JPH01103688A - フツ素化炭化水素系混合物 - Google Patents

フツ素化炭化水素系混合物

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JPH01103688A
JPH01103688A JP62259645A JP25964587A JPH01103688A JP H01103688 A JPH01103688 A JP H01103688A JP 62259645 A JP62259645 A JP 62259645A JP 25964587 A JP25964587 A JP 25964587A JP H01103688 A JPH01103688 A JP H01103688A
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JP
Japan
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mixture
fluorinated hydrocarbon
weight
dichloro
hydrocarbon mixture
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Pending
Application number
JP62259645A
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Akio Asano
浅野 昭雄
Masato Fukushima
正人 福島
Shinobu Tsuchiya
土屋 忍
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents
    • C11D7/5036Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
    • C11D7/504Azeotropic mixtures containing halogenated solvents all solvents being halogenated hydrocarbons
    • C11D7/5045Mixtures of (hydro)chlorofluorocarbons
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/028Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
    • C23G5/02809Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
    • C23G5/02825Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine containing hydrogen
    • C23G5/02829Ethanes
    • C23G5/02832C2H3Cl2F

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系混
合物に関するものである。
[従来の技術] フッ素化炭化水素系化合物(以下単にフロンという)は
、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標準
沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これら
の特性を生かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは
冷媒等として種々のフロンが使われている0例えば、溶
剤として1,1.2−トリクロロ−1,2,2−)リフ
ルー)1−ロエタン(R113)が、発泡剤としてトリ
クロロモノフルオロメタン(R11)が、プロペラント
や冷媒としてジクロロ−ジフルオロメタン(R12)が
使われている・ [発明の解決しようとする問題点] 化学的に特に安定なR11,R12,R113は対流圏
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用を規制する動きがある。このた
め、これらの従来のフロンに替わり、オゾン層を破壊し
にくい代替フロンの探索が活発に行なわれている。
本発明は、従来のフロンが有している優れた特性を満足
しながら代替フロンとして使用できる新規なフロン混合
物を提供することを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段] 本発明はテトラクロロジフルオロエタン及び1.2−ジ
クロロ−1−フルオロエタンからなるフッ素化炭化水素
系混合物に関するものである0本発明の混合物は不燃又
は難燃性であるとともに共沸組成が存在し、特に洗浄溶
剤として従来のR113よのも洗浄力が高いため、R1
13の代替として極めて有用なものである。
本発明における1、2−ジクロロ−1−フルオロエタン
(R141)は可燃性であるが、不燃性のテトラクロロ
ジフルオロエタンを混合することにより不燃または難燃
性とすることができる。テトラクロロジフルオロエタン
にはテトラクロロ−1,2−ジフルオロエタン(R11
2)、テトラクロロ−1,1−ジフルオロエタン(R1
12a)の異性体が知られているが、物性が互いに類似
しているため、これらを単独で用いてもよく、これらの
混合物として用いてもよい。以下の説明においてはR1
12を用いた例を示す。
リサイクルしても組成の変動が少ないこと、又従来の単
一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅な変更を
要しないこと等の利点があることから、本発明の混合物
としてはR112が10〜30重量%及びR141が7
0〜90重量%、好ましくはR112が15〜25重量
%及びR141が75〜85重量%である共沸混合物に
近い組成を有する混合物から選定するとよい、さらに好
ましくはR112の約17重量%とR141の約83重
量%からなる共沸混合物である。
本発明の混合物には、用途に応じてその他の成分をさら
に添加混合することができる0例えば、溶剤としての用
途においては、ペンタン、インペンタン、ヘキサン、イ
ソヘキサン、ヘプタン、イソへブタン等の炭化水素類、
ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等のニト
ロアルカン類、ジエチルアミン、トリエチルアミン、イ
ソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、
等のアミン類、メタノール、エタノール、n−プロピル
アルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノール
、i−ブタノール、等のアルコール類、メチルセロソル
フ、テトラヒドロフラン、1.4−ジオキサン等のエー
テル類、アセトン、メチルエチルケトン。
メチルブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル等のエステル類等から選ばれる1種
又は2種以上を添加混合することができる。
R112及びR141からなる本発明の混合物は、従来
のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用で
き、特に溶剤として用いた場合、従来のR113に比べ
溶解力が高いため好適である。
溶剤の具体的な用途としては、フラックス、グリース、
油、ワックス、インキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽出剤
、ガラス、セラミックス、プラスチック、ゴム、金属製
各種物品、特にIC部品、電気機器、精密機械、光学レ
ンズ等の洗浄剤や水切り剤等を挙げることができる。洗
浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音
波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
[実施例] 実施例1 下記の組成から成る溶剤混合物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大気圧下で
蒸留を行なった。
(組 成)     (重量%) R112(沸点92.8℃)15 R141(沸点75.7℃)85 その結果78.0℃に於て留分400g得た。このもの
をガスクロマトグラフで測定した結果、次の組成であっ
た・ (組 J&)(重量%) R1121ft、9 R14183,1 実施例2 本発明の混合物(R112/R141=17重量%/8
3重量%)を用いてフラックスの洗浄試験を行なった。
プリント基板全面にフラックスを塗布し、200°Cの
電気炉で2分間焼成後、本発明の前記混合物に1分間浸
漬した。比較例としてR113についても同様の試験を
行なった。フラックスの除去の度合を第1表に示す。
第1表 O;完全に除去、  O;微量残存 Δ;少量残存、   X;かなり残存 実施例3 実施例2の混合物(R112/R141=17重量%/
83重量%)についてペンスキーマルテンス式測定法(
JIS−に22Ei5)に従って、測定したところ引火
点がなく不燃であることが確認された。
[発明の効果] 本発明のフッ素化炭化水素系混合物は、不燃又は難燃性
で従来のフロンが有している優れた特性を満足しながら
代替フロンとして使用できるとともに、共沸点が存在す
るため、リサイクル時に組成変動がない、従来の単一フ
ロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅な変更を要し
ない等の利点がある。又、溶剤としてよく使われている
R113よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れる
ためR113に替わる洗浄溶剤として好適である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、テトラクロロジフルオロエタン及び1,2−ジクロ
    ロ−1−フルオロエタンからなるフッ素化炭化水素系混
    合物。 2、テトラクロロジフルオロエタン10〜30重量%及
    び1,2−ジクロロ−1−フルオロエタン70〜90重
    量%からなる特許請求の範囲第1項記載の混合物。
JP62259645A 1987-10-16 1987-10-16 フツ素化炭化水素系混合物 Pending JPH01103688A (ja)

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