JP2002069032A - トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸の精製方法 - Google Patents
トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸の精製方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】工業的に有利に高純度のトランス−１，４―シ
クロヘキサンジカルボン酸を得るための精製方法を提供
する。 【解決手段】粗トランス−１，４−シクロヘキサンジカ
ルボン酸を環状エーテルを含む精製溶媒と接触させて、
主要な不純物である４−メチルシクロヘキサンカルボン
酸などを選択的に精製溶媒中に溶解させた後両者を分離
する。
クロヘキサンジカルボン酸を得るための精製方法を提供
する。 【解決手段】粗トランス−１，４−シクロヘキサンジカ
ルボン酸を環状エーテルを含む精製溶媒と接触させて、
主要な不純物である４−メチルシクロヘキサンカルボン
酸などを選択的に精製溶媒中に溶解させた後両者を分離
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、トランス−１，４
−シクロヘキサンジカルボン酸（以下、「１，４−シク
ロヘキサンジカルボン酸」を「１，４−ＣＨＤＡ」と称
することがある。）の精製方法に関する。
−シクロヘキサンジカルボン酸（以下、「１，４−シク
ロヘキサンジカルボン酸」を「１，４−ＣＨＤＡ」と称
することがある。）の精製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】１，４−シクロヘキサンジメタノールを
製造する中間原料である、１，４−ＣＨＤＡは、医薬
品、合成樹脂、合成繊維又は塗料等の原料として多岐に
渡る用途を有し、特に、耐熱性、耐候性、物理的強度等
の優れた樹脂や繊維製造用の原料として有用である。
製造する中間原料である、１，４−ＣＨＤＡは、医薬
品、合成樹脂、合成繊維又は塗料等の原料として多岐に
渡る用途を有し、特に、耐熱性、耐候性、物理的強度等
の優れた樹脂や繊維製造用の原料として有用である。
【０００３】１，４−ＣＨＤＡの製造方法としては、工
業用に大量に製造されているテレフタル酸（以下、ＴＰ
Ａと称することがある。）を原料として、そのベンゼン
環を水素化する方法が一般に用いられる。この製造方法
は、大きく２つの方法に分けられる。一つは、ＴＰＡを
ナトリウム等の金属塩又は各種エステルにしてからベン
ゼン環を水素化する製造方法であり、もう一つは、ＴＰ
Ａを直接水素化する製造方法である。
業用に大量に製造されているテレフタル酸（以下、ＴＰ
Ａと称することがある。）を原料として、そのベンゼン
環を水素化する方法が一般に用いられる。この製造方法
は、大きく２つの方法に分けられる。一つは、ＴＰＡを
ナトリウム等の金属塩又は各種エステルにしてからベン
ゼン環を水素化する製造方法であり、もう一つは、ＴＰ
Ａを直接水素化する製造方法である。
【０００４】前者の製造方法は、原料ＴＰＡを一度誘導
体にしておき、水素化した後に再び酸に戻すという過程
を経るので、製造工程が複雑となり手間が余計にかかる
だけでなく、特に金属塩にしてから水素化する製造法を
用いると、製造工程から排出される廃水中の金属回収処
理の負担が大きくなるため、安価な製造法とはいえな
い。さらに、金属塩にしてから水素化する製造法では、
製品に無機塩が混入する等の問題もある。
体にしておき、水素化した後に再び酸に戻すという過程
を経るので、製造工程が複雑となり手間が余計にかかる
だけでなく、特に金属塩にしてから水素化する製造法を
用いると、製造工程から排出される廃水中の金属回収処
理の負担が大きくなるため、安価な製造法とはいえな
い。さらに、金属塩にしてから水素化する製造法では、
製品に無機塩が混入する等の問題もある。
【０００５】一方、後者の方法では、例えば特開昭５８
−１９８４３９号公報に記載されているように、ＴＰＡ
を水溶媒中でパラジウム又はルテニウムを触媒として直
接水素化する。この方法は、前者に比べ工程数が少な
