JPH0216749A - 電子ビーム露光装置用ウェハーホルダ - Google Patents
電子ビーム露光装置用ウェハーホルダInfo
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- JPH0216749A JPH0216749A JP63165818A JP16581888A JPH0216749A JP H0216749 A JPH0216749 A JP H0216749A JP 63165818 A JP63165818 A JP 63165818A JP 16581888 A JP16581888 A JP 16581888A JP H0216749 A JPH0216749 A JP H0216749A
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- Japan
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- wafer
- capacitor
- wafer holder
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
半導体装置の製造に用いられる電子ビーム露光装置にお
ける静電チャック方式のウェハーホルダに関し、 ウェハーホルダの移動時に電源ケーブルを切り放しても
その静電チャック機能を保持できるようにすることを目
的とし、 絶縁物に板状又は線状の金属が埋め込まれたベース板と
、該ベース板上に載置したウェハーを固定する押え板と
、前記板状又は線状の金属とウェハー間に外部より電圧
を印加するための配線及び端子を具備した電子ビーム露
光装置用ウェハーホルダにおいて、該ウェハーホルダ内
にコンデンサを内蔵させ、該コンデンサの両極をそれぞ
れ前記配線に接続して構成する。
ける静電チャック方式のウェハーホルダに関し、 ウェハーホルダの移動時に電源ケーブルを切り放しても
その静電チャック機能を保持できるようにすることを目
的とし、 絶縁物に板状又は線状の金属が埋め込まれたベース板と
、該ベース板上に載置したウェハーを固定する押え板と
、前記板状又は線状の金属とウェハー間に外部より電圧
を印加するための配線及び端子を具備した電子ビーム露
光装置用ウェハーホルダにおいて、該ウェハーホルダ内
にコンデンサを内蔵させ、該コンデンサの両極をそれぞ
れ前記配線に接続して構成する。
本発明は半導体装置の製造に用いられる電子ビーム露光
装置における静電チャック方式のウェハーホルダに関す
る。
装置における静電チャック方式のウェハーホルダに関す
る。
電子ビーム露光装置においては、ホルダ上に載置したウ
ェハーの平面度を出すためにウェハー裏面金面を吸着で
きる静電チャック方式のウェハーホルダが望ましい。こ
の静電チャック方式のウェハーホルダは、第2図に示す
ように、絶縁物製の板に板状又は線状の金属1が埋め込
まれたベース板2と、該ベース板上にウェハー3を固定
する複数個のウェハー押え板4と、該ウェハー押え板4
をウェハー固定方向に付勢するばね5と、前記ベース板
に埋め込まれた金属1とウェハー3間に外部から電圧を
印加するための配線6,6′及び端子7.7′とを具備
して構成されている。そして端子7.7′間に電圧を印
加することによりベース板2はウェハー3を静電吸着す
るようになっている。なおベース板2は、電子ビーム照
射により電荷が溜らないようにウェハー搭載面はウェハ
ー3より小さく、またその周囲にはアースに接続された
金属パターン8が設けられている。
ェハーの平面度を出すためにウェハー裏面金面を吸着で
きる静電チャック方式のウェハーホルダが望ましい。こ
の静電チャック方式のウェハーホルダは、第2図に示す
ように、絶縁物製の板に板状又は線状の金属1が埋め込
まれたベース板2と、該ベース板上にウェハー3を固定
する複数個のウェハー押え板4と、該ウェハー押え板4
をウェハー固定方向に付勢するばね5と、前記ベース板
に埋め込まれた金属1とウェハー3間に外部から電圧を
印加するための配線6,6′及び端子7.7′とを具備
して構成されている。そして端子7.7′間に電圧を印
加することによりベース板2はウェハー3を静電吸着す
るようになっている。なおベース板2は、電子ビーム照
射により電荷が溜らないようにウェハー搭載面はウェハ
ー3より小さく、またその周囲にはアースに接続された
金属パターン8が設けられている。
上記従来のウェハーホルダでは、ウェハーをセットして
搬送する時には電圧を印加し続けなげればならない。そ
のためウェハー3を静電チャックしたまま電子ビーム露
光装置の真空チャンバー内に挿入しようとすると電源ケ
ーブルを傷つけたり、その傷からリークする恐れがある
といった問題がある。
搬送する時には電圧を印加し続けなげればならない。そ
のためウェハー3を静電チャックしたまま電子ビーム露
光装置の真空チャンバー内に挿入しようとすると電源ケ
ーブルを傷つけたり、その傷からリークする恐れがある
といった問題がある。
本発明は、ウェハーホルダの移動時に電源ケーブルを切
り放しても、ある時間静電チャック機能を保持できるよ
うにしたウェハーホルダを提供することを目的とする。
り放しても、ある時間静電チャック機能を保持できるよ
うにしたウェハーホルダを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の電子ビーム露光装
置用ウェハーホルダは、絶縁物に板状又は線状の金属1
が埋め込まれたベース板2と、該ベース板上に載置した
ウェハー3を固定する押え板4と、前記板状又は線状の
金属1とウェハー3間に外部より電圧を印加するための
配線6.6′及び端子7,7′を具備した電子ビーム露
光装置用ウェハーホルダにおいて、上記ウェハーホルダ
内にコンデンサ9を内蔵させ、該コンデンサ9の両極を
それぞれ前記配線6.6′に接続したウェハーホルダで
ある。
置用ウェハーホルダは、絶縁物に板状又は線状の金属1
が埋め込まれたベース板2と、該ベース板上に載置した
