JP3340761B2 - パラ−第三級ブトキシ−α−メチルスチレンの製造法 - Google Patents
パラ−第三級ブトキシ−α−メチルスチレンの製造法Info
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
るα−メチルスチレン重合体の原料または医農薬中間体
として有用なフェノール化合物、例えばパラヒドロキシ
−α−メチルスチレンなどの前駆体であるパラ−第三級
ブトキシ−α−メチルスチレンの製造法に関する。
α−メチルスチレンは、イソプロペニルフェニルマグネ
シウムハライドと第三級ブトキシパーベンゾエートを反
応させて得られる。
の危険性があり、収率も低いため、工業化に際しては問
題が多い(米国特許第4,603,101号明細書)。
来技術を改良して、パラ−第三級ブトキシ−α−メチル
スチレンの工業的に有利な製造法を提供するものであ
る。
題を解決するためにパラ−第三級ブトキシ−α−メチル
スチレンの合成方法について鋭意検討した。その結果、
工業的に有利なパラー第三級ブトキシ−α−メチルスチ
レンの製造法を見いだした。すなわち、
ビノールに4−ヒドロキシアミノ−2−メチル−2,5
−シクロヘキサジエン−1−オンまたは第三級ブチルカ
テコールから選ばれる重合防止剤と、シュウ酸または硫
酸水素カリウムから選ばれる脱水触媒を加え、減圧下で
50〜80℃の温度範囲で還流することを特徴とする、
式(1)
の製造法にある。
りである。
チルカルビノールの合成〔式(2)の化合物〕 式(2)化合物はパラ−第三級ブトキシフェニルマグネ
シウムハライドにアセトンを反応させて得られる。アセ
トンの使用量はパラ−ビニルフェニルマグネシウムハラ
イドと等モル量でよい。また20〜40℃で滴下し、さ
らに1〜5時間撹拌を続けると式(2)化合物が得られ
る。
は希薄な鉱酸水溶液を注水して有機層を分離後、水洗
し、芒硝で脱水して溶媒を留去後、減圧蒸留または再結
晶により目的とする式(2)化合物を得る。
す。
成[式(1)の化合物] 式(1)の化合物は、パラ−第三級ブトキシフェニルジ
メチルカルビノールに4−ヒドロキシアミノ−2−メチ
ル−2,5−シクロヘキサジエン−1−オンまたは第三
級ブチルカテコールから選ばれる安定剤と、シュウ酸ま
たは硫酸水素カリウムから選ばれる脱水触媒を加え、ア
スピレーターにより約140〜160mmHgに減圧し
て50〜80℃の温度範囲で還流し2時間反応させて得
られる。
および反応温度の設定が重要である。
酸水素カリウムなどがよい。パラトルエンスルホン酸を
用いると重合が著しく、ほとんど目的物が得られない。
〜65℃がよい。
×10-2重量倍程度でよい。
−2−メチル−2,5−シクロヘキサジエン−1−オン
や第三級ブチルカテコールなどが挙げられる。重合防止
剤の使用量は式(1)化合物の1×10-3重量倍程度で
よい。
リウム水溶液で洗浄し、芒硝で脱水する。溶媒を留去
後、減圧蒸留により目的とする式(1)化合物を得る。
次に実施例1〜2および参考製造例を示して本発明を具
体的に説明する。
ラ−第三級ブトキシフェニルジメチルカルビノール 2
08.3g(1.0モル)とトルエン 200mlを加
えた。さらに、脱水触媒としてシュウ酸 10gと重合
防止剤として4−ヒドロキシアミノ−2−メチル−2,
5−シクロヘキサンジエン−1−オン0.2gを加え
た。アスピレーターにより約140〜160mmHgに
減圧して還流し水を留去しながら、60〜65℃で2時
間撹拌した。反応終了後、30℃まで冷却し 300m
lの水で水洗し、さらに1%炭酸ナトリウム水溶液20
0mlで洗浄後、芒硝で脱水した。そして、溶媒を留去
して粗製のパラ−第三級ブトキシ−α−メチルスチレン
を得た。
チルカテコール 0.2gを添加し、減圧条件で蒸留
し、沸点 75℃/0.2mmHgの留分を167.2
g(収率 87.9%)得た。ガスクロマトグラフィー
による分析純度は99.8%であった。元素分析値およ
びNMRスペクトルは以下のとおりであった。
ラ−第三級ブトキシフェニルジメチルカルビノール 2
08.3g(1.0モル)とトルエン 200mlを加
えた。さらに、脱水触媒として硫酸水素カリウム 10
gと重合防止剤として第三級ブチルカテコール 0.2
gを加えた。アスピレーターにより約140〜160m
mHgに減圧して水を留去しながら 60〜65℃で2
時間撹拌した。反応終了後、30℃まで冷却し、300
mlの水で水洗し、さらに1%炭酸ナトリウム水溶液
200mlで洗浄後、芒硝で脱水した。そして、溶媒を
留去して粗製のパラ−第三級ブトキシ−α−メチルスチ
レンを得た。
チルカテコールを添加し、減圧条件で蒸留し、沸点 7
5℃/0.2mmHgの留分を 162.6g(収率
85.5%)得た。ガスクロマトグラフィーによる分析
純度は 99.8%であった。元素分析値およびNMR
スペクトルは実施例1と一致した。
ルカルビノール〔式(2)の化合物〕の合成 窒素置換した1リットル容量の4径フラスコに削り状の
金属マグネシウム 29.2g(1.2モル)と無水テ
トラヒドロフラン 30mlを加え、さらに臭化エチル
約2mlを加えて撹拌し、発泡による反応を確認して、
パラ−第三級ブトキシクロルベンゼン 184.7g
(1.0モル)を400mlの無水テトラヒドロフラン
に溶解し、これを還流温度で2時間を要して滴下し、さ
らに5時間還流を続けてグリニヤール試薬を得た。この
グリニヤール試薬の一部をとり加水分解してガスクロマ
トグラフィーにより分析を行うと、転換率は99.7%
であった。
ール試薬を、30℃まで冷却後に未反応のマグネシウム
と分離するために、上澄液をグラスフィルターで濾過し
て別の1リットル容量の4径フラスコに移した。撹拌し
ながら25〜35℃でアセトン 58.1gを1時間か
けて滴下し、さらに同温度で1時間撹拌を続けた。
ンモニウム水溶液を加えて生成した塩を溶解し、さらに
ベンゼン300mlを加えて有機層を分離し、水洗後、
芒硝で脱水した。そして、溶媒を留去して粗製のパラ−
第三級ブトキシフェニルジメチルカルビノールを得た。
を行い、白色結晶としてパラ−第三級ブトキシフェニル
ジメチルカルビノール 169.3g(収率81.3
%)を得た。
ノールの融点は60.3℃であり、ガスクロマトグラフ
ィーによる分析純度は99.1%であった。元素分析値
およびNMRスペクトルは以下のとおりであった。
に比べ、高純度で高収率のパラ第三級ブトキシ−α−メ
チルスチレンが安全に、しかも簡単な操作で得られるた
め、工業的に極めて有利である。
Claims (1)
- 【請求項1】 パラ−第三級ブトキシフェニルジメチル
カルビノールに4−ヒドロキシアミノ −2−メチル−
2,5−シクロヘキサジエン−1−オンまたは第三級ブ
チルカテコールから選ばれる重合防止剤と、シュウ酸ま
たは硫酸水素カリウムから選ばれる脱水触媒を加え、減
圧下で50〜80℃の温度範囲で還流することを特徴と
する、パラ−第三級ブトキシ−α−メチルスチレンの製
造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15003292A JP3340761B2 (ja) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | パラ−第三級ブトキシ−α−メチルスチレンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15003292A JP3340761B2 (ja) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | パラ−第三級ブトキシ−α−メチルスチレンの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05320084A JPH05320084A (ja) | 1993-12-03 |
JP3340761B2 true JP3340761B2 (ja) | 2002-11-05 |
Family
ID=15488013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15003292A Expired - Lifetime JP3340761B2 (ja) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | パラ−第三級ブトキシ−α−メチルスチレンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3340761B2 (ja) |
-
1992
- 1992-05-19 JP JP15003292A patent/JP3340761B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05320084A (ja) | 1993-12-03 |
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