JP7410458B2 - 1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体、1,4-ジシアノシクロヘキサン、及び1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 - Google Patents
1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体、1,4-ジシアノシクロヘキサン、及び1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7410458B2 JP7410458B2 JP2020513443A JP2020513443A JP7410458B2 JP 7410458 B2 JP7410458 B2 JP 7410458B2 JP 2020513443 A JP2020513443 A JP 2020513443A JP 2020513443 A JP2020513443 A JP 2020513443A JP 7410458 B2 JP7410458 B2 JP 7410458B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cyclohexanedicarboxylic acid
- reaction
- dicyanocyclohexane
- ammonia
- acid derivative
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical class OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 141
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 54
- MGWYSXZGBRHJNE-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-dicarbonitrile Chemical compound N#CC1CCC(C#N)CC1 MGWYSXZGBRHJNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 41
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 88
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 72
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 61
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 40
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 32
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 238000007333 cyanation reaction Methods 0.000 claims description 24
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 12
- LJYTWOBAOVEHBG-UHFFFAOYSA-N azane;cyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical group N.N.OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 LJYTWOBAOVEHBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 114
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 77
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 63
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 36
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 33
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 27
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 19
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 18
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 17
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 13
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 description 11
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N [methyl(oxido){1-[6-(trifluoromethyl)pyridin-3-yl]ethyl}-lambda(6)-sulfanylidene]cyanamide Chemical compound N#CN=S(C)(=O)C(C)C1=CC=C(C(F)(F)F)N=C1 ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 9
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 6
- PXHPWRHFPVALSQ-UHFFFAOYSA-N azane;cyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound N.OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXHPWRHFPVALSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 3
- WMEXDXWNPYTTQQ-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarbonitrile Chemical compound N#CC1(C#N)CCCCC1 WMEXDXWNPYTTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWUNKULTLYLLTH-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-dicarboxamide Chemical compound NC(=O)C1CCC(C(N)=O)CC1 ZWUNKULTLYLLTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VBYBGBPSJCHNFW-UHFFFAOYSA-N diazanium cyclohexane-1,1-dicarboxylate Chemical compound N.N.OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 VBYBGBPSJCHNFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1 GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SPURMHFLEKVAAS-UHFFFAOYSA-N 1-docosene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC=C SPURMHFLEKVAAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADOBXTDBFNCOBN-UHFFFAOYSA-N 1-heptadecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC=C ADOBXTDBFNCOBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BXDZOYLPNAIDOC-UHFFFAOYSA-N N-[5-[(5-tert-butyl-1,3-oxazol-2-yl)methylsulfanyl]-1,3-thiazol-2-yl]-1-[2-[2-[2-[2-[2-[[2-(2,6-dioxopiperidin-3-yl)-1,3-dioxoisoindol-4-yl]amino]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethylamino]-2-oxoethyl]piperidine-4-carboxamide Chemical compound CC(C)(C)c1cnc(CSc2cnc(NC(=O)C3CCN(CC(=O)NCCOCCOCCOCCNc4cccc5C(=O)N(C6CCC(=O)NC6=O)C(=O)c45)CC3)s2)o1 BXDZOYLPNAIDOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 2
