JPH08172123A - 静電吸着装置 - Google Patents
静電吸着装置Info
- Publication number
- JPH08172123A JPH08172123A JP31446294A JP31446294A JPH08172123A JP H08172123 A JPH08172123 A JP H08172123A JP 31446294 A JP31446294 A JP 31446294A JP 31446294 A JP31446294 A JP 31446294A JP H08172123 A JPH08172123 A JP H08172123A
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- JP
- Japan
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- sample
- electrodes
- electrode
- electrostatic attraction
- voltage
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【構成】試料１を吸着するための誘電体２の表面を平滑
に仕上げておき、裏面に電極３，４を設置し、電極３，
４に任意に電圧を印加する機能を有する電圧印加用電源
３ｂ，４ｂを接続する。試料１を接地するための接触子
６を弾性支持し、試料１の接触面から接触子６の先端を
微小量突出して設置する。 【効果】試料を接地するための別アクチュエータを必要
とせず、電圧印加の制御をすることにより、単極型の静
電吸着装置を使用することが出来る。
に仕上げておき、裏面に電極３，４を設置し、電極３，
４に任意に電圧を印加する機能を有する電圧印加用電源
３ｂ，４ｂを接続する。試料１を接地するための接触子
６を弾性支持し、試料１の接触面から接触子６の先端を
微小量突出して設置する。 【効果】試料を接地するための別アクチュエータを必要
とせず、電圧印加の制御をすることにより、単極型の静
電吸着装置を使用することが出来る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、静電吸着装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】電子線により試料の加工や検査を行う装
置に使用している従来の静電吸着装置は、単極型の場
合、試料を吸着するための誘電体に一系統の電極が設置
してあり、あらかじめ、試料を接地しておき、電極に電
圧を印加すると試料全面に同時に吸着力が発生する構造
となっており、試料を接地するためのアクチュエータが
必要である。
置に使用している従来の静電吸着装置は、単極型の場
合、試料を吸着するための誘電体に一系統の電極が設置
してあり、あらかじめ、試料を接地しておき、電極に電
圧を印加すると試料全面に同時に吸着力が発生する構造
となっており、試料を接地するためのアクチュエータが
必要である。
【０００３】双極型の場合は、試料を吸着するための誘
電体に二系統の電極が設置してあり、それぞれの電極に
プラスとマイナスの電圧を印加すると試料全面に同時に
吸着力が発生する構造となっているため、試料の表面に
不均一な電荷の分布が発生し、電子線に影響をおよぼす
ため、電子線を使用する装置には、双極型の静電吸着装
置はほとんど使用されていない。
電体に二系統の電極が設置してあり、それぞれの電極に
プラスとマイナスの電圧を印加すると試料全面に同時に
吸着力が発生する構造となっているため、試料の表面に
不均一な電荷の分布が発生し、電子線に影響をおよぼす
ため、電子線を使用する装置には、双極型の静電吸着装
置はほとんど使用されていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、電
子線を使用する装置における静電吸着装置は、単極型で
あり、試料の接地を取るための別アクチュエータが必要
であった。
子線を使用する装置における静電吸着装置は、単極型で
あり、試料の接地を取るための別アクチュエータが必要
であった。
【０００５】本発明の目的は、静電吸着装置の試料吸着
面より微小量突き出した接触子を弾性支持で設置してお
き、かつ電極を複数系統設置したことにより、初め双極
型の静電吸着装置として使用し、接触視が試料と接触し
て試料の接地がとれた時点で、単極型の静電吸着装置に
切り替えることにより、試料の接地をとるための別アク
チュエータを必要としない単極型の静電吸着装置を提供
することにある。
面より微小量突き出した接触子を弾性支持で設置してお
き、かつ電極を複数系統設置したことにより、初め双極
型の静電吸着装置として使用し、接触視が試料と接触し
て試料の接地がとれた時点で、単極型の静電吸着装置に
切り替えることにより、試料の接地をとるための別アク
チュエータを必要としない単極型の静電吸着装置を提供
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、 （１）静電吸着装置の誘電体に電極を複数系統設置し
た。
に、本発明は、 （１）静電吸着装置の誘電体に電極を複数系統設置し
た。
【０００７】（２）静電吸着装置に電圧を印加するため
の回路を複数系統設置し、それぞれの回路が電圧を各電
極に任意に印加出来る機能を付加した。
の回路を複数系統設置し、それぞれの回路が電圧を各電
極に任意に印加出来る機能を付加した。
【０００８】（３）試料の接地をとるための接触子を弾
性支持し、試料吸着面から微小量突出して設置した。
性支持し、試料吸着面から微小量突出して設置した。
【０００９】
【作用】誘電体に複数系統電極を設置した静電吸着装置
の誘電体の上に試料（導体）を乗せる。このとき接触子
は、静電吸着装置の試料接触面から微小量突出している
ため、試料に接触している。また、接触子は、弾性支持
している。
の誘電体の上に試料（導体）を乗せる。このとき接触子
は、静電吸着装置の試料接触面から微小量突出している
ため、試料に接触している。また、接触子は、弾性支持
している。
【００１０】複数系統の電極にそれぞれプラスとマイナ
スの電圧を印加し、試料を誘電体に吸着する（双極型静
電吸着装置）。
スの電圧を印加し、試料を誘電体に吸着する（双極型静
電吸着装置）。
【００１１】試料が吸着力により、誘電体に吸着される
ことにより、接触子が、所定の圧力で試料に押しつけら
れ、試料は接触子を通して接地される。
ことにより、接触子が、所定の圧力で試料に押しつけら
れ、試料は接触子を通して接地される。
【００１２】次にマイナスの電圧を印加していた電極に
プラスの電圧を引火する（単極型静電吸着装置）。
プラスの電圧を引火する（単極型静電吸着装置）。
【００１３】このように、試料を接地させるための別ア
