JP7369753B2 - リソグラフィ装置のオブジェクトを保持するためのチャック及びクランプ、並びにリソグラフィ装置のクランプによって保持されるオブジェクトの温度を制御する方法 - Google Patents
リソグラフィ装置のオブジェクトを保持するためのチャック及びクランプ、並びにリソグラフィ装置のクランプによって保持されるオブジェクトの温度を制御する方法 Download PDFInfo
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Description
[0001] 本出願は、2016年10月6日に出願された米国仮特許出願第62/237,732号及び2016年12月28日に出願された米国仮特許出願第62/271,688号の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
[0043] 図1は、一実施形態によるソースコレクタ装置SOを含むリソグラフィ装置100を概略的に示す。この装置は、放射ビームB(例えば、EUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、パターニングデバイス(例えば、マスク又はレチクル)MAを支持するように構成され、パターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えば、マスクテーブル)MTと、基板Wを保持するように構成され、基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば、反射投影システム)PSとを含む。
[0067] 一部の実施形態では、リソグラフィ装置の支持体はオブジェクトを保持し、オブジェクトの温度を制御するように構成される。支持体は上記図1及び図2で説明した基板Wを保持するように構成された基板テーブルWT、又はパターニングデバイスMAを保持するように構成された支持構造MTであってよい。オブジェクトは例えば上記のマスク又はレチクルなどのパターニングデバイスであってよく、オブジェクトは例えば上記のウェーハなどの基板であってもよい。オブジェクトがパターニングデバイスである一部の実施形態では、パターニングデバイスはパターニングデバイスの表面に入射する放射ビームにパターンを付与する。オブジェクトがクランプに固定されると、オブジェクトの表面は放射ビームを受ける。オブジェクトは、入射放射ビームで露光されると、放射ビームからパワーを吸収し、熱くなる可能性がある。オブジェクトが熱くなると、オブジェクトの各部が膨張及び変形する可能性がある。一部の実施形態では、オブジェクトの変形を防ぐ又は抑えるために、支持体は、オブジェクトが種々の実施形態により実質的に室温(例えば、約22℃)、又は他の任意の規定動作温度に保持されるように調節するように構成することができる。クランプはヒートシンクとして機能するように構成され、クランプは、オブジェクトのこの温度制御を達成するために、オブジェクトのターゲット平均温度よりも低い温度に維持されるように構成することができる。一部の実施形態では、クランプは、ターゲット温度に調節された流体を、クランプによって画定される少なくとも1つのチャネルに通すことによってオブジェクトのターゲット温度より低い温度に維持される。しかし時間が経つと、少なくとも1つのチャネルを通過する流体の冷却力はまたチャックを冷却し、チャックの変形が生じ、ひいてはクランプ及びオブジェクトの変形を引き起こすことになる。オブジェクトが反射面を有するパターニングデバイスである実施形態では、反射面の各部が変形し、基板ウェーハにおける望ましくない像歪みが発生する可能性がある。また、オブジェクトの変形は、チャックとオブジェクトの間にスリップを引き起こす可能性がある。更に、チャック変形はそれ自体が、チャック位置決め誤差、そして結果として基板ウェーハにおけるイメージオーバーレイエラーをもたらすチャックメトロロジの変化を引き起こす可能性もある。
[0137] 使用時に、支持体400の上記の実施形態はいずれも、リソグラフィ装置のチャック404に結合されたクランプ406によって保持されるオブジェクト402の温度を制御することができる。例えば一部の実施形態では、クランプ406及びチャック404を使用してオブジェクト402を冷却する方法は、放射ビーム403でオブジェクト402を露光することを含む。一部の実施形態では、放射ビーム403でオブジェクト402を露光することは、ICを製造する工程の一部である。例えば放射ビーム403でオブジェクト402を露光することは、放射でレチクルを露光して放射ビームにパターンを付与することを含む。
Claims (19)
- オブジェクトを受けるように構成されたクランプであって、
前記オブジェクトに隣接する第1の複数の空隙を画定する第1の複数のバールを含む第1の層と、
第2の複数の空隙を画定する第2の複数のバール及び第2の流体を循環させるように構成された少なくとも1つの第2のチャネルを含む第3の層であって、前記第2の複数の空隙は、動作中に真空に保持されるように構成される、第3の層と、
前記第1の層及び前記第3の層の間に挟まれた第2の層であって、第1の流体温度の第1の流体を循環させるように構成された少なくとも1つの第1のチャネルを含む第2の層と、
を有し、
前記第1の層、前記第2の層及び前記第3の層は、それぞれ超低熱膨張係数を有する1つ以上の誘電体材料を含む、クランプと、
前記少なくとも1つの第1のチャネルに結合された流体調節デバイスと、
前記クランプの前記第3の層に結合されたチャックと、を備えるリソグラフィ装置。 - 前記第1の複数の空隙は、動作中に真空に保持されるように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記流体調節デバイスは、前記第1の流体の温度を変化させるように構成される、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記流体調節デバイスは、前記第1の流体の温度を第2の温度から第1の温度に変化させる、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記流体調節デバイスは、前記オブジェクトが放射で露光されるとき、前記第1の流体の温度を、前記第1の温度より高い前記第2の温度から前記第1の温度に変化させる、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の温度は、-15℃から15℃の範囲にあり、前記第2の温度は、17℃から27℃の範囲にある、請求項4又は5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の温度は、前記オブジェクトが放射で露光されるときの前記オブジェクトのターゲット平均温度より低い、請求項4から6のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記オブジェクトは温度の関数として変化する熱膨張係数を有する材料を含み、
前記オブジェクトの前記材料の前記熱膨張係数は、前記オブジェクトのゼロ交差温度においてゼロであり、
前記第1の温度は、前記オブジェクトが放射で露光されるときの前記オブジェクトの平均温度が前記オブジェクトの前記ゼロ交差温度と等しくなるような温度である、請求項4から7のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1の温度は、前記オブジェクトが放射で露光されるときの前記オブジェクトの内力が、前記オブジェクトを保持する前記クランプの表面と平行な軸に対して実質的に対称となるような温度である、請求項4から8のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の温度は、前記オブジェクトが放射で露光されるときの前記オブジェクトの前記内力の合計が、ゼロに等しくなるような温度である、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つの第1のチャネルは複数の第1のチャネルを含み、前記オブジェクトはパターニングデバイスである、請求項1から10のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置のクランプによって保持されるオブジェクトの温度を制御する方法であって、前記方法は、
オブジェクトを放射で露光することと、
第1の温度の第1の流体を、前記クランプの第2の層によって画定される少なくとも1つの第1のチャネルに通して循環させて前記クランプの前記第2の層の温度を調節することと、を含み、
前記少なくとも1つの第1のチャネルは、流体調節デバイスに結合され、前記第2の層は、第1の層及び第3の層の間に挟まれ、前記第1の層は、前記オブジェクトに隣接する第1の複数の空隙を画定する第1の複数のバールを含み、前記第3の層は、第2の複数の空隙を画定する第2の複数のバール及び第2の流体を循環させるように構成された少なくとも1つの第2のチャネルを含み、前記第2の複数の空隙は、動作中に真空になるように構成され、前記第1の層、前記第2の層及び前記第3の層は、それぞれ超低熱膨張係数を有する1つ以上の誘電体材料を含み、
前記クランプの前記第3の層は、チャックと結合される、
方法。 - 前記第1の温度の前記第1の流体を前記少なくとも1つの第1のチャネルに通す前に、第2の温度の前記第1の流体を前記少なくとも1つの第1のチャネルに通して前記クランプの前記第1の層の温度を調節することと、
前記第2の温度の前記第1の流体を前記少なくとも1つの第1のチャネルに通した後に、前記第1の流体の温度を前記第1の温度よりも高い前記第2の温度から前記第1の温度に変化させることと、を更に含む、請求項12に記載の方法。 - 前記第1の温度は、-15℃から15℃の範囲に調節され、
前記第2の温度は、17℃から27℃の範囲に調節される、請求項13に記載の方法。 - 前記第1の温度は、-8℃に調節され、
前記第2の温度は、22℃に調節される、請求項14に記載の方法。 - 前記第1の温度は、前記オブジェクトを放射で露光するときの前記オブジェクトの平均温度未満に調節される、請求項12から15のいずれか一項に記載の方法。
- 前記オブジェクトは温度の関数として変化する熱膨張係数を有する材料を含み、
前記オブジェクトの前記材料の前記熱膨張係数は、ゼロ交差温度においてゼロであり、
前記第1の温度の前記第1の流体を前記少なくとも1つの第1のチャネルに通すことによって、前記オブジェクトを放射で露光するときの、前記オブジェクトの前記材料の前記ゼロ交差温度と等しい平均温度が生じる、請求項12から16のいずれか一項に記載の方法。 - オブジェクトを受けるように構成されたクランプであって、
前記オブジェクトに隣接して配置された第1の複数の空隙を画定する第1の複数のバールを含む第1の層と、
第2の複数の空隙を画定する第2の複数のバール及び第2の流体を循環させるように構成された少なくとも1つの第2のチャネルを含む第3の層であって、前記第2の複数の空隙は、動作中に真空に保持されるように構成されチャックに隣接して配置される、第3の層と、
前記第1の層及び前記第3の層の間に挟まれた第2の層であって、第1の流体温度の第1の流体を循環させるように構成された少なくとも1つの第1のチャネルを含む第2の層と、
を有し、
前記第1の層、前記第2の層及び前記第3の層は、それぞれ超低熱膨張係数を有する1つ以上の誘電体材料を含む、クランプと、
前記少なくとも1つの第1のチャネルに結合された流体調節デバイスと、
前記クランプの前記第3の層に結合されたチャックと、
を備える装置。 - クランプによって保持されるオブジェクトの温度を制御する方法であって、前記方法は、
オブジェクトを放射で露光することと、
第1の温度の第1の流体を、前記クランプの第2の層によって画定される少なくとも1つの第1のチャネルに通して循環させて前記クランプの前記第2の層の温度を調節することと、を含み、
前記少なくとも1つの第1のチャネルは、流体調節デバイスに結合され、前記第2の層は、第1の層及び第3の層の間に挟まれ、前記第1の層は、前記オブジェクトに隣接する第1の複数の空隙を画定する第1の複数のバールを含み、前記第3の層は、第2の複数の空隙を画定する第2の複数のバール及び第2の流体を循環させるように構成された少なくとも1つの第2のチャネルを含み、前記第2の複数の空隙は、動作中に真空になるように構成され、前記第1の層、前記第2の層及び前記第3の層は、それぞれ超低熱膨張係数を有する1つ以上の誘電体材料を含み、
前記クランプの前記第3の層は、チャックと結合される、
方法。
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