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005576 amination reaction Methods 0.000 description 2
- SESFRYSPDFLNCH-UHFFFAOYSA-N benzyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 SESFRYSPDFLNCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2,2'-diol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1O IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1 NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A dialuminum;hexamagnesium;carbonate;hexadecahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Al+3].[Al+3].[O-]C([O-])=O GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A 0.000 description 2
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HOWGUJZVBDQJKV-UHFFFAOYSA-N docosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC HOWGUJZVBDQJKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- NDJKXXJCMXVBJW-UHFFFAOYSA-N heptadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC NDJKXXJCMXVBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001701 hydrotalcite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229960001545 hydrotalcite Drugs 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- LQERIDTXQFOHKA-UHFFFAOYSA-N nonadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC LQERIDTXQFOHKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- MCVUKOYZUCWLQQ-UHFFFAOYSA-N tridecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 MCVUKOYZUCWLQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- DTGGNTMERRTPLR-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)CC1=CC=CC=C1 DTGGNTMERRTPLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTKCEEWUXHVZQI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylethanone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)CC1=CC=CC=C1 OTKCEEWUXHVZQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROHUXHMNZLHBSF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NCC1CCC(CN=C=O)CC1 ROHUXHMNZLHBSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVTQYSFCFOGITD-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(Cl)=CC=C1Cl QVTQYSFCFOGITD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPCWDVLDJVZIHA-UHFFFAOYSA-N 2-naphthalen-2-ylacetonitrile Chemical compound C1=CC=CC2=CC(CC#N)=CC=C21 LPCWDVLDJVZIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHYGLAZPRJAEZ-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethyl)-2-(2-methylphenyl)-1,3-thiazole Chemical compound CC1=CC=CC=C1C1=NC(CCl)=CS1 QSHYGLAZPRJAEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N Glycerol trioctadecanoate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZAHJRZBUWYCBM-UHFFFAOYSA-N [1-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1(CN)CCCCC1 XZAHJRZBUWYCBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004067 aliphatic alkene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 230000009435 amidation Effects 0.000 description 1
