JP2717689B2 - ｐ―またはｍ―ヒドロキシフェニルアルキルアルコールの製造法 - Google Patents
ｐ―またはｍ―ヒドロキシフェニルアルキルアルコールの製造法Info
- Publication number
- JP2717689B2 JP2717689B2 JP1038244A JP3824489A JP2717689B2 JP 2717689 B2 JP2717689 B2 JP 2717689B2 JP 1038244 A JP1038244 A JP 1038244A JP 3824489 A JP3824489 A JP 3824489A JP 2717689 B2 JP2717689 B2 JP 2717689B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- alcohol
- tert
- hydroxyphenylalkyl
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 イ）発明の目的 産業上の利用分野 本発明は、農薬中間体や液晶ポリマーの原料として有
用なｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルコールの製
造法に関する。
用なｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルコールの製
造法に関する。
従来の技術 ｐ−ヒドロキシフェニルアルキルアルコールの製造法
はいくつか知られている。例えば、ｐ−ヒドロキシフェ
ネチルアルコールは、チロソールと呼ばれ、チロシンの
発酵によって得られる。工業的にヒドロキシフェニルア
ルキルアルコールを得るには、シアノメチルフェノール
やヒドロキシマンデル酸から得られるヒドロキシフェニ
ル酢酸やそのエステル体、アセトキシ体の還元等によっ
て製造できるが、原料の純度が低いため、さらに精製し
なければならない。
はいくつか知られている。例えば、ｐ−ヒドロキシフェ
ネチルアルコールは、チロソールと呼ばれ、チロシンの
発酵によって得られる。工業的にヒドロキシフェニルア
ルキルアルコールを得るには、シアノメチルフェノール
やヒドロキシマンデル酸から得られるヒドロキシフェニ
ル酢酸やそのエステル体、アセトキシ体の還元等によっ
て製造できるが、原料の純度が低いため、さらに精製し
なければならない。
また、ｐ−ヒドロキシフェニルプロパノールは、ｐ−
ヒドロキシプロピオン酸エステルをリチウムアルミニウ
ムハイドライドで還元して得られることが知られている
（ケミカル アブストラクト 第77巻74931r）。
ヒドロキシプロピオン酸エステルをリチウムアルミニウ
ムハイドライドで還元して得られることが知られている
（ケミカル アブストラクト 第77巻74931r）。
しかしながら、原料のｐ−ヒドロキシプロピオン酸エ
ステルは容易に入手しがたく、またリチウムアルミニウ
ムハイドライドは、非常に高価なため、前記の方法は工
業的には使用しがたい。
ステルは容易に入手しがたく、またリチウムアルミニウ
ムハイドライドは、非常に高価なため、前記の方法は工
業的には使用しがたい。
さらに、本発明の原料の異性体であるｐ−ｎ−ブトキ
シフェニルプロパノールは、ｐ−ｎ−ブトキシケイ皮酸
エステルに水添してｐ−ｎ−ブトキシフェニルプロピオ
ン酸エステルとして、さらにこれをリチウムアルミニウ
ムハイドライドで還元して得られる。
シフェニルプロパノールは、ｐ−ｎ−ブトキシケイ皮酸
エステルに水添してｐ−ｎ−ブトキシフェニルプロピオ
ン酸エステルとして、さらにこれをリチウムアルミニウ
ムハイドライドで還元して得られる。
しかしながら、ｐ−ｎ−ブトキシフェニルプロパノー
ルの脱ｎ−ブチル化反応は後記の比較製造例で示すよう
に厳しい条件の処理を必要とするため、副反応をともな
い、目的とするｐ−ヒドロキシフェニルプロパノールを
得ることができない。
ルの脱ｎ−ブチル化反応は後記の比較製造例で示すよう
に厳しい条件の処理を必要とするため、副反応をともな
い、目的とするｐ−ヒドロキシフェニルプロパノールを
得ることができない。
したがって、従来の化合物に代わって、ｐ−ヒドロキ
シフェニルアルキルアルコールを得るための工業的規模
で安全に、かつ高収率で合成する技術が要望されてい
る。
シフェニルアルキルアルコールを得るための工業的規模
で安全に、かつ高収率で合成する技術が要望されてい
る。
発明が解決しようとする課題 本発明は、前記した従来のｐ−ヒドロキシフェニルア
ルキルアルコールの製造法の欠点を改善して工業的に安
価で高純度のｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルキ
ルアルコールの製造方法を提供するものである。
ルキルアルコールの製造法の欠点を改善して工業的に安
価で高純度のｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルキ
ルアルコールの製造方法を提供するものである。
ロ）発明の構成 課題を解決するための手段 本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意努力
を重ねた結果、ｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアル
キルアルコールの工業的に有利な製造法を見出すに至っ
た。すなわち、第１の本発明の要旨とするところは、下
記の一般式（II） （式中、ｎは３〜５の整数を示す。） で表されるｐ−またはｍ−tert−ブトキシフェニルアル
キルアルコールに、塩酸、塩化水素および硫酸のいずれ
か１種を反応させることを特徴とする 一般式（Ｉ） （式中、ｎは、３〜５の整数を示す。） で表されるｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルキル
アルコールの製造法にある。
を重ねた結果、ｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアル
キルアルコールの工業的に有利な製造法を見出すに至っ
た。すなわち、第１の本発明の要旨とするところは、下
記の一般式（II） （式中、ｎは３〜５の整数を示す。） で表されるｐ−またはｍ−tert−ブトキシフェニルアル
キルアルコールに、塩酸、塩化水素および硫酸のいずれ
か１種を反応させることを特徴とする 一般式（Ｉ） （式中、ｎは、３〜５の整数を示す。） で表されるｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルキル
アルコールの製造法にある。
また、第２の本発明の要旨とするところは、 一般式（II） （式中、ｎは３〜５の整数を示す。） で表されるｐ−またはｍ−tert−ブトキシフェニルアル
キルアルコールに、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸および強酸性イオン交換樹脂のいずれか１種を
添加して減圧下でイソブチレンを反応系外に留去させる
ことを特徴とする 一般式（Ｉ） （式中、ｎは、３〜５の整数を示す。） で表されるｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルキル
アルコールの製造法にある。
キルアルコールに、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸および強酸性イオン交換樹脂のいずれか１種を
添加して減圧下でイソブチレンを反応系外に留去させる
ことを特徴とする 一般式（Ｉ） （式中、ｎは、３〜５の整数を示す。） で表されるｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルキル
アルコールの製造法にある。
本発明のｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルキル
アルコールの製造法を反応式で示すと下記のとおりであ
る。ただし、塩酸、塩化水素および硫酸（以下「脱tert
−ブチル化剤」という）やｐ−トルエンスルホン酸、メ
タンスルホン酸および強酸性イオン交換樹脂（以下「脱
tert−ブチル化触媒」という）の種類と使用方法によっ
て脱離されるtert−ブチル基に由来する生成物が異な
る。
アルコールの製造法を反応式で示すと下記のとおりであ
る。ただし、塩酸、塩化水素および硫酸（以下「脱tert
−ブチル化剤」という）やｐ−トルエンスルホン酸、メ
タンスルホン酸および強酸性イオン交換樹脂（以下「脱
tert−ブチル化触媒」という）の種類と使用方法によっ
て脱離されるtert−ブチル基に由来する生成物が異な
る。
以下、本発明の製造法をさらに詳細に説明する。
まず、本発明の原料化合物である式（II）のｐ−また
はｍ−tert−ブトキシフェニルアルキルアルコールは新
規化合物である。そして、式（II）化合物のｎが３〜５
の化合物は、下記の反応経路により合成される。すなわ
ち式（IV）化合物のグリニヤール試薬に式（III）化合
物を銅触媒の存在下で作用させることによって得られ
る。
はｍ−tert−ブトキシフェニルアルキルアルコールは新
