屈曲
工程は、上述した内容を適用することができる。
2(インナーリード26)と、の接合形態は、導電樹脂
ペースト、Au−Au、Au−Sn、ハンダなどによる
金属接合、絶縁樹脂の収縮力による接合などがあり、そ
のいずれの形態を用いてもよい。例えば、図8及び図9
に示すように、導電粒子46を有する接着剤44(異方
性導電材料)を使用し、導電粒子46を電極32とイン
ナーリード26との間に介在させることによって両者を
電気的に接続してもよい。なお、リードの切断及び屈曲
工程は、上述した内容を適用することができる。
【0081】樹脂44は、リードの屈曲工程で形成され
るリード22の屈曲部を避けるように設けてもよい。こ
うすることで、リード22の屈曲部が樹脂44によって
固定されないようにすることができる。すなわち、リー
ド22が屈曲部を起点として自由に変形できるので、外
部からの応力に対するリード22の追従性を高めること
ができる。
るリード22の屈曲部を避けるように設けてもよい。こ
うすることで、リード22の屈曲部が樹脂44によって
固定されないようにすることができる。すなわち、リー
ド22が屈曲部を起点として自由に変形できるので、外
部からの応力に対するリード22の追従性を高めること
ができる。
【0082】こうして、図9に示す半導体装置が製造さ
れる。なお、この半導体装置は、製造方法から導かれる
構成を含み、上述の効果を達成することができる。
れる。なお、この半導体装置は、製造方法から導かれる
構成を含み、上述の効果を達成することができる。
【0083】(第2の実施の形態)図10(A)〜図1
2は、本発明を適用した第2の実施の形態に係る半導体
装置及びその製造方法を示す図である。本実施の形態で
は、第1の実施の形態で説明した内容を可能な限り適用
することができる。
2は、本発明を適用した第2の実施の形態に係る半導体
装置及びその製造方法を示す図である。本実施の形態で
は、第1の実施の形態で説明した内容を可能な限り適用
することができる。
【0084】図10(A)は、本実施の形態で使用され
るテープの平面図である。図10(B)は、図10
(A)に示すXB−XB線断面図である。テープ110
は、ベース基板112と、複数の配線パターン(複数の
リード122を含む)と、を有する。詳しくは、テープ
110は、第1のホール116と、第1のホール116
に囲まれかつ第2のホール118が形成された支持体1
17と、第1のホール116を横切って支持体117の
第2のホール118にまで延びるリード122と、を有
する。支持体117は、枠状に形成されている。支持体
117は、ベース基板112と同じ材料で形成されても
よく、別部材で異なる材料で形成されてもよい。前者の
場合、ベース基板112は、支持体117を含む。
るテープの平面図である。図10(B)は、図10
(A)に示すXB−XB線断面図である。テープ110
は、ベース基板112と、複数の配線パターン(複数の
リード122を含む)と、を有する。詳しくは、テープ
110は、第1のホール116と、第1のホール116
に囲まれかつ第2のホール118が形成された支持体1
17と、第1のホール116を横切って支持体117の
第2のホール118にまで延びるリード122と、を有
する。支持体117は、枠状に形成されている。支持体
117は、ベース基板112と同じ材料で形成されても
よく、別部材で異なる材料で形成されてもよい。前者の
場合、ベース基板112は、支持体117を含む。
【0085】本実施の形態では、第2のホール118の
外形は、半導体チップ30の外形よりも小さい。なお、
支持体117は、接続部119によってテープ110の
外枠と接続されている。
外形は、半導体チップ30の外形よりも小さい。なお、
支持体117は、接続部119によってテープ110の
外枠と接続されている。
【0086】本実施の形態では、第1の実施の形態より
も、リード122が第2のホール118に長く突出して
いる。リード122は、半導体チップ30の電極32と
接合される部分(例えばインナーリード126)と、外
部端子となる部分(例えばアウターリード128)と、
を有し、両者が接続されている。そして、本実施の形態
では、インナーリード126を含む部分は第1のホール
116に掛け渡され、アウターリード128は第2のホ
ール118に突出する。第1のホール116には、ボン
ディングする半導体チップ30の電極32が露出する。
テープ110のその他の構成は、第1の実施の形態で説
明した構成のうちいずれかを選択的に適用することがで
きる。なお、図10(A)及び図10(B)は、アウタ
ーリード128が半導体チップ30から離れる方向に屈
曲した状態の図である。
も、リード122が第2のホール118に長く突出して
いる。リード122は、半導体チップ30の電極32と
接合される部分(例えばインナーリード126)と、外
部端子となる部分(例えばアウターリード128)と、
を有し、両者が接続されている。そして、本実施の形態
では、インナーリード126を含む部分は第1のホール
116に掛け渡され、アウターリード128は第2のホ
ール118に突出する。第1のホール116には、ボン
ディングする半導体チップ30の電極32が露出する。
テープ110のその他の構成は、第1の実施の形態で説
明した構成のうちいずれかを選択的に適用することがで
きる。なお、図10(A)及び図10(B)は、アウタ
ーリード128が半導体チップ30から離れる方向に屈
曲した状態の図である。
【0087】まず、図10(A)及び図10(B)に示
すように、リード122のうち、第2のホール118に
突出する部分を、支持体117の第2のホール118内
に屈曲させる。すなわち、リード122を、第2のホー
ル118を穴の貫通する方向に通過するように屈曲させ
る。例えば、図10(B)に示すように、実装される半