- 238000007112 amidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Chemical class CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 229960002903 benzyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- XGRJZXREYAXTGV-UHFFFAOYSA-N chlorodiphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(Cl)C1=CC=CC=C1 XGRJZXREYAXTGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- AVKNGPAMCBSNSO-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethanamine Chemical compound NCC1CCCCC1 AVKNGPAMCBSNSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIWBLJMBLGWSIN-UHFFFAOYSA-L dichlorotris(triphenylphosphine)ruthenium(ii) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ru+2].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WIWBLJMBLGWSIN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGXGAUQEMYSVJM-UHFFFAOYSA-N hexadecanenitrile Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC#N WGXGAUQEMYSVJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHLUYCJZUXOUBX-UHFFFAOYSA-N nonadec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC=C NHLUYCJZUXOUBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVMYOBBALQKLKK-UHFFFAOYSA-N nonadecene Natural products CCCCCCCCCCCC=CCCCCCC UVMYOBBALQKLKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N oxorhenium Chemical compound [Re]=O DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000010734 process oil Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003282 rhenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910003449 rhenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N scandium oxide Chemical compound O=[Sc]O[Sc]=O HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- RHSBIGNQEIPSCT-UHFFFAOYSA-N stearonitrile Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC#N RHSBIGNQEIPSCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLRCLPRHEOPXLL-UHFFFAOYSA-N tetradecanenitrile Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC#N MLRCLPRHEOPXLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZALLXAUNPOCEU-UHFFFAOYSA-N tetradecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 JZALLXAUNPOCEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- LZTRCELOJRDYMQ-UHFFFAOYSA-N triphenylmethanol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C1=CC=CC=C1 LZTRCELOJRDYMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FKVMWDZRDMCIAJ-UHFFFAOYSA-N undecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCC(N)=O FKVMWDZRDMCIAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBEADGFTLHRJRB-UHFFFAOYSA-N undecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 XBEADGFTLHRJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C51/43—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/44—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers
- C07C209/48—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers by reduction of nitriles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C211/00—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C211/01—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C211/16—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton containing rings other than six-membered aromatic rings
- C07C211/18—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton containing rings other than six-membered aromatic rings containing at least two amino groups bound to the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/22—Preparation of carboxylic acid nitriles by reaction of ammonia with carboxylic acids with replacement of carboxyl groups by cyano groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
- C07C255/45—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
- C07C255/46—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings to carbon atoms of non-condensed rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/347—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups
- C07C51/36—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups by hydrogenation of carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C61/00—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
- C07C61/08—Saturated compounds having a carboxyl group bound to a six-membered ring
- C07C61/09—Completely hydrogenated benzenedicarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B2200/00—Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
- C07B2200/13—Crystalline forms, e.g. polymorphs
