JP3291882B2

JP3291882B2 - 露光方法

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Publication number: JP3291882B2
Application number: JP34657393A
Authority: JP
Inventors: 雅之神谷
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1993-08-13
Filing date: 1993-12-22
Publication date: 2002-06-17
Anticipated expiration: 2017-06-17
Also published as: JPH07106244A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置を形成する
ウエハ表面に形成した感光性膜を露光する際の露光方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置を形成するウエハ表面に形成
した感光性膜を露光してマスクパターンを転写する方法
としては、一つの領域の露光が終了するとその領域に隣
接する領域を順次露光していく、いわゆるステップアン
ドリピート法がある。

【０００３】すなわち、上記方法は、図１０に示すよう
に、ウエハ２０１上のマスクパターンの転写領域２０２
にマスクパターン（図示せず）を矢印ナ方向に順に露光
することによって転写してマスクパターン像２０３を形
成していく方法である。

【０００４】上記方法を採用した露光装置にはステッパ
ーがある。ステッパーは、ウエハを載置したステージ
を、例えばＸ−Ｙ方向にステップ移動させることによっ
て、ウエハ上の所定の位置を順次露光して行くものであ
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記ス
テップアンドリピート法では、図１１に示すように、矢
印ハ方向に移動露光する際の移動露光の折り返し付近
（斜線で示す領域）２１１，２１２，２１３，２１４で
は、単位面積当たりにすると他の領域よりも集中して露
光エネルギーが照射される。この結果、ウエハ２０１
は、その部分で温度が上昇して膨張する。このため、ア
ライメント精度が低下する。

【０００６】通常の露光プロセスでは、ウエハ内の全シ
ョットが確定した後、その確定した位置を基にして、次
の露光を行っていくので、露光中にウエハが膨張した場
合にはアライメントずれを抑制することができない。し
たがって、露光装置のアライメント精度が向上しても、
上記課題を解決することはできない。このような課題
は、露光パターンが高精細度になるにしたがい、大きく
なって表れる。

【０００７】また上記露光装置では、ステージ上のウエ
ハの温度を制御する手段が設けられていない。このよう
な露光装置を用いてステージ上のウエハを露光した場合
には、露光エネルギーを吸収したウエハ部分の温度が上
昇してウエハ面内の温度分布が不均一になる。そのた
め、露光中にウエハが局部的に膨張するので、高精細度
なマスクパターンを転写した場合にはアライメントずれ
を起こすことになる。

【０００８】本発明は、露光時のウエハの膨張を抑える
のに優れた露光方法および露光装置を提供することを目
的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされた露光方法である。すなわち露光方
法としては、露光装置によってウエハに形成した感光性
膜を露光する露光方法において、ステップアンドリピー
ト法によって露光する際に、少なくとも隣接する１ショ
ット分の露光領域をとばして次の露光領域を露光してい
くことで全露光領域の同一パターンの露光を行うことで
ある。

【００１０】そして、ステップアンドリピート法によっ
て露光する際に、少なくとも隣接する１ショット分の露
光領域をとばして次の１ショット分の露光領域を露光す
る。または、少なくとも隣接する１ショット分の露光領
域を含む複数ショット分の露光領域をとばして次の１シ
ョット分の露光領域を露光してもよい。１ショット分の
露光領域が複数行、複数列配置されているウエハを露光
する際に、１行もしくは複数行とばしながら露光する、
または１列もしくは複数列とばしながら露光することで
全露光領域の露光を行ってもよい。さらには、行方向も
しくは列方向のいずれかの方向から、かつ当該行方向も
しくは当該列方向の一方向のみから順に露光してもよ
い。

【００１１】

【作用】上記露光方法では、ステップアンドリピート法
によって露光する際に、少なくとも隣接する１ショット
分の露光領域をとばして次の１ショット分の露光領域を
露光することによって、一定の領域に露光エネルギーが
集中的に照射されるのが防げる。このため、ウエハは、
局部的に温度が上昇して膨張することがなくなる。