く、より経済的である利点を有する。
−１９８４３９号公報に記載されているように、ＴＰＡ
を水溶媒中でパラジウム又はルテニウムを触媒として直
接水素化する。この方法は、前者に比べ工程数が少な
く、より経済的である利点を有する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＴＰＡ
を直接水素化すると、目的の化合物であるトランス−
１，４−ＣＨＤＡだけでなく、４−メチルシクロヘキサ
ンカルボン酸やシクロヘキサンカルボン酸等の不純物も
同時に生成する。これらの不純物は、トランス−１，４
―ＣＨＤＡをポリエステル樹脂の原料として用いる場合
に、重合阻害物質として作用する。従って、ＴＰＡを直
接水素化してトランス−１，４−ＣＨＤＡを得た場合に
は、副生するこれらの不純物を粗反応生成物から除去す
ることが重要である。
を直接水素化すると、目的の化合物であるトランス−
１，４−ＣＨＤＡだけでなく、４−メチルシクロヘキサ
ンカルボン酸やシクロヘキサンカルボン酸等の不純物も
同時に生成する。これらの不純物は、トランス−１，４
―ＣＨＤＡをポリエステル樹脂の原料として用いる場合
に、重合阻害物質として作用する。従って、ＴＰＡを直
接水素化してトランス−１，４−ＣＨＤＡを得た場合に
は、副生するこれらの不純物を粗反応生成物から除去す
ることが重要である。
【０００７】従来、これらの不純物を、反応生成物であ
る粗トランス−１，４−ＣＨＤＡから除去する方法とし
て、粗トランス−１，４−ＣＨＤＡを水蒸気ストリッピ
ングする方法が知られている（特開平６−１８４０４１
号公報）。しかし、この方法はスチームの消費量が多
く、経済的に高純度のトランス−１，４−ＣＨＤＡを得
ることは困難であった。
る粗トランス−１，４−ＣＨＤＡから除去する方法とし
て、粗トランス−１，４−ＣＨＤＡを水蒸気ストリッピ
ングする方法が知られている（特開平６−１８４０４１
号公報）。しかし、この方法はスチームの消費量が多
く、経済的に高純度のトランス−１，４−ＣＨＤＡを得
ることは困難であった。
【０００８】このため、ＴＰＡを直接水素化する方法に
おいて副生する、４−メチルシクロヘキサンカルボン酸
やシクロヘキサンカルボン酸などの不純物を、効率よく
除去する工業的に有利な精製方法の開発が望まれてい
た。本発明は、このような従来技術に鑑みてなされたも
のである。従って、本発明の目的は、工業的に有利にト
ランス−１，４―ＣＨＤＡを得るための精製方法を提供
する事である。
おいて副生する、４−メチルシクロヘキサンカルボン酸
やシクロヘキサンカルボン酸などの不純物を、効率よく
除去する工業的に有利な精製方法の開発が望まれてい
た。本発明は、このような従来技術に鑑みてなされたも
のである。従って、本発明の目的は、工業的に有利にト
ランス−１，４―ＣＨＤＡを得るための精製方法を提供
する事である。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、粗トラ
ンス−１，４−ＣＨＤＡを、環状エーテルを含む精製溶
媒と接触させた後両者を分離することにより、粗トラン
ス−１，４−ＣＨＤＡ中の４−メチルシクロヘキサンカ
ルボン酸やシクロヘキサンカルボン酸などの不純物を精
製溶媒中に選択的に溶解させ、これらの不純物の減少し
た精製されたトランス−１，４−ＣＨＤＡを取得するこ
とができる。
ンス−１，４−ＣＨＤＡを、環状エーテルを含む精製溶
媒と接触させた後両者を分離することにより、粗トラン
ス−１，４−ＣＨＤＡ中の４−メチルシクロヘキサンカ
ルボン酸やシクロヘキサンカルボン酸などの不純物を精
製溶媒中に選択的に溶解させ、これらの不純物の減少し
た精製されたトランス−１，４−ＣＨＤＡを取得するこ
とができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下本発明につき詳細に説明す
る。本発明で精製の対象とする粗トランス−１，４−Ｃ
ＨＤＡは、４−メチルシクロヘキサンカルボン酸やシク
ロヘキサンカルボン酸などを不純物として含有している
トランス−１，４−ＣＨＤＡであり、その代表的なもの
は、ＴＰＡを直接水素化反応して得られる粗トランス−