導体チップ30の面から離れる方向に立ち上げてもよ
い。すなわち、リード122をL字状に屈曲させてもよ
い。リード122は、屈曲のために所定の長さで第2の
ホール118に突出するので、予めリード122を屈曲
させておけば、異なる方向に延びるリード122同士の
接触を防止することができる。したがって、リード12
2の損傷を防止できる。
すように、リード122のうち、第2のホール118に
突出する部分を、支持体117の第2のホール118内
に屈曲させる。すなわち、リード122を、第2のホー
ル118を穴の貫通する方向に通過するように屈曲させ
る。例えば、図10(B)に示すように、実装される半
導体チップ30の面から離れる方向に立ち上げてもよ
い。すなわち、リード122をL字状に屈曲させてもよ
い。リード122は、屈曲のために所定の長さで第2の
ホール118に突出するので、予めリード122を屈曲
させておけば、異なる方向に延びるリード122同士の
接触を防止することができる。したがって、リード12
2の損傷を防止できる。
【0088】あるいは、図示する例とは別に、予めリー
ド122を、支持体117を第2のホール118の内側
から挟むように屈曲させてもよい(図11(B)参
照)。
ド122を、支持体117を第2のホール118の内側
から挟むように屈曲させてもよい(図11(B)参
照)。
【0089】図11(A)に示すように、リードの切断
工程を行う。詳しくは、リード122を第1のホール1
16内で切断する。リード122は、半導体チップ30
の電極32と接合される部分(インナーリード26)
を、支持体117に支持させて切断する。その場合、実
装される半導体チップ30の外周から、切断後のリード
122の端部が突出しないような位置で切断することが
好ましい。ボンディング工程前にリードの切断工程を行
えば、半導体チップ30の外形に制限されずに、リード
122を切断できるので、半導体チップ30の外周から
リード122が突出するのを簡単に防止することができ
る。なお、リード122が第1のホール116内で切断
されると、半導体チップ30は接続部119によってテ
ープ110の外枠に固定される。
工程を行う。詳しくは、リード122を第1のホール1
16内で切断する。リード122は、半導体チップ30
の電極32と接合される部分(インナーリード26)
を、支持体117に支持させて切断する。その場合、実
装される半導体チップ30の外周から、切断後のリード
122の端部が突出しないような位置で切断することが
好ましい。ボンディング工程前にリードの切断工程を行
えば、半導体チップ30の外形に制限されずに、リード
122を切断できるので、半導体チップ30の外周から
リード122が突出するのを簡単に防止することができ
る。なお、リード122が第1のホール116内で切断
されると、半導体チップ30は接続部119によってテ
ープ110の外枠に固定される。
【0090】図11(A)に示す例では、リードの切断
工程後に、半導体チップのボンディング工程を行う。す
なわち、第1のホール116において、電極32と、イ
ンナーリード126と、をボンディングする。その場
合、シングルポイントボンディング方式を適用してもよ
い。
工程後に、半導体チップのボンディング工程を行う。す
なわち、第1のホール116において、電極32と、イ
ンナーリード126と、をボンディングする。その場
合、シングルポイントボンディング方式を適用してもよ
い。
【0091】あるいは、リードの切断工程前に、ボンデ
ィング工程を行ってもよい。その場合、電極32と、リ
ード122の第1のホール116に掛け渡された部分の
一部(インナーリード126)と、をボンディングす
る。そして、ボンディング工程終了後に、上述のリード
の切断工程を行ってもよい。
ィング工程を行ってもよい。その場合、電極32と、リ
ード122の第1のホール116に掛け渡された部分の
一部(インナーリード126)と、をボンディングす
る。そして、ボンディング工程終了後に、上述のリード
の切断工程を行ってもよい。
【0092】図11(B)に示すように、ボンディング
工程終了後に、リードの屈曲工程を行ってもよい。図1
1(B)では、アウターリード128を、支持体117
を内側から挟み込むように半導体チップ30の端部側に
向けて屈曲させている。こうすることで、リード122
を、半導体チップ30の電極32の形成された面に対向
する方向に変形しやすくすることができる。
工程終了後に、リードの屈曲工程を行ってもよい。図1
1(B)では、アウターリード128を、支持体117
を内側から挟み込むように半導体チップ30の端部側に
向けて屈曲させている。こうすることで、リード122
を、半導体チップ30の電極32の形成された面に対向
する方向に変形しやすくすることができる。
【0093】また、ボンディング工程終了後に、樹脂封
止の工程を行ってもよい。例えば、第2のホール118
内で、半導体チップ30上に樹脂40をポッティングす
る。本実施の形態では、第2のホール118の外形が半
導体チップ30の外形よりも小さいので、半導体チップ
30と第2のホール118との隙間から流れ出る樹脂4
0の量を抑えることができる。ただし、隙間が全くない
わけではないので、樹脂40を半導体チップ30の端部
(例えば側面など)にも設けることができる。さらに、
必要に応じて、半導体チップ30の端部に接着剤42を
設けてもよい。
止の工程を行ってもよい。例えば、第2のホール118
内で、半導体チップ30上に樹脂40をポッティングす
る。本実施の形態では、第2のホール118の外形が半
導体チップ30の外形よりも小さいので、半導体チップ
30と第2のホール118との隙間から流れ出る樹脂4
0の量を抑えることができる。ただし、隙間が全くない
わけではないので、樹脂40を半導体チップ30の端部