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B61/00—Other general methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
(1)
1,4-シクロヘキサンジカルボン酸のアンモニア水溶液を加熱濃縮することにより、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体を結晶として析出させる工程を有する、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体の製造方法。
(2)
前記1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体が1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩、及び/又は4-カルボキサミドシクロヘキサン-1-カルボン酸である、(1)の製造方法。
(3)
前記1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量が、前記1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.01~2.00である、(2)の製造方法。
(4)
前記工程において、加熱濃縮時の温度が30~200℃である、(1)~(3)のいずれかの製造方法。
(5)
前記工程において、加熱濃縮時の圧力が0.003~2MPaである、(1)~(4)のいずれかの製造方法。
(6)
前記1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体のトランス体の含有量が70.0~99.9質量%である、(1)~(5)のいずれかの製造方法。
(7)
前記1,4-シクロヘキサンジカルボン酸のアンモニア水溶液を、テレフタル酸のアンモニア水溶液を核水添することにより得る、(1)~(6)のいずれかの製造方法。
(8)
(1)~(7)のいずれかの製造方法により得られた1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体をアンモニアと接触させてシアノ化反応させることにより1,4-ジシアノシクロヘキサンを得る工程を有する、1,4-ジシアノシクロヘキサンの製造方法。
(9)
(8)の方法により得られた1,4-ジシアノシクロヘキサンを水素と接触させて水素添加反応させることにより、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンを得る工程を有する、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
核水添工程は懸濁床(回分式、半回分式)、固定床(連続式)のいずれの反応方式を採用してもよい。懸濁床では、例えば、まず、反応器内に触媒と水とを仕込んだ後に、その反応器内に水素ガスを所定の圧力になるまで導入し、その圧力を維持して加熱しながら懸濁液を撹拌して、触媒を還元することで活性化する。触媒としては、例えば、通常の核水添反応に用いられる触媒を採用することができ、具体的には、Ru、Pd、Pt及びRhのような1種又は2種以上の金属触媒、好ましくは貴金属触媒を用いることができる。触媒は、上記の活性成分としての金属触媒を、カーボン、Al2O3、SiO2、SiO2-Al2O3、TiO2、及びZrO2のような通常用いられる1種又は2種以上の担体上に担持したものであってもよい。担体を用いた場合の活性成分である金属触媒の担持量は、担体100質量%に対して、0.1~10質量%であることが好ましい。
内径17mmφ及び長さ320mmを有するSUS316製の反応管に、事前に250℃で2時間気相水素還元を実施した触媒である2%Ru/C(エヌ・イー ケムキャット製)12.63gを充填した。テレフタル酸8質量%アンモニア水溶液(アンモニア/テレフタル酸=2.3mol比)を、15~27g/時間、圧力3~9MPaG、水素0.9~1.1L/時間の条件で核水添反応を実施した。反応開始から60時間後(90℃、7MPaG、原料流量15.4g/時間、水素0.9L/時間)の段階でテレフタル酸の転化率は100%となり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の収率は99.9%となった。反応開始から1351時間後(75℃、5MPG、原料流量26.6g/時間、水素1.1L/時間)の段階でテレフタル酸の転化率100%、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の収率99.9%となった。反応中、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸のtrans体の含有量は20~24%で推移した。
反応液はHPLC(島津製作所製 製品名「Prominence」、カラム:ショウデックス製型式名「KC-811」、条件:溶離液:リン酸0.1質量%水溶液、流速0.7mL/min、カラム温度50℃、フォトダイオードアレイ検出器)により分析した。
(合成例2-1)
攪拌羽、熱電対、冷却器、及び受器を有する300mlの4口フラスコ(フラスコ)内に東京化成株式会社製の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸16.11g、28%アンモニア水11.38g、及び水172.90gを仕込んだ。300rpmで攪拌しながら、オイルバスにより、フラスコ内を常圧にて150℃に加熱した。フラスコ内の液温が105℃となるときから留出が始まり、留出量が170.7gとなった段階で加熱を停止し、反応液を冷却した。冷却後、反応液を濾過し、結晶を回収した。得られた結晶を真空乾燥後に元素分析を行うと、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で1.14であった。1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は加熱濃縮前後で変化は見られなかった。
攪拌羽、熱電対、冷却器、受器、及び減圧装置を有する300mlの4口フラスコ(フラスコ)内に1,4-シクロヘキサンジカルボン酸16.11g、28%アンモニア水11.38g、及び水172.90gを仕込んだ。300rpmで攪拌しながら、オイルバスにより、フラスコ内を減圧(20kPa)にて90℃に加熱した。フラスコ内の液温が65℃となるとき留出が始まり、留出量が168.7gとなった段階で加熱を停止し、反応液を冷却した。冷却後、反応液を濾過し、結晶を回収した。得られた結晶を真空乾燥後に元素分析を行うと、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で1.61であった。1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は加熱濃縮前後で変化は見られなかった。
攪拌羽、熱電対、冷却器、受器、及び減圧装置を有する300mlの4口フラスコ(フラスコ)内に1,4-シクロヘキサンジカルボン酸16.11g、28%アンモニア水11.38g、及び水172.90gを仕込んだ。300rpmで攪拌しながら、オイルバスにより、フラスコ内を減圧(4.5kPa)にて70℃に加熱した。液温35℃から留出が始まり、留出量が159.2gとなった段階で加熱を停止し、反応液を冷却した。冷却後、反応液を濾過し、結晶を回収した。得られた結晶を真空乾燥後に元素分析を行うと、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で1.81であった。1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は加熱濃縮前後で変化は見られなかった。
攪拌羽、熱電対、圧力計、冷却器、及び受器を有する300mlのSUS316製の耐圧容器内に1,4-シクロヘキサンジカルボン酸16.12g、28%アンモニア水12.55g、及び水171.94gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が140℃に到達するまで昇温した。140℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。140℃到達後の内圧は0.41MPaGであり、留出中の内圧は0.26MPaGであった。留出量が137.05gになった段階で加熱を停止し、反応液を冷却した。冷却後、反応液を濾過し、結晶を回収した。得られた1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体は0.89gとなり、trans体の含有量は91.8%となった。