１，４−ＣＨＤＡである。
る。本発明で精製の対象とする粗トランス−１，４−Ｃ
ＨＤＡは、４−メチルシクロヘキサンカルボン酸やシク
ロヘキサンカルボン酸などを不純物として含有している
トランス−１，４−ＣＨＤＡであり、その代表的なもの
は、ＴＰＡを直接水素化反応して得られる粗トランス−
１，４−ＣＨＤＡである。
【００１１】ＴＰＡを直接水素化して粗トランス−１，
４−ＣＨＤＡを得るには、ＴＰＡをパラジウム触媒の存
在下、液相中で水素化反応した後、反応液から生成した
トランス−１，４−ＣＨＤＡを晶出させる方法によるの
が好ましい。以下この製造方法について詳細に説明す
る。原料のＴＰＡとしては、トランス−１，４−ＣＨＤ
Ａの原料として従来から使用されているような高純度の
ものはもとより、それよりも若干純度が低いものであっ
てもよい。
４−ＣＨＤＡを得るには、ＴＰＡをパラジウム触媒の存
在下、液相中で水素化反応した後、反応液から生成した
トランス−１，４−ＣＨＤＡを晶出させる方法によるの
が好ましい。以下この製造方法について詳細に説明す
る。原料のＴＰＡとしては、トランス−１，４−ＣＨＤ
Ａの原料として従来から使用されているような高純度の
ものはもとより、それよりも若干純度が低いものであっ
てもよい。
【００１２】反応溶媒としては、反応に不活性なもので
あればよいが、通常は水やアルコール等を用いる。中で
も水ないしは、水と水溶性有機溶媒との混合物などの水
性溶媒を用いるのが好ましい。反応に際しての反応溶媒
とＴＰＡの割合は、反応溶媒とＴＰＡの合計量に対し、
ＴＰＡが５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％
の範囲である。ＴＰＡの濃度が５重量％未満では、反応
装置の生産効率が低く工業的に不利となり、また、５０
重量％を超えた場合には、生成したトランス−１，４−
ＣＨＤＡが溶解せずに晶出してスラリーとなりやすいの
で、取り扱いや触媒の分離が困難になるという理由か
ら、いずれも好ましくない。
あればよいが、通常は水やアルコール等を用いる。中で
も水ないしは、水と水溶性有機溶媒との混合物などの水
性溶媒を用いるのが好ましい。反応に際しての反応溶媒
とＴＰＡの割合は、反応溶媒とＴＰＡの合計量に対し、
ＴＰＡが５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％
の範囲である。ＴＰＡの濃度が５重量％未満では、反応
装置の生産効率が低く工業的に不利となり、また、５０
重量％を超えた場合には、生成したトランス−１，４−
ＣＨＤＡが溶解せずに晶出してスラリーとなりやすいの
で、取り扱いや触媒の分離が困難になるという理由か
ら、いずれも好ましくない。
【００１３】パラジウム触媒としては、例えば、パラジ
ウム金属そのものを用いることもできるが、通常はパラ
ジウムを、所望により助触媒成分と共に、アルミナ、シ
リカ又はカーボン等の担体に担持してなる担体付きパラ
ジウム触媒を用いる。その中でも好ましいのは、パラジ
ウムをカーボン、好ましくは活性炭に担持させたパラジ
ウム／カーボン触媒である。担体付きパラジウム触媒
の、パラジウムの含有率は、通常は０．５〜２０重量％
であるが、好ましくは、１〜１０重量％である。
ウム金属そのものを用いることもできるが、通常はパラ
ジウムを、所望により助触媒成分と共に、アルミナ、シ
リカ又はカーボン等の担体に担持してなる担体付きパラ
ジウム触媒を用いる。その中でも好ましいのは、パラジ
ウムをカーボン、好ましくは活性炭に担持させたパラジ
ウム／カーボン触媒である。担体付きパラジウム触媒
の、パラジウムの含有率は、通常は０．５〜２０重量％
であるが、好ましくは、１〜１０重量％である。
【００１４】反応に際し、パラジウム触媒は、原料ＴＰ
Ａに対して０．５〜１５重量％程度、好ましくは１〜１
０重量％程度となるように用いる。尚、反応後、パラジ
ウム触媒は濾別等により回収されるが、回収したパラジ
ウム触媒を再使用することも可能である。反応温度は、
通常は１００℃〜２００℃程度であり、好ましくは１２
０℃〜１７０℃の範囲である。１００℃未満では反応速
度が遅く、２００℃を越える温度では水素化分解が起こ
