JPH01106835A - パラー第三級−ブトキシスチレンの合成法 - Google Patents
パラー第三級−ブトキシスチレンの合成法Info
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- JPH01106835A JPH01106835A JP26399587A JP26399587A JPH01106835A JP H01106835 A JPH01106835 A JP H01106835A JP 26399587 A JP26399587 A JP 26399587A JP 26399587 A JP26399587 A JP 26399587A JP H01106835 A JPH01106835 A JP H01106835A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 title claims description 8
- GRFNSWBVXHLTCI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]benzene Chemical compound CC(C)(C)OC1=CC=C(C=C)C=C1 GRFNSWBVXHLTCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 9
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 17
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 abstract description 15
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 abstract description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 10
- -1 p-tertiary-butoxyphenyl halide Chemical class 0.000 abstract description 10
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 abstract description 6
- 238000006880 cross-coupling reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 abstract description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 abstract description 2
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- BILYTLYIOVUVSU-UHFFFAOYSA-N dichloro(1,3-bis(diphenylphosphino)propane)nickel Chemical compound Cl[Ni]1(Cl)P(C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)CCCP1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BILYTLYIOVUVSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 7
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 3
- INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N bromoethene Chemical compound BrC=C INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003963 dichloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- VOKXPKSMYJLAIW-UHFFFAOYSA-N nickel;phosphane Chemical compound P.[Ni] VOKXPKSMYJLAIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- APQIUTYORBAGEZ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibromoethane Chemical compound CC(Br)Br APQIUTYORBAGEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 3-(5-amino-1h-indol-3-yl)-2-azaniumylpropanoate Chemical compound C1=C(N)C=C2C(CC(N)C(O)=O)=CNC2=C1 YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMPIDGTVHMVVNH-UHFFFAOYSA-N [Ni].ClC(CP(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(CP(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)Cl Chemical compound [Ni].ClC(CP(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(CP(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)Cl RMPIDGTVHMVVNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
イ)発明の目的
(産業上の利用分野)
本発明は、医農薬の中間体として使用されるフェノール
化合物の前駆体として有用な、また、レジスト材料やエ
ポキシ硬化触媒として使用されるポリ−パラ−ヒドロキ
シスチレンを得るための原料上ツマ−として有用なバラ
−第三級−ブトキシスチレンの新規な合成法に関する。
化合物の前駆体として有用な、また、レジスト材料やエ
ポキシ硬化触媒として使用されるポリ−パラ−ヒドロキ
シスチレンを得るための原料上ツマ−として有用なバラ
−第三級−ブトキシスチレンの新規な合成法に関する。
本発明の目的化合物であるバラ−第三級−ブトキシスチ
レンは単独重合や共重合によりポリ−パラ−第三級−ブ
トキシスチレンに、また、ポリ−パラ−第三級−ブトキ
シスチレンのビニル基に種々の反応剤を作用させて誘導
体にそれぞれ導くことができる。そして、これらの化合
物は酸触媒により特異的に第三級−ブチル基か脱離する
ため、前記のポリ−バラ−ヒドロキシスチレンやフェノ
ール類に容易に変換できる。
レンは単独重合や共重合によりポリ−パラ−第三級−ブ
トキシスチレンに、また、ポリ−パラ−第三級−ブトキ
シスチレンのビニル基に種々の反応剤を作用させて誘導
体にそれぞれ導くことができる。そして、これらの化合
物は酸触媒により特異的に第三級−ブチル基か脱離する
ため、前記のポリ−バラ−ヒドロキシスチレンやフェノ
ール類に容易に変換できる。
(従来の技術)
本発明の目的化合物であるバラ−第三級−ブトキシスチ
レンは既知である。そして、この化合物の従来の合成法
は、米国特許第4603101号明細書及び特開昭59
−199705号公報において、バラ−ブロモスチレン
あるいはバラ−クロロスチレンのグリニヤール試薬に過
安息香酸−第三級−ブチルエステルを反応させて行われ
る。しかし、これらの公報に記載の方法によれば、パラ
−第三級−ブトキシスチレンの収率は20%と極めて低
い(米国特許第4603101号明細書)。
レンは既知である。そして、この化合物の従来の合成法
は、米国特許第4603101号明細書及び特開昭59
−199705号公報において、バラ−ブロモスチレン
あるいはバラ−クロロスチレンのグリニヤール試薬に過
安息香酸−第三級−ブチルエステルを反応させて行われ
る。しかし、これらの公報に記載の方法によれば、パラ
−第三級−ブトキシスチレンの収率は20%と極めて低
い(米国特許第4603101号明細書)。
また、本発明の目的化合物の異性体であるバラ−n−ブ
トキシスチレンは、バラ−n−ブトキシフェネチルアル
コールをアルカリ条件下でφ脱水反応させれば得られる
。しかし、このバラ−n−ブトキシスチレンの脱n−ツ
チル基反応は、きわめて困難をともなうため、これから
ポリ−バラ−ヒドロキシスチレンやフェノール類を得ら
れない。
トキシスチレンは、バラ−n−ブトキシフェネチルアル
コールをアルカリ条件下でφ脱水反応させれば得られる
。しかし、このバラ−n−ブトキシスチレンの脱n−ツ
チル基反応は、きわめて困難をともなうため、これから
ポリ−バラ−ヒドロキシスチレンやフェノール類を得ら
れない。
(発明か解決しようとする問題点)
従来のパラ−第三級−ブトキシスチレンの合成法は、原
料の一つとして、入手か困難で、かつ高価であり、しか
も操作上の安全性ても問題のある過安息香酸−第三級−
ブチルエステルを第三級−ブトキシ化剤として使用する
ため、工業規模の合成法としては好ましくない。したが
って、本発明は、このような問題点かなく、工業的規模
での合成に適したパラ−第三級−ブトキシスチレンの新
規な合成法を提供することを目的とするものである。
料の一つとして、入手か困難で、かつ高価であり、しか
も操作上の安全性ても問題のある過安息香酸−第三級−
ブチルエステルを第三級−ブトキシ化剤として使用する
ため、工業規模の合成法としては好ましくない。したが
って、本発明は、このような問題点かなく、工業的規模
での合成に適したパラ−第三級−ブトキシスチレンの新
規な合成法を提供することを目的とするものである。
旦ユJL里!す1處
(問題を解決するための手段)
本発明者らは、かかる問題点を解決するために種々の合
成法について鋭意検討を重ねた。その結果、下記の知見
を得て極めて有利なlI$バラ−第三級−ブトキシスチ
レンの新規な合成法を発明するに至った。すなわち、パ
ラ−第三級−ブトキシフェニルハライトを金属マグネシ
ウムと反応させてパラ−第三級−ブトキシフェニルマグ
ネシウムハライドとし、これをニッケルホスフィン錯体
触媒の存在下に、ビニルハライドを作用させることによ
り、パラ−第三級−ブトキシスチレンを高純度、高収率
で得る合成法を完成した。
成法について鋭意検討を重ねた。その結果、下記の知見
を得て極めて有利なlI$バラ−第三級−ブトキシスチ
レンの新規な合成法を発明するに至った。すなわち、パ
ラ−第三級−ブトキシフェニルハライトを金属マグネシ
ウムと反応させてパラ−第三級−ブトキシフェニルマグ
ネシウムハライドとし、これをニッケルホスフィン錯体
触媒の存在下に、ビニルハライドを作用させることによ
り、パラ−第三級−ブトキシスチレンを高純度、高収率
で得る合成法を完成した。
本発明におけるパラ−第三級−ブトキシスチレンの合成
方法を反応式で示せば、次のとおりである。
方法を反応式で示せば、次のとおりである。
(m)
(I)
(式中、X + 、 X 2は同一または異なるハロゲ
ン原子を示す) 本発明のパラ−第三級−ブトキシスチレン(I)は、バ
ラ−ハロゲノフェノールのヒドロキシル基を第三級−ブ
チル基で保護したパラ−第三級−ブトキシフェニルハラ
イト(II)を金属マグネシウムと反応させ、グリニヤ
ール試薬であるパラ−第三級−ブトキシフェニルマグネ
シウムハライト(m)とし、これにニッケルホスフィン
錯体触媒の存在下で塩化ビニル、臭化ビニルなどのビニ
ルハライドとのクロスカップリング反応により目的とす
るパラ−第三級−ブトキシスチレンを合成できる。
ン原子を示す) 本発明のパラ−第三級−ブトキシスチレン(I)は、バ
ラ−ハロゲノフェノールのヒドロキシル基を第三級−ブ
チル基で保護したパラ−第三級−ブトキシフェニルハラ
イト(II)を金属マグネシウムと反応させ、グリニヤ
ール試薬であるパラ−第三級−ブトキシフェニルマグネ
シウムハライト(m)とし、これにニッケルホスフィン
錯体触媒の存在下で塩化ビニル、臭化ビニルなどのビニ
ルハライドとのクロスカップリング反応により目的とす
るパラ−第三級−ブトキシスチレンを合成できる。
以下、本発明の合成法をさらに詳細に説明する。
一般式(III)の化合物は、次の方法により容易に合
成しつる。すなわち、活性化した金属マグネシウムを無
水テトラヒドロフラン中でかきまぜつつ、一般式(n)
の化合物を20℃ないし溶媒の還流温度て滴下し、さら
に、1〜8時間攪拌することによって得られる。
成しつる。すなわち、活性化した金属マグネシウムを無
水テトラヒドロフラン中でかきまぜつつ、一般式(n)
の化合物を20℃ないし溶媒の還流温度て滴下し、さら
に、1〜8時間攪拌することによって得られる。
反応に使用する金属マグネシウムは、市販のテープ状あ
るいは削り状物を一般式(II)の化合物に対して1〜
3倍モル程度を使用する。
るいは削り状物を一般式(II)の化合物に対して1〜
3倍モル程度を使用する。
この反応の開始に先立って金属マグネシウムを活性化さ
せるために、窒素雰囲気あるいは減圧条件で加熱してか
きまぜたり、微量のヨウ素あるいはヨウ化メチル、臭化
エチル、ジブロモエタンなどを添加することは、グリニ
ヤール反応を円滑に進める上で有効である。
せるために、窒素雰囲気あるいは減圧条件で加熱してか
きまぜたり、微量のヨウ素あるいはヨウ化メチル、臭化
エチル、ジブロモエタンなどを添加することは、グリニ
ヤール反応を円滑に進める上で有効である。
この反応で使用しつる化合物(II)のへロゲン化合物
としては、塩化物あるいは臭化物の使用か望ましい。
としては、塩化物あるいは臭化物の使用か望ましい。
一般式(III)の化合物の合成時の溶媒は、テトラヒ
ドロフランやジエチルエーテルなどの単独系のほか、こ
れらと不活性な溶媒、例えば、ベンゼンやトルエンなど
との混合溶媒の系であっても同様に有効に使用でき、特
に、一般式(II)のハライドか臭化物の場合は、ジエ
チルエーテル溶媒中ても容易にグリニヤール試薬を得る
ことができる。
ドロフランやジエチルエーテルなどの単独系のほか、こ
れらと不活性な溶媒、例えば、ベンゼンやトルエンなど
との混合溶媒の系であっても同様に有効に使用でき、特
に、一般式(II)のハライドか臭化物の場合は、ジエ
チルエーテル溶媒中ても容易にグリニヤール試薬を得る
ことができる。
なお、一般式(m)においてXlか塩素であるバラ−第
三級−ブトキシフェニルマグネシウムクロリドは新規化
合物である。
三級−ブトキシフェニルマグネシウムクロリドは新規化
合物である。
一般式(I)の化合物は、グリニヤール試薬(m)にニ
ッケルホスフィン錯体触媒の存在下で、ビニルハライド
、例えば、塩化ビニルや臭化ビニルとのクロスカップリ
ング反応により得られる。
ッケルホスフィン錯体触媒の存在下で、ビニルハライド
、例えば、塩化ビニルや臭化ビニルとのクロスカップリ
ング反応により得られる。
このクロスカップリング反応の触媒として用いられるニ
ッケルホスフィン錯体は、二座配位ホスフィン錯体、例
えば、ジ゛クロロ(l、2−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)エタン)ニッケル、ジクロロ(l、3−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)プロパン)ニッケル等が有効である
。
ッケルホスフィン錯体は、二座配位ホスフィン錯体、例
えば、ジ゛クロロ(l、2−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)エタン)ニッケル、ジクロロ(l、3−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)プロパン)ニッケル等が有効である
。
触媒の使用量は、グリニヤール試薬(m)に対して1O
−4〜1O−2倍モル、好ましくは5×1O−4〜5X
10−’倍モル程度の使用が望ましい。
−4〜1O−2倍モル、好ましくは5×1O−4〜5X
10−’倍モル程度の使用が望ましい。
クロスカップリング反応を行うには、上記方法により合
成したグリニヤール試薬(m)の温度をθ℃〜70℃、
好ましくは30〜40℃に保ち、これにビニルハライド
を吹込むか、これを溶媒に溶解して滴下して、さらに、
1〜5時間の攪拌を続ける。
成したグリニヤール試薬(m)の温度をθ℃〜70℃、
好ましくは30〜40℃に保ち、これにビニルハライド
を吹込むか、これを溶媒に溶解して滴下して、さらに、
1〜5時間の攪拌を続ける。
反応終了後は1反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え
て生成した塩を溶解し、有機層を分離して水洗後、芒硝
で脱水する。次に、溶媒を蒸留して、これに第三級−ブ
チルカテコール等の重合防止剤を添加して減圧蒸留する
ことにより、目的とするバラ−第三級−ブトキシスチレ
ン(I)を得る。
て生成した塩を溶解し、有機層を分離して水洗後、芒硝
で脱水する。次に、溶媒を蒸留して、これに第三級−ブ
チルカテコール等の重合防止剤を添加して減圧蒸留する
ことにより、目的とするバラ−第三級−ブトキシスチレ
ン(I)を得る。
次に実施例を示して本発明をさらに具体的に説明する。
Wエ バラ−第三級−ブトキシスチレンの含窒素雰囲気
で置換した1文容量の4径フラスコに金属マグネシウム
片29.2g (1,2モル)と、溶媒としてテトラヒ
ドロフラン30 m lを入れ、臭化メチル1mJ1を
加えた。金属マグネシウム表面での発泡と反応の開始を
確認した後、バラ−第三級−ブトキシクロロベンゼン1
84゜7g (1,0モル)をテトラヒドロフラン37
0m1に溶かした溶液を還流温度(86℃)で約2時間
を要して滴下した。さらに、4時間還流(86°C)を
続け、グリニヤール試薬を得た。この反応におけるグリ
ニヤール試薬への転換率は99゜8%てあった。
で置換した1文容量の4径フラスコに金属マグネシウム
片29.2g (1,2モル)と、溶媒としてテトラヒ
ドロフラン30 m lを入れ、臭化メチル1mJ1を
加えた。金属マグネシウム表面での発泡と反応の開始を
確認した後、バラ−第三級−ブトキシクロロベンゼン1
84゜7g (1,0モル)をテトラヒドロフラン37
0m1に溶かした溶液を還流温度(86℃)で約2時間
を要して滴下した。さらに、4時間還流(86°C)を
続け、グリニヤール試薬を得た。この反応におけるグリ
ニヤール試薬への転換率は99゜8%てあった。
上記の操作によって得られたグリニヤール試薬の上澄液
を窒素雰囲気下で1文容量の4径フラスコに移して、触
媒としてジクロロ(l、3−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)プロパン)ニッケル2 、7 g (0,005モ
ル)を入れ、冷却して30〜40℃を保ちながらビニル
クロライド93.8g(0,5モル)を約1.5時間を
要して吹込んだ。そして、さらに、同温度て1時間攪拌
を続けた。
を窒素雰囲気下で1文容量の4径フラスコに移して、触
媒としてジクロロ(l、3−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)プロパン)ニッケル2 、7 g (0,005モ
ル)を入れ、冷却して30〜40℃を保ちながらビニル
クロライド93.8g(0,5モル)を約1.5時間を
要して吹込んだ。そして、さらに、同温度て1時間攪拌
を続けた。
反応終了後は、反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え
て生成した塩を溶解し、有機層を分離して水洗後、無水
芒硝で脱水した。
て生成した塩を溶解し、有機層を分離して水洗後、無水
芒硝で脱水した。
さらに、溶媒を留去し、これに第三級−ブチルカテコー
ル等の重合防止剤を添加し、減圧条件で蒸留して、沸点
63℃/ 2 m m Hgの留分を163.7g (
収率93.0%)を得た。これを以下に示す方法で分析
し、同定した結果、バラ−第三級−ブトキシスチレンで
あることを確かめた。
ル等の重合防止剤を添加し、減圧条件で蒸留して、沸点
63℃/ 2 m m Hgの留分を163.7g (
収率93.0%)を得た。これを以下に示す方法で分析
し、同定した結果、バラ−第三級−ブトキシスチレンで
あることを確かめた。
分析値および物性値は以下のとおりであった。
(1)ガスクロマトグラフィーによる分析純度は100
%であった。
%であった。
(2)元素分析値
CH
計算値 81.8% 9.1%
実測値 81.9% 9.1%
(3)NMRスペクトル
■1
δ1.32 (9H,s、H’ )
δs、 12 (IH,q、H’ )
65.60 (IH,(1,H’ )
δ6.64 (IH,q、H” )
δ6.’90 (2H,d、Hb)
67.28 (2H,d、Hc)
(4)赤外吸収スペクトル
1620cm−’ C=C伸縮
x適勇1 バラ−第三級−ブトキシスチレンのンゼンか
ら) 窒素雰囲気で置換した1文容量の4径フラスコに金属マ
グネシウム片29.2g (1,2モル)と溶媒として
無水ジエチルエーテル30m1を入れ、臭化エチル2m
Mを加えた。金属マグネシウム表面での発泡と反応の開
始を確認した後、バラ−第三級−ブトキシブロモベンゼ
ン229.1g(1,0モル)をジエチルエーテル60
0 m lに溶かした溶液を還流温度で約2時間を要し
て滴下した。さらに、熟成を2時間続け、グリニヤール
試薬を得た。この反応におけるグリニヤール試薬への転
換率は99.9%であった。
ら) 窒素雰囲気で置換した1文容量の4径フラスコに金属マ
グネシウム片29.2g (1,2モル)と溶媒として
無水ジエチルエーテル30m1を入れ、臭化エチル2m
Mを加えた。金属マグネシウム表面での発泡と反応の開
始を確認した後、バラ−第三級−ブトキシブロモベンゼ
ン229.1g(1,0モル)をジエチルエーテル60
0 m lに溶かした溶液を還流温度で約2時間を要し
て滴下した。さらに、熟成を2時間続け、グリニヤール
試薬を得た。この反応におけるグリニヤール試薬への転
換率は99.9%であった。
上記の操作によって得られたグリニヤール試薬を窒素雰
囲気下で1交容量の4径フラスコに移して、触媒として
ジクロロ(l、2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタ
ン)ニッケル2.6g(o、oosモル)を入れ、30
〜40℃を保つため、冷却しつつビニルブロマイド13
8.2g(0,5モル)を約1.5時間を要して吹き込
み、さらに、同温度で1時間の攪拌を続けた。
囲気下で1交容量の4径フラスコに移して、触媒として
ジクロロ(l、2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタ
ン)ニッケル2.6g(o、oosモル)を入れ、30
〜40℃を保つため、冷却しつつビニルブロマイド13
8.2g(0,5モル)を約1.5時間を要して吹き込
み、さらに、同温度で1時間の攪拌を続けた。
反応終了後は、反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え
て生成した塩を溶解し、有機層を分離して水洗後、無水
芒硝で脱水した。さらに、溶媒を留去して第三級−ブチ
ルカテコール等の重合防止剤を添加し、減圧条件で蒸留
して、沸点63°C/2mmHgの留分を167.2g
(収率95.0%)を得た。これを実施例1と同様の
方法で分析し、同定した結果、バラ−第三級−ブトキシ
スチレンであることを確認した。
て生成した塩を溶解し、有機層を分離して水洗後、無水
芒硝で脱水した。さらに、溶媒を留去して第三級−ブチ
ルカテコール等の重合防止剤を添加し、減圧条件で蒸留
して、沸点63°C/2mmHgの留分を167.2g
(収率95.0%)を得た。これを実施例1と同様の
方法で分析し、同定した結果、バラ−第三級−ブトキシ
スチレンであることを確認した。
分析値及び物性値は実施例1と同してあった。
ガスクロマトグラフィーによる分析純度は99.9%で
あった。
あった。
へし及五塁皇】
バラ−第三級−ブトキシスチレンの合成法において、本
発明の合成法は従来の合成法に比べ、次の点てすぐれた
効果がもたらされる。
発明の合成法は従来の合成法に比べ、次の点てすぐれた
効果がもたらされる。
すなわち5本発明の合成法は、従来の合成法ては、高価
であり、原料の一つとして入手困難てあリ、しかも操作
上の安全性でも問題のある過安息香酸−第三級−ブチル
エステルを使用するのに対し、使用する原料か安価であ
り、容易な操作で目的物を高純度、高収率で得ることか
できる。
であり、原料の一つとして入手困難てあリ、しかも操作
上の安全性でも問題のある過安息香酸−第三級−ブチル
エステルを使用するのに対し、使用する原料か安価であ
り、容易な操作で目的物を高純度、高収率で得ることか
できる。
特許出願人 北興化学工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (X_1はハロゲン原子を示す)で表わされるパラ−第
三級−ブトキシフェニルハライドを金属マグネシウムと
反応させ、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるパラ−第三級−ブトキシフェニルマグネシ
ウムハライドとし、これをニッケルホスフィン錯体触媒
の存在下に、 一般式 CH_2=CHX_2 (X_2はハロゲン原子を示す)で表わされるビニルハ
ライドを作用させることを特徴とする、▲数式、化学式
、表等があります▼ で表わされるパラ−第三級−ブトキシスチレンの合成法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26399587A JPH01106835A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | パラー第三級−ブトキシスチレンの合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26399587A JPH01106835A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | パラー第三級−ブトキシスチレンの合成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01106835A true JPH01106835A (ja) | 1989-04-24 |
JPH0471896B2 JPH0471896B2 (ja) | 1992-11-16 |
Family
ID=17397082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26399587A Granted JPH01106835A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | パラー第三級−ブトキシスチレンの合成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01106835A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5763560A (en) * | 1994-12-05 | 1998-06-09 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Method of producing styrene derivatives |
JP2000229243A (ja) * | 1999-02-09 | 2000-08-22 | Tosoh Corp | クロスカップリング反応用触媒、並びにそれを用いた置換スチレン誘導体又は置換ビアリール誘導体の製造方法 |
US6433118B1 (en) | 1998-10-15 | 2002-08-13 | Mitsui Chemicals, Inc. | Copolymer, a manufacturing process therefor and a solution containing thereof |
US6472567B2 (en) | 1998-01-30 | 2002-10-29 | Tosoh Corporation | Process for the production of styrene compound, and styrene compound free from biphenyl |
US6479709B1 (en) | 1998-01-30 | 2002-11-12 | Tosoh Corporation | Process for the production of styrene derivative |
JP2003055285A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Hokko Chem Ind Co Ltd | 4−tert−ブトキシ−4’−ハロゲノビフェニルおよびその製法、並びに4−ハロゲノ−4’−ヒドロキシビフェニルの製法 |
JP2007084563A (ja) * | 2006-11-06 | 2007-04-05 | Tosoh Corp | オキシスチレン誘導体の蒸留方法 |
-
1987
- 1987-10-21 JP JP26399587A patent/JPH01106835A/ja active Granted
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5763560A (en) * | 1994-12-05 | 1998-06-09 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Method of producing styrene derivatives |
US6472567B2 (en) | 1998-01-30 | 2002-10-29 | Tosoh Corporation | Process for the production of styrene compound, and styrene compound free from biphenyl |
US6479709B1 (en) | 1998-01-30 | 2002-11-12 | Tosoh Corporation | Process for the production of styrene derivative |
DE19903925B4 (de) * | 1998-01-30 | 2013-07-25 | Tosoh Corp. | Verfahren zur Herstellung eines Styrolderivates |
US6433118B1 (en) | 1998-10-15 | 2002-08-13 | Mitsui Chemicals, Inc. | Copolymer, a manufacturing process therefor and a solution containing thereof |
JP2000229243A (ja) * | 1999-02-09 | 2000-08-22 | Tosoh Corp | クロスカップリング反応用触媒、並びにそれを用いた置換スチレン誘導体又は置換ビアリール誘導体の製造方法 |
JP2003055285A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Hokko Chem Ind Co Ltd | 4−tert−ブトキシ−4’−ハロゲノビフェニルおよびその製法、並びに4−ハロゲノ−4’−ヒドロキシビフェニルの製法 |
JP2007084563A (ja) * | 2006-11-06 | 2007-04-05 | Tosoh Corp | オキシスチレン誘導体の蒸留方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0471896B2 (ja) | 1992-11-16 |
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