ウェハー3を固定する押え板4と、前記板状又は線状の
金属1とウェハー3間に外部より電圧を印加するための
配線6.6′及び端子7,7′を具備した電子ビーム露
光装置用ウェハーホルダにおいて、上記ウェハーホルダ
内にコンデンサ9を内蔵させ、該コンデンサ9の両極を
それぞれ前記配線6.6′に接続したウェハーホルダで
ある。
ウェハーホルダにウェハー3をセットし、電源ケーブル
を接続すると、ウェハー3が静電吸着されると同時にコ
ンデンサ9が充電される。これによりホルダ移動のため
電源ケーブルを切り放しても、ベース板2の金属板又は
金属線1とウェハー3間にはコンデンサ9から電圧が印
加されるため、該コンデンサ9が放電し終るまでは静電
チャック機能を保持することができる。
を接続すると、ウェハー3が静電吸着されると同時にコ
ンデンサ9が充電される。これによりホルダ移動のため
電源ケーブルを切り放しても、ベース板2の金属板又は
金属線1とウェハー3間にはコンデンサ9から電圧が印
加されるため、該コンデンサ9が放電し終るまでは静電
チャック機能を保持することができる。
第1図は本発明の実施例を示す図であり、aは平面図、
bはa図のb−b線における断面図である。
bはa図のb−b線における断面図である。
本実施例は同図に示すように、絶縁物製の板に板状又は
線状の金属1が埋め込まれたベース板2と、該ベース板
2上ににウェハー3を固定するための複数個のウェハー
押え板4と、該ウェハー押え板4をウェハー固定方向に
付勢するばね5と、前記ベース板に埋め込まれた金属1
とウェハー3間に外部から電圧を印加するための配線6
.6′及び端子7.7′と、ベース板2に設けられた金
属パターン8とを具備していることは第2図で説明した
従来例と同様であり、本実施例の要点は、配線6.6′
間にコンデンサ9を設けたことである。
線状の金属1が埋め込まれたベース板2と、該ベース板
2上ににウェハー3を固定するための複数個のウェハー
押え板4と、該ウェハー押え板4をウェハー固定方向に
付勢するばね5と、前記ベース板に埋め込まれた金属1
とウェハー3間に外部から電圧を印加するための配線6
.6′及び端子7.7′と、ベース板2に設けられた金
属パターン8とを具備していることは第2図で説明した
従来例と同様であり、本実施例の要点は、配線6.6′
間にコンデンサ9を設けたことである。
また、このコンデンサ9は、静電チャック面に発生する
C′と比べてc>c’でなければならない。
C′と比べてc>c’でなければならない。
ホルダーの材質をセラミックとした場合の例を示す。こ
の場合、セラミックの誘電率ε、=8、真空の誘電率ε
o = 8.854X10−” 〔F/m:]、4”
iφウェハーの時の静電チャック面の面積をS[m’〕
、コンデンサの厚さD= 300 (J−3であるので
、静電チャック面に発生するC′の大きさは c’ =ε。ε、S/D″=、1.85 Xl0−9C
F ]となる。
の場合、セラミックの誘電率ε、=8、真空の誘電率ε
o = 8.854X10−” 〔F/m:]、4”
iφウェハーの時の静電チャック面の面積をS[m’〕
、コンデンサの厚さD= 300 (J−3であるので
、静電チャック面に発生するC′の大きさは c’ =ε。ε、S/D″=、1.85 Xl0−9C
F ]となる。
従って、コンデンサ9はCが1ケタ以上大きいもの、た
とえばlXl0−8F以上のコンデンサを用いるのが望
ましい。
とえばlXl0−8F以上のコンデンサを用いるのが望
ましい。
なお図においてコンデンサ9は押え板4の中に設けられ
ているが、ベース板2の中に設けても良い。
ているが、ベース板2の中に設けても良い。
このように構成された本実施例は、ベース板2上にウェ
ハー3を載置し押え板4で押え、且つ端子7,7′に電
源ケーブルを接続し、端子7にアースを、端子7′に高
電圧を印加することにより、コンデンサ9に充電すると
共にウェハー3の裏面全面を静電吸着しウェハー3の平
面を確保することができる。またウェハー3を載置した
まま移動するため端子7,7′から電源ケーブルを切り
放しても、充電されたコンデンサ9よりベース板の金属
1とウェハー3間に電圧を印加するため静電チャック機
能を保持することができる。
ハー3を載置し押え板4で押え、且つ端子7,7′に電
源ケーブルを接続し、端子7にアースを、端子7′に高
電圧を印加することにより、コンデンサ9に充電すると
共にウェハー3の裏面全面を静電吸着しウェハー3の平
面を確保することができる。またウェハー3を載置した
まま移動するため端子7,7′から電源ケーブルを切り
放しても、充電されたコンデンサ9よりベース板の金属
1とウェハー3間に電圧を印加するため静電チャック機
能を保持することができる。
プルを切り放してもコンデンサにより静電チャック機能
をある時間保持できるので、ウェハーを静電チャックし
て電子ビーム露光装置へ挿入するとき、電源ケーブルを
切り放して挿入できるので、電源ケーブルを傷つける恐
れは解消される。
をある時間保持できるので、ウェハーを静電チャックし
て電子ビーム露光装置へ挿入するとき、電源ケーブルを
切り放して挿入できるので、電源ケーブルを傷つける恐
れは解消される。
第1図は本発明の実施例を示す図、
第2図は従来の静電チャック方式のウェハーホルダを示
す図である。 図において、 1は板状又は線状の金属、2はベース板、3はウェハー
4は押え板、5はばね、
6,6′は配線、7.7′は端子、 8は金属パ
ターン、9はコンデンサ を示す。 〔発明の効果〕 以上説明した様に、本発明によれば、電源ケー(Q)平
面図 はね a図のb−b’−b’線 (b)(ておける断面図 第1図 (b)a図のb−b線に おけるザコ図 従来の電子ビーム露光用ウェハーホルダを示す図82図
す図である。 図において、 1は板状又は線状の金属、2はベース板、3はウェハー
4は押え板、5はばね、
6,6′は配線、7.7′は端子、 8は金属パ
ターン、9はコンデンサ を示す。 〔発明の効果〕 以上説明した様に、本発明によれば、電源ケー(Q)平