り易くなり、４−メチルシクロヘキサンカルボン酸やシ
クロヘキサンカルボン酸の副生が顕著になる。
Ａに対して０．５〜１５重量％程度、好ましくは１〜１
０重量％程度となるように用いる。尚、反応後、パラジ
ウム触媒は濾別等により回収されるが、回収したパラジ
ウム触媒を再使用することも可能である。反応温度は、
通常は１００℃〜２００℃程度であり、好ましくは１２
０℃〜１７０℃の範囲である。１００℃未満では反応速
度が遅く、２００℃を越える温度では水素化分解が起こ
り易くなり、４−メチルシクロヘキサンカルボン酸やシ
クロヘキサンカルボン酸の副生が顕著になる。
【００１５】水素圧力は、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａ程
度、好ましくは０．３ＭＰａ〜２０ＭＰａ程度である。
０．２ＭＰａ未満では反応速度が遅くなる一方、３０Ｍ
Ｐａを越える圧力では、水素化分解が起こりやすくなる
上、特殊な耐圧設備が必要となり、経済的でない。反応
時間は、例えば、３０分〜５時間の範囲であり、３０分
〜２時間の範囲が好ましい。
度、好ましくは０．３ＭＰａ〜２０ＭＰａ程度である。
０．２ＭＰａ未満では反応速度が遅くなる一方、３０Ｍ
Ｐａを越える圧力では、水素化分解が起こりやすくなる
上、特殊な耐圧設備が必要となり、経済的でない。反応
時間は、例えば、３０分〜５時間の範囲であり、３０分
〜２時間の範囲が好ましい。
【００１６】水素化反応は、連続法、回分法のいずれで
行うこともできる。また、反応型式としては、液相懸濁
反応が好ましい。水素化反応終了後、まず、フィルター
を用いて、反応液からパラジウム触媒を濾過分離する。
次に、得られた濾液を所望の温度に冷却して、粗トラン
ス−１，４−ＣＨＤＡを晶析分離する。晶析分離の際の
温度は任意に選択することができるが、６０〜１００℃
の範囲であることが好ましい。６０゜C以下ではシス−
１，４−ＣＨＤＡの晶析物中への混入が多くなる。
行うこともできる。また、反応型式としては、液相懸濁
反応が好ましい。水素化反応終了後、まず、フィルター
を用いて、反応液からパラジウム触媒を濾過分離する。
次に、得られた濾液を所望の温度に冷却して、粗トラン
ス−１，４−ＣＨＤＡを晶析分離する。晶析分離の際の
温度は任意に選択することができるが、６０〜１００℃
の範囲であることが好ましい。６０゜C以下ではシス−
１，４−ＣＨＤＡの晶析物中への混入が多くなる。
【００１７】本発明に係る精製方法では、上記により得
られた粗トランス−１，４−ＣＨＤＡを、環状エーテル
を含む精製溶媒と接触させる。不純物である４−メチル
シクロヘキサンカルボン酸やシクロヘキサンカルボン酸
は、この精製溶媒に溶解し易いがトランス−１，４−Ｃ
ＨＤＡはこの精製溶媒に溶解し難いので、この接触操作
により不純物を選択的に精製溶媒中に溶出させることが
できる。
られた粗トランス−１，４−ＣＨＤＡを、環状エーテル
を含む精製溶媒と接触させる。不純物である４−メチル
シクロヘキサンカルボン酸やシクロヘキサンカルボン酸
は、この精製溶媒に溶解し易いがトランス−１，４−Ｃ
ＨＤＡはこの精製溶媒に溶解し難いので、この接触操作
により不純物を選択的に精製溶媒中に溶出させることが
できる。
【００１８】精製溶媒の環状エーテルとしては、任意の
ものを用いることができるが、通常は、テトラヒドロフ
ラン、テトラヒドロピラン、オキセパン、ジオキソラ
ン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサン、トリオ
キサン等、炭素数３〜５のものを用いる。中でもテトラ
ヒドロフランを用いるのが好ましい。尚、環状エーテル
は、通常は単独で精製溶媒として用いるが、所望ならば
相溶性のある他の溶媒と混合して用いてもよい。このよ
うな溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコ
ール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、
ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等の鎖状エーテル
類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類等が挙げら
れる。
ものを用いることができるが、通常は、テトラヒドロフ
ラン、テトラヒドロピラン、オキセパン、ジオキソラ
ン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサン、トリオ
キサン等、炭素数３〜５のものを用いる。中でもテトラ
ヒドロフランを用いるのが好ましい。尚、環状エーテル
は、通常は単独で精製溶媒として用いるが、所望ならば
相溶性のある他の溶媒と混合して用いてもよい。このよ
うな溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコ
ール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、
ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等の鎖状エーテル
類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類等が挙げら
れる。
【００１９】本発明により粗トランス−１，４−ＣＨＤ
Ａを精製するには、最も簡単には、精製溶媒を、粗トラ
ンス−１，４−ＣＨＤＡにふりかける懸洗を行えばよ
い。また、精製溶媒に粗トランス−１，４−ＣＨＤＡを
加えてスラリーとした後、これを攪拌・濾過して両者を
分離する精製方法を用いることもできる。これらの精製
処理に際しての、粗トランス−１，４−ＣＨＤＡと精製
溶媒の重量比は、処理方法や所望の精製の程度により異
なるが、１／０．２〜１／１０の範囲内であることが好
ましい。処理温度は、通常３０〜１５０℃であるが、５
０〜１００℃で行うのが好ましい。また、処理に要する
時間は、通常１分〜３時間であるが、１０分〜１時間で
あるのが好ましい。
Ａを精製するには、最も簡単には、精製溶媒を、粗トラ
ンス−１，４−ＣＨＤＡにふりかける懸洗を行えばよ
い。また、精製溶媒に粗トランス−１，４−ＣＨＤＡを
加えてスラリーとした後、これを攪拌・濾過して両者を
分離する精製方法を用いることもできる。これらの精製
処理に際しての、粗トランス−１，４−ＣＨＤＡと精製
溶媒の重量比は、処理方法や所望の精製の程度により異
なるが、１／０．２〜１／１０の範囲内であることが好
ましい。処理温度は、通常３０〜１５０℃であるが、５
０〜１００℃で行うのが好ましい。また、処理に要する
時間は、通常１分〜３時間であるが、１０分〜１時間で
あるのが好ましい。
【００２０】尚、精製溶媒と粗トランス−１，４−ＣＨ
ＤＡをスラリーとして攪拌する精製方法を用いた場合に
は、攪拌を中止すると、トランス−１，４−ＣＨＤＡが
沈降して、４−メチルシクロヘキサンカルボン酸等の不
純物が溶解した精製溶媒からなる上層と、４−メチルシ
クロヘキサンカルボン酸等の不純物が減少した、純度の
高いトランス−１，４−ＣＨＤＡからなる沈降層に分離
する。従って、傾斜などにより上層の精製溶媒を除去し
て、精製されたトランス−１，４−ＣＨＤＡを取得する
ことができる。
ＤＡをスラリーとして攪拌する精製方法を用いた場合に
は、攪拌を中止すると、トランス−１，４−ＣＨＤＡが
沈降して、４−メチルシクロヘキサンカルボン酸等の不
純物が溶解した精製溶媒からなる上層と、４−メチルシ
クロヘキサンカルボン酸等の不純物が減少した、純度の
高いトランス−１，４−ＣＨＤＡからなる沈降層に分離
する。従って、傾斜などにより上層の精製溶媒を除去し
て、精製されたトランス−１，４−ＣＨＤＡを取得する
ことができる。
【００２１】精製工程から排出される不純物を含んだ精
製溶媒は、次いで、蒸留等によって不純物と精製溶媒と
に分離し、精製溶媒は再び精製処理に用いることができ
る。本発明に係る精製方法は、例えば、回分又は連続方
式、一段又は多段処理のいずれによっても行うことがで
きる。本発明に係る精製方法によれば、高純度のトラン
ス−１，４−ＣＨＤＡを取得できるが、さらに高純度の
トランス−１，４−ＣＨＤＡを必要とする場合には、こ
の精製に引き続いて、従来の水蒸気ストリッピング法等
の精製方法を適用することもできる。
製溶媒は、次いで、蒸留等によって不純物と精製溶媒と
に分離し、精製溶媒は再び精製処理に用いることができ
る。本発明に係る精製方法は、例えば、回分又は連続方
式、一段又は多段処理のいずれによっても行うことがで
きる。本発明に係る精製方法によれば、高純度のトラン
ス−１，４−ＣＨＤＡを取得できるが、さらに高純度の
トランス−１，４−ＣＨＤＡを必要とする場合には、こ
の精製に引き続いて、従来の水蒸気ストリッピング法等
の精製方法を適用することもできる。
【００２２】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。 実施例１ （１）粗トランス−１，４−ＣＨＤＡの製造；電磁攪拌
機を備えた容量２０Ｌのステンレス製オートクレーブ
に、ＴＰＡ３００ｇ、水７００ｇ及び５％パラジウム−
炭素触媒（エヌ・イー・ケムキャット社製）２０ｇを入
れ、温度１７０℃、水素圧５ＭＰａで水素化を行った。
反応開始後６０分で水素の吸収が認められなくなり、反
応が終了した。反応液を１５０℃で濾過して触媒を分離
回収した後、濾液を７０℃に冷却して、粗トランス−
１，４−ＣＨＤＡを晶析分離した。
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。 実施例１ （１）粗トランス−１，４−ＣＨＤＡの製造；電磁攪拌
機を備えた容量２０Ｌのステンレス製オートクレーブ
に、ＴＰＡ３００ｇ、水７００ｇ及び５％パラジウム−
炭素触媒（エヌ・イー・ケムキャット社製）２０ｇを入
れ、温度１７０℃、水素圧５ＭＰａで水素化を行った。
反応開始後６０分で水素の吸収が認められなくなり、反
応が終了した。反応液を１５０℃で濾過して触媒を分離
回収した後、濾液を７０℃に冷却して、粗トランス−
１，４−ＣＨＤＡを晶析分離した。
【００２３】得られた粗トランス−１，４−ＣＨＤＡを
高速液体クロマトグラフ法にて分析した。その結果を表
１の（ａ）欄に示す。 （２）粗トランス−１，４−ＣＨＤＡの精製；得られた
粗トランス−１，４−ＣＨＤＡ２０ｇとテトラヒドロフ
ラン８０ｇを攪拌機付き抽出槽に入れた。温度５０℃で
１０分間攪拌した後、濾過してトランス−１，４−ＣＨ
ＤＡを取得した。これを高速液体クロマトグラフ法にて
分析した結果を表１の（ｂ）欄に示す。
高速液体クロマトグラフ法にて分析した。その結果を表
１の（ａ）欄に示す。 （２）粗トランス−１，４−ＣＨＤＡの精製；得られた
粗トランス−１，４−ＣＨＤＡ２０ｇとテトラヒドロフ
ラン８０ｇを攪拌機付き抽出槽に入れた。温度５０℃で
１０分間攪拌した後、濾過してトランス−１，４−ＣＨ
ＤＡを取得した。これを高速液体クロマトグラフ法にて
分析した結果を表１の（ｂ）欄に示す。
【００２４】比較例１ （１）粗トランス−１，４−ＣＨＤＡの製造；実施例１
と同様にして、粗トランス−１，４−ＣＨＤＡを得た。
この粗トランス−１，４−ＣＨＤＡを高速液体クロマト
グラフ法にて分析した結果を表１の（ｃ）欄に示す。 （２）粗トランス−１，４−ＣＨＤＡの精製；上記
（１）で得られた粗トランス−１，４−ＣＨＤＡにつ
き、精製溶媒をテトラヒドロフランからノルマルヘキサ
ンに変更した以外は、実施例１と同様にして精製処理を
行った。得られた精トランス−１，４−ＣＨＤＡを高速
液体クロマトグラフ法にて分析した結果を表１の（ｄ）
欄に示す。
と同様にして、粗トランス−１，４−ＣＨＤＡを得た。
この粗トランス−１，４−ＣＨＤＡを高速液体クロマト
グラフ法にて分析した結果を表１の（ｃ）欄に示す。 （２）粗トランス−１，４−ＣＨＤＡの精製；上記
（１）で得られた粗トランス−１，４−ＣＨＤＡにつ
き、精製溶媒をテトラヒドロフランからノルマルヘキサ
ンに変更した以外は、実施例１と同様にして精製処理を
行った。得られた精トランス−１，４−ＣＨＤＡを高速
液体クロマトグラフ法にて分析した結果を表１の（ｄ）
欄に示す。
【００２５】比較例２ 上記の比較例１で得られた粗トランス−１，４−ＣＨＤ
Ａにつき、精製溶媒をテトラヒドロフランから水に変更
した以外は、実施例１と同様にして精製処理を行った。
得られた精トランス−１，４−ＣＨＤＡを高速液体クロ
マトグラフ法にて分析した結果を表１の（ｆ）欄に示
す。
Ａにつき、精製溶媒をテトラヒドロフランから水に変更
した以外は、実施例１と同様にして精製処理を行った。
得られた精トランス−１，４−ＣＨＤＡを高速液体クロ
マトグラフ法にて分析した結果を表１の（ｆ）欄に示
す。
【００２６】
【表１】
【００２７】尚、表中の化合物の記号は、それぞれ以下
の意味を表す。 ｔ−ＣＨＤＡ ：トランス−１，４−ＣＨＤＡ ｃ―ＣＨＤＡ ：シス−１，４−ＣＨＤＡ ＣＨＡ ：シクロヘキサンカルボン酸 ｔ―ＭＣＨＡ ：トランス−４−メチルシクロヘキサン
カルボン酸 ｃ−ＭＣＨＡ ：シス−４−メチルシクロヘキサンカル
ボン酸
の意味を表す。 ｔ−ＣＨＤＡ ：トランス−１，４−ＣＨＤＡ ｃ―ＣＨＤＡ ：シス−１，４−ＣＨＤＡ ＣＨＡ ：シクロヘキサンカルボン酸 ｔ―ＭＣＨＡ ：トランス−４−メチルシクロヘキサン
カルボン酸 ｃ−ＭＣＨＡ ：シス−４−メチルシクロヘキサンカル
ボン酸
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、粗トランス−１，４−
ＣＨＤＡ中から、除去すべき不純物である４−メチルシ
クロヘキサンカルボン酸を容易に分離除去することがで
き、高純度のトランス１，４−ＣＨＤＡを製造すること
ができる。
ＣＨＤＡ中から、除去すべき不純物である４−メチルシ
クロヘキサンカルボン酸を容易に分離除去することがで
き、高純度のトランス１，４−ＣＨＤＡを製造すること
ができる。
フロントページの続き (72)発明者 磯谷 篤志 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地三菱化学株 式会社水島事業所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC11 AD15 BA25 BA55 BB25 BJ20 BS20 4H039 CA40 CB10
Claims (5)
- 【請求項１】粗トランス−１，４−シクロヘキサンジカ
ルボン酸を、環状エーテルを含む精製溶媒と接触させた
後両者を分離することを特徴とする、トランス−１，４
−シクロヘキサンジカルボン酸の精製方法。 - 【請求項２】粗トランス−１，４−シクロヘキサンジカ
ルボン酸が、テレフタル酸を、パラジウム触媒の存在下
で、液相中で水素化して得られたものであることを特徴
とする、請求項１に記載のトランス−１，４−シクロヘ
キサンジカルボン酸の精製方法。 - 【請求項３】環状エーテルが炭素数３〜５のものである
ことを特徴とする、請求項１又は２に記載のトランス−
１，４−シクロヘキサンジカルボン酸の精製方法。 - 【請求項４】精製溶媒がテトラヒドロフランであること
を特徴とする、請求項１又は２に記載のトランス−１，
４−シクロヘキサンジカルボン酸の精製方法。 - 【請求項５】粗トランス−１，４−シクロヘキサンジカ
ルボン酸と精製溶媒との接触を３０℃〜１５０℃の温度
範囲で行うことを特徴とする、請求項１ないし４のいず
れかに記載のトランス−１，４−シクロヘキサンジカル
ボン酸の精製方法。
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|---|---|---|---|
| JP2000256698A JP2002069032A (ja) | 2000-08-28 | 2000-08-28 | トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸の精製方法 |
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| JP (1) | JP2002069032A (ja) |
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-
2000
- 2000-08-28 JP JP2000256698A patent/JP2002069032A/ja active Pending
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