規化合物である。そして、式（II）化合物のｎが３〜５
の化合物は、下記の反応経路により合成される。すなわ
ち式（IV）化合物のグリニヤール試薬に式（III）化合
物を銅触媒の存在下で作用させることによって得られ
る。
この式（II）化合物のうち、ｎが３の化合物の合成法
を参照製造例１に示すが、ｎが４および５の化合物も同
様にして合成できる。
を参照製造例１に示すが、ｎが４および５の化合物も同
様にして合成できる。
上記式中、Ｘ、Ｘ′は同一または相異なるハロゲン原
子を示し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属または
ハロゲン化アルカリ土類金属を示し、ｎは３〜５の整数
を示す。
子を示し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属または
ハロゲン化アルカリ土類金属を示し、ｎは３〜５の整数
を示す。
なお、Ｘ、Ｘ′としては塩素、臭素、ヨウ素などが、
アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウ
ムなどが、アルカリ土類金属としてはマグネシウム、亜
鉛などがハロゲン化アルカリ土類金属としては塩化マグ
ネシウムが好ましい。
アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウ
ムなどが、アルカリ土類金属としてはマグネシウム、亜
鉛などがハロゲン化アルカリ土類金属としては塩化マグ
ネシウムが好ましい。
このようにして得た式（II）化合物は、方法（Ａ）〜
（Ｃ）に示される方法の合成原料として用いればよい。
（Ｃ）に示される方法の合成原料として用いればよい。
方法（Ａ） tert−ブトキシフェニルアルキルアルコールに脱tert
−ブチル化剤として塩酸を作用させると、目的とするヒ
ドロキシフェニルアルキルアルコールを生成し、tert−
ブチルクロライドを副成する。
−ブチル化剤として塩酸を作用させると、目的とするヒ
ドロキシフェニルアルキルアルコールを生成し、tert−
ブチルクロライドを副成する。
本反応で使用する塩酸は10％以上の塩酸あるいは塩化
水素を用いることができ、その使用量は、理論量の２〜
３モル倍量程度が適量である。
水素を用いることができ、その使用量は、理論量の２〜
３モル倍量程度が適量である。
また、本反応ではtert−ブトキシフェニルアルキルア
ルコールの溶媒による希釈は必ずしも必要としないが、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系の溶媒、ヘ
キサン、ペンタン、オクタン等の脂肪族系の溶媒、ジク
ロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン等のハロゲ
ン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の
エーテル系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノー
ル等のアルコール系の溶媒を操作性に合わせて任意に選
択して使用できる。
ルコールの溶媒による希釈は必ずしも必要としないが、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系の溶媒、ヘ
キサン、ペンタン、オクタン等の脂肪族系の溶媒、ジク
ロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン等のハロゲ
ン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の
エーテル系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノー
ル等のアルコール系の溶媒を操作性に合わせて任意に選
択して使用できる。
反応温度は、高温では脱離したtert−ブチルクロライ
ドがフリーデルクラフト反応剤として働き、核tert−ブ
チル化体を副生するため、低温とすることが望ましく、
通常０℃〜30℃の範囲で行うことが適切である。
ドがフリーデルクラフト反応剤として働き、核tert−ブ
チル化体を副生するため、低温とすることが望ましく、
通常０℃〜30℃の範囲で行うことが適切である。
次に脱tert−ブチル化剤として塩酸を用いた反応の具
体的な操作例を示す。まず、tert−ブトキシフェニルア
ルキルアルコールを単独あるいは溶媒に希釈しておき、
30℃以下の温度で２〜３倍モル量の濃塩酸を滴下し、１
〜２時間撹拌を続ける。この時点での反応の転化率はほ
ぼ100％である。そして、芳香族系や脂肪族系の溶媒を
使用した場合、生成したヒドロキシフェニルアルキルア
ルコールは結晶として析出するので、濾過操作等で粗結
晶として分離することもできる。また、ジクロルメタン
等の溶媒を使用した場合は、ヒドロキシフェニルアルキ
ルアルコールが溶媒中に溶解しているため、有機層を分
離した後、水洗等を行い、副生したtert−ブチルクロラ
イドを溶媒と共に留去すると、ヒドロキシフェニルアル
キルアルコールの粗結晶を得る。こうして得たヒドロキ
シフェニルアルキルアルコールは、再結晶あるいは蒸留
によって精製することができる。
体的な操作例を示す。まず、tert−ブトキシフェニルア
ルキルアルコールを単独あるいは溶媒に希釈しておき、
30℃以下の温度で２〜３倍モル量の濃塩酸を滴下し、１
〜２時間撹拌を続ける。この時点での反応の転化率はほ
ぼ100％である。そして、芳香族系や脂肪族系の溶媒を
使用した場合、生成したヒドロキシフェニルアルキルア
ルコールは結晶として析出するので、濾過操作等で粗結
晶として分離することもできる。また、ジクロルメタン
等の溶媒を使用した場合は、ヒドロキシフェニルアルキ
ルアルコールが溶媒中に溶解しているため、有機層を分
離した後、水洗等を行い、副生したtert−ブチルクロラ
イドを溶媒と共に留去すると、ヒドロキシフェニルアル
キルアルコールの粗結晶を得る。こうして得たヒドロキ
シフェニルアルキルアルコールは、再結晶あるいは蒸留
によって精製することができる。
方法（Ａ）による製造例を実施例１に示す。
方法（Ｂ） tert−ブトキシフェニルアルキルアルコールに脱tert
−ブチル化剤として硫酸を作用させると、目的とするヒ
ドロキシフェニルアルキルアルコールを生成し、tert−
ブチルアルコールを副成する。
−ブチル化剤として硫酸を作用させると、目的とするヒ
ドロキシフェニルアルキルアルコールを生成し、tert−
ブチルアルコールを副成する。
本反応では、使用する硫酸の濃度が重要であり、40〜
50％濃度が実際的な使用範囲である。すなわち、低濃度
では反応速度が遅く、逆に高濃度では生成するヒドロキ
シフェニルアルキルアルコールのベンゼン環上にtert−
ブチル基が置換した副生物が増加する。前記した硫酸の
濃度範囲では、硫酸が脱tert−ブチル化触媒として働
き、その使用量も４分の１モル倍程度以上あればよく、
反応後はtert−ブチルアルコールが収率よく回収され
る。
50％濃度が実際的な使用範囲である。すなわち、低濃度
では反応速度が遅く、逆に高濃度では生成するヒドロキ
シフェニルアルキルアルコールのベンゼン環上にtert−
ブチル基が置換した副生物が増加する。前記した硫酸の
濃度範囲では、硫酸が脱tert−ブチル化触媒として働
き、その使用量も４分の１モル倍程度以上あればよく、
反応後はtert−ブチルアルコールが収率よく回収され
る。
反応温度は、副反応を防ぐため０〜30℃程度が適当で
ある。
ある。
反応溶媒は特に必要としないが、方法（Ａ）で示した
ような不活性溶媒を使用してもよい。
ような不活性溶媒を使用してもよい。
方法（Ｂ）による製造例を実施例２に示す。
方法（Ｃ） tert−ブトキシフェニルアルキルアルコールのtert−
ブチル基をイソブチレンとして脱離する反応は、tert−
ブチル化の逆反応であり、脱tert−ブチル化触媒を添加
して減圧下で生成するイソブチレンを反応系外へ留去す
ることによって進行する。実際には前記した脱tert−ブ
チル化剤にも使用できるものもあるが、一般的には不揮
発性酸としてｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、強酸性イオン交換樹脂等を添加して、減圧条件で生
成するイソブチレンを反応系外に留去する方法が有効で
ある。この反応においても高温では副反応を伴うため、
40〜50℃が許容される上限である。
ブチル基をイソブチレンとして脱離する反応は、tert−
ブチル化の逆反応であり、脱tert−ブチル化触媒を添加
して減圧下で生成するイソブチレンを反応系外へ留去す
ることによって進行する。実際には前記した脱tert−ブ
チル化剤にも使用できるものもあるが、一般的には不揮
発性酸としてｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、強酸性イオン交換樹脂等を添加して、減圧条件で生
成するイソブチレンを反応系外に留去する方法が有効で
ある。この反応においても高温では副反応を伴うため、
40〜50℃が許容される上限である。
方法（Ｃ）による製造例を実施例３に示す。
発明の効果 本発明の製造法は従来の合成法に比べて、反応操作が
容易であり、ｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルキ
ルアルコールが高純度で得られる。また、フェノール性
水酸基の保護剤として使用されているtert−ブチル基は
回収され、再利用できる。したがって、本発明の方法
は、工業的製造方法として有利である。
容易であり、ｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルキ
ルアルコールが高純度で得られる。また、フェノール性
水酸基の保護剤として使用されているtert−ブチル基は
回収され、再利用できる。したがって、本発明の方法
は、工業的製造方法として有利である。
次に、本発明の実施例を示して、本発明の製造法をさ
らに具体的に説明する。
らに具体的に説明する。
実施例１ ｐ−ヒドロキシフェニルプロパノールの製造
法 方法（Ａ） ［式（Ｉ）のｎ＝３］ 撹拌機の付いた300ml容量のフラスコにｐ−tert−ブ
トキシフェニルプロパノール104.2g（0.5モル）を入
れ、25〜30℃で濃塩酸150gを滴下して２時間撹拌を続け
た。
法 方法（Ａ） ［式（Ｉ）のｎ＝３］ 撹拌機の付いた300ml容量のフラスコにｐ−tert−ブ
トキシフェニルプロパノール104.2g（0.5モル）を入
れ、25〜30℃で濃塩酸150gを滴下して２時間撹拌を続け
た。
反応後、10％の炭酸ソーダ水溶液270mlて中和して300
mlのジクロロメタンで抽出した。その後、溶媒を留去し
てｐ−ヒドロキシフェニルプロパノールの粗結晶を得
た。次いで、真空蒸留により、沸点167℃/2mmHgの留分
として70.1g（ガスクロマトグラフィー純度 99.9％、
収率92.1％）を得た。
mlのジクロロメタンで抽出した。その後、溶媒を留去し
てｐ−ヒドロキシフェニルプロパノールの粗結晶を得
た。次いで、真空蒸留により、沸点167℃/2mmHgの留分
として70.1g（ガスクロマトグラフィー純度 99.9％、
収率92.1％）を得た。
このようにして得たｐ−ヒドロキシフェニルプロパノ
ールの理化学的性質は次に示すとおりであり、NMRスペ
クトル、赤外線吸収スペクトルは標品とも完全に一致し
た。
ールの理化学的性質は次に示すとおりであり、NMRスペ
クトル、赤外線吸収スペクトルは標品とも完全に一致し
た。
（１）融点51〜54℃ （２）NMRスペクトル （３）赤外線吸収スペクトル 3352cm-1 OH伸縮 実施例２ ｐ−ヒドロキシフェニルブタノールの製造法
方法（Ｂ） ［式（Ｉ）のｎ＝４］ 撹拌機の付いた300ml容量のフラスコにｐ−tert−ブ
トキシフェニルブタノール111.2g（0.5モル）を入れ、2
5〜30℃で40％の硫酸100gを滴下して、２時間撹拌を続
けた。
方法（Ｂ） ［式（Ｉ）のｎ＝４］ 撹拌機の付いた300ml容量のフラスコにｐ−tert−ブ
トキシフェニルブタノール111.2g（0.5モル）を入れ、2
5〜30℃で40％の硫酸100gを滴下して、２時間撹拌を続
けた。
反応後、10％の炭酸ソーダ水溶液270mlで中和して300
mlのジクロロメタンで抽出した。その後、溶媒を留去し
てｐ−ヒドロキシフェニルブタノールの粗結晶を得た。
これにヘキサン300mlを加え、30分間撹拌し、ろ過して
得た結晶を乾燥し、白色結晶75.0g（ガスクロマトグラ
フィー純度 99.7％、収率90.3％）を得た。
mlのジクロロメタンで抽出した。その後、溶媒を留去し
てｐ−ヒドロキシフェニルブタノールの粗結晶を得た。
これにヘキサン300mlを加え、30分間撹拌し、ろ過して
得た結晶を乾燥し、白色結晶75.0g（ガスクロマトグラ
フィー純度 99.7％、収率90.3％）を得た。
このようにして得たｐ−ヒドロキシフェニルブタノー
ルの理化学的性質は次に示すとおりであり、NMRスペク
トル、赤外線吸収スペクトルは標品とも完全に一致し
た。
ルの理化学的性質は次に示すとおりであり、NMRスペク
トル、赤外線吸収スペクトルは標品とも完全に一致し
た。
（１）融点52〜55℃ （２）NMRスペクトル （３）赤外線吸収スペクトル 3351cm-1 OH伸縮 実施例３ ｐ−ヒドロキシフェニルペンタノールの製造
法 方法（Ｃ） ［式（Ｉ）のｎ＝５］ 撹拌機の付いた300ml容量のフラスコにｐ−tert−ブ
トキシフェニルペンタノール118.2g（0.5モル）、ｐ−
トルエンスルホン酸5gを入れ、アスピレーターを用い、
減圧下（25mmHg）でマグネチックスターラーで撹拌しな
がら40℃に２時間保ち、生成するイソブチレンガスを留
去した。