面図 はね a図のb−b’−b’線 (b)(ておける断面図 第1図 (b)a図のb−b線に おけるザコ図 従来の電子ビーム露光用ウェハーホルダを示す図82図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、絶縁物に板状又は線状の金属(1)が埋め込まれた
ベース板(2)と、該ベース板上に載置したウェハー(
3)を固定する押え板(4)と、前記板状又は線状の金
属(1)とウェハー(3)間に外部より電圧を印加する
ための配線(6、6′)及び端子(7、7′)を具備し
た電子ビーム露光装置用ウェハーホルダにおいて、 上記ウェハーホルダ内にコンデンサ(9)を内蔵させ、
該コンデンサ(9)の両極をそれぞれ前記配線(6、6
′)に接続したことを特徴とする電子ビーム露光装置用
ウェハーホルダ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63165818A JP2574407B2 (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 電子ビーム露光装置用ウェハーホルダ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63165818A JP2574407B2 (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 電子ビーム露光装置用ウェハーホルダ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0216749A true JPH0216749A (ja) | 1990-01-19 |
JP2574407B2 JP2574407B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=15819579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63165818A Expired - Lifetime JP2574407B2 (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 電子ビーム露光装置用ウェハーホルダ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2574407B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02260647A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-23 | Omron Tateisi Electron Co | 試料固定装置 |
JP2002299426A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Toto Ltd | 静電チャックユニット |
WO2006123680A1 (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Tsukuba Seiko Ltd. | 静電保持装置及びそれを用いた静電ピンセット |
JP2017501572A (ja) * | 2013-12-06 | 2017-01-12 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | より小さいウエハおよびウエハ片向けのウエハキャリア |
JP2018078174A (ja) * | 2016-11-08 | 2018-05-17 | 株式会社アルバック | 静電チャック付きトレイ |
-
1988
- 1988-07-05 JP JP63165818A patent/JP2574407B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02260647A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-23 | Omron Tateisi Electron Co | 試料固定装置 |
JP2002299426A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Toto Ltd | 静電チャックユニット |
WO2006123680A1 (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Tsukuba Seiko Ltd. | 静電保持装置及びそれを用いた静電ピンセット |
US7804675B2 (en) | 2005-05-20 | 2010-09-28 | Tsukuba Seiko Ltd. | Electrostatic holding apparatus and electrostatic tweezers using the same |
JP2017501572A (ja) * | 2013-12-06 | 2017-01-12 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | より小さいウエハおよびウエハ片向けのウエハキャリア |
US10236201B2 (en) | 2013-12-06 | 2019-03-19 | Applied Materials, Inc. | Wafer carrier for smaller wafers and wafer pieces |
JP2018078174A (ja) * | 2016-11-08 | 2018-05-17 | 株式会社アルバック | 静電チャック付きトレイ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2574407B2 (ja) | 1997-01-22 |
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