クチュエータ無しで単極型静電吸着装置を使用できる。
クチュエータ無しで単極型静電吸着装置を使用できる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の一実施例の静電吸着装置を図
１により説明する。
１により説明する。
【００１５】試料１を吸着するための誘電体２の表面は
平滑に仕上げられており、裏面には電極３，４が設置し
てある。各電極は、スイッチ３ａ，４ａを介して電源３
ｂ，４ｂに接続してあり、接触子６は弾性支持してあ
り、接触子の先端は試料接触面から微小量突出して設置
してある。試料１を吸着するために、最初にスイッチ３
ａを＋Ｖにして電極３にプラスの電圧を印加し、スイッ
チ４ａを−Ｖにして電極４にマイナスの電圧を印加す
る。
平滑に仕上げられており、裏面には電極３，４が設置し
てある。各電極は、スイッチ３ａ，４ａを介して電源３
ｂ，４ｂに接続してあり、接触子６は弾性支持してあ
り、接触子の先端は試料接触面から微小量突出して設置
してある。試料１を吸着するために、最初にスイッチ３
ａを＋Ｖにして電極３にプラスの電圧を印加し、スイッ
チ４ａを−Ｖにして電極４にマイナスの電圧を印加す
る。
【００１６】このことにより、この静電吸着装置は双極
型の静電吸着装置として試料１を吸着し、接触子６が所
定の圧力で試料１に押しつけられ試料１は接地される。
型の静電吸着装置として試料１を吸着し、接触子６が所
定の圧力で試料１に押しつけられ試料１は接地される。
【００１７】次にスイッチ４ａを＋Ｖにして電極４にプ
ラスの電圧を印加する。
ラスの電圧を印加する。
【００１８】このことにより、この静電吸着装置は単極
型の静電吸着装置として試料１を吸着する。このことに
より、試料１を接地させるための別アクチュエータ無し
で単極型の静電吸着装置を使用できる。
型の静電吸着装置として試料１を吸着する。このことに
より、試料１を接地させるための別アクチュエータ無し
で単極型の静電吸着装置を使用できる。
【００１９】
【発明の効果】本発明は、静電吸着力により、試料を平
坦に吸着する必要がある全ての分野の装置に適用出来る
が、特に半導体の製造分野において、半導体から成る試
料の微細加工や精密測長などを行う装置に適用した場
合、試料の反りを矯正し、平坦にするため、試料の加工
精度の向上あるいは、測定誤差の低減を図ることが出来
る。
坦に吸着する必要がある全ての分野の装置に適用出来る
が、特に半導体の製造分野において、半導体から成る試
料の微細加工や精密測長などを行う装置に適用した場
合、試料の反りを矯正し、平坦にするため、試料の加工
精度の向上あるいは、測定誤差の低減を図ることが出来
る。
【図１】本発明の実施例の静電吸着装置の断面図。
１…試料、２…誘電体、３，４…電極、３ａ，４ａ…ス
イッチ、３ｂ，４ｂ…電圧印加用電源、６…接触子。
イッチ、３ｂ，４ｂ…電圧印加用電源、６…接触子。
Claims (1)
- 【請求項１】静電吸着力により試料を保持する静電吸着
装置において、設置してある複数の電極のそれぞれの回
路が電圧を前記各電極に任意に印加出来る機能を有し、
前記静電吸着装置の前記試料の吸着面より、微小量突出
した、弾性支持をしてある接触子を有することを特徴と
する静電吸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31446294A JPH08172123A (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 静電吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31446294A JPH08172123A (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 静電吸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08172123A true JPH08172123A (ja) | 1996-07-02 |
Family
ID=18053635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31446294A Pending JPH08172123A (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 静電吸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08172123A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004319840A (ja) * | 2003-04-17 | 2004-11-11 | E-Beam Corp | ウェハのチャキング装置およびチャキング方法 |
| JP2010177686A (ja) * | 2010-03-24 | 2010-08-12 | Ebara Corp | ウェハのチャッキング装置およびチャッキング方法 |
| WO2013050243A1 (en) * | 2011-10-06 | 2013-04-11 | Asml Netherlands B.V. | Chuck, lithography apparatus and method of using a chuck |
-
1994
- 1994-12-19 JP JP31446294A patent/JPH08172123A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004319840A (ja) * | 2003-04-17 | 2004-11-11 | E-Beam Corp | ウェハのチャキング装置およびチャキング方法 |
| JP2010177686A (ja) * | 2010-03-24 | 2010-08-12 | Ebara Corp | ウェハのチャッキング装置およびチャッキング方法 |
| WO2013050243A1 (en) * | 2011-10-06 | 2013-04-11 | Asml Netherlands B.V. | Chuck, lithography apparatus and method of using a chuck |
| US9494875B2 (en) | 2011-10-06 | 2016-11-15 | Asml Netherlands B.V. | Chuck, a chuck control system, a lithography apparatus and a method of using a chuck |
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