【００１２】このことは、少なくとも隣接する１ショッ
ト分の露光領域を含む複数ショット分の露光領域をとば
して次の１ショット分の露光領域を露光する場合、１シ
ョット分の露光領域が複数行、複数列配置されているウ
エハを露光する際に、１行もしくは複数行とばしながら
露光する、または１列もしくは複数列とばしながら露光
することで全露光領域の露光を行う場合、行方向もしく
は列方向のいずれかの方向から、かつ当該行方向もしく
は当該列方向の一方向のみから順に露光する場合も同様
に、ウエハの温度がアライメント精度に影響を及ぼすよ
うな温度にまで局部的に上昇して、当該ウエハが膨張す
ることがなくなる。

【００１３】

【実施例】本発明は、露光装置によってウエハに形成し
た感光性膜を露光する際に、ウエハの温度を所定の温度
に保ちながら露光する露光方法である。その方法の一例
を、第１実施例として、図１の露光方法の説明図によっ
て説明する。

【００１４】図１の（１）に示すように、ウエハ１０１
には、ステップアンドリピート法によって露光される１
ショット分の露光領域Ａが、例えば５行５列に配置され
ている。各１ショット分の露光領域Ａは、例えば矢印ア
方向に、１から２５まで順に符号が付されている。以
下、各１ショット分の露光領域Ａは、領域１、領域２、
領域３、・・・、領域２４、領域２５と記す。そして露
光は、例えば領域１から矢印ア方向に順に行う。このと
き、少なくとも隣接する領域をとばして次の領域を露光
する。

【００１５】すなわち、図１の（２）に示すように、領
域１から矢印イ方向に順に、領域３、領域５、領域７、
・・・、領域２３、領域２５の順のように、奇数符号を
付した領域を順に露光する。

【００１６】その後、図１の（３）に示すように、領域
２から矢印ウ方向に順に、領域４、領域６、領域８、・
・・、領域２２、領域２４の順のように、偶数符号を付
した領域を順に露光することによって、全露光領域の露
光が終了する。

【００１７】上記露光方法では、ステップアンドリピー
ト法によって露光する際に、少なくとも隣接する１ショ
ット分の露光領域をとばして次の１ショット分の露光領
域を露光することによって、一定の領域、特にステップ
アンドリピート法によってウエハ１０１を移動する際の
折り返すところの領域に露光エネルギーが集中的に照射
されるのが防げる。このため、ウエハ１０１は、局部的
に温度が上昇して膨張することがなくなる。一例とし
て、上記第１実施例の露光方法で露光した場合のウエハ
１０１の膨張によるアライメントのずれ量はおよそ１０
ｎｍまたはそれ以下になった。ちなみに、従来の露光方
法で露光した場合のウエハ１０１の膨張によるアライメ
ントのずれ量はおよそ３０ｎｍであった。

【００１８】次に別の方法の一例を、第２実施例とし
て、図２の露光方法の説明図および上記図１の（１）に
示した図によって説明する。

【００１９】上記図１の（１）に示したように、ウエハ
１０１には、ステップアンドリピート法によって露光さ
れる１ショット分の露光領域Ａが、例えば５行５列に配
置されている。各１ショット分の露光領域Ａは、例えば
矢印ア方向に、１から２５まで順に符号が付されてい
る。以下、各１ショット分の露光領域Ａは、領域１、領
域２、領域３、・・・、領域２４、領域２５と記す。

【００２０】そして露光は、例えば領域１から矢印ア方
向に順に行う。このとき、少なくとも隣接する１ショッ
ト分の露光領域を含む複数ショット分の露光領域（例え
ば領域２，領域３）をとばして次の１ショット分の露光
領域（例えば領域４）を露光する。

【００２１】すなわち、図２の（１）に示すように、矢
印エ方向に、領域１、領域４、領域８、領域１２、領域
１５、領域１７、領域２０、領域２３の順に露光を行
う。

【００２２】次いで、図２の（２）に示すように、矢印
オ方向に、領域３、領域６、領域９、領域１１、領域１
４、領域１８、領域２２、領域２５の順に露光を行う。

【００２３】さらに、図２の（３）に示すように、矢印
カ方向に、領域２、領域５、領域７、領域１０、領域１
３、領域１６、領域１９、領域２１、領域２４の順に露
光を行って、全露光領域の露光を終了する。