(例えば側面など)にも設けることができる。さらに、
必要に応じて、半導体チップ30の端部に接着剤42を
設けてもよい。
【0094】リード122の第2のホール内に配置され
る部分は、樹脂40や接着剤42によって支持体117
に固定されてもよいが、固定されなくてもよい。固定さ
れない場合には、リード122の変形の自由度を高める
ことができる。さらに、樹脂40や接着剤42は、リー
ド122の屈曲部を避けるように設けてもよい。こうす
ることで、リード122の屈曲部が樹脂40や接着剤4
2によって固定されないようにすることができる。すな
わち、リード122が屈曲部を起点として自由に変形で
きるので、外部からの応力に対するリード122の追従
性を高めることができる。
る部分は、樹脂40や接着剤42によって支持体117
に固定されてもよいが、固定されなくてもよい。固定さ
れない場合には、リード122の変形の自由度を高める
ことができる。さらに、樹脂40や接着剤42は、リー
ド122の屈曲部を避けるように設けてもよい。こうす
ることで、リード122の屈曲部が樹脂40や接着剤4
2によって固定されないようにすることができる。すな
わち、リード122が屈曲部を起点として自由に変形で
きるので、外部からの応力に対するリード122の追従
性を高めることができる。
【0095】ボンディング工程終了後に、半導体チップ
30を打ち抜く工程を行ってもよい。また、上述の各工
程をリール・トゥ・リール搬送によって行ってもよい。
30を打ち抜く工程を行ってもよい。また、上述の各工
程をリール・トゥ・リール搬送によって行ってもよい。
【0096】本実施の形態に係る半導体装置の製造方法
においても、第1の実施の形態で説明した効果を達成す
ることができる。なお、上述の説明のその他の構成は、
第1の実施の形態で説明した通りである。
においても、第1の実施の形態で説明した効果を達成す
ることができる。なお、上述の説明のその他の構成は、
第1の実施の形態で説明した通りである。
【0097】図12は、本実施の形態に係る半導体装置
を示す図である。この半導体装置は、電極32を有する
半導体チップ30と、電極32に接合されたリード12
2と、リード122の支持体117と、を含む。電極3
2は、支持体117の外側でリード22(インナーリー
ド126)に接合されてもよい。なお、本実施の形態に
係る半導体装置は、上述の製造方法から導かれる構成を
含む。
を示す図である。この半導体装置は、電極32を有する
半導体チップ30と、電極32に接合されたリード12
2と、リード122の支持体117と、を含む。電極3
2は、支持体117の外側でリード22(インナーリー
ド126)に接合されてもよい。なお、本実施の形態に
係る半導体装置は、上述の製造方法から導かれる構成を
含む。
【0098】支持体117には、中央部にホール118
を有し、ホール118の外形は半導体チップ30の外形
よりも小さくてもよい。支持体117は、上述の実施の
形態で説明したように、一定の幅を有する枠状に形成さ
れてもよい。
を有し、ホール118の外形は半導体チップ30の外形
よりも小さくてもよい。支持体117は、上述の実施の
形態で説明したように、一定の幅を有する枠状に形成さ
れてもよい。
【0099】図12に示す例では、アウターリード12
8は、支持体117をホール118の内側から挟み込む
ように、半導体チップ30の端部側に向けて屈曲してい
る。こうすることで、リード122を、半導体チップ3
0の電極32の形成された面に対向する方向に変形しや
すくさせることができる。半導体チップ30には樹脂4
0及び接着剤42が設けられてもよい。また、図12で
は、半導体装置が回路基板60に実装されている。
8は、支持体117をホール118の内側から挟み込む
ように、半導体チップ30の端部側に向けて屈曲してい
る。こうすることで、リード122を、半導体チップ3
0の電極32の形成された面に対向する方向に変形しや
すくさせることができる。半導体チップ30には樹脂4
0及び接着剤42が設けられてもよい。また、図12で
は、半導体装置が回路基板60に実装されている。
【0100】本実施の形態に係る半導体装置において
も、第1の実施の形態で説明した効果を達成することが
できる。なお、上述の説明のその他の構成は、第1の実
施の形態で説明した通りである。
も、第1の実施の形態で説明した効果を達成することが
できる。なお、上述の説明のその他の構成は、第1の実
施の形態で説明した通りである。
【0101】また、本実施の形態においても、第1の実
施の形態で説明した変形例を適用することができる。す
なわち、アウターリード128はL字状に形成されても
よく、アウターリード128にハンダボールが形成され
てもよい。
施の形態で説明した変形例を適用することができる。す
なわち、アウターリード128はL字状に形成されても
よく、アウターリード128にハンダボールが形成され
てもよい。
【0102】本発明を適用した半導体装置を有する電子
機器として、図13には、ノート型パーソナルコンピュ
ータ100、図14には携帯電話200が示されてい
る。
機器として、図13には、ノート型パーソナルコンピュ
ータ100、図14には携帯電話200が示されてい
る。
【図1】図1は、本発明を適用した第1の実施の形態で
使用されるテープを示す図である。
使用されるテープを示す図である。
【図2】図2(A)及び図2(B)は、本発明を適用し
た第1の実施に係る半導体装置の製造方法を示す図であ
る。
た第1の実施に係る半導体装置の製造方法を示す図であ
る。
【図3】図3(A)及び図3(B)は、本発明を適用し
た第1の実施に係る半導体装置の製造方法を示す図であ
る。
た第1の実施に係る半導体装置の製造方法を示す図であ
る。
【図4】図4(A)及び図4(B)は、本発明を適用し