法 方法（Ｃ） ［式（Ｉ）のｎ＝５］ 撹拌機の付いた300ml容量のフラスコにｐ−tert−ブ
トキシフェニルペンタノール118.2g（0.5モル）、ｐ−
トルエンスルホン酸5gを入れ、アスピレーターを用い、
減圧下（25mmHg）でマグネチックスターラーで撹拌しな
がら40℃に２時間保ち、生成するイソブチレンガスを留
去した。
反応後、10％の炭酸ソーダ水溶液270mlで中和して300
mlのジクロロメタンで抽出した。その後、溶媒を留去し
てｐ−ヒドロキシフェニルペンタノールの粗結晶を得
た。これにヘキサン300mlを加え、30分間撹拌した。ろ
過して得た結晶を乾燥し、白色結晶80.8g（ガスクロマ
トグラフィー純度 99.6％、収率89.8％）を得た。
mlのジクロロメタンで抽出した。その後、溶媒を留去し
てｐ−ヒドロキシフェニルペンタノールの粗結晶を得
た。これにヘキサン300mlを加え、30分間撹拌した。ろ
過して得た結晶を乾燥し、白色結晶80.8g（ガスクロマ
トグラフィー純度 99.6％、収率89.8％）を得た。
このようにして得たｐ−ヒドロキシフェニルペンタノ
ールの理化学的性質は次に示すとおりであり、NMRスペ
クトル、赤外線吸収スペクトルは標品とも完全に一致し
た。
ールの理化学的性質は次に示すとおりであり、NMRスペ
クトル、赤外線吸収スペクトルは標品とも完全に一致し
た。
（１）融点65〜66℃ （２）MMRスペクトル （３）赤外線吸収スペクトル 3351cm-1 OH伸縮 参考製造例１ ｐ−tert−ブトキシフェニルプロパノー
ルの製造法 撹拌機および還流コンデンサーを取り付け、窒素置換
し、乾燥した１容量の４径フラスコにｐ−tert−ブト
キシフェニルマグネシウムクロリド（1.5モル／）の
テトラヒドロフラン溶液667ml（1.0モル）を入れ、続い
て塩化第一銅1.0g（0.01モル）を加えた。そしてこれ
に、予めメチルマグネシウムクロライド82.3g（1.1モ
ル）と３−クロロ−１−プロパノール94.5g（1.0モル）
を反応させて得た３−クロロプロポキシマグネシウムク
ロライド153.3g（1.0モル）を50〜70℃で２時間かけて
滴下し、さらに同温度で２時間撹拌を続けた。次いで、
飽和の塩化アンモニウム水溶液500ml中に反応液を注ぎ
込んで処理し、さらにトルエン500mlを加えて有機層を
分液した。そして、水洗後、無水芒硝で脱水して溶媒を
留去し、減圧条件で蒸留して、沸点140℃/2mmHgの留分
としてｐ−tert−ブトキシフェニルプロパノール189.6g
（ガスクロマトグラフィー純度 99.8％、収率91.8％）
を得た。
ルの製造法 撹拌機および還流コンデンサーを取り付け、窒素置換
し、乾燥した１容量の４径フラスコにｐ−tert−ブト
キシフェニルマグネシウムクロリド（1.5モル／）の
テトラヒドロフラン溶液667ml（1.0モル）を入れ、続い
て塩化第一銅1.0g（0.01モル）を加えた。そしてこれ
に、予めメチルマグネシウムクロライド82.3g（1.1モ
ル）と３−クロロ−１−プロパノール94.5g（1.0モル）
を反応させて得た３−クロロプロポキシマグネシウムク
ロライド153.3g（1.0モル）を50〜70℃で２時間かけて
滴下し、さらに同温度で２時間撹拌を続けた。次いで、
飽和の塩化アンモニウム水溶液500ml中に反応液を注ぎ
込んで処理し、さらにトルエン500mlを加えて有機層を
分液した。そして、水洗後、無水芒硝で脱水して溶媒を
留去し、減圧条件で蒸留して、沸点140℃/2mmHgの留分
としてｐ−tert−ブトキシフェニルプロパノール189.6g
（ガスクロマトグラフィー純度 99.8％、収率91.8％）
を得た。
このようにして得たｐ−tert−ブトキシフェニルプロ
パノールの理化学的性質は次に示すとおりであった。
パノールの理化学的性質は次に示すとおりであった。
（１）元素分析値 Ｃ（％） Ｈ（％） 計算値 75.0 9.7 実測値 75.2 9.8 （２）NMRスペクトル （３）赤外線吸収スペクトル 3350cm-1 OH伸縮 比較製造例 ｐ−ｎ−ブトキシフェニルプロパノール20.8g（0.1モ
ル）および濃塩酸30g（0.3モル）を100ml入れ、25〜30
℃で２時間撹拌を続けたが、全く変化はなかった。さら
に還流温度で５時間撹拌を続けても変化はなかった。同
様に上記の濃塩酸に代えて濃臭化水素酸30gを加えて還
流温度で５時間撹拌を続けたところ、原料は消失してい
たが、目的とするｐ−ヒドロキシフェニルプロパノール
は得られず、副生成物としてアルコール部分が臭素化さ
れたｐ−ｎ−ブトキシフェニルプロピルブロマイドと一
部にｐ−ヒドロキシフェニルプロピルブロマイドがそれ