【００２４】露光の順番は、上記以外にもさまざまな順
序がある。したがって、露光時のウエハ１０１の温度が
ほぼ所定の温度範囲に保たれるように、ステップアンド
リピート法によって露光する際には、少なくとも隣接す
る１ショット分の露光領域をとばして次の１ショット分
の露光領域を露光するか、または少なくとも隣接する１
ショット分の露光領域を含む複数ショット分の露光領域
をとばして次の１ショット分の露光領域を露光すればよ
く、この露光条件を満足すればその露光順どのような順
番であってもよい。

【００２５】例えば、図３の（１）に示すように、矢印
キ方向に、領域１３、領域１５、領域５、領域３、領域
１、領域１１、領域２１、領域２３、領域２５、領域
７、領域９、領域１９、領域１７の順に露光を行う。続
けて図３の（２）に示すように、矢印ク方向に、領域
４、領域２、領域２０、領域１８の順に露光を行う。さ
らに続けて図３の（３）に示すように、矢印ケ方向に、
領域１６、領域６、領域８、領域１０、領域２２、領域
２４、領域１４、領域１２のような順に露光を行っても
よい。

【００２６】上記第２実施例の露光方法でも上記第１実
施例の露光方法と同様に、一定の領域に露光エネルギー
が集中的に照射されるのが防げる。このため、ウエハ１
０１の温度が局部的に上昇して、アライメント精度に影
響を及ぼすような膨張量になることはない。

【００２７】上記第１，第２実施例において、図４に示
すように、隣接する１ショット分の露光領域とは、例え
ば、当該露光領域Ａ１に対しては、露光領域Ａ２，Ａ
３，Ａ４，Ａ５になり、斜線で示す露光領域Ａ６，Ａ
７，Ａ８，Ａ９は除く。さらにＡ２〜Ａ９の外側の露光
領域も除かれる。

【００２８】次に１ショット分の露光領域が複数行、複
数列配置されているウエハを露光する際に、１行もしく
は複数行とばしながら露光することで全露光領域の露光
を行う方法の一例を、第３実施例として、図５の露光方
法の説明図によって説明する。

【００２９】図５の（１）に示すように、ウエハ１０１
には、ステップアンドリピート法によって露光される１
ショット分の露光領域Ａが、上記図１の（１）に示した
と同様に配置されている。

【００３０】そして露光は、図５の（２）に示すよう
に、まず矢印サ方向に領域１から順に領域５まで、第１
行目を露光する。続いて矢印シ方向に領域１５から順に
領域１１まで、第３行目を露光する。そして矢印ス方向
に領域２１から順に領域２５まで、第５行目を露光す
る。

【００３１】次に図５の（３）に示すように、矢印セ方
向に領域６から順に領域１０まで、第２行目を露光す
る。続いて矢印ソ方向に領域２０から順に領域１６ま
で、第４行目を露光を行って、全露光領域の露光を終了
する。

【００３２】上記第３実施例では、行方向に露光する場
合を説明したが、列方向に露光する場合には、行方向を
列方向に置き換えて露光すればよい。

【００３３】上記第３実施例の露光方法では、ステップ
アンドリピート法によって露光する際の折り返し部分に
露光エネルギーが集中的に照射されないので、ウエハ１
０１の温度が局部的に上昇して、アライメント精度に影
響を及ぼすような膨張量になることはない。

【００３４】次に１ショット分の露光領域が複数行、複
数列配置されているウエハを露光する際に、いづれの行
も同一方向に向かって露光する場合の一例を、第４実施
例として、図６の露光方法の説明図によって説明する。

【００３５】図６に示すように、ウエハ１０１には、ス
テップアンドリピート法によって露光される１ショット
分の露光領域Ａが、上記図１の（１）に示したと同様
に、領域１から領域２５まで、順に配置されている。

【００３６】そして露光は、まず矢印タ方向に領域１か
ら順に領域５まで、第１行目を露光する。次いで矢印チ
方向に領域１０から順に領域６まで、第２行目を露光す
る。続いて矢印ツ方向に領域１１から順に領域１５ま
で、第３行目を露光する。さらに矢印テ方向に領域２０
から順に領域１６まで、第４行目を露光する。そして矢
印ト方向に領域２１から順に領域２５まで、第５行目を
露光を行って、全露光領域の露光を終了する。

【００３７】上記第４実施例では、行方向に露光する場
合を説明したが、列方向に露光する場合には、行方向を
列方向に置き換えて、列方向に露光する際に、全ての列
を同一方向から露光すればよい。

【００３８】上記第４実施例の露光方法では、ウエハ１
０１を移動する際に、折り返して連続して露光すること
がないので、露光エネルギーが一定の領域に集中的に照
射されることはない。このため、ウエハ１０１の温度が
局部的に上昇して、アライメント精度に影響を及ぼすよ
うな膨張量になることはない。

【００３９】次に、露光時のウエハの温度を所定の温度
に保つステージを設けた露光装置の一例を、図７の第１
露光装置の概略構成図によって説明する。

【００４０】図に示すように、第１露光装置５１は、光
源５２と、当該光源５２から発振される光線６１の光路
に設けた縮小投影部５３と、当該縮小投影部５３を透過
した光線６２が照射される位置に設けたステージ５４
と、当該ステージ５４を駆動する駆動部（図示せず）と
によって基本構成がなされている。上記ステージ５４上
には、ウエハ１０１が載置される。

【００４１】上記ステージ５４には、当該ステージ５４
上に載置されるウエハ１０１の温度を所定温度に保持す
るための温度制御手段７１が設けられている。上記温度
制御手段７１は、ステージ５４の内部に形成したステー
ジ内流路７２と、上記ステージ内流路７２の一方端に接
続されている配管７３と上記ステージ内流路７２の他方
端に接続されている配管７４と、上記各配管７３，７４
を接続している温調器７５と、上記ステージ５４のウエ
ハ載置面５６近傍に設けた温度センサ７６と、上記温度
センサ７６の温度信号を受信して上記温調器７５に温調
媒体８１の適性温度を指令する制御部７７とによって構
成されている。上記温調媒体８１は、温調器７５から配
管７３、ステージ内流路７２、配管７４を通って、再び
温調器７５に戻る。

【００４２】上記温調媒体８１には、例えば水が用いら
れる。または、上記温調媒体８１として、比熱が比較的
大きい液体もしくは気体を用いることは差し支えない。

【００４３】上記温度制御手段７１の動作を説明する。
温度センサ７６によって測定されたステージ５４のウエ
ハ載置面５６の温度を温度信号に変換して、制御部７７
に送信する。制御部７７では、その温度信号に基づいて
温調媒体８１の温度を決定し、その温度を温調器７５に
送信する。

【００４４】そして温調器７５は、指令を受けた温度に
温調媒体８１の温度を調節して、その温調媒体８１を上
記配管７３を介して上記ステージ内流路７２に送り出
す。それとともに、上記ステージ内流路７２内を流れて
きた温調媒体８１を配管７４を介して温調器７５に戻
す。そして再び、上記温調器７５は、温調媒体８１を所
定の温度に変えて、ステージ内流路７２へ送り出す。

【００４５】次に、上記温調媒体８１の温度設定に関し
て説明する。ステージ５４の内部にウエハ１０１の温度
と同等もしくはそれ以下の温度の温調媒体８１を流すこ
とによって、ウエハ１０１が露光エネルギーを受けて加
熱されても、その熱量の一部分は温調媒体８１によって
奪われる。このため、ウエハ１０１の温度上昇量は、温
度制御手段７１を設けない場合より小さい。ところが、
温調媒体８１を冷却しすぎると、温調媒体によってウエ
ハ１０１の熱が奪われ過ぎてウエハ１０１の温度が降下
する。このため、ウエハ１０１は収縮する。そこで、温
調媒体８１の温度は、温調媒体８１によって冷却される
ことによるウエハ１０１の収縮量と露光エネルギーが照
射されることによるウエハ１０１の膨張量との差が最小
になるように設定される。

【００４６】したがって、上記第１露光装置５１では、
ウエハ１０１に形成した感光性膜（図示せず）を露光す
る時のウエハ１０１の温度を所定の温度に保つ温度制御
手段７１をステージ５４に設けたことによって、ウエハ
１０１の温度は常に所定温度範囲に保持される。このた
め、露光によってウエハ１０１の温度が局部的に上昇し
ても、直ちに冷却されるので、当該ウエハ１０１はほと
んど膨張しない。ちなみに、一例として、温度制御手段
７１を設けない露光装置で露光した場合のウエハ１０１
の膨張によるアライメントのずれ量はおよそ３０ｎｍに
なり、温度制御手段７１を設けた第１露光装置５１で露
光した場合のウエハ１０１の膨張によるアライメントの
ずれ量はおよそ１０ｎｍまたはそれ以下になった。

【００４７】次に、上記第１露光装置５１の温調媒体８
１の温度を自動的に制御する露光装置を、図８の第２露
光装置の概略構成図によって説明する。なお、図では、
上記図７で説明したのと同様の構成部品には、同一符号
を付す。

【００４８】図に示すように、第２露光装置９１は、上
記図７で説明した、光源５２、縮小投影部５３、ステー
ジ５４および温度制御手段７１とを設けた第１露光装置
（５１）に、システム制御手段９２と温度設定手段９３
とを設けたものである。上記温度制御手段７１は、上記
図７で説明したと同様に、ステージ５４の内部に設けた
流路７２、それに接続する配管７３，７４、各配管７
３，７４に接続する温調器７５、当該ステージ５４のウ
エハ載置面５６側の内部に設けた温度センサ７６、上記
温調器７５の温調温度を設定する制御部７７、および上
記流路７２，配管７３，７４を流れる温調媒体８１から
なる。

【００４９】上記システム制御手段９２は、例えば光源
５２の強度、当該光源５２に設けられているシャッター
（図示せず）の開放時間等によって決まる露光量、ステ
ージ５４上に載置されているウエハ１０１の表面状態、
例えばウエハ１０１の表面に形成されている膜（図示せ
ず）の露光エネルギー吸収量等の露光情報を入力するも
のである。しかも上記露光情報を温度設定手段９３に指
示するものである。

【００５０】上記温度設定手段９３は、上記システム制
御手段９２と上記温度制御手段７１の制御部７７とに接
続されている。この温度設定手段９３は、上記システム
制御手段９２から得た露光情報に基づいて、ウエハ１０
１の露光部分（図示せず）の温度上昇量を計算し、ステ
ージ５４の設定温度を決定するものである。しかも上記
決定した設定温度の温度信号を温度制御手段７１の制御
部７７に指示するものである。

【００５１】上記制御部７７は、上記温度センサ７６で
得た温度信号と上記設定温度の温度信号とに基づいて、
ウエハ１０１の温度を所定温度範囲に保つように温調媒
体８１の温度を決定するものである。さらに温調媒体８
１の温度が所定の温度になるように温調器７５の設定温
度を決定するものである。しかもその設定温度に対応し
た温度信号を温調器７５に指示するものである。

【００５２】次に上記第２露光装置９１のステージ５４
の温調方法を、図９の温調方法の流れ図によって説明す
る。なお、以下の説明において、構成部品には図８で示
した符号を付した。

【００５３】図に示すように、第１手順では、光源５２
から発振される光線６２の強度、ウエハ１０１に形成さ
れた膜（図示せず）の露光エネルギーの吸収量等の露光
情報を上記システム制御手段９２に入力する。その入力
は、光源５２から送信される露光情報を自動的に受信し
て行われる。または光源５２に設定した露光情報をオペ
レータが入力する。

【００５４】次いで第２手順では、上記システム制御手
段９２から送信された露光情報に基づいて、温度設定手
段９３で、ウエハ１０１の露光した部分の温度上昇量を
計算する。そして上記温度上昇量が所定の温度範囲にな
るようなステージ５４の設定温度を決定する。さらに、
上記決定した設定温度に対応するステージ温度信号を温
度制御手段７１の制御部７７に送信する。

【００５５】その後第３手順を行う。この手順では、上
記温度センサ７６で得た温度信号と上記ステージ温度信
号との差を比較して、その差を縮めるようにかつウエハ
１０１の温度が所定の温度範囲になるように、制御部７
７で温調媒体８１の温度を決定する。そして温調媒体８
１の温度が上記決定した温度になるように温調器７５の
設定温度を決定する。そして、その設定温度に対応した
温度信号を温調器７５に指示する。

【００５６】さらに第４手順で、温調器７５は指示され
た温度信号を受けて、温調媒体８１の温度を指示された
温度に変える。その温調媒体８１を配管７３，流路７
２，配管７４を通じて循環させて、ステージ５４のウエ
ハ載置面５６の温度を変える。それによって、ウエハ１
０１の露光エネルギーを吸収した部分の温度を下げて、
当該ウエハ１０１の温度をほぼ一定の範囲内にする。

【００５７】そして第５手順で、露光が終了したか否か
を判断して、露光が終了していない場合には、上記第３
手順以降の手順を繰り返し行うことを指示する。露光が
終了した場合には、温調を終了する。

【００５８】上記第２露光装置９１では、露光情報を入
力して送信するシステム制御手段９２と、その露光情報
に基づいてステージ５４の設定温度を決定する温度設定
手段９３とを設けたことによって、ステージ設定温度に
露光情報が取り入れられる。このため、制御部７７で
は、ステージ設定温度と実際に測定したステージ５４の
温度とに基づいて、温調器７５に指示される温調温度が
自動的に決定され、その決定した温度に温調媒体８１が
制御される。したがって、温調温度には露光情報が考慮
されることになるので、ウエハ１０１の一部分に露光エ
ネルギーが集中して照射された場合には、その照射量に
対応して照射領域が直ちに冷却される。このため、ウエ
ハ１０１はほとんど膨張することがない。またステージ
設定温度を基準にして、温度センサ７６で測定した実際
のステージ５４の温度との差を比較して温調器７５の温
調温度を決定するので、ステージ５４の温度は自動的に
制御される。

【００５９】

【発明の効果】以上、説明したように本発明の露光方法
よれば、ステップアンドリピート法によって露光する際
に、少なくとも隣接する１ショット分の露光領域をとば
して次の１ショット分の露光領域を露光するので、一定
の領域に露光エネルギーが集中的に照射されることがな
くなる。このため、ウエハの温度が局部的に上昇して膨
張することがほとんどなくなるので、アライメント精度
の向上が図れる。上記効果は、少なくとも隣接する１シ
ョット分の露光領域を含む複数ショット分の露光領域を
とばして次の１ショット分の露光領域を露光する場合、
１ショット分の露光領域が複数行、複数列配置されてい
るウエハを露光する際に、１行もしくは複数行とばしな
がら露光する、または１列もしくは複数列とばしながら
露光することで全露光領域の露光を行う場合、行方向も
しくは列方向のいずれかの方向から、かつ当該行方向も
しくは当該列方向の一方向のみから順に露光する場合も
同様に表れる。

【００６０】

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例の露光方法の説明図である。

【図２】第２実施例の露光方法の説明図である。

【図３】第２実施例における別の露光方法の説明図であ
る。

【図４】隣接する１ショット分の露光領域の説明図であ
る。

【図５】第３実施例の露光方法の説明図である。

【図６】第４実施例の露光方法の説明図である。

【図７】第１露光装置の概略構成図である。

【図８】第２露光装置の概略構成図である。

【図９】温調方法の流れ図である。

【図１０】従来のステップアンドリピート法の説明図で
ある。

【図１１】ステップアンドリピート法の課題の説明図で
ある。

【符号の説明】

５１第１露光装置５４ステージ７１温度制御手段８１温調媒体９１第２露光装置９２システム制御手段９３温度設定手段１０１ウエハＡ１ショット分の露光領域

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】ウエハに形成した感光性膜を露光装置に
よって露光する露光方法において、ステップアンドリピート法によって露光する際に、少な
くとも隣接する１ショット分の露光領域をとばして次の
露光領域を露光していくことで全露光領域の同一パター
ンの露光を行うことを特徴とする露光方法。
【請求項２】請求項１記載の露光方法において、少なくとも隣接する１ショット分の露光領域を含む複数
ショット分の露光領域をとばして、次の１ショット分の
露光領域を露光していくことを特徴とする露光方法。
【請求項３】請求項１または２記載の露光方法におい
て、１ショット分の露光領域が複数行、複数列配置されてい
るウエハを露光する際に、１行もしくは複数行とばしな
がら露光する、または１列もしくは複数列とばしながら
露光することを特徴とする露光方法。
【請求項４】請求項１または２記載の露光方法におい
て、１ショット分の露光領域が複数行、複数列配置されてい
るウエハを露光する際に、行方向もしくは列方向のいず
れかの方向から、かつ当該行方向もしくは当該列方向の
一方向のみから順に露光することを特徴とする露光方
法。