た第1の実施に係る半導体装置の製造方法を示す図であ
る。
た第1の実施に係る半導体装置の製造方法を示す図であ
る。
【図5】図5は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係る半導体装置を示す図である。
係る半導体装置を示す図である。
【図6】図6は、本発明を適用した第1の実施の形態の
第1変形例に係る半導体装置を示す図である。
第1変形例に係る半導体装置を示す図である。
【図7】図7は、本発明を適用した第1の実施の形態の
第2変形例に係る半導体装置を示す図である。
第2変形例に係る半導体装置を示す図である。
【図8】図8は、本発明を適用した第1の実施の形態の
第3変形例に係る半導体装置の製造方法を示す図であ
る。
第3変形例に係る半導体装置の製造方法を示す図であ
る。
【図9】図9は、本発明を適用した第1の実施の形態の
第3変形例に係る半導体装置を示す図である。
第3変形例に係る半導体装置を示す図である。
【図10】図10(A)及び図10(B)は、本発明を
適用した第2の実施に係る半導体装置の製造方法を示す
図である。
適用した第2の実施に係る半導体装置の製造方法を示す
図である。
【図11】図11(A)及び図11(B)は、本発明を
適用した第2の実施に係る半導体装置の製造方法を示す
図である。
適用した第2の実施に係る半導体装置の製造方法を示す
図である。
【図12】図12は、本発明を適用した第2の実施に係
る半導体装置を示す図である。
る半導体装置を示す図である。
【図13】図13は、本発明を適用した実施の形態に係
る半導体装置を有する電子機器を示す図である。
る半導体装置を有する電子機器を示す図である。
【図14】図14は、本発明を適用した実施の形態に係
る半導体装置を有する電子機器を示す図である。
る半導体装置を有する電子機器を示す図である。
10、110 テープ
16、116 第1のホール
17、70、117 支持体
18、118 第2のホール(ホール)
19、119 接続部
22、122 リード
26、126 インナーリード
28、128 アウターリード
29 アウターリード
30 半導体チップ
32 電極
40、44 樹脂
42 接着剤
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
H01L 23/12
H05K 1/18
Claims (16)
- 【請求項1】 複数の第1のホールと、前記第1のホー
ルに囲まれた支持体と、前記第1のホールを横切って前
記支持体まで延びるリードと、を有するテープに、電極
を有する半導体チップを対向させる工程と、 前記電極を前記リードにボンディングする工程と、 前記リードを前記第1のホールにおいて切断して先端部
を形成する工程と、 前記リードを、前記支持体の側部を通過させて前記支持
体を挟むとともに、前記先端部が前記支持体から離れる
ように屈曲させる工程と、 を含む半導体装置の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の半導体装置の製造方法に
おいて、 前記支持体は、第2のホールを有し、 前記ボンディング工程で、 前記電極を前記第2のホールにおいて前記リードにボン
ディングする半導体装置の製造方法。 - 【請求項3】 複数の第1のホールと、前記第1のホー
ルに囲まれかつ第2のホールを有する支持体と、前記第
1のホールを横切って前記支持体の前記第2のホールに
まで延びるリードと、を有するテープに、電極を有する
半導体チップを対向させる工程と、 前記リードを、前記第2のホールを通過させて前記支持
体を挟むとともに、先端部が前記支持体から離れるよう
に屈曲させる工程と、 前記電極を前記第1のホールにおいて前記リードにボン
ディングする工程と、 を含む半導体装置の製造方法。 - 【請求項4】 請求項3記載の半導体装置の製造方法に
おいて、 前記リードを前記第1のホールにおいて切断する工程を
さらに含む半導体装置の製造方法。 - 【請求項5】 請求項2から請求項4のいずれかに記載
の半導体装置の製造方法において、 前記ボンディング工程後に、 前記第2のホール内に樹脂を注入する工程をさらに含む
半導体装置の製造方法。 - 【請求項6】 請求項2から請求項5のいずれかに記載
の半導体装置の製造方法において、 前記半導体チップの外形は、前記第2のホールの外形よ
りも大きい半導体装置の製造方法。 - 【請求項7】 請求項1から請求項6のいずれかに記載
の半導体装置の製造方法において、 前記テープは、前記支持体を外枠に接続する接続部を有
し、 前記接続部を切断することによって、前記半導体チップ
を前記テープから打ち抜く工程をさらに含む半導体装置
の製造方法。 - 【請求項8】 請求項1から請求項7のいずれかに記載
の半導体装置の製造方法において、 前記リードを回路基板に接続する工程をさらに含む半導
体装置の製造方法。 - 【請求項9】 電極を有する半導体チップと、 前記電極が接合されたリードと、 前記リードを支持する支持体と、 を含み、 前記半導体チップは、前記支持体の前記リード側に配置
され、 前記リードは、前記電極から前記支持体の側部を通過し
て前記支持体を挟むように屈曲してなるとともに、先端
部が前記支持体から離れるように延びてなる半導体装
置。 - 【請求項10】 請求項9記載の半導体装置において、 前記支持体は、ホールを有し、 前記電極は、前記ホールにおいて前記リードに接合され
てなる半導体装置。 - 【請求項11】 電極を有する半導体チップと、 前記電極が接合されたリードと、 前記リードを支持し、ホールを有する支持体と、 を含み、 前記半導体チップは、前記支持体の前記リード側に配置
され、 前記リードは、前記電極から前記ホールを通過して前記
支持体を挟むように屈曲してなるとともに、先端部が前