攪拌羽、熱電対、圧力計、冷却器、及び受器を有する300mlのSUS316製の耐圧容器内に1,4-シクロヘキサンジカルボン酸16.12g、28%アンモニア水12.55g、及び水171.94gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が160℃に到達するまで昇温した。160℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。160℃到達後の内圧は0.57MPaGであり、留出中の内圧は0.47MPaGであった。留出量が131.21gになった段階で加熱を停止し、反応液を冷却した。冷却後、反応液を濾過し、結晶を回収した。得られた1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体は1.55gとなり、trans体の含有量は90.9%となった。
攪拌羽、熱電対、圧力計、冷却器、及び受器を有する300mlのSUS316製の耐圧容器内に1,4-シクロヘキサンジカルボン酸16.12g、28%アンモニア水12.55g、及び水171.94gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が200℃に到達するまで昇温した。200℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。200℃到達後の内圧は1.38MPaGであり、留出中の内圧は1.32MPaGであった。留出量が136.39gになった段階で加熱を停止し、反応液を冷却した。冷却後、反応液を濾過し、結晶を回収した。得られた1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体は7.82gとなり、trans体の含有量は98.4%となった。
(1回目の加熱濃縮)
攪拌羽、熱電対、圧力計、冷却器、及び受器を有する300mlのSUS316製の耐圧容器内に合成例1-1で製造した反応液(反応開始から541~962時間の間に定期的に抽出した反応液)155.58gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が180℃に到達するまで昇温した。180℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。180℃到達後の内圧は0.91MPaGであり、留出中の内圧は0.71MPaGであった。留出量が105.23gになった段階で加熱を停止し、反応液を45℃まで冷却した。内温が45℃到達した後、反応液を濾過し、結晶と母液を回収した。得られた結晶の真空乾燥後の重量は3.04g、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.06であった。1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は96.40%となった。得られた母液の重量は40.92gとなり、ほぼ全量2回目の加熱濃縮に用いた。
攪拌羽、熱電対、圧力計、冷却器、及び受器を有する300mlのSUS316製の耐圧容器内に後述する合成例1-1で製造した反応液(反応開始から541~962時間の間に定期的に抽出した反応液)155.58g、1回目の加熱濃縮後の母液40.82gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が180℃に到達するまで昇温した。180℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。180℃到達後の内圧は0.87MPaGであり、留出中の内圧は0.75MPaGであった。留出量が138.16gになった段階で加熱を停止し、反応液を45℃まで冷却した。内温が45℃到達後、反応液を濾過し、結晶と母液を回収した。得られた結晶の真空乾燥後の重量は7.04gであり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.14であり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は94.87%となった。得られた母液の重量は47.76gとなり、ほぼ全量3回目の加熱濃縮に用いた。
耐圧容器内に合成例1-1で製造した反応液(反応開始から541~962時間の間に定期的に抽出した反応液)155.61g、2回目の加熱濃縮の母液47.42gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が180℃に到達するまで昇温した。180℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。180℃到達後の内圧は0.86MPaGであり、留出中の内圧は0.70MPaGであった。留出量が141.06gになった段階で加熱を停止し、反応液を45℃まで冷却した。内温が45℃到達後、反応液を濾過し、結晶と母液を回収した。得られた結晶の真空乾燥後の重量は10.23g、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.33であり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は89.17%となった。得られた母液の重量は47.03gとなり、ほぼ全量4回目の加熱濃縮に用いた。
耐圧容器内に合成例1-1で製造した反応液(反応開始から541~962時間の間に定期的に抽出した反応液)155.62g、3回目の加熱濃縮の母液46.78gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が180℃に到達するまで昇温した。180℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。180℃到達後の内圧は0.85MPaGであり、留出中の内圧は0.70MPaGであった。留出量が138.87gになった段階で加熱を停止し、反応液を45℃まで冷却した。内温が45℃到達後、反応液を濾過し、結晶と母液を回収した。得られた結晶の真空乾燥後の重量は8.78g、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.30であり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は89.22%となった。得られた母液の重量は46.36gとなり、ほぼ全量5回目の加熱濃縮に用いた。
耐圧容器内に合成例1-1で製造した反応液(反応開始から541~962時間の間に定期的に抽出した反応液)155.88g、4回目の加熱濃縮の母液47.21gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が180℃に到達するまで昇温した。180℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。180℃到達後の内圧は0.85MPaGであり、留出中の内圧は0.69MPaGであった。留出量が139.62gになった段階で加熱を停止し、反応液を45℃まで冷却した。内温が45℃到達後、反応液を濾過し、結晶と母液を回収した。得られた結晶の真空乾燥後の重量は14.75g、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.43であり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は83.14%となった。得られた母液の重量は43.96gとなり、ほぼ全量6回目の加熱濃縮に用いた。
耐圧容器内に合成例1-1で製造した反応液(反応開始から541~962時間の間に定期的に抽出した反応液)155.61g、5回目の加熱濃縮の母液44.08gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が180℃に到達するまで昇温した。180℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。180℃到達後の内圧は0.85MPaGであり、留出中の内圧は0.65MPaGであった。留出量が141.61gになった段階で加熱を停止し、反応液を45℃まで冷却した。内温が45℃到達後、反応液を濾過し、結晶と母液を回収した。得られた結晶の真空乾燥後の重量は12.82g、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.39であり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は80.85%となった。得られた母液の重量は37.45gとなり、ほぼ全量7回目の加熱濃縮に用いた。