ぞれ生成した。
ル）および濃塩酸30g（0.3モル）を100ml入れ、25〜30
℃で２時間撹拌を続けたが、全く変化はなかった。さら
に還流温度で５時間撹拌を続けても変化はなかった。同
様に上記の濃塩酸に代えて濃臭化水素酸30gを加えて還
流温度で５時間撹拌を続けたところ、原料は消失してい
たが、目的とするｐ−ヒドロキシフェニルプロパノール
は得られず、副生成物としてアルコール部分が臭素化さ
れたｐ−ｎ−ブトキシフェニルプロピルブロマイドと一
部にｐ−ヒドロキシフェニルプロピルブロマイドがそれ
ぞれ生成した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 37/055 9155−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 37/055 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 梅野 正行 神奈川県茅ケ崎市茅ケ崎521―３ 審査官 柳 和子 (56)参考文献 特許2594826（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（II） （式中、ｎは３〜５の整数を示す。） で表されるｐ−またはｍ−tert−ブトキシフェニルアル
キルアルコールに、塩酸、塩化水素および硫酸のいずれ
か１種を反応させることを特徴とする 一般式（Ｉ） （式中、ｎは、３〜５の整数を示す。） で表されるｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルキル
アルコールの製造法。 - 【請求項２】一般式（II） （式中、ｎは３〜５の整数を示す。） で表されるｐ−またはｍ−tert−ブトキシフェニルアル
キルアルコールに、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸および強酸性イオン交換樹脂のいずれか１種を
添加して減圧下でイソブチレンを反応系外に留去させる
ことを特徴とする 一般式（Ｉ） （式中、ｎは、３〜５の整数を示す。） で表されるｐ−またはｍ−ヒドロキシフェニルアルキル
アルコールの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1038244A JP2717689B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | ｐ―またはｍ―ヒドロキシフェニルアルキルアルコールの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1038244A JP2717689B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | ｐ―またはｍ―ヒドロキシフェニルアルキルアルコールの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02218632A JPH02218632A (ja) | 1990-08-31 |
| JP2717689B2 true JP2717689B2 (ja) | 1998-02-18 |
Family
ID=12519895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1038244A Expired - Lifetime JP2717689B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | ｐ―またはｍ―ヒドロキシフェニルアルキルアルコールの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2717689B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2594826B2 (ja) | 1988-11-21 | 1997-03-26 | 北興化学工業株式会社 | ｐ−またはｍ−ヒドロキシフェネチルアルコールの製造法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63292350A (ja) * | 1987-05-26 | 1988-11-29 | Nec Corp | メモリ回路 |
-
1989