記支持体から離れるように延びてなる半導体装置。 - 【請求項12】 請求項11記載の半導体装置におい
て、 前記電極は、前記支持体の外側で前記リードに接合され
てなる半導体装置。 - 【請求項13】 請求項9から請求項12のいずれかに
記載の半導体装置において、 前記半導体チップと前記支持体との間に設けられた樹脂
をさらに含み、 前記樹脂は、前記リードの屈曲部を避けて設けられてな
る半導体装置。 - 【請求項14】 請求項10から請求項13のいずれか
に記載の半導体装置において、 前記半導体チップの外形は、前記ホールの外形よりも大
きい半導体装置。 - 【請求項15】 請求項9から請求項14のいずれかに
記載の半導体装置が実装された回路基板。 - 【請求項16】 請求項9から請求項14のいずれかに
記載の半導体装置を有する電子機器。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001261175A JP3377001B2 (ja) | 2000-08-31 | 2001-08-30 | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 |
US09/941,864 US6593648B2 (en) | 2000-08-31 | 2001-08-30 | Semiconductor device and method of making the same, circuit board and electronic equipment |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000-263669 | 2000-08-31 | ||
JP2000263669 | 2000-08-31 | ||
JP2001261175A JP3377001B2 (ja) | 2000-08-31 | 2001-08-30 | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002151626A JP2002151626A (ja) | 2002-05-24 |
JP3377001B2 true JP3377001B2 (ja) | 2003-02-17 |
Family
ID=26598975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001261175A Expired - Fee Related JP3377001B2 (ja) | 2000-08-31 | 2001-08-30 | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6593648B2 (ja) |
JP (1) | JP3377001B2 (ja) |
Families Citing this family (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7061088B2 (en) * | 2002-10-08 | 2006-06-13 | Chippac, Inc. | Semiconductor stacked multi-package module having inverted second package |
US7034387B2 (en) | 2003-04-04 | 2006-04-25 | Chippac, Inc. | Semiconductor multipackage module including processor and memory package assemblies |
US8970049B2 (en) * | 2003-12-17 | 2015-03-03 | Chippac, Inc. | Multiple chip package module having inverted package stacked over die |
DE102004012979B4 (de) * | 2004-03-16 | 2009-05-20 | Infineon Technologies Ag | Kopplungssubstrat für Halbleiterbauteile, Anordnungen mit dem Kopplungssubstrat, Kopplungssubstratstreifen, Verfahren zur Herstellung dieser Gegenstände und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls |
JP2005288458A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Toshiba Corp | 接合体、半導体装置、接合方法、及び半導体装置の製造方法 |
US20050258527A1 (en) | 2004-05-24 | 2005-11-24 | Chippac, Inc. | Adhesive/spacer island structure for multiple die package |
US8552551B2 (en) | 2004-05-24 | 2013-10-08 | Chippac, Inc. | Adhesive/spacer island structure for stacking over wire bonded die |
US20050269692A1 (en) * | 2004-05-24 | 2005-12-08 | Chippac, Inc | Stacked semiconductor package having adhesive/spacer structure and insulation |