耐圧容器内に合成例1-1で製造した反応液(反応開始から541~962時間の間に定期的に抽出した反応液)155.58g、6回目の加熱濃縮の母液33.33gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が180℃に到達するまで昇温した。180℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。180℃到達後の内圧は0.85MPaGであり、留出中の内圧は0.65MPaGであった。留出量が125.4gになった段階で加熱を停止し、反応液を45℃まで冷却した。内温が45℃到達後、反応液を濾過し、結晶と母液を回収した。得られた結晶の真空乾燥後の重量は9.81g、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.31であり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は87.00%となった。得られた母液の重量は50.33gとなり、ほぼ全量8回目の加熱濃縮に用いた。
耐圧容器内に合成例1-1で製造した反応液(反応開始から541~962時間の間に定期的に抽出した反応液)155.62g、7回目の加熱濃縮の母液49.92gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が180℃に到達するまで昇温した。180℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。180℃到達後の内圧は0.85MPaGであり、留出中の内圧は0.65MPaGであった。留出量が138.7gになった段階で加熱を停止し、反応液を45℃まで冷却した。内温が45℃到達後、反応液を濾過し、結晶と母液を回収した。得られた結晶の真空乾燥後の重量は10.29g、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.31であり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は90.72%となった。得られた母液の重量は50.97gとなり、ほぼ全量9回目の加熱濃縮に用いた。
耐圧容器内に合成例1-1で製造した反応液(反応開始から541~962時間の間に定期的に抽出した反応液)155.67g、8回目の加熱濃縮の母液51.21gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が180℃に到達するまで昇温した。180℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。180℃到達後の内圧は0.85MPaGであり、留出中の内圧は0.65MPaGであった。留出量が140.78gになった段階で加熱を停止し、反応液を45℃まで冷却した。内温が45℃到達後、反応液を濾過し、結晶と母液を回収した。得られた結晶の真空乾燥後の重量は15.80g、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.45であり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は82.24%となった。得られた母液の重量は45.23gとなり、ほぼ全量10回目の加熱濃縮に用いた。
耐圧容器内に合成例1-1で製造した反応液(反応開始から541~962時間の間に定期的に抽出した反応液)155.68g、9回目の加熱濃縮の母液45.17gを仕込んだ。600rpmで攪拌しながら、内温が180℃に到達するまで昇温した。180℃到達後、パージバルブを微開とし、ガス成分を冷却器で凝縮させ留分を取得した。180℃到達後の内圧は0.85MPaGであり、留出中の内圧は0.65MPaGであった。留出量が135.78gになった段階で加熱を停止し、反応液を45℃まで冷却した。内温が45℃到達後、反応液を濾過し、結晶と母液を回収した。得られた結晶の真空乾燥後の重量は10.89g、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.27であり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体中のtrans体の含有量は89.79%となった。得られた母液の重量は49.05gとなった。
(合成例3-1)
撹拌羽根、ガス導入管、熱電対及び脱水装置を有する300mLの5口フラスコ内に、合成例2-7記載の方法で製造した1,4-シクロヘキサンジカルボン酸のアンモニウム塩51.6g(1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量が、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.34)、触媒として酸化亜鉛(関東化学株式会社製)0.20g及び1,4-ジシアノシクロヘキサン50gを仕込んだ。その後、加熱を開始し、170℃で窒素ガス(流量:34NmL/min)と、アンモニアガス(流量:174NmL/min)とを導入した。さらに昇温し、270℃にて反応液でのバブリングを開始し、300℃にまで昇温した。300rpmで撹拌しながら7時間、シアノ化反応を行った。反応終了後、反応生成物をテトラヒドロフランに溶解させ、さらに液中の触媒を濾過にて除去した後、ガスクロマトグラフィー(以下、GCとも記載する。)(島津製作所社製型式名「GC2010 PLUS」、カラム:製品名「HP-5ms」、アジレント・テクノロジー株式会社製、長さ30m×内径0.25mm、膜厚0.25μm)により分析した。その結果、1,4-ジシアノシクロヘキサンの収率は90.8mol%であった。
撹拌羽根、ガス導入管、熱電対及び脱水装置を有する100mLの5口フラスコ内に、実施例2-7記載の方法で製造した1,4-シクロヘキサンジカルボン酸のアンモニウム塩51.6g(1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量が、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.34)、触媒として酸化亜鉛(関東化学株式会社製)0.20gを仕込んだ。その後、加熱を開始し、170℃で窒素ガス(流量:34NmL/min)と、アンモニアガス(流量:174NmL/min)とを導入した。さらに昇温し、270℃にて反応液でのバブリングを開始し、300℃にまで昇温した。300rpmで撹拌しながら7時間、シアノ化反応を行った。反応終了後、合成例3-1と同様の操作を行い、GCにより分析を行った。1,4-ジシアノシクロヘキサンの収率は92.8mol%であった。
撹拌羽根、ガス導入管、熱電対及び脱水装置を有する500mLの5口フラスコ内に、実施例2-7記載の方法で製造した1,4-シクロヘキサンジカルボン酸のアンモニウム塩103.2g(1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量が、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.34)、触媒として酸化亜鉛(関東化学株式会社製)0.40g及びバーレルプロセス油B-28AN(松村石油製)200gを仕込んだ。その後、加熱を開始し、170℃で窒素ガス(流量:34NmL/min)と、アンモニアガス(流量:174NmL/min)とを導入した。さらに昇温し、270℃にて反応液でのバブリングを開始し、300℃にまで昇温した。300rpmで撹拌しながら8時間、シアノ化反応を行った。反応終了後、合成例3-1と同様の操作を行い、GCにより分析を行った。1,4-ジシアノシクロヘキサンの収率は92.1mol%であった。
(合成例4-1)
300mLのSUS316製耐圧容器内に、1,4-ジシアノシクロヘキサン24.4g、溶媒としてのメタノール37.3gと28%アンモニア水(和光純薬工業株式会社製)28.4g、及び、触媒としてラネーコバルト触媒(和光純薬工業株式会社製)0.56gを仕込み、水素ガスを4.5MPaの反応圧力になるまで導入した。次いで、容器内を80℃の反応温度まで加熱し、温度を一定に保持し、容器内を電磁式攪拌羽根にて750rpmで撹拌しながら、水素添加によるアミノ化反応(ニトリル水添反応)を240分間、進行させた。反応終了後、触媒を濾過にて除去した後、ガスクロマトグラフィー(島津製作所社製型式名「GC2010 PLUS」、カラム:製品名「HP-5ms」、アジレント・テクノロジー株式会社製、長さ30m×内径0.25mm、膜厚0.25μm)により分析した。その結果、1,4-ジシアノシクロヘキサンの転化率は100%、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの選択率は97.0%、収率は97.0%であった。
300mLのSUS316製耐圧容器内に、1,4-ジシアノシクロヘキサン38.2g、溶媒としての液体アンモニア111.6g、及び、触媒としてラネーコバルト触媒(和光純薬工業株式会社製)3.31gを仕込み、水素ガスを8.0MPaの反応圧力になるまで導入した。次いで、容器内を90℃の反応温度まで加熱し、温度を一定に保持し、容器内を電磁式攪拌羽根にて750rpmで撹拌しながら、水素添加によるアミノ化反応(ニトリル水添反応)を60分間、進行させた。反応終了後、合成例4-1と同様の操作を行い、GCにより分析を行った。その結果、1,4-ジシアノシクロヘキサンの転化率は100%、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの選択率は99.4%、収率は99.4%であった。
300mLのSUS316製耐圧容器内に、テレフタル酸(東京化成工業社製)25g、触媒として5%Ru/C触媒(エヌ・イーケムキャット株式会社製、Aタイプ、含水率:52.8質量%)5.30g(乾燥ベースで2.5g)、水100g、及び5N NaOH水溶液(和光純薬製)75mlを仕込んだ。次いで、容器内を100℃の反応温度まで加熱し、温度を一定に保持し、水素ガスを8MPaの反応圧力になるまで導入し、水素圧力を一定に保持し、容器内を電磁式攪拌羽根にて800rpmで撹拌しながら、核水添反応を360分間、進行させた。反応終了後、反応液中の触媒を濾過にて除去した。次いで、反応液に5N HCl水溶液(和光純薬製)75mlを滴下し、結晶を析出させた。析出した結晶をろ過にて回収し、回収した結晶を純水で洗浄した。結晶中のNaClを除去するには純水で2回洗浄する必要があった。母液・洗浄液中にも1,4-シクロヘキサンジカルボン酸は溶解しており、ロスによる収率低下に繋がる。NaClは仕込んだNaOHとHClに対応する量が生成した。
Claims (8)
- 1,4-シクロヘキサンジカルボン酸のアンモニア水溶液を加熱濃縮することにより、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体を結晶として析出させる工程を有する、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体の製造方法であって、
前記1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体が1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩、及び/又は4-カルボキサミドシクロヘキサン-1-カルボン酸である、製造方法。 - 前記1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中のアンモニアの含有量が、前記1,4-シクロヘキサンジカルボン酸アンモニウム塩中の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量に対して、モル比で0.01~2.00である、請求項1記載の製造方法。
- 前記工程において、加熱濃縮時の温度が30~200℃である、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 前記工程において、加熱濃縮時の圧力が0.003~2MPaである、請求項1~3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体のトランス体の含有量が70.0~99.9質量%である、請求項1~4のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記1,4-シクロヘキサンジカルボン酸のアンモニア水溶液を、テレフタル酸のアンモニア水溶液を核水添することにより得る、請求項1~5のいずれか1項に記載の製造方法。
- 請求項1~6のいずれか1項に記載の製造方法により得られた1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体をアンモニアと接触させてシアノ化反応させることにより1,4-ジシアノシクロヘキサンを得る工程を有する、1,4-ジシアノシクロヘキサンの製造方法。
- 請求項7に記載の方法によって1,4-ジシアノシクロヘキサンを得て、次いで、得られた1,4-ジシアノシクロヘキサンを水素と接触させて水素添加反応させることにより、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンを得る工程を有する、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018076270 | 2018-04-11 | ||
JP2018076270 | 2018-04-11 | ||
PCT/JP2019/015726 WO2019198779A1 (ja) | 2018-04-11 | 2019-04-11 | 1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体、1,4-ジシアノシクロヘキサン、及び1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019198779A1 JPWO2019198779A1 (ja) | 2021-04-22 |
JP7410458B2 true JP7410458B2 (ja) | 2024-01-10 |
Family
ID=68163686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020513443A Active JP7410458B2 (ja) | 2018-04-11 | 2019-04-11 | 1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体、1,4-ジシアノシクロヘキサン、及び1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11472765B2 (ja) |
EP (1) | EP3778544A4 (ja) |
JP (1) | JP7410458B2 (ja) |
CN (1) | CN111954656B (ja) |
TW (1) | TWI845505B (ja) |
WO (1) | WO2019198779A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3778543B1 (en) * | 2018-04-11 | 2023-09-06 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Production methods for dicyanocyclohexane compound, and bis(aminomethyl)cyclohexane compound |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101591237A (zh) | 2009-05-21 | 2009-12-02 | 江苏康恒化工有限公司 | 反式-1,4-环己烷二甲酸的合成方法 |
JP2011006382A (ja) | 2009-04-09 | 2011-01-13 | Mitsui Chemicals Inc | トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 |
WO2012046782A1 (ja) | 2010-10-07 | 2012-04-12 | 三井化学株式会社 | トランス-1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 |
WO2014080980A1 (ja) | 2012-11-26 | 2014-05-30 | 帝人株式会社 | 1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルのシス体およびトランス体からなる混合物の製造方法 |
CN105016944A (zh) | 2014-04-16 | 2015-11-04 | 中国石化扬子石油化工有限公司 | 腈及其相应胺的制造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3296293A (en) * | 1963-11-29 | 1967-01-03 | Eastman Kodak Co | Preparation of carbocyclic dinitriles |
JPS5010581A (ja) | 1973-05-25 | 1975-02-03 | ||
JPH0627108B2 (ja) * | 1988-10-03 | 1994-04-13 | 昭和電工株式会社 | 4−カルボキサミドシクロヘキサンカルボン酸エステル類の製造方法 |
US5202475A (en) | 1990-09-27 | 1993-04-13 | Eastman Kodak Company | Process for preparation of cyclohexanedicarboxylic acid |
US5552438A (en) * | 1992-04-02 | 1996-09-03 | Smithkline Beecham Corporation | Compounds useful for treating allergic and inflammatory diseases |
JPH08157419A (ja) * | 1994-12-01 | 1996-06-18 | Teijin Ltd | ジメチル トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボキシレートの製造方法 |
JP2002069032A (ja) | 2000-08-28 | 2002-03-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸の精製方法 |
CN101821309A (zh) | 2007-10-15 | 2010-09-01 | 三井化学株式会社 | 聚氨酯树脂 |
CN101591263B (zh) * | 2009-07-07 | 2012-08-29 | 安徽丰乐香料有限责任公司 | N-乙基-2-异丙基-5-甲基环己烷甲酰胺的制备方法 |
KR101828002B1 (ko) * | 2016-09-08 | 2018-02-13 | 롯데케미칼 주식회사 | 1,3-사이클로헥산디메탄올의 제조 방법 |
JP2018076270A (ja) | 2016-11-11 | 2018-05-17 | 国立研究開発法人科学技術振興機構 | 新規な単糖類及びそれを用いた単糖類取り込み細胞検出剤 |
-
2019
- 2019-04-11 CN CN201980024974.4A patent/CN111954656B/zh active Active
- 2019-04-11 TW TW108112675A patent/TWI845505B/zh active
- 2019-04-11 WO PCT/JP2019/015726 patent/WO2019198779A1/ja unknown
- 2019-04-11 US US16/968,011 patent/US11472765B2/en active Active
- 2019-04-11 JP JP2020513443A patent/JP7410458B2/ja active Active
- 2019-04-11 EP EP19784233.9A patent/EP3778544A4/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011006382A (ja) | 2009-04-09 | 2011-01-13 | Mitsui Chemicals Inc | トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 |
CN101591237A (zh) | 2009-05-21 | 2009-12-02 | 江苏康恒化工有限公司 | 反式-1,4-环己烷二甲酸的合成方法 |
WO2012046782A1 (ja) | 2010-10-07 | 2012-04-12 | 三井化学株式会社 | トランス-1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 |
WO2014080980A1 (ja) | 2012-11-26 | 2014-05-30 | 帝人株式会社 | 1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルのシス体およびトランス体からなる混合物の製造方法 |
CN105016944A (zh) | 2014-04-16 | 2015-11-04 | 中国石化扬子石油化工有限公司 | 腈及其相应胺的制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019198779A1 (ja) | 2019-10-17 |
EP3778544A1 (en) | 2021-02-17 |
KR20200142004A (ko) | 2020-12-21 |
CN111954656B (zh) | 2023-08-01 |
US11472765B2 (en) | 2022-10-18 |
TWI845505B (zh) | 2024-06-21 |
JPWO2019198779A1 (ja) | 2021-04-22 |
CN111954656A (zh) | 2020-11-17 |
EP3778544A4 (en) | 2021-06-09 |
US20210032191A1 (en) | 2021-02-04 |
TW201943686A (zh) | 2019-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5448987B2 (ja) | トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 | |
JP5562429B2 (ja) | トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 | |
JP7410458B2 (ja) | 1,4-シクロヘキサンジカルボン酸誘導体、1,4-ジシアノシクロヘキサン、及び1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 | |
JP7184039B2 (ja) | ジシアノシクロヘキサンの製造方法 | |
JP7306274B2 (ja) | ジシアノシクロヘキサン、及びビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 | |
WO2018066447A1 (ja) | 1,4-ジシアノシクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、及び1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の製造方法 | |
KR102710321B1 (ko) | 1,4-시클로헥산디카르본산유도체, 1,4-디시아노시클로헥산, 및 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산의 제조방법 | |
JP7335555B2 (ja) | シクロヘキサンジカルボン酸類、ジシアノシクロヘキサン類、及びビス(アミノメチル)シクロヘキサン類の製造方法 | |
JP2019001746A (ja) | ジオールの製造方法 | |
JP5564088B2 (ja) | トランス−1,4−ジアミノシクロヘキサンの製造方法 | |
JPH07258239A (ja) | インデンオキサイドの精製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220304 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230329 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230512 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230816 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230915 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231205 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7410458 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |