JP6122856B2 - チャック、リソグラフィ装置及びチャックを使用する方法 - Google Patents
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Description
[0001] 本願は、2011年10月6日に出願した米国仮出願第61/544,039号の優先権を主張し、参照によってその全体が本願に組み込まれる。
上の式で、λは、使用される放射の波長であり、NAは、パターンを印刷するために使用される投影システムの開口数であり、k1は、レイリー定数とも呼ばれるプロセス依存調整係数であり、CDは、印刷されたフィーチャのフィーチャサイズ(又はクリティカルディメンジョン)である。式(1)から、フィーチャの最小印刷可能サイズの縮小は、以下の3つの方法、露光波長λを短縮することによって、開口数NAを増加させることによって、あるいはk1の値を低下させることによって達成することができる、と言える。
米国特許出願公開第2009/207392号明細書はリソグラフィ装置を開示しており、このリソグラフィ装置は、パターニング構造ホルダに保持されたパターニング構造から、基板ホルダに保持された基板上へと、パターンを転写するように構成されている。装置は、物体を保持するように構成された第1物体ホルダと、第1物体ホルダへの物体の移動前及び/又は移動中の物体の温度を調節するように構成された物体温度調節装置と、を含む。物体温度調節装置は、流体ダクトシステムと電気温度調節装置とを有する第2物体ホルダを含む。
国際公開第92/20093号は静電チャックアセンブリを開示しており、この静電チャックアセンブリは、上部の多層セラミック絶縁層と、多層セラミック基板上に配置された導電性の静電パターンを有する静電パターン層と、多層セラミック支持層と、その中に機械加工された背面の冷却チャネルを有するヒートシンクベースと、を含む。ヒートシンクベースは、多層セラミック支持層の底部にろう付けされている。
本発明の範囲は添付の特許請求の範囲に規定されている。
‐放射ビームB(例えば、EUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
‐パターニングデバイス(例えば、マスク又はレチクル)MAを支持するように構築され、かつパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されたサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
‐基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、かつ基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
‐パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、反射投影システム)PSと、を備える。
Claims (15)
- リソグラフィ装置のサポートテーブル上に静電気力によってオブジェクトを保持するために使用するチャックであって、前記チャックは、
誘電部材と、
前記誘電部材内に形成された温度調節流体チャネルと、
前記誘電部材内で前記温度調節流体チャネルと前記オブジェクトとの間の駆動電極であって、前記駆動電極に向かって前記オブジェクトを静電的に引き寄せるために、前記誘電部材にわたって前記駆動電極と前記オブジェクトとの間に電位差を加えるための駆動電極と、
前記温度調節流体チャネル内の温度調節流体内の電解を減少させる又は防止するために、電圧が前記駆動電極に加えられたときに前記温度調節流体にわたる電場の発生を減少させる又は防止するための第1シールド電極と、を備える、チャック。 - 前記第1シールド電極は、前記駆動電極を含む前記誘電部材の領域を、前記温度調節流体チャネルを含む前記誘電部材の領域から離す、請求項1に記載のチャック。
- 前記第1シールド電極は前記温度調節流体チャネルを囲む、及び/又は、前記第1シールド電極は前記温度調節流体チャネルの内側ライニングを形成する、請求項1又は2に記載のチャック。
- 前記駆動電極が駆動されていないときに前記駆動電極からのあらゆる放散パワーの欠如を補償する、前記誘電部材に電流を提供するための第1補償電極をさらに備え、
前記第1補償電極は前記駆動電極と前記第1シールド電極との間に設けられ、
前記第1補償電極は、前記駆動電極に加えられる前記電圧がゼロの場合、前記駆動電極と前記第1シールド電極との間の領域に放散パワーを引き起こす電圧を前記第1補償電極に加えることができるように位置決めされて形作られ、前記放散パワーは、前記オブジェクトを保持するために前記電圧が前記駆動電極に加えられるときの放散パワーと実質的に同じである、請求項1〜3のいずれか1項に記載のチャック。 - 前記第1補償電極は、前記駆動電極及び前記第1シールド電極から等距離である、請求項4に記載のチャック。
- チャッククランプ電極であって、前記チャックを前記サポートテーブルに静電的に引き寄せるために前記チャッククランプ電極と前記サポートテーブルとの間に電位差を加えるためのチャッククランプ電極をさらに備える、請求項1〜5のいずれか1項に記載のチャック。
- 前記チャッククランプ電極に加えられる電圧による前記温度調節流体チャネル内の温度調節流体にわたる電場の発生を減少又は防止する第2シールド電極をさらに備える、請求項6に記載のチャック。
- 前記第2シールド電極は、前記第2シールド電極の少なくとも一部が前記チャッククランプ電極と前記温度調節流体チャネル内の温度調節流体との間にあるように構成される、請求項7に記載のチャック。
- 前記第2シールド電極は、前記チャッククランプ電極を含む前記誘電部材の領域を、前記温度調節流体チャネルを含む前記誘電部材の領域から離す、請求項7又は8に記載のチャック。
- 前記温度調節流体チャネルの長さに沿って変動する局部加熱を、前記温度調節流体チャネルを画定する前記チャックの領域に加えるチャネルヒータをさらに備える、請求項1〜9のいずれか1項に記載のチャック。
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを保持する、請求項1〜10のいずれか1項に記載のチャックと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備える、リソグラフィ装置。 - 基板を保持する請求項1〜10のうちのいずれか1項に記載のチャックと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備える、リソグラフィ装置。 - 静電気力によってリソグラフィ装置のサポートテーブル上にオブジェクトを保持するチャックを使用する方法であって、前記チャックは、
誘電部材と、
前記チャック内に形成された温度調節流体チャネルと、
前記誘電部材内で前記温度調節流体チャネルと前記オブジェクトとの間の駆動電極と、
シールド電極と、を備え、前記方法は、
前記駆動電極に向かって前記オブジェクトを静電的に引き寄せるために、前記誘電部材にわたって前記駆動電極と前記オブジェクトとの間に電位差を加えることと、
前記温度調節流体チャネル内の温度調節流体内の電解を減少させる又は防止するために、電圧が前記駆動電極に加えられたときに前記温度調節流体にわたる電場の発生を減少させる又は防止するためにシールド電極を使用することと、を含む、方法。 - 前記シールド電極を接地接続することをさらに含む、請求項13に記載の方法。
- 前記駆動電極にゼロの電圧が加えられているか又は接地接続されている期間中に電流を前記誘電部材に提供するために補償電極を使用することであって、前記電流は、前記オブジェクトを表面に向かって静電的に引き寄せるために電圧が前記駆動電極に加えられる期間中に存在する前記電流と実質的に同じ量の熱を放散する、ことをさらに含む、請求項13又は14に記載の方法。
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