US7253511B2 (en) * | 2004-07-13 | 2007-08-07 | Chippac, Inc. | Semiconductor multipackage module including die and inverted land grid array package stacked over ball grid array package |
US20060197232A1 (en) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | National University Of Singapore | Planar microspring integrated circuit chip interconnection to next level |
KR101172527B1 (ko) * | 2005-03-31 | 2012-08-10 | 스태츠 칩팩, 엘티디. | 상부면 및 하부면에서 노출된 기판 표면들을 갖는 반도체적층 패키지 어셈블리 |
US7429787B2 (en) * | 2005-03-31 | 2008-09-30 | Stats Chippac Ltd. | Semiconductor assembly including chip scale package and second substrate with exposed surfaces on upper and lower sides |
US7364945B2 (en) | 2005-03-31 | 2008-04-29 | Stats Chippac Ltd. | Method of mounting an integrated circuit package in an encapsulant cavity |
US7429786B2 (en) * | 2005-04-29 | 2008-09-30 | Stats Chippac Ltd. | Semiconductor package including second substrate and having exposed substrate surfaces on upper and lower sides |
US7354800B2 (en) * | 2005-04-29 | 2008-04-08 | Stats Chippac Ltd. | Method of fabricating a stacked integrated circuit package system |
US7582960B2 (en) * | 2005-05-05 | 2009-09-01 | Stats Chippac Ltd. | Multiple chip package module including die stacked over encapsulated package |
US7394148B2 (en) * | 2005-06-20 | 2008-07-01 | Stats Chippac Ltd. | Module having stacked chip scale semiconductor packages |
US7456088B2 (en) | 2006-01-04 | 2008-11-25 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system including stacked die |
US7768125B2 (en) | 2006-01-04 | 2010-08-03 | Stats Chippac Ltd. | Multi-chip package system |
US7750482B2 (en) | 2006-02-09 | 2010-07-06 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system including zero fillet resin |
US8704349B2 (en) | 2006-02-14 | 2014-04-22 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with exposed interconnects |
US7732912B2 (en) * | 2006-08-11 | 2010-06-08 | Tessera, Inc. | Semiconductor chip packages and assemblies with chip carrier units |
WO2008115744A1 (en) * | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Vertical Circuits, Inc. | Vertical electrical interconnect formed on support prior to die mount |
US8723332B2 (en) * | 2007-06-11 | 2014-05-13 | Invensas Corporation | Electrically interconnected stacked die assemblies |
US8704379B2 (en) | 2007-09-10 | 2014-04-22 | Invensas Corporation | Semiconductor die mount by conformal die coating |
KR101554761B1 (ko) | 2008-03-12 | 2015-09-21 | 인벤사스 코포레이션 | 지지부에 실장되는 전기적으로 인터커넥트된 다이 조립체 |