- 1989-02-20 JP JP1038244A patent/JP2717689B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2594826B2 (ja) | 1988-11-21 | 1997-03-26 | 北興化学工業株式会社 | ｐ−またはｍ−ヒドロキシフェネチルアルコールの製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02218632A (ja) | 1990-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4467112A (en) | Process for producing p-n-alkylbenzoic acid | |
| JP2717689B2 (ja) | ｐ―またはｍ―ヒドロキシフェニルアルキルアルコールの製造法 | |
| JP2586950B2 (ja) | ｐ‐又はｍ‐ｔｅｒｔ―ブトキシベンズアルデヒドの製造法 | |
| JP2594826B2 (ja) | ｐ−またはｍ−ヒドロキシフェネチルアルコールの製造法 | |
| JPS642109B2 (ja) | ||
| CA2189193A1 (en) | Process for producing all trans-form polyprenols | |
| JP2586949B2 (ja) | ｐ―又はｍ―ヒドロキシベンズアルデヒドの製造法 | |
| JP2573521B2 (ja) | ｐーｔｅｒｔーブトキシフェニルアルキルアルコールおよびその製造法 | |
| CA1271495A (en) | 1,1-(3-ethylphenyl)phenylethylene and method for preparing it | |
| JP2585628B2 (ja) | ハロゲンアルコールの製法 | |
| US5239104A (en) | Method to prepare alklyl xanthates of phenols | |
| US6855845B2 (en) | Process for the preparing bromoisophithalic acid compound | |
| EP0307106B1 (en) | P- or m-tert butoxyphenethyl alcohol and process for preparing the same | |
| JP5000031B2 (ja) | 芳香族−ｏ−ジアルデヒド化合物の製造方法 | |
| EP1102737B1 (en) | Method for the conversion of 3- and 4-methylcatechol to benzaldehyde | |
| EP0411035B1 (en) | Process for preparing 2-bromoethyl acetate | |
| JPH03127753A (ja) | ４―クロロ―４′―ヒドロキシベンゾフェノン類の製造法 | |
| JPS6056693B2 (ja) | ハロゲン化プロピオン酸誘導体の製法 | |
| JP3340761B2 (ja) | パラ−第三級ブトキシ−α−メチルスチレンの製造法 | |
| JPH0699352B2 (ja) | ｐ―またはｍ―〔２―（メトキシ）エチル〕フェノールの合成法 | |
| CA1277680C (en) | 3,3,4-trimethyl-4-chloro-2-pentanone, 1-halo derivates and process therefor | |
| GB2047235A (en) | Process for the preparation of 3-phenoxybenzene derivatives | |
| JP4243397B2 (ja) | 新規な不飽和２級アルコールおよびその製造法 | |
| JP2555173B2 (ja) | ３ーフェノキシベンジル２ー（４ーアルコキシフェニル）ー２ーメチルプロピルエーテル類の分離法 | |
| JPH06329655A (ja) | ポリアルキル−２−アルコキシ−７−ヒドロキシクロマンの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081114 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081114 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091114 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091114 Year of fee payment: 12 |