US9153517B2 (en) | 2008-05-20 | 2015-10-06 | Invensas Corporation | Electrical connector between die pad and z-interconnect for stacked die assemblies |
US7863159B2 (en) * | 2008-06-19 | 2011-01-04 | Vertical Circuits, Inc. | Semiconductor die separation method |
US8039938B2 (en) | 2009-05-22 | 2011-10-18 | Palo Alto Research Center Incorporated | Airgap micro-spring interconnect with bonded underfill seal |
JP5963671B2 (ja) * | 2009-06-26 | 2016-08-03 | インヴェンサス・コーポレーション | ジグザクの構成でスタックされたダイに関する電気的相互接続 |
WO2011056668A2 (en) | 2009-10-27 | 2011-05-12 | Vertical Circuits, Inc. | Selective die electrical insulation additive process |
TWI544604B (zh) | 2009-11-04 | 2016-08-01 | 英維瑟斯公司 | 具有降低應力電互連的堆疊晶粒總成 |
US8998384B2 (en) * | 2011-03-31 | 2015-04-07 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Circuits and methods using a non-gold corrosion inhibitor |
US9490195B1 (en) | 2015-07-17 | 2016-11-08 | Invensas Corporation | Wafer-level flipped die stacks with leadframes or metal foil interconnects |
US9871019B2 (en) | 2015-07-17 | 2018-01-16 | Invensas Corporation | Flipped die stack assemblies with leadframe interconnects |
US9825002B2 (en) | 2015-07-17 | 2017-11-21 | Invensas Corporation | Flipped die stack |
US9508691B1 (en) | 2015-12-16 | 2016-11-29 | Invensas Corporation | Flipped die stacks with multiple rows of leadframe interconnects |
US10566310B2 (en) | 2016-04-11 | 2020-02-18 | Invensas Corporation | Microelectronic packages having stacked die and wire bond interconnects |
US9595511B1 (en) | 2016-05-12 | 2017-03-14 | Invensas Corporation | Microelectronic packages and assemblies with improved flyby signaling operation |
US9728524B1 (en) | 2016-06-30 | 2017-08-08 | Invensas Corporation | Enhanced density assembly having microelectronic packages mounted at substantial angle to board |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4278991A (en) * | 1979-08-13 | 1981-07-14 | Burroughs Corporation | IC Package with heat sink and minimal cross-sectional area |
DE3123198C2 (de) * | 1980-12-08 | 1993-10-07 | Gao Ges Automation Org | Trägerelemente für einen IC-Baustein |
US4873615A (en) * | 1986-10-09 | 1989-10-10 | Amp Incorporated | Semiconductor chip carrier system |
JP2949969B2 (ja) | 1991-11-12 | 1999-09-20 | 日本電気株式会社 | フィルムキャリア半導体装置 |
JPH05291361A (ja) | 1992-04-14 | 1993-11-05 | Nippon Steel Corp | 半導体装置のリード構造 |
JPH07153793A (ja) | 1993-11-30 | 1995-06-16 | Nippon Steel Corp | 半導体装置 |
JPH07201912A (ja) | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Hitachi Cable Ltd | フィルムキャリア方式半導体装置及びフィルムキャリア |
US5923538A (en) * | 1994-10-17 | 1999-07-13 | Lsi Logic Corporation | Support member for mounting a microelectronic circuit package |
JPH09260533A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-10-03 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びその実装構造 |
JP3382097B2 (ja) | 1996-09-30 | 2003-03-04 | 株式会社東芝 | Ic封止パッケージ |
-
2001
- 2001-08-30 US US09/941,864 patent/US6593648B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-30 JP JP2001261175A patent/JP3377001B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6593648B2 (en) | 2003-07-15 |
JP2002151626A (ja) | 2002-05-24 |
US20020030252A1 (en) | 2002-03-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3377001B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 | |
US6414382B1 (en) | Film carrier tape, semiconductor assembly, semiconductor device and method of manufacturing the same, mounted board, and electronic instrument | |
JP2825083B2 (ja) | 半導体素子の実装構造 | |
JP2833996B2 (ja) | フレキシブルフィルム及びこれを有する半導体装置 | |
JP3838331B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 | |
JP3238004B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
KR20000057332A (ko) | 집적 회로 패키지를 위한 칩 규모 볼 그리드 어레이 | |
JPH11204720A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2001060758A (ja) | 接着材料の貼着方法及び貼着装置、配線基板、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 | |
KR20050023930A (ko) | 테이프 배선 기판과 그를 이용한 반도체 칩 패키지 | |
JPH05152375A (ja) | フイルムキヤリア半導体装置及びその製造方法 | |
JP2000082722A (ja) | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 | |
JP2626621B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3695458B2 (ja) | 半導体装置、回路基板並びに電子機器 | |
JP3065010B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP3847602B2 (ja) | 積層型半導体装置及びその製造方法並びに半導体装置搭載マザーボード及び半導体装置搭載マザーボードの製造方法 | |
JP2949969B2 (ja) | フィルムキャリア半導体装置 | |
JP2003264257A (ja) | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 | |
JP3624792B2 (ja) | 可撓性配線基板、フィルムキャリア、テープ状半導体装置、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 | |
JP2944586B2 (ja) | Bga型半導体装置及びその製造方法 | |
JP2748771B2 (ja) | フィルムキャリア半導体装置及びその製造方法 | |
JP2000299399A (ja) | 半導体装置 | |
JP3565142B2 (ja) | 配線基板及びその製造方法、半導体装置、回路基板並びに電子機器 | |
JP2626081B2 (ja) | フィルムキャリヤ半導体装置 | |
JP3714388B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法、配線基板、回路基板並びに電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20021105 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081206 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081